CN113870723B - 一种可弯折盖板、制备方法、显示面板及显示设备 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种可弯折盖板、制备方法、显示面板及显示设备,用于盖设于显示模组上,包括可弯折区,包括:盖板本体,所述盖板本体包括相对设置的第一表面和第二表面;所述第二表面上对应所述可弯折区的位置设置有至少一个凹槽;所述第一表面上至少在对应所述凹槽的位置处设置有第一不规则结构。本申请实施例提供的可弯折盖板,通过在盖板本体的弯折区域设置凹槽,实现盖板的可弯折性能;通过在盖板本体的上表面设置不规则结构,可以降低凹槽形成的阶梯差导致的可视性问题,提高面板的显示效果,增加用户体验度。
Description
技术领域
本申请一般涉及显示设备技术领域,具体涉及一种可弯折盖板、制备方法、显示面板及显示设备。
背景技术
随着柔性OLED的技术不断的发展,柔性OLED显示屏在手机等终端运用越来越广泛,手机等终端显示越来越多样化,从现在的SF(固定曲率)到将来的DF(可折叠)是一个发展趋势,其中可折叠的手机的盖板运用也越来越广泛。
目前折叠屏产品主要的问题点在采用柔性盖板(CPI)结构,机械强度较差,尤其是外折产品,显示屏在整机表面,一旦发生整机跌落,显示屏与硬物碰撞,势必导致显示异常,例如亮点或GDS现象甚至产生损坏。
发明内容
鉴于现有技术中的上述缺陷或不足,期望提供一种可弯折盖板、制备方法、显示面板及显示设备,可以满足盖板的刚性及弯折性能,并解决阶梯部位产生的视差。
第一方面,本申请提供了一种可弯折盖板,用于盖设于显示模组上,包括可弯折区,包括:
盖板本体,所述盖板本体包括相对设置的第一表面和第二表面;
所述第二表面上对应所述可弯折区的位置设置有至少一个凹槽;
所述第一表面上至少在对应所述凹槽的位置处设置有第一不规则结构。
可选地,还包括:
所述第二表面上设置有至少三层薄膜层,在所述第一表面到所述第二表面的方向上,所述至少三层薄膜层的折射率按低折射率/高折射率依次交替设置。
可选地,所述至少三层薄膜层包括依次层叠设置的第一薄膜层、第二薄膜层、第三薄膜层,其中,所述第一薄膜层的折射率与所述盖板本体的折射率近似,所述第二薄膜层的折射率大于所述第一薄膜层的折射率,所述第二薄膜层的折射率大于所述第三薄膜层的折射率。
可选地,所述第一薄膜层与所述第二表面接触,所述第一薄膜层至少覆盖所述凹槽。
可选地,所述凹槽的内表面设置有第二不规则结构。
可选地,自所述凹槽的中间位置向两端延伸的方向上,所述第二不规则结构中凹凸分布密度逐渐增加。
可选地,所述第一不规则结构在所述第一表面上随机分布,所述第一不规则结构中凹凸尺寸为0.1μm-2μm。
第二方面,本申请提供了一种可弯折盖板的制备方法,用于制备如以上任一所述的可弯折盖板,所述方法包括:
提供盖板本体;
在所述第二表面上对应所述可弯折区的位置形成至少一个凹槽;
在所述第一表面上至少在对应所述凹槽的位置处形成第一不规则结构。
第三方面,本申请提供了一种可弯折显示面板,包括显示模组以及盖设在所述显示模组上的如以上任一所述的可弯折盖板。
第四方面,本申请提供了一种显示设备,包括如以上所述的可弯折显示面板。
本申请的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:
本申请实施例提供的可弯折盖板,通过在盖板本体的弯折区域设置凹槽,实现盖板的可弯折性能;通过在盖板本体的上表面设置不规则结构,可以降低凹槽形成的阶梯差导致的可视性问题,提高面板的显示效果,增加用户体验度。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述,本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
图1为本申请的实施例提供的一种可弯折盖板的结构示意图;
图2为本申请的实施例提供的光线折射原理示意图;
图3为本申请的实施例提供的可弯折盖板的光线示意图;
图4为本申请的实施例一提供的一种可弯折盖板的结构示意图;
图5为本申请的实施例一提供的一种可弯折盖板制备方法的流程图;
图6为本申请的实施例二提供的一种可弯折盖板的结构示意图;
图7为本申请的实施例二提供的一种可弯折盖板制备方法的流程图;
图8为本申请的实施例二提供的一种凹槽制备方法的原理示意图;
图9为本申请的实施例三提供的一种可弯折盖板的结构示意图;
图10为本申请的实施例三提供的不同折射率的薄膜层改善可视问题的原理图;
图11为本申请的实施例三提供的一种可弯折盖板制备方法的流程图;
图12为本申请的实施例三提供的一种溅射设备的结构示意图;
图13为本申请的实施例四提供的一种可弯折盖板的结构示意图;
图14为本申请的实施例四提供的一种可弯折盖板制备方法的流程图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明,而非对该发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与发明相关的部分。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
请详见图1,一种可弯折盖板,用于盖设于显示模组上,包括可弯折区,包括:
盖板本体10,所述盖板本体10包括相对设置的第一表面101和第二表面102;
所述第二表面102上对应所述可弯折区的位置设置有至少一个凹槽20;
所述第一表面101上至少在对应所述凹槽20的位置处设置有第一不规则结构50。
在本申请中涉及到的盖板的“第一表面101”、“第二表面102”、“上表面”、“下表面”,盖板与显示模组进行贴合后,“第一表面101”和“上表面”为远离显示模组的一侧表面,“第二表面102”和“下表面”为靠近显示模组的一侧表面。在涉及方向时,“上”为远离显示模组的一侧,“下”为靠近显示模组的一侧。
在本申请实施例中,将盖板设置为不等厚设计,通过在可弯折区设置凹槽20,既保证了非弯折区的机械性能,例如落球,落笔特性,又保证了在弯折区的可弯折性能。
但是通过在盖板上设置凹槽20会产生视差问题,这是由于盖板在局部厚度阶梯差引起的,在用户观看显示屏时,会出现画面被歪曲等问题。这是由于在不同介质的交界面时,当设置有凹槽20的盖板盖设于显示模组上时,面板内部的主动光源或者环境光在照射到凹槽20内表面时,光线在交界面位置处发生折射,而由于盖板厚度不同,在盖板厚度突变时,光线折射角不同,导致最终从盖板射出的光角度不同,因此产生视差问题。
根据折射定律,光线在两种介质内光线传播时,如图2所示,入射光线d1从第一界面X向第二界面Y照射,在第一界面X和第二界面Y的交界位置处会分成一部分反射光线d1',和另一部分折射光线d2,θ1为入射光线与法线之间的夹角,θ1'为反射光线与法线之间的夹角,θ2为折射光线与法线之间的夹角,其中θ1与θ1'的角度相同,当光线由光疏介质射入光密介质时,θ2的角度小于θ1的角度,反之则相反。
本申请实施例中,通过在第一表面101上对应不规则结构,当光线在凹槽20区域发生折射后进入盖板内部,并入射到不规则结构上时,在不规则结构表面会发生反射以及折射,部分折射光向上射出,部分折射光和部分反射光进入到不规则结构中的微结构中继续进行折射与反射,从而改变现有技术中从盖板内部出射的光直接射出,通过不规则结构实现光线均匀的效果,避免由于阶梯结构产生的可视差问题。
具体原理如图3所示,当显示模组发出的光照射到不规则结构上时,在微结构的表面会发生折射以及反射,折射光向上射出,反射光继续照射到为微结构的其他表面上,在此进行反射与折射,经过折射的光有可能进入到相邻微结构中,继续进行折射与反射。依次实现漫反射的效果,实现对于弯折区的出光均匀。
实施例一
请参考图4,本申请实施例提供的可弯折盖板,包括:盖板本体10,其中,所述盖板本体10的第二表面102上对应所述可弯折区的位置设置有至少一个凹槽20;盖板本体10的第一表面101上至少在对应所述凹槽20的位置处设置有第一不规则结构50。
在本申请实施例中,盖板本体10优选设置为玻璃盖板,例如石英玻璃、高硅氧玻璃、钠钙玻璃、铝硅酸盐玻璃、硼酸盐玻璃、磷酸盐玻璃或硼硅酸盐玻璃等。当然,盖板本体10还可以采用其他的材料,本申请在此不一一列举。
其中,所述第一不规则结构50在所述第一表面101上随机分布,所述第一不规则结构50中凹凸尺寸为0.1μm-2μm。第一表面101上的不规则结构可以由不规则形状的微结构形成,当然,不规则结构还可以由规则形状的微结构进行不规律的分布产生的,微结构的形状可以为规则的几何形状,例如,矩形、三角形、圆形、椭圆形等。
在具体加工时,针对玻璃盖板可以采用蚀刻方式形成不规则的微结构。采用蚀刻方式时,蚀刻液中包含有酸性化学物质,盖板本体10的主要化学组成为SiO2。盖板本体10中的SiO2能够与酸性化合物发生化学反应,其中,由于SiO2与酸性化合物生成硅酸盐,硅酸盐可以附着在盖板本体10的表面,进而酸性化合物只能对盖板本体10的表层进行腐蚀,硅酸盐的附着能够防止酸性化合物继续与表层内的SiO2反应。盖板本体10的表面被腐蚀而形成凹凸不平的表面。
在本申请实施例中,通过在盖板上表面对应可弯折区的位置形成不规则形状的区域,该区域具有一定的粗糙度,在应用时,还可以在盖板本体10的第一表面101上设置有机覆盖层,通过有机覆盖层可以减小表面粗糙度,通过设置高分子材料的有机覆盖层增加玻璃盖板的弹性模量,增加盖板的抗弯折抗拉伸性能,在提高机械性能的同时还可以提高外观性,提高用户感受。
在本申请实施例中,并不限制第一不规则结构50的尺寸,过大则会导致粗糙度过大,影响用户的手感,同时径向尺寸过大也会使得减小可视差的效果变弱。
需要说明的是,本申请中对于凹槽20的结构不具体限制,可以采用截面的形状为矩形、三角形或者弧形。凹槽20的深度可以根据可弯折区的弯折半径进行确定,在不同实施例中,可以采用不同的尺寸,本申请对此不进行限制。
在本申请实施例中,在盖板的第一表面101上设置的有机覆盖层40的折射率与所述盖板本体10的折射率近似。通过盖板本体10采用模量和硬度较高的UTG(Ultra ThinGlass,超薄玻璃),表面采用有机材料进行保护,对机械性能有所提升,同时兼顾成本还可以进一步优化可视差问题。
针对本实施例中提供的可弯折盖板,请参考图5,本申请还提供了一种可弯折盖板的制备方法,包括:
S11、提供盖板本体10;在本申请实施例中,优选采用玻璃盖板。并将玻璃盖板固定安装在加工器械上,进行下一步的加工。
S12、在所述第二表面102上对应所述可弯折区的位置形成至少一个凹槽20;形成凹槽20的方式包括但不限于机械切割、化学蚀刻等方式。
S13、在所述第一表面101上至少在对应所述凹槽20的位置处形成第一不规则结构50;形成第一不规则结构50的方式为蚀刻方式。在制备第一不规则结构50的过程中,还包括在非蚀刻区上形成油墨保护层,以及在蚀刻工艺完成后去除油墨保护层。
油墨保护层可以对油墨保护区进行保护,防止蚀刻液对非蚀刻区产生影响。在应用时,可以油墨保护层的材料可以选择现有技术中的光固化油墨或者热固化油墨,本申请对于油墨的材料和去除油墨的方式不做限制,不对盖板本体10产生损坏即可。
S14、在所述第一表面101上形成有机覆盖层40。形成有机覆盖层40的方式包括但不限于涂覆或者沉积的方式。
需要说明的是,“覆盖层40”是指将某一种材料在基底上利用沉积或涂覆工艺制作出的一层薄膜。除非另外规定,否则可以通过任何合适方法来沉积或涂覆各种实施例的层中的任一者。沉积可以采用选自溅射、蒸镀和化学气相沉积中的任意一种或多种,涂覆可以采用选自喷涂和旋涂中的任意一种或多种。
另外需要说明的是,在本申请实施例中,第一不规则结构50优选采用钝角形式的微结构,例如圆润粒子结构,因第一不规则结构50位于盖板最上表面,过于尖锐会给用户带了不好的体验,同时还可能导致制备过程中,通过蚀刻方式还可能产生一些表面缺陷。
本申请提供了一种用于在第一表面101上形成不规则结构的蚀刻液,所述蚀刻液由2~15重量%的氢氟酸、0.3~4重量%的氟化铵、2~15重量%的无机酸和余量的水组成。蚀刻液中的氢氟酸含有极强的亲电粒子H+和中等亲电粒子F-,对玻璃具有强的分解能力,能够与玻璃表面的氧化物反应形成氟硅酸盐,该氟硅酸盐能够在蚀刻液中很好地溶解;氟化铵呈碱性,与氢氟酸形成缓冲溶液,能够通过蚀刻速度的调控实现钝化部形状的控制以及避免过蚀刻;无机酸可提供H+以调控蚀刻速率,并与氢氟酸和/或氟化铵发挥协同作用,以提高圆润效果。
另外,经过实验发现,本申请实施例中通过蚀刻液形成第一不规则结构50层的同时,玻璃的动态弯折特性显著改善,具体表现为可耐受断裂的弯曲半径显著增加,即获得了提高的抗弯强度。该蚀刻液被配置为能够在玻璃表面形成钝化尺寸为0.1-2μm的不规则结构。
实施例二
请参考图6,本申请实施例提供的可弯折盖板,包括:盖板本体10,其中,所述盖板本体10的第二表面102上对应所述可弯折区的位置设置有至少一个凹槽20;盖板本体10的第一表面101上至少在对应所述凹槽20的位置处设置有第一不规则结构50。
其中,所述凹槽20的内表面设置有第二不规则结构60。在具体设置时,自所述凹槽20的中间位置向两端延伸的方向上,所述第二不规则结构60中凹凸分布密度逐渐增加。在凹槽20中间的微结构密集,在两边的微结构稀疏,可以增加对于两侧位置的折射效果,使得光线在凹槽20位置处实现均匀化。
需要说明的是,第二不规则结构60可以由不规则形状的微结构形成,当然,不规则结构还可以由规则形状的微结构进行不规律的分布产生的,微结构的形状可以为规则的几何形状,例如,矩形、三角形、圆形、椭圆形等。
在具体加工时,可以采用蚀刻方式形成不规则的微结构。采用蚀刻方式时,蚀刻液中包含有酸性化学物质,盖板本体10的主要化学组成为SiO2。盖板本体10中的SiO2能够与酸性化合物发生化学反应,其中,由于SiO2与酸性化合物生成硅酸盐,硅酸盐可以附着在盖板本体10的表面,进而酸性化合物只能对盖板本体10的表层进行腐蚀,硅酸盐的附着能够防止酸性化合物继续与表层内的SiO2反应。盖板本体10的表面被腐蚀而形成凹凸不平的表面。
在本申请实施例中,通过在盖板上表面对应可弯折区的位置形成不规则形状的区域,该区域具有一定的粗糙度,在应用时,还可以在盖板本体10的第一表面101上设置薄膜层30,通过薄膜层30,可以减小表面粗糙度,还可以提高外观性,提高用户感受。
在本申请实施例中,在盖板的第一表面101上设置的薄膜层30的折射率与所述盖板本体10的折射率近似。通过薄膜层30,可以减小表面粗糙度,通过设置高分子材料的薄膜层30增加玻璃盖板的弹性模量,增加盖板的抗弯折抗拉伸性能,在提高机械性能的同时还可以提高外观性,提高用户感受。在本申请实施例中,在盖板的第一表面101上设置的薄膜层30的折射率与所述盖板本体10的折射率近似,还可以进一步优化可视差问题。
针对本实施例中提供的可弯折盖板,如图7所示,本申请还提供了一种可弯折盖板的制备方法,包括:
S21、提供盖板本体10;在本申请实施例中,优选采用玻璃盖板。并将玻璃盖板固定安装在加工器械上,进行下一步的加工。
S22、在所述第二表面102上对应所述可弯折区的位置形成至少一个凹槽20。
S23、在凹槽20的内表面形成第二不规则结构60。
需要说明的是,本申请实施例中,形成凹槽20的方式包括机械切割或者化学蚀刻的方式。在凹槽20内表面形成不规则结构的方式优选采用化学蚀刻的方式形成。例如,先通过激光加工、或者蚀刻或者其他成型加工方式,在盖板本体10上形成凹槽20的结构,然后通过蚀刻的方式在凹槽20的内表面制备第二不规则结构60。
本申请中进一步优选采用蚀刻的方式形成凹槽20并在凹槽20的内表面形成第二不规则结构60,通过同时加工的方式,可以优化加工程序,提高效率。
由于本申请实施例中对于不规则结构分布的要求,本申请对此提出了一种制备方式,通过喷涂蚀刻液的方式形成凹槽20及第二不规则结构60。如图8所示。
S201、在蚀刻形成凹槽20过程中,控制蚀刻速度和蚀刻时间,均匀移动喷枪,形成一定高度的凹槽20。在本申请实施例中优选采用的工艺参数为:采用蚀刻液喷淋盖板本体10,制备温度为:25-30℃;喷淋压力为0.1-0.8Pa;喷枪的喷洒流量为10-15sccm;喷淋时间为5-10分钟。
S202、对凹槽20的内表面进行粗加工,以在凹槽20内表面形成中部位置形成密度较小的不规则结构。在移动喷涂过程中,喷涂蚀刻液,在中间位置,蚀刻液的喷洒密度较小,流量较小;在本申请实施例中优选采用的工艺参数为:采用蚀刻液喷淋盖板本体10,制备温度为:25-30℃;喷淋压力为0.1-0.8Pa;喷枪的喷洒流量为10-15sccm;喷淋时间为3-8分钟;喷枪在此过程中均匀移动。
S203、对凹槽20内表面进行深加工,以在凹槽20内表面两侧位置形成密度较大的不规则结构。在本申请实施例中优选采用的工艺参数为:采用蚀刻液喷淋盖板本体10,制备温度为:25-30℃;喷淋压力为1-1.5Pa;喷枪的喷洒流量为25-30sccm;喷淋时间为3-5分钟;喷枪在此过程中,在中间位置移动较快,在两侧位置移动较慢。
本申请实施例中,通过三重调速的方式,实现凹槽20及内表面不规则结构的制备;在制备凹槽20主体结构时,采用的是较高的温度、压力、流量的参数,实现较快凹槽20主体的快速成型;在制备凹槽20内表面的不规则结构时,先采用较低的温度、压力、流量的参数,实现粗加工,在内表面完成分布密度较小的尺寸较大的不规则微结构;再进一步提高制备参数,进行深加工,控制在中间位置的移动较快,在两侧位置移动较慢,对凹槽20两侧位置形成尺寸较小的不规则微结构。
S24、在所述第一表面101上至少在对应所述凹槽20的位置处形成第一不规则结构50;形成第一不规则结构50的方式为蚀刻方式。在制备第一不规则结构50的过程中,还包括在非蚀刻区上形成油墨保护层,以及在蚀刻工艺完成后去除油墨保护层。
油墨保护层可以对油墨保护区进行保护,防止蚀刻液对非蚀刻区产生影响。在应用时,可以油墨保护层的材料可以选择现有技术中的光固化油墨或者热固化油墨,本申请对于油墨的材料和去除油墨的方式不做限制,不对盖板本体10产生损坏即可。
S25、在所述第一表面101上形成第一薄膜层301。形成第一薄膜层301的方式包括但不限于涂覆或者沉积的方式。
另外需要说明的是,“薄膜层30”是指将某一种材料在基底上利用沉积或涂覆工艺制作出的一层薄膜。除非另外规定,否则可以通过任何合适方法来沉积或涂覆各种实施例的层中的任一者。沉积可以采用选自溅射、蒸镀和化学气相沉积中的任意一种或多种,涂覆可以采用选自喷涂和旋涂中的任意一种或多种。
实施例三
请参考图9,本申请实施例提供的可弯折盖板,包括:盖板本体10,其中,所述盖板本体10的第二表面102上对应所述可弯折区的位置设置有至少一个凹槽20;盖板本体10的第一表面101上至少在对应所述凹槽20的位置处设置有第一不规则结构50。
在所述第二表面102上设置有至少三层薄膜层30,在所述第一表面101到所述第二表面102的方向上,所述至少三层薄膜层30的折射率按低折射率/高折射率依次交替设置。
例如,所述至少三层薄膜层30包括依次层叠设置的第一薄膜层301、第二薄膜层302、第三薄膜层303,其中,所述第一薄膜层301的折射率与所述盖板本体10的折射率近似,所述第二薄膜层302的折射率大于所述第一薄膜层301的折射率,所述第二薄膜层302的折射率大于所述第三薄膜层303的折射率。其中,所述第一薄膜层301与所述第二表面102接触,所述第一薄膜层301至少覆盖所述凹槽20。
在本申请的一个实施例中,薄膜层30沿改变的第二表面102整面布置,该设置方式可以增加玻璃盖板的柔性,使其在弯折过程中不易断裂。
在本申请实施例中,第一薄膜层301的材料可以是有机材料,还可以是无机材料,其中,有机材料可以选用聚氨酯(PU)、聚酰亚胺(PI)、聚丙烯酸丁酯(PBA)、聚苯乙烯、聚丁二烯、聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)以及它们的共聚物。无机材料可以选用二氧化硅(SiO2)、二氧化钛(TiO2)、五氧化二铌(Nb2O5),无机材料具有较高的折射率,同时,无机材料还可以增加盖板的性能。
在高分子材料制备领域,相同的基体材料,通过不同的制备工艺以及配方,可以获得不同性能的材料。例如,现有的PI制备方法有十余种,以芳香族四甲酸二酸酐和芳二胺为单体的二步合成法是PI工业化生产中最常用的方法,其工艺相对成熟,制备PI的单体二酐和二胺的品种较多,不同单体的组合可以获得性能各异的PI品种。按所用的芳二酐不同,主要品种有均苯型、醚酐型、酮酐型、联苯二酐型、氟酐型等。
需要说明的是,在本申请实施例中,不同层的材料可以选择不同的材料,或者不同层均采用无机材料、不同层均采用有机材料;或者,多层采用有机层和无机层搭配的方式。本申请对此不进行限制。
例如在采用超薄玻璃盖板时,通过下层叠放无机材料层,还可以增加盖板的机械性能。通过无机层与盖板之间设置有机层的方式,还可以进一步优化盖板整体的机械性能。
另外,在本申请实施例中,通过调节折射率的方式,进一步改善可视差的问题。本申请中采用高低折射率搭配的方式可以产生反射光抵消的效果。
需要说明的是,在本申请实施例中,并不限制不同层之间的折射率大小,在一些实施例中,还可以对于低折射率层采用相同的有机材料,高折射率层采用相同的无机材料,以实现反复使用的效果。同时,还可以优化制备方式,提高制备效率。本申请对此并不限制。
在该实施例中,第一薄膜层301选择与盖板本体10具有折射率相近或相同的材料,使得光线不会在凹槽20的内表面区域处折射,从而使得第一区域和第二区域之间不存在折射率差,从而使得人的视觉面向显示装置时具有良好的显示效果。
在本申请实施例中,优选设置第一薄膜层301的折射率与盖板本体10的差值介于-0.1至0.1之间,可以有效控制在第一薄膜层301与凹槽20内表面之间的光线折射,并减小由于盖板阶梯厚度产生的可视差问题。
另外需要说明的是,本申请实施例中,并不限制薄膜层30的具体层数以及薄膜层30的材料,在不同实施例中,根据不同器件以及应用场景,可以进行不同的选择。不同层数及材料的薄膜层30对于盖板的整体机械性能,以及由于盖板厚度阶梯差产生的可视差现象有直接影响。
图10中示出了设置不同折射率的薄膜层改善可视问题的原理图。由于不同薄膜层对于光的透射和反射特性,使得多层折射率搭配后的薄膜层可以使得显示模组发出的光在盖板与薄膜层之间往复反射,实现均光效果。另外,在不同薄膜层的交界面上,存在多种反射光,如果光的光程差满足2nd=mλ- 1/(2λ),则反射光之间会发生抵消,实现反射相消,透射加强。
在具体设置时,还可以采用微粒子的方式,例如采用无机微粒子或者有机微粒子,通过制备有机微粒子的溶液进行沉积或者涂覆。当光源的光线到达凹槽20内部区域时,可以通过薄膜层30的微粒子实现光线散射,同时,填充区域的材料与盖板本体10的折射率相同,可以进一步优化可视差问题。
针对本实施例中提供的可弯折盖板,如图11所示,本申请还提供了一种可弯折盖板的制备方法,包括:
S31、提供盖板本体10;在本申请实施例中,优选采用玻璃盖板。并将玻璃盖板固定安装在加工器械上,进行下一步的加工。
S32、在所述第二表面102上对应所述可弯折区的位置形成至少一个凹槽20;形成凹槽20的方式包括但不限于机械切割、化学蚀刻等方式。
S33、在所述第一表面101上至少在对应所述凹槽20的位置处形成第一不规则结构50;形成第一不规则结构50的方式为蚀刻方式。在制备第一不规则结构50的过程中,还包括在非蚀刻区上形成油墨保护层,以及在蚀刻工艺完成后去除油墨保护层。
S34、在所述第二表面102上形成第一薄膜层301。形成第一薄膜层301的方式包括但不限于涂覆或者沉积的方式。
需要注意的是,第一薄膜层301需要填满整个凹槽20,与凹槽20内壁之间充分接触,以实现较好的视差消除效果。在形成涂层的过程中,涂料会在凹槽20内表面形成接触盲区,在盲区内部无法与凹槽20进行充分接触,造成在凹槽20区存在气隙,由于盖板本体10与空气折射率的差异,造成在接触盲区产生视差。
在具体制备时,在形成第一薄膜层301时,可以通过沉积或者涂覆的方式形成,在制备过程中,为使材料能够填满凹槽20,避免在凹槽20内壁上产生投影盲区,在制备过程中往复调整盖板本体10的倾斜角度,在应用时,可以控制盖板本体10以凹槽20的中轴线为轴相对于水平面往复倾斜转动,使得制备过程中,材料可以与凹槽20的内表面充分接触,以实现填充充分。
本申请实施例中并不限制实现盖板往复倾斜的运动方式的驱动机构,可以采用现有技术中的驱动机构来实现,例如采用电机带动盖板本体10在一定角度范围内往复转动,或电机通过曲柄摇杆机构带动盖板本体10在一定角度范围内往复转动,如图12所示。
在本申请实施例中,以溅射制备第一薄膜层301进行示例性说明。
S301、将盖板本体10固定在腔室内的旋转支架上。在本申请实施例中,旋转支架是通过驱动机构带动盖板本体10一起往复倾斜,例如,以凹槽20中心线为中心并相对于水平方向45°夹角范围为往复运动。
S302、用有机高分子材料制备靶材,并形成真空溅射条件;例如,真空溅射条件为:射频功率1-2KW,溅射气体气压为0.6-1.0Pa,基础真空压力5.0×10-4 Pa。
S303、在溅射过程中,通过旋转支架匀速转动盖板本体10,在盖板本体10上形成第一薄膜层301。
本申请提供的制备方法还包括:
S35、在第一薄膜层301上依次第二薄膜层302、第三薄膜层303。
在本申请实施例中,并不限制第二薄膜层302、第三薄膜层303的制备方法,形成第二薄膜层302、第三薄膜层303的方式包括但不限于涂覆或者沉积的方式。
实施例四
请参考图13,本申请实施例提供的可弯折盖板,包括:盖板本体10,其中,所述盖板本体10的第二表面102上对应所述可弯折区的位置设置有至少一个凹槽20;盖板本体10的第一表面101上至少在对应所述凹槽20的位置处设置有第一不规则结构50。
在本申请实施例中,凹槽20的截面形状为弧形,凹槽20的内表面为弧形面,其中,在弧形面上设置有第二不规则结构60。在具体设置时,自所述凹槽20的中间位置向两端延伸的方向上,所述第二不规则结构60中凹凸分布密度逐渐增加。在凹槽20中间的微结构密集,在两边的微结构稀疏,可以增加对于两侧位置的折射效果,使得光线在凹槽20位置处实现均匀化。
需要说明的是,第一不规则结构50和第二不规则结构60可以由不规则形状的微结构形成,当然,不规则结构还可以由规则形状的微结构进行不规律的分布产生的,微结构的形状可以为规则的几何形状,例如,矩形、三角形、圆形、椭圆形等。
在所述第二表面102上还设置有第一薄膜层301,所述第一薄膜层301至少覆盖所述凹槽20。
其中,第一薄膜层301为有机高分子材料,第一薄膜层301选择与盖板本体10具有折射率相近或相同的材料,使得光线不会在凹槽20的内表面区域处折射,从而使得第一区域和第二区域之间不存在折射率差,从而使得人的视觉面向显示装置时具有良好的显示效果。
针对本实施例中提供的可弯折盖板,如图14所示,本申请还提供了一种可弯折盖板的制备方法,包括:
S41、提供盖板本体10;在本申请实施例中,采用玻璃盖板。并将玻璃盖板固定安装在蚀刻设备上,进行下一步的加工。
S42、在所述第二表面102上对应所述可弯折区的位置通过蚀刻方式形成至少一个凹槽20,其中所述凹槽20包括弧形面。
S401、在蚀刻形成凹槽20过程中,控制蚀刻速度和蚀刻时间,均匀移动喷枪,形成一定高度的凹槽20。在本申请实施例中优选采用的工艺参数为:采用蚀刻液喷淋盖板本体10,制备温度为:25-30℃;喷淋压力为0.1-0.8Pa;喷枪的喷洒流量为10-15sccm;喷淋时间为5-10分钟。
S43、在凹槽20的弧形面上形成第二不规则结构60,其中,自所述凹槽20的中间位置向两端延伸的方向上,所述第二不规则结构60中凹凸分布密度逐渐增加。
在蚀刻形成第二不规则结构60时,具体包括:
S402、对凹槽20的内表面进行粗加工,以在凹槽20内表面形成中部位置形成密度较小的不规则结构。在移动喷涂过程中,喷涂蚀刻液,在中间位置,蚀刻液的喷洒密度较小,流量较小;在本申请实施例中优选采用的工艺参数为:采用蚀刻液喷淋盖板本体10,制备温度为:25-30℃;喷淋压力为0.1-0.8Pa;喷枪的喷洒流量为10-15sccm;喷淋时间为3-8分钟;喷枪在此过程中均匀移动。
S403、对凹槽20内表面进行深加工,以在凹槽20内表面两侧位置形成密度较大的不规则结构。在本申请实施例中优选采用的工艺参数为:采用蚀刻液喷淋盖板本体10,制备温度为:25-30℃;喷淋压力为1-1.5Pa;喷枪的喷洒流量为25-30sccm;喷淋时间为3-5分钟;喷枪在此过程中,在中间位置移动较快,在两侧位置移动较慢。
在本申请实施例中,所述可弯折盖板上还包括:
S44、在所述第一表面101上至少在对应所述凹槽20的位置处形成第一不规则结构50;形成第一不规则结构50的方式为蚀刻方式。在制备第一不规则结构50的过程中,还包括在非蚀刻区上形成油墨保护层,以及在蚀刻工艺完成后去除油墨保护层。
S45、所述第二表面102上形成第一薄膜层301,本申请实施例中以溅射的方式形成第一薄膜层301。
在本申请实施例中,以溅射制备第一薄膜层301进行示例性说明。
S401、将盖板本体10固定在腔室内的旋转支架上。在本申请实施例中,旋转支架是通过驱动机构带动盖板本体10一起往复倾斜,例如,以凹槽20中心线为中心并相对于水平方向45°夹角范围为往复运动。
S402、用有机高分子材料制备靶材,并形成真空溅射条件;例如,真空溅射条件为:射频功率1-2KW,溅射气体气压为0.6-1.0Pa,基础真空压力5.0×10-4 Pa。
S403、在溅射过程中,通过旋转支架匀速转动盖板本体10,在盖板本体10上形成第一薄膜层301。
本申请还提供了一种可弯折显示面板,包括显示模组以及盖设在所述显示模组上的如以上任一所述的可弯折盖板。
本实施例中的显示面板可以为主动发光型显示面板,例如有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示面板,主动矩阵有机发光二极管(Active-Matrix Organic Light-Emitting Diode,AMOLED)显示面板,被动矩阵有机发光二极管(Passive Matrix OLED)显示面板、量子点有机发光二极管(Quantum Dot LightEmittingDiodes,QLED)显示面板等。本申请实施例的显示面板还可以是液晶显示面板,本申请不限定显示面板的类型,其可以为垂直电场型液晶显示面板,例如扭曲向列(Twisted Nematic,TN)型液晶显示面板,多畴垂直配向(Multi-domain Vertical Alignment,MVA)型液晶显示面板,也可以是水平电场型液晶显示面板,例如边缘场开关 (Fringe Field Switching,FFS)型液晶显示面板或者面内转换(In-Plane Switching,IPS)型液晶显示面板。
本申请提供了一种显示设备,包括如以上所述的可弯折显示面板。
在本申请的一个或多个示例性实施例,例如,显示设备可应用于计算机监视器、笔记本电脑、数码相机、蜂窝电话、智能电话、智能焊盘、电视机、个人数字助理、便携式多媒体播放器、播放器、导航系统、游戏机、视频电话等。
需要理解的是,术语“ 长度”、“ 宽度”、“ 上”、“ 下”、“ 前”、“ 后”、“ 左”、“ 右”、“ 竖直”、“ 水平”、“ 顶”、“ 底”“ 内”、“ 外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,术语“ 第一”、“ 第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“ 第一”、“ 第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中,“ 多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
除非另有定义,本文中所使用的技术和科学术语与本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中使用的术语只是为了描述具体的实施目的,不是旨在限制本发明。本文中出现的诸如“设置”等术语既可以表示一个部件直接附接至另一个部件,也可以表示一个部件通过中间件附接至另一个部件。本文中在一个实施方式中描述的特征可以单独地或与其它特征结合地应用于另一个实施方式,除非该特征在该另一个实施方式中不适用或是另有说明。
本发明已经通过上述实施方式进行了说明,但应当理解的是,上述实施方式只是用于举例和说明的目的,而非意在将本发明限制于所描述的实施方式范围内。本领域技术人员可以理解的是,根据本发明的教导还可以做出更多种的变型和修改,这些变型和修改均落在本发明所要求保护的范围以内。
Claims (8)
1.一种可弯折盖板,用于盖设于显示模组上,包括可弯折区,其特征在于,包括:
盖板本体,所述盖板本体包括相对设置的第一表面和第二表面;
所述第二表面上对应所述可弯折区的位置设置有至少一个凹槽;
所述第一表面上至少在对应所述凹槽的位置处设置有第一不规则结构;
所述凹槽的内表面设置有第二不规则结构,自所述凹槽的中间位置向两端延伸的方向上,所述第二不规则结构中凹凸分布密度逐渐增加。
2.根据权利要求1所述的可弯折盖板,其特征在于,还包括:
所述第二表面上设置有至少三层薄膜层,在所述第一表面到所述第二表面的方向上,所述至少三层薄膜层的折射率按低折射率/高折射率依次交替设置。
3.根据权利要求2所述的可弯折盖板,其特征在于,所述至少三层薄膜层包括依次层叠设置的第一薄膜层、第二薄膜层、第三薄膜层,其中,所述第一薄膜层的折射率与所述盖板本体的折射率近似,所述第二薄膜层的折射率大于所述第一薄膜层的折射率,所述第二薄膜层的折射率大于所述第三薄膜层的折射率。
4.根据权利要求3所述的可弯折盖板,其特征在于,所述第一薄膜层与所述第二表面接触,所述第一薄膜层至少覆盖所述凹槽。
5.根据权利要求1所述的可弯折盖板,其特征在于,所述第一不规则结构在所述第一表面上随机分布,所述第一不规则结构中凹凸尺寸为0.1μm-2μm。
6.一种可弯折盖板的制备方法,其特征在于,用于制备如权利要求1-5任一所述的可弯折盖板,所述方法包括:
提供盖板本体;
在所述第二表面上对应所述可弯折区的位置形成至少一个凹槽;在所述凹槽的内表面形成第二不规则结构,自所述凹槽的中间位置向两端延伸的方向上,所述第二不规则结构中凹凸分布密度逐渐增加;
在所述第一表面上至少在对应所述凹槽的位置处形成第一不规则结构。
7.一种可弯折显示面板,其特征在于,包括显示模组以及盖设在所述显示模组上的如权利要求1-5任一所述的可弯折盖板。
8.一种显示设备,其特征在于,包括如权利要求7所述的可弯折显示面板。
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