CN202148346U - 一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备,包括:加热源(1)、支柱(4)、多组传输机构与多块隔板(10);每组传输机构包括传动轴(9)、两个轴承座(8)与多个滚轮(5),传动轴(9)通过两个轴承座(8)安装于支柱(4)上,传动轴(9)上间隔固定滚轮(5),滚轮(5)上还固定有橡胶圈(6);隔板(10)通过螺钉(3)固定于支柱(4)上,隔板(10)上对应橡胶圈(6)的位置开有方孔(11);其特征在于,所述的隔板(10)上在两传输机构间的位置设有凹槽(12)。有效解决了高温下隔板变形的问题。节约了成本。保证了基片传送系统的平稳运行以及镀膜环境的稳定性,确保了膜层质量,有效提高了真空镀膜设备的安全性和可靠性。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种机械设备技术领域,尤其涉及一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备。
背景技术
真空镀膜是在真空条件下,对光学零件镀膜的工艺过程;真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。针对不同的镀膜工艺,基片上方通常会有相应的高温烘烤以及相应的蒸发源等。而在多室连续式真空镀膜设备中,被镀基片往往是通过滚轮传输机构传输的,而滚轮传输机构中会有相应的轴承,橡胶件等。基片放置在滚轮上,滚轮转动时依靠滚轮上的橡胶圈与基片间产生的摩擦力带动基片运动。这些热源的辐射热会对传输机构造成损坏,以致影响整个传输机构的性能。
因此在真空室内热源与滚轮间常设有隔板装置,可以有效地阻止热源的辐射热直接传给轴承,橡胶件,还能防止蒸发源的飞溅物对传输机构的污染。现有的隔板装置如图1至图4所示,隔板10直接采用平板,在上面对应橡胶圈6的位置开出方孔11,板间的对接接缝如图3与图4所示。即使是较厚的板,在加热源1的高温下也会产生变形,长时间烘烤下隔板10就会变得凹凸不平,隔板10两端就会出现翘起,隔板10对接接缝处会产生高低不平的台阶,变形严重时就会使传动系统与隔板10之间发生干涉;或使基片7与滚轮5脱离而无法被传送;或使镀膜环境发生变化等,这些都会使镀膜工作无法顺利进行。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备,有效解决了高温下隔板变形的问题。节约了成本。保证了基片传送系统的平稳运行以及镀膜环境的稳定性,确保了膜层质量,有效提高了真空镀膜设备的安全性和可靠性。
本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的:
一种真空镀膜设备的真空室,包括:加热源1、支柱4、多组传输机构与多块隔板10;每组传输机构包括传动轴9、两个轴承座8与多个滚轮5,传动轴9通过两个轴承座8安装于支柱4上,传动轴9上间隔固定滚轮5,滚轮5上还固定有橡胶圈6;隔板10通过螺钉3固定于支柱4上,隔板10上对应橡胶圈6的位置开有方孔11;
所述的隔板10上在两传输机构间的位置设有凹槽12。
所述的两块隔板10的对接接缝的边缘设有向下弯的折边13。
所述的凹槽12的形状为半圆形、U型或V型。
所述的相邻两组的传输机构的滚轮5间隔设置。
所述的每组传输机构的滚轮5为4个或5个。
一种真空镀膜设备,包括上述的真空室。
由上述本实用新型提供的技术方案可以看出,本实用新型实施例提供的一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备,隔板可始终保持着平面状态,隔板两端也不会发生翘起现象;两块隔板对接接缝处也不会出现由于变形而产生的高低不平的台阶,有效解决了高温下隔板变形的问题。此隔板防变形能力的提高,隔板可使用更薄的板材加工,有效地节约了成本。保证了基片传送系统的平稳运行以及镀膜环境的稳定性,确保了膜层质量,有效提高了真空镀膜设备的安全性和可靠性。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域的普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他附图。
图1为现有技术的真空镀膜设备的真空室内部分结构的示意图一;
图2为现有技术的真空镀膜设备的真空室内部分结构的示意图二;
图3为图1的关于“I”部的放大图;
图4为图1的关于“II”部的放大图;
图5为本发明实施例提供的真空镀膜设备的真空室内部分结构的示意图一;
图6为本发明实施例提供的真空镀膜设备的真空室内部分结构的示意图二;
图7为图5的关于“III”部的放大图;
图8为的图5的关于“IV”部的放大图;
图9为图5的关于“V”部的放大图。
具体实施方式
下面结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型的保护范围。
下面将结合附图对本发明实施例作进一步地详细描述。
如图5至图9所示,并参考图1至图4,一种真空镀膜设备的真空室,包括:加热源1、支柱4、多组传输机构与多块隔板10;每组传输机构包括传动轴9、两个轴承座8与多个滚轮5,传动轴9通过两个轴承座8安装于支柱4上,传动轴9上间隔固定滚轮5,滚轮5上还固定有橡胶圈6;隔板10通过螺钉3固定于支柱4上,隔板10上对应橡胶圈6的位置开有方孔11;以露出滚轮5与橡胶圈6,使基片7与滚轮5上的橡胶圈6接触,当传动轴9带动滚轮5转动时,基片就会通过橡胶圈6与基片7间的摩擦力被传送。
所述的隔板10上在两传输机构间的位置设有凹槽12。凹槽12的形状为半圆形,当然也可以是U型或V型。
所述的两块隔板10的对接接缝的边缘设有向下弯的折边13。
所述的相邻两组的传输机构的滚轮5为4个或5个且间隔设置。具体如图2与图7所示呈锯齿状。
另外,本实用新型还提供一种真空镀膜设备,采用上述的真空室。
由于隔板10的结构不同,本实用新型的真空室主要特点:
1、隔板10上的凹槽12以及隔板10两端的折边13,起到了防止隔板10变形的加强筋的作用,有效地防止了隔板10在高温烘烤下的变形。即使在连续高温烘烤下,由于这些“加强筋”的作用,隔板10始终保持着平面状态,隔板10两端也不会发生翘起现象;两块隔板10对接处也不会出现由于变形而产生的高低不平的台阶。不致影响整个基片传送系统的平稳运行。
2、因隔板10防变形能力的提高,隔板10可使用更薄的板材加工,节约了成本。
3、隔板10防变形能力的提高,保证了基片传送系统的平稳运行以及镀膜环境的稳定性,确保了膜层质量,有效提高了真空镀膜设备的安全性和可靠性。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。
Claims (6)
1.一种真空镀膜设备的真空室,包括:加热源(1)、支柱(4)、多组传输机构与多块隔板(10);每组传输机构包括传动轴(9)、两个轴承座(8)与多个滚轮(5),传动轴(9)通过两个轴承座(8)安装于支柱(4)上,传动轴(9)上间隔固定滚轮(5),滚轮(5)上还固定有橡胶圈(6);隔板(10)通过螺钉(3)固定于支柱(4)上,隔板(10)上对应橡胶圈(6)的位置开有方孔(11);其特征在于,
所述的隔板(10)上在两传输机构间的位置设有凹槽(12)。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备的真空室,其特征在于,所述的两块隔板(10)的对接接缝的边缘设有向下弯的折边(13)。
3.根据权利要求1或2所述的真空镀膜设备的真空室,其特征在于,所述的凹槽(12)的形状为半圆形、U型或V型。
4.根据权利要求1或2所述的真空镀膜设备的真空室,其特征在于,所述的相邻两组的传输机构的滚轮(5)间隔设置。
5.根据权利要求1或2所述的真空镀膜设备的真空室,其特征在于,所述的每组传输机构的滚轮(5)为4个或5个。
6.一种真空镀膜设备,其特征在于,包括权利要求1至5任意一项所述的真空室。
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CN110079791A (zh) * | 2019-04-25 | 2019-08-02 | 北京捷造光电技术有限公司 | 一种用于pecvd反应区的伸缩式滚轮传输结构 |
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