CN113802105A - 一种链式真空镀膜设备 - Google Patents
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- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 batteries Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract
本发明提供一种链式真空镀膜设备,其可以防止承载盘形变,同时很容易调整承载板、电极板之间距离,极大的降低了生产成本。其包括承载盘、滚轴、加热器;所述承载盘为水平设置的平板状结构,所述滚轴水平等高地、并行设置在所述承载盘底端面,所述滚轴的滚动方向为所述承载盘的运动方向;所述加热器分别设置于相邻的两个所述滚轴之间的位置;所述加热器底端设置升降结构;两个所述滚轴之间的距离大于所述加热器的宽度。
Description
技术领域
本发明涉及真空气相沉积镀膜设备技术领域,具体为一种链式真空镀膜设备。
背景技术
链式真空镀膜是一种重要的产业技术,应用于光伏,显示器,半导体,电池,材料等等总多领域,发挥着重要甚至核心的作用。现有链式真空设备所采用的传动系统如图1所示,待镀膜材料放置在承载盘1上,承载盘1底端通过链轮2驱动,将待镀膜材料送入到加热腔体中。然而,现有技术中,因为链轮2设置在承载盘1底端两侧,在使用过程中,承载盘1因为仅仅两端受力,会发生形变,导致待镀膜材料出现加热不均的问题,良品率降低,导致生产成本增加;同时,现有技术中,承载板1与设置其上部的电极板之间的距离是固定的,一旦需要工艺参数改变,需要调整待镀膜材料与电极板之间的距离是,需要花费很大成本进行调整,也会导致生产成本增加。
发明内容
为了解决现有技术中,因为承载盘形变导致良品率降低,以及承载板、电极板之间距离调整困难,进而导致生产成本增加的问题,本发明提供一种链式真空镀膜设备,其可以防止承载盘形变,同时很容易调整承载板、电极板之间距离,极大的降低了生产成本。
本发明的结构是这样的:一种链式真空镀膜设备,其包括承载盘,其特征在于,其还包括:滚轴、加热器;
所述承载盘为水平设置的平板状结构,所述滚轴水平等高地、并行设置在所述承载盘底端面,所述滚轴的滚动方向为所述承载盘的运动方向;
所述加热器分别设置于相邻的两个所述滚轴之间的位置;所述加热器底端设置升降结构;
两个所述滚轴之间的距离大于所述加热器的宽度。
其进一步特征在于:
所述承载盘为矩形平板装,使用硬质易导热材料;
所述滚轴为带轮滚轴,包括:轮轴,所述轮轴上等距套装复数个相同尺寸的滚轮;
其还包括限位器,所述限位器分别设置于所述滚轴上方,所述承载盘的两侧。
本发明提供的一种链式真空镀膜设备,通过滚轴对承载盘进行传动,承载盘由两端支撑变为通过中间部分的横向支撑,因此可以杜绝常规链式真空镀膜设备传动结构中常见的承载盘中间部下垂的问题,进而避免了待镀膜材料出现加热不均的问题,提高了良品率,降低了生产成;设置于相邻的两个滚轴之间加热器,通过升降结构驱动可以从底部接触承载盘下表面,确保承载盘下表面与平板加热器得以充分接触,与传统设备的非接触式辐射加热相比,接触加热可以实现对承载盘快速且均匀地加热,提高了良品率;同时,通过升降结构驱动加热器升起,可以将承载盘顶起,调整承载盘与其上部的电极板之间的距离,降低了调整设备的成本,同时提升了设备整体可控性及可靠性。
附图说明
图1为现有技术中的承载盘与链轮的结构示意图;
图2为本发明中镀膜设备的主视的结构示意图;
图3为本发明中镀膜设备的俯视的结构示意图;
图4为升降结构升起后加热器与承载盘的结构关系示意图。
具体实施方式
如图2、3所示,本发明一种链式真空镀膜设备,其包括承载盘1,滚轴3、加热器4。
承载盘1为水平设置地平板状结构,滚轴3水平等高地、并行设置在承载盘1底端面,滚轴3的滚动方向为承载盘1的运动方向;本实施例中,承载盘1为矩形平板状,确保滚轴3传动承载盘1的时候,承载盘1不会发生因为接触面不平而导致的承载盘起伏震动的问题;承载盘1使用如:金属、石墨、陶瓷、玻璃等硬质易导热材料制作,进一步确保不会发生中间塌陷的问题。
加热区域的加热器4为平板加热器,多块分离式的加热器4构成加热区,加热器4顶端的加热面构成水平面,确保对承载盘1的底端面加热是均匀加热;加热器4分别设置于相邻的两个滚轴3之间的位置;加热器4底端设置升降结构5;具体实现时,加热器4使用现有电加热装置实现即可,升降结构5使用现有技术中能够在垂直方向实现升降的结构:如直线电机驱动的直线模组、气缸等等设备实现即可,在升降结构5驱动下,加热器4最大上升高度可以超过滚轴3与承载盘1的接触点。
两个滚轴3之间的距离大于加热器4的宽度,确保加热器4的升降不会与滚轴3发生碰撞。
如图3所示,滚轴3为带轮滚轴,包括:轮轴3-1,轮轴3-1上等距套装复数个相同尺寸的滚轮3-2;
轮轴3-1为等径圆柱体,轮轴3-1上等距套装固定有复数量相同尺寸滚轮3-2,滚轮3-2中心轴与轮轴3-1一致,且运动过程中,滚轮3-2与轮轴3-1相对静止;承载盘1放置于平行设置的多个滚轴3之上,承载盘1底端面与滚轮3-2接触,滚轮3-2承受承载盘的自身重力;轮轴3-1通过驱动电机(图中未标记)带动转动,因为滚轮3-2作用于承载盘1下表面的支撑力,让其在轮轴3-1转动时产生了滚动摩擦力,因此承载盘1被转动的滚轴3所带动前进。
限位器6分别设置于滚轴3上方,承载盘1的两侧,具体实现时,限位器6可以通过导向板实现,从物理上限制承载盘1的行进方向,保证承载盘不会偏离预设的行进方向。
工艺运行时,承载盘1,滚轴3、加热器4都设置在设备内部,设备内部为真空环境;承载盘1放置在滚轴3之上,加热器4默认位置为低于滚轴3所在水平面;驱动电机带动轮轴3-1转动,滚轴3带动承载盘1盘到加热区域后,驱动电机停止;升降结构5启动,加热器4从滚轴3之间升起,直至将承载盘1抬升使其与滚轮脱离,如说明书附图的图4所示;加热器4将承载盘1抬起后,加热器4启动,对承载盘1进行加热,完成后续镀膜工序。
使用本发明的技术方案后中,传送系统由一系列彼此平行的,等水平高度水平安装的相同规格尺寸的滚轴3构成,避免了现有真空设备承载盘因为仅仅两端受力而产生的型变,同时,可升降加热器不仅可以对承载盘做全面积接触加热,也会调节承载盘到上电极板的距离,增加工艺调节的自由度,本发明的技术方案基于传送、加热结构的改进,极大的提高了生产的良品率,降低了生产成本。
Claims (4)
1.一种链式真空镀膜设备,其包括承载盘,其特征在于,其还包括:滚轴、加热器;
所述承载盘为水平设置的平板状结构,所述滚轴水平等高地、并行设置在所述承载盘底端面,所述滚轴的滚动方向为所述承载盘的运动方向;
所述加热器分别设置于相邻的两个所述滚轴之间的位置;所述加热器底端设置升降结构;
两个所述滚轴之间的距离大于所述加热器的宽度。
2.根据权利要求1所述一种链式真空镀膜设备,其特征在于:所述承载盘为矩形平板装,使用硬质易导热材料。
3.根据权利要求1所述一种链式真空镀膜设备,其特征在于:所述滚轴为带轮滚轴,包括:轮轴,所述轮轴上等距套装复数个相同尺寸的滚轮。
4.根据权利要求1所述一种链式真空镀膜设备,其特征在于:其还包括限位器,所述限位器分别设置于所述滚轴上方,所述承载盘的两侧。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202111041719.6A CN113802105A (zh) | 2021-09-07 | 2021-09-07 | 一种链式真空镀膜设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202111041719.6A CN113802105A (zh) | 2021-09-07 | 2021-09-07 | 一种链式真空镀膜设备 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113802105A true CN113802105A (zh) | 2021-12-17 |
Family
ID=78940561
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202111041719.6A Pending CN113802105A (zh) | 2021-09-07 | 2021-09-07 | 一种链式真空镀膜设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113802105A (zh) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN201272827Y (zh) * | 2008-08-18 | 2009-07-15 | 凌嘉科技股份有限公司 | 一种内传输轮轨导引结构 |
CN202148346U (zh) * | 2011-07-05 | 2012-02-22 | 北京北仪创新真空技术有限责任公司 | 一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备 |
CN103014635A (zh) * | 2011-09-22 | 2013-04-03 | 吉富新能源科技(上海)有限公司 | 一种光伏玻璃溅镀承载盘传送装置 |
CN211595787U (zh) * | 2019-11-05 | 2020-09-29 | 赫得纳米科技(昆山)有限公司 | 一种水平连续式溅射镀膜机无干涉导轨 |
CN112030110A (zh) * | 2020-08-21 | 2020-12-04 | 无锡爱尔华光电科技有限公司 | 一种基材可分离的真空镀膜设备 |
-
2021
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN201272827Y (zh) * | 2008-08-18 | 2009-07-15 | 凌嘉科技股份有限公司 | 一种内传输轮轨导引结构 |
CN202148346U (zh) * | 2011-07-05 | 2012-02-22 | 北京北仪创新真空技术有限责任公司 | 一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备 |
CN103014635A (zh) * | 2011-09-22 | 2013-04-03 | 吉富新能源科技(上海)有限公司 | 一种光伏玻璃溅镀承载盘传送装置 |
CN211595787U (zh) * | 2019-11-05 | 2020-09-29 | 赫得纳米科技(昆山)有限公司 | 一种水平连续式溅射镀膜机无干涉导轨 |
CN112030110A (zh) * | 2020-08-21 | 2020-12-04 | 无锡爱尔华光电科技有限公司 | 一种基材可分离的真空镀膜设备 |
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