CN113711088A - 显示装置和电子设备 - Google Patents

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Abstract

一种显示装置，设置有：基板，具有主表面；多个发光元件，设置在主表面上；以及多个结构体，设置在多个发光元件上，并且具有垂直于或基本垂直于主表面的侧表面。结构体之间的折射率低于结构体的折射率，并且发光元件的间距是结构体的间距的三倍或更小。

Description

显示装置和电子设备
技术领域
本公开涉及一种显示装置和一种电子设备。
背景技术
为了在诸如微型有机发光二极管(微型OLED)和微型发光二极管(微型LED)的微型显示器中实现高亮度和低功耗，需要通过提高发射光的利用效率来提高效率。
例如，专利文献1描述了在发光元件上形成半球形透镜，以在前部附近聚集光，从而提高光的利用效率。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利公开号2013-114772
发明内容
本发明要解决的问题
在诸如微型显示器等表面光源的情况下，需要提高作为整个光源的光的利用效率，并且当考虑面积比时，提高光源外围附近的光的聚集是有效的。然而，尽管在焦点附近，即在发光元件的中心附近，向前方聚集光的效果在半球形透镜中显著，但是在发光元件的外围附近聚集光的效果不利地很小。
本公开的目的是提供一种显示装置和一种包括该显示装置的电子设备，其能够增强发光元件的外围附近的聚光效果。
问题的解决方案
为了解决上述问题，根据第一公开，一种显示装置，包括：基板，具有主表面；多个发光元件，设置在主表面上；以及多个结构体，设置在多个发光元件上，并且具有垂直于或大致垂直于主表面的侧表面，结构体之间的折射率低于结构体的折射率，并且发光元件的间距是结构体的间距的三倍或更小。
根据第二公开，一种显示装置，包括：基板，具有主表面；多个发光元件，设置在主表面上；以及多个结构体，设置在多个发光元件上，并且具有垂直于或大致垂直于主表面的侧表面，结构体之间的部分的折射率低于结构体的折射率，并且发光元件的间距是结构体的间距的三倍或更大(n是等于或大于1的整数)。
根据第三公开，电子设备包括根据第一公开或第二公开所描述的显示装置。
附图说明
图1是用于示出根据本公开实施例的显示装置的整体配置的示例的示意图；
图2的A是用于示出根据本公开实施例的显示装置的配置示例的截面图；
图2的B是沿着图2的A的线IIB-IIB的截面图；
图3是用于示出图2的A所示的有机层的配置示例的放大截面图；
图4的A和图4的B均是解释形成微透镜阵列的步骤的示例的截面图；
图5是用于示出微透镜的变形例的截面图；
图6是用于示出微透镜的变形例的截面图；
图7是用于示出微透镜的变形例的截面图；
图8是用于示出微透镜的变形例的截面图；
图9是用于示出微透镜的变形例的截面图；
图10是用于示出微透镜的变形例的截面图；
图11是用于示出微透镜的变形例的截面图；
图12是用于示出微透镜的变形例的截面图；
图13是用于示出微透镜的变形例的截面图；
图14是用于示出微透镜的变形例的截面图；
图15是用于示出微透镜的变形例的截面图；
图16是用于示出微透镜的变形例的截面图；
图17是用于示出微透镜阵列的变形例的截面图；
图18是用于示出显示装置的变形例的截面图；
图19是用于示出显示装置的变形例的截面图；
图20是用于示出显示装置的变形例的截面图；
图21是用于示出显示装置的变形例的截面图；
图22是用于示出显示装置的变形例的截面图；
图23的A和图23的B均是解释形成微透镜阵列的步骤的变形例的截面图；
图24的A和图24的B均是解释形成微透镜阵列的步骤的变形例的截面图；
图25是用于示出模块的示意性配置的示例的平面图；
图26的A是用于示出数码相机的外观示例的正视图；
图26的B是用于示出数码相机的外观示例的后视图；
图27是用于示出头戴式显示器的外观示例的透视图；
图28是用于示出电视装置的外观示例的透视图；
图29是用于示出照明装置的外观示例的透视图；
图30是分析模型A的截面图；
图31是分析模型B的截面图；
图32是分析模型C的截面图；
图33是分析模型D的截面图；
图34是分析模型E的截面图；
图35是用于示出测试示例1-1至1-8的分析结果的曲线图；
图36是用于示出测试示例2-1至2-10的分析结果的曲线图；
图37是用于示出测试示例3-1至3-4的分析结果的曲线图；
图38是用于示出测试示例4-1至4-6的分析结果的曲线图；
图39是用于示出测试示例5-1至5-10的分析结果的曲线图。
具体实施方式
将按以下顺序描述本公开的实施例。应当注意，在以下实施例的所有附图中，在相同或相应的部分的后面具有相同的附图标记。
1显示装置的配置
2显示装置的制造方法
3效果
4变形例
5应用示例
[1显示装置的配置]
图1示出了根据本公开实施例的显示装置10的整体配置的示例。显示装置10适用于各种电子设备，并且显示区域110A和显示区域110A的外围边缘上的外围区域110B设置在基板11上。在显示区域110A中，多个子像素100R、100G和100B排列成矩阵。子像素100R显示红色，子像素100G显示绿色，并且子像素100B显示蓝色。应当注意，在子像素100R、子像素100G和子像素100B彼此没有特别区分的情况下，它们在以下描述中被称为子像素100。
显示相同颜色的子像素100R、100G和100B的列在行方向上重复排列。因此，沿行方向排列的三个子像素100R、100G和100B的组合构成一个像素。作为视频显示的驱动器的信号线驱动电路120和扫描线驱动电路130设置在外围区域110B中。
信号线驱动电路120根据从信号供应源(未示出)供应的亮度信息，经由信号线120A向所选像素供应视频信号的信号电压。扫描线驱动电路130使用移位寄存器等来配置，该移位寄存器等与要输入的时钟脉冲同步地依次移位(传送)开始脉冲。当向每个像素写入视频信号时，扫描线驱动电路130在行的基础上扫描像素，并且依次向每个扫描线130A提供扫描信号。
显示装置10例如是微显示器，在该显示装置10中，诸如OLED、微型OLED或微型LED的自发光元件形成为阵列。显示装置10适用于虚拟现实(VR)、混合现实(MR)或增强现实(AR)的显示装置、电子取景器(EVF)、小型投影仪等。
图2示出了截面图，每个截面图示出了根据本公开实施例的显示装置10的配置的示例。显示装置10是顶部发射显示装置，并且包括具有主表面的基板(第一基板)11、设置在基板11的主表面上的多个发光元件12和绝缘层13、设置在多个发光元件12上的保护层14、设置在保护层14上的底涂层15、设置在底涂层15上的滤色器16、设置在滤色器16上的微透镜阵列17、设置在微透镜阵列17上的树脂填充层(上层)18以及设置在树脂填充层18上的对向基板(第二基板)19。应当注意，对向基板19侧是顶侧，并且基板11侧是底侧。
多个发光元件12在基板11的主表面上排列成矩阵。发光元件12是白色OLED，并且使用白色OLED和滤色器16的方法用作显示装置10中的着色方法。应当注意，着色方法不限于此，并且可以使用RGB单独着色方法等。此外，可以使用单色滤光器。此外，发光元件12也可以是微型OLED(MOLED)或微型LED。
通过从基板11侧依次堆叠作为例如阳极的第一电极12A、有机层12B和作为例如阴极的第二电极12C，获得每个发光元件12。
基板11是用于支撑排列在主表面上的多个发光元件12的支撑件。此外，尽管图中未示出，但是基板11可以设置有驱动电路，该驱动电路包括采样晶体管和用于控制多个发光元件12的驱动的驱动晶体管、以及用于向多个发光元件12提供电力的电源电路。
基板11可以使用例如具有低湿气和氧气渗透性的玻璃或树脂来配置，或者可以使用能够容易地形成晶体管等的半导体来形成。具体而言，基板11可以是玻璃基板(例如，高应变点玻璃、苏打玻璃、硼硅酸盐玻璃、镁橄榄石、铅玻璃或石英玻璃)、半导体基板(例如，非晶硅或多晶硅)、树脂基板(例如，聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯醇、聚乙烯酚、聚醚砜、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯)等。
基板11设置有接触插头11A。接触插头11A将第一电极12A电连接到驱动电路、电源电路等。具体而言，接触插头11A将第一电极12A电连接到设置在基板11内部的驱动电路、电源电路等(未示出)，并且将用于从发光元件12发光的电力施加到第一电极12A。接触插头11A可以使用例如单一金属、合金等形成，例如，铬(Cr)、金(Au)、铂(Pt)、镍(Ni)、铜(Cu)、钼(Mo)、钨(W)、钛(Ti)、钽(Ta)、铝(Al)、铁(Fe)或银(Ag)，并且可以通过层叠多个这些金属膜来形成。
(第一电极)
通过对于子像素100R、100G和100B中的每一个电分离来提供第一电极12A。每个第一电极12A还用作反射层，并且优选地使用具有尽可能高的反射率和大的功函数的金属层来配置，以便提高发光效率。作为金属层的构成材料，例如，可以使用单一金属和金属元素合金中的至少一种，例如，铬(Cr)、金(Au)、铂(Pt)、镍(Ni)、铜(Cu)、钼(Mo)、钛(Ti)、钽(Ta)、铝(Al)、镁(Mg)、铁(Fe)、钨(W)和银(Ag)。合金的具体示例包括AlNi合金、AlCu合金等。每个第一电极12A可以使用包括上述金属元素的单一金属和合金中的至少一种的多个金属层的层压膜来形成。
(第二电极)
每个第二电极12C设置在显示区域110A中，作为所有子像素100R、100G和100B共有的电极。每个第二电极12C是对有机层12B中产生的光具有渗透性的透明电极。在此处，假设透明电极还包括半透性反射膜。每个第二电极12C使用诸如金属或金属氧化物来配置。作为金属，例如，可以使用铝(Al)、镁(Mg)、钙(Ca)和钠(Na)的单一金属和金属元素合金中的至少一种。作为合金，例如，镁(Mg)和银(Ag)的合金(MgAg合金)或铝(Al)和锂(Li)的合金(AlLi合金)是优选的。作为金属氧化物，例如，可以使用诸如氧化铟和氧化锡的混合物(ITO)、氧化铟和氧化锌的混合物(IZO)或氧化锌(ZnO)的金属氧化物。
(绝缘层)
每个绝缘层13用于电分离每个子像素100R、100G和100B的第一电极12A。每个绝缘层13设置在第一电极12A之间，并且覆盖第一电极12A的外围边缘部分。更具体地，每个绝缘层13在与每个第一电极12A相对应的部分具有开口，并且从每个第一电极12A的上表面(面对第二电极12C的表面)的外围边缘部分到每个第一电极12A的侧表面(端面)覆盖第一电极12A的外围边缘部分。
每个绝缘层13使用例如有机材料或无机材料来配置。有机材料包括例如聚酰亚胺、丙烯酸树脂等。无机材料包括例如氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化铝等。
(有机层)
有机层12B作为所有子像素100R、100G和100B共有的有机层设置在显示区域110A中。图3是图2所示的有机层12B的放大图。有机层12B具有从第一电极12A侧依次层叠的空穴注入层12B1、空穴传输层12B2、发光层12B3和电子传输层12B4的配置。应当注意，有机层12B的配置不限于此，并且根据需要提供除发光层12B3之外的层。
空穴注入层12B1是用于增强空穴注入发光层12B3的效率和抑制泄漏的缓冲层。空穴传输层12B2用于增强进入发光层12B3的空穴传输效率。发光层12B3施加电场，以引起电子和空穴的复合，并产生光。电子传输层12B4用于增强进入发光层12B3的电子传输效率。电子注入层(未示出)可以设置在电子传输层12B4和第二电极12C之间。电子注入层用于提高电子注入效率。
(保护层)
保护层14用于将发光元件12与外部空气隔开，以抑制湿气从外部环境侵入发光元件12的内部。此外，在使用金属层配置第二电极12C的情况下，保护层14还具有抑制金属层氧化的功能。
保护层14使用例如具有低吸湿性的无机材料来配置，例如，氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮化硅(SiNxOy)、氧化钛(TiOx)或氧化铝(AlxOy)。此外，保护层14可以具有单层结构，或者在厚度要增加的情况下可以具有多层结构。这是为了缓和保护层14中的内应力。此外，保护层14可以使用聚合物树脂来配置。在这种情况下，热固性树脂和紫外线固化树脂中的至少一种树脂材料可以用作聚合物树脂。
(底涂层)
例如，底涂层15用于平坦化保护层14的台阶。底涂层15使用例如聚合物树脂来配置。在这种情况下，热固性树脂和紫外线固化树脂中的至少一种树脂材料可以用作聚合物树脂。应当注意，根据需要提供底涂层15，并且不一定提供。
(滤色器)
滤色器16例如是片上滤色器(OCCF)。滤色器16包括例如红色滤色器16R、绿色滤色器16G和蓝色滤色器16B。红色滤色器16R、绿色滤色器16G和蓝色滤色器16B分别与子像素100R的发光元件12、子像素100G的发光元件12和子像素100B的发光元件12相对设置。因此，从子像素100R、子像素100G和子像素100B中的每个发光元件12发射的白光穿过红色滤光器16R、绿色滤光器16G和蓝色滤光器16B，从而从显示表面发射红光、绿光和蓝光中的每个。此外，遮光层(未示出)可以设置在各个颜色的滤色器之间(即子像素100之间)的区域。
(微透镜)
微透镜阵列17是用于提高显示装置10的光提取效率的光提取结构。微透镜阵列17包括底部17B和设置在底部17B上的多个微透镜17A。每个微透镜17A例如是片上微透镜(OCL)，并且是具有与基板11的主表面垂直的侧表面的结构体。优选地，每个微透镜17A的顶面平坦。在该实施例中，每个微透镜17A具有六边形柱形状。多个微透镜17A在基板11的主表面的面内方向上二维排列，并且构成蜂窝结构。微透镜17A与发光元件12相对应地设置，并且微透镜17A的材料相同，而与每个发光元件12无关。
间隙17C设置在相邻的微透镜17A的侧表面之间。间隙17C填充有填充树脂18A。填充在微透镜17A之间的填充树脂18A的折射率n2低于微透镜的折射率n1。即，微透镜17A之间的折射率n2低于微透镜17A的折射率n1。
每个微透镜17A与子像素100R的发光元件12、子像素100G的发光元件12和子像素100B的发光元件12相对设置。因此，从子像素100R、子像素100G和子像素100B中的每个发光元件12发射的白光被微透镜17A朝向显示装置10的前部会聚，并从显示表面发射。因此，提高了前向光的利用效率。
微透镜阵列17使用例如对从滤色器16发射的每种颜色的光透明的无机材料或聚合物树脂来配置。作为无机材料，例如，可以使用氧化硅(SiO2)。作为聚合物树脂，例如，可以使用光敏树脂。
每个微透镜17A的高度H优选地在1.5μm以上且2.5μm以下。当每个微透镜17A的高度H在1.5μm以上时，可以有效地增强每个发光元件12的外围附近的聚光效果。
微透镜17A之间的间隙17C的宽度(微透镜17A之间的部分的宽度)W优选地在0.4μm以上且1.2μm以下，更优选地在0.6μm以上且1.2μm以下，还优选在0.8μm以上且1.2μm以下，并且特别优选地在0.8μm以上且1.0μm以下。当微透镜17A之间的宽度W在0.4μm以上时，可以使微透镜17A之间的宽度W等于或大于可见光波长带的下限值，从而可以抑制间隙17C的功能退化。因此，可以有效地增强每个发光元件12的外围附近的聚光效果。另一方面，当微透镜17A之间的宽度W为1.2μm以下时，可以抑制每个微透镜17A相对于发光元件12的尺寸减小。因此，可以有效地增强每个发光元件12的外围附近的聚光效果。
微透镜17A的间距P优选地在1μm以上且10μm以下。当微透镜17A的间距在10μm以下时，光的波动行为显著地展现出来，因此使用具有上述配置的微透镜17A的效果显著地展现出来。
发光元件12与微透镜17A之间的距离DH优选大于0.35μm且在7μm以下，更优选地在1.3μm以上且7μm以下，还优选地在2.8μm以上且7μm以下，特别优选地在3.8μm以上且7μm以下。当发光元件12与微透镜17A之间的距离DH超过0.35μm时，可以有效地增强每个发光元件12的外围附近的聚光效果。另一方面，当发光元件12和微透镜17A之间的距离DH为7μm以下时，可以抑制视角特性的恶化。
(树脂填充层)
树脂填充层18具有作为粘合剂层的功能，用于使微透镜阵列17粘附到对向基板19。此外，树脂填充层18还具有作为填充微透镜17A之间的间隙17C的填充物的功能。使用填充在微透镜阵列17与对向基板19之间的空间中的填充树脂18A、和填充在微透镜17A之间的间隙17C中的填充树脂18B来配置树脂填充层18。填充树脂18A是设置在多个微透镜17A上的上层的示例，并且填充树脂18A的折射率n3优选低于结构体的折射率n1。因此，可以有效地增强每个发光元件12的外围附近的聚光效果。树脂填充层18使用例如热固性树脂和紫外线固化树脂中的至少一种树脂材料来配置。应当注意，填充树脂18A和填充树脂18B可以使用不同的材料来配置，并且在这种情况下，填充树脂18A的折射率n3和填充树脂18B的折射率n2可以彼此不同。
(对向基板)
对向基板19被设置成使得该对向基板19的主表面与设置有多个发光元件12的基板11的主表面彼此面对。对向基板19与树脂填充层18一起密封发光元件12、滤色器16、微透镜阵列17等。对向基板19使用对从滤色器16发射的每种颜色的光透明的诸如玻璃的材料来配置。
[2显示装置的制造方法]
在下文中，将描述具有上述配置的显示装置10的制造方法。
首先，通过使用例如薄膜形成技术、光刻技术和蚀刻技术，在基板11的主表面上形成驱动电路等。接下来，通过例如溅射方法在驱动电路等上形成金属层，然后通过使用例如光刻技术和蚀刻技术图案化金属层，从而针对每个发光元件12(即，为每个子像素100)形成分离的多个第一电极12A。
接下来，通过例如化学气相沉积(CVD)法形成绝缘层13。接下来，通过使用光刻技术和蚀刻技术来图案化绝缘层13。接下来，通过例如气相沉积法，在第一电极12A和绝缘层13上依次层叠空穴注入层12B1、空穴传输层12B2、发光层12B3和电子传输层12B4，从而形成有机层12B。接下来，通过例如溅射方法在有机层12B上形成第二电极12C。因此，多个发光元件12形成在基板11的主表面上。
接下来，通过例如气相沉积法或CVD法在第二电极12C上形成保护层14。接下来，通过例如旋涂法在保护层14上形成底涂层15，然后通过使用例如薄膜形成技术、光刻技术和蚀刻技术在底涂层15上形成滤色器16。接下来，如图4的A所示，将光敏树脂施加到滤色器16上，以形成光敏树脂层17D，然后如图4的B所示，通过使用光刻技术在光敏树脂层17D中形成间隙17C，以形成微透镜阵列17。
接下来，通过例如一滴填充(ODF)方法用树脂填充层18覆盖微透镜阵列17，然后将对向基板19放置在树脂填充层18上。接下来，通过例如向树脂填充层18施加热量或者用紫外线照射树脂填充层18以固化树脂填充层18，基板11和对向基板19通过树脂填充层18彼此结合。因此，密封显示装置10。应当注意，在树脂填充层18包含热固性树脂和紫外线固化树脂的情况下，树脂填充层18通过紫外线照射而暂时固化，然后树脂填充层18可以通过施加到其上的热量而完全固化。
[3效果]
根据上述实施例的显示装置10包括分别设置在多个发光元件12上的多个微透镜17A。每个微透镜17A具有垂直于基板11的主表面的侧表面，并且微透镜17A之间的折射率n2低于微透镜17A的折射率n1。因此，与半球形微透镜相比，可以改善每个发光元件(光源)12的外围附近的聚光效果。因此，可以提高显示装置10的效率。即，可以实现显示装置10的高亮度和低功耗。
根据上述实施例的显示装置10可以在不使用回流、灰色调掩模等的情况下制造，因为微透镜17A具有垂直侧表面。因此，与半球形微透镜等相比，可以简化制造过程。
在普通微透镜(例如，半球形微透镜)的情况下，如果微透镜与发光元件(光源)之间的距离不长，则难以提高显示装置的效率。此外，如果为了提高显示装置的效率，使微透镜与发光元件(光源)之间的距离变长，则还存在视角特性恶化的问题。相反，在根据上述实施例的显示装置10中，即使作为光提取结构的微透镜17A与发光元件(光源)12之间的距离不变长，也可以提高显示装置10的效率。因此，可以提高显示装置10的效率，同时抑制视角特性的恶化。
[4变形例]
(变形例1)
在上述实施例中，已经描述了每个微透镜17A具有六边形柱形状形状的情况(见图2的B)，但是每个微透镜17A的形状不限于此，并且每个微透镜17A可以具有除了六边形柱形状形状或大致柱形状形状之外的柱形状形状。在下文中，将参考图5至图8描述除六边形柱形状之外的每个微透镜17A的形状的示例。
如图5所示，每个微透镜17A可以具有圆柱形状。由于每个微透镜17A具有圆柱形形状，所以可以改善填充树脂18B相对于间隙17C的填充性能。
如图6所示，每个微透镜17A可以具有椭圆形柱形状。由于每个微透镜17A具有椭圆柱形状，所以可以改善填充树脂18B相对于间隙17C的填充性能。优选地，多个微透镜17A被设置成使得其每个截面的椭圆形的长轴对应于显示表面的水平方向，并且其短轴对应于显示表面的垂直方向。通过如上所述设置多个微透镜17A，可以改善水平方向上的视角特性。
如图7所示，每个微透镜17A可以具有矩形柱形状(矩形六面体形状)。在这种情况下，具有相邻微透镜17A的矩形形状的侧表面彼此平行设置。每个微透镜17A的底面和顶面可以具有例如正方形形状。
如图8所示，每个微透镜17A可以具有八边形柱形状。在这种情况下，具有相邻微透镜17A的矩形形状的侧表面彼此平行设置。由于每个微透镜17A具有八边形柱形状，所以填充树脂18B相对于间隙17C的填充性能可以得到改善。应当注意，每个微透镜可以具有除矩形柱形状、六边形柱形状和八边形柱形状之外的棱柱形柱形状。
(变形例2)
在上述实施例中，已经描述了构成微透镜阵列17的微透镜17A的尺寸相同的情况(参见图2的A和图2的B)，但是如图9所示，设置在红色滤色器16R上的微透镜17A、设置在绿色滤色器16G上的微透镜17A和设置在蓝色滤色器16B上的微透镜17A的尺寸可以彼此不同。应当注意，尽管图9示出了每个微透镜17A具有矩形柱形状的配置，但是如上所述，即使在每个微透镜17A具有矩形柱形状以外的形状的情况下，微透镜17A的尺寸也可以彼此不同。
(变形例3)
在上述实施例中，已经描述了构成微透镜阵列17的每个微透镜17A的折射率n1相同的情况，但是设置在红色滤色器16R上的微透镜17A、设置在绿色滤色器16G上的微透镜17A和设置在蓝色滤色器16B上的微透镜17A的折射率可以彼此不同。
在设置在红色滤色器16R上的微透镜17A、设置在绿色滤色器16G上的微透镜17A和设置在蓝色滤色器16B上的微透镜17A的折射率分别为n11、n12和n13，并且微透镜17A之间的折射率(即，填充在微透镜17A之间的填充树脂18A的折射率)为n2的情况下，折射率n11、n12、n13和n2满足n11、n12、n13>n2的关系。
(变形例4)
在上述实施例中，已经描述了每个微透镜17A是具有与基板11的主表面垂直的侧表面的结构体的情况(见图2的A)，但是每个微透镜17A可以是具有与基板11的主表面大致垂直的侧表面的结构体。在下文中，将描述结构体具有大致垂直的侧表面的情况的示例。
如图10所示，微透镜17A的侧表面倾斜，使得每个微透镜17A的宽度从每个微透镜17A的底面朝向顶面变窄，并且每个微透镜17A可以具有例如锥形状。倾斜的侧表面可以是平坦的或弯曲的突出或凹陷形状。
如图11所示，微透镜17A的侧表面倾斜，使得每个微透镜17A的宽度从每个微透镜17A的底面朝向顶面变宽，并且每个微透镜17A可以具有例如倒锥形状。倾斜的侧表面可以是平坦的或弯曲的突出或凹陷形状。
如图12所示，微透镜17A的侧表面可以弯曲成突出形状。或者，微透镜17A的侧表面可以弯曲成凹陷形状。
应当注意，在图10和图11所示的形状示例中，对应的一个侧表面相对于基板11的主表面的倾斜角θ在80度至100度的范围内。在侧表面弯曲成突出或凹陷形状的情况下，每个微透镜17A的截面的切线优选在80度至100度的范围内。在此处，“每个微透镜17A的截面”是指通过相对于基板11的主表面垂直切割每个微透镜17A而获得的截面。
为了有效地增强每个发光元件12的外围附近的聚光效果，对应的一个侧表面相对于基板11的主表面的倾斜角θ优选为81.8度至98.2度，更优选为84.0度至96.0度，还优选为86.0度至94.0度，特别优选为88.0度至92.0度，最优选为大约90度。
如图13所示，每个微透镜17A的顶部的侧表面倾斜，使得每个微透镜17A的顶部的宽度朝向每个微透镜17A的高度方向逐渐变窄，并且每个微透镜17A的顶部可以具有例如锥形状。倾斜的侧表面可以是平坦的或弯曲的突出或凹陷形状。在此处，“每个微透镜17A的高度方向”是指从每个微透镜17A的底面朝向顶面的每个微透镜17A的高度方向。
(变形例5)
在上述实施例中，已经描述了每个微透镜17A具有平坦的顶面的情况(见图2的A)，但是每个微透镜17A可以具有弯曲成突出或凹陷形状的顶面。然而，从改善前向亮度的观点来看，优选每个微透镜17A具有平坦的顶面。
(变形例6)
在上述实施例中，已经描述了每个子像素100具有正方形形状的情况，但是每个子像素100可以具有矩形形状。在这种情况下，如图14所示，长方体透镜可以用作微透镜17A。
(变形例7)
在上述实施例中，已经描述了发光元件12与微透镜17A的间距相同的情况，即，在每个发光元件12上设置一个微透镜17A的情况，但是微透镜17A的设置形式不限于此。例如，如图15所示，发光元件12在显示表面的垂直方向上的间距P1可以是微透镜17A在显示表面的垂直方向上的间距P2的三倍。即，三个微透镜17A可以设置在一个发光元件12上。应当注意，尽管图中未示出，但是发光元件12在显示表面的垂直方向上的间距P1可以是微透镜17A在显示表面的垂直方向上的间距P2的两倍。即，两个微透镜17A可以设置在一个发光元件12上。
发光元件12在显示表面的垂直方向(第一方向)上的间距P1可以是微透镜17A在显示表面的垂直方向(第一方向)上的间距P2的n倍或更多(n是正整数)倍，并且发光元件12在显示表面的水平方向(第二方向)上的间距P1可以是微透镜17A在显示表面的水平方向(第二方向)上的间距P2的m倍或更多(m是正整数)倍。即，n×m个微透镜17A可以设置在一个发光元件12上。n和m的上限值没有特别限制，但是例如在10以下、5以下、或3以下。
(变形例8)
在上述实施例中，已经描述了配置微透镜阵列17的微透镜17A的高度相同的配置(见图2的A)，但是如图16所示，设置在红色滤色器16R上的微透镜17A、设置在绿色滤色器16G上的微透镜17A和设置在蓝色滤色器16B上的微透镜17A的高度可以彼此不同。
(变形例9)
在上述实施例中，已经描述了微透镜阵列17包括底部17B的配置(参见图2的A)，但是微透镜阵列17不需要包括底部17B，如图17所示。即，每个微透镜17A可以是独立的。在这种情况下，微透镜17A可以直接设置在滤色器16上。
(变形例10)
在上述实施例中，已经描述了用填充树脂18B填充微透镜17A之间的间隙17C的配置(见图2的A)，但是仅要求微透镜17A之间的部分的折射率n2低于微透镜17A的折射率n1，并且本公开不限于上述配置。例如，如图18所示，微透镜17A之间的间隙17C可以是填充有诸如空气的气体的空间18C。
(变形例11)
在上述实施例中，已经描述了微透镜阵列17直接设置在滤色器16上的配置(参见图2的A)，但是如图19所示，底涂层20可以进一步设置在滤色器16与微透镜阵列17之间。例如，由于滤色器16的膜厚度之间的差异，底涂层20用于平坦化台阶。底涂层20使用例如类似于上述实施例中的底涂层15的材料来配置。
(变形例12)
在上述实施例中，已经描述了每个微透镜17A的光轴(中心轴)与红色滤色器16R、绿色滤色器16G或蓝色滤色器16B的中心匹配的配置(见图2的A)，但是如图20所示，每个微透镜17A的光轴(中心轴)可以偏离红色滤色器16R、绿色滤色器16G或蓝色滤色器16B的中心。
(变形例13)
在上述实施例中，已经描述了显示装置10包括滤色器16的配置(参见图2的A)，但是显示装置10不需要包括如图21所示的滤色器16。有机层12B与微透镜17A之间的距离d例如在2μm以上且5μm以下。在上述配置的情况下，作为多个发光元件12，可以使用单色发光元件，或者可以使用发射具有不同波长的光的多种发光元件(例如，三种发光元件，例如，红色发光元件、绿色发光元件和蓝色发光元件)。
如图22所示，显示装置10不需要包括底涂层15。在这种情况下，可以通过减小发光元件12与保护层14之间的折射率差Δna以及保护层14与微透镜阵列17之间的折射率差Δnb来提取波导模式。折射率差Δna和折射率差Δnb优选为零或近似为零。
(变形例14)
在上述实施例中，已经描述了在显示装置10的制造方法中通过使用光敏树脂来制造微透镜阵列的情况，但是微透镜阵列的制造方法不限于此，微透镜阵列可以通过使用薄膜形成技术、光刻技术和蚀刻技术来制造，如下所述。
首先，如图23的A所示，通过例如气相沉积法或CVD法在滤色器16上形成无机材料层17E。接下来，如图23的B所示，通过光刻技术在无机材料层17E上形成抗蚀剂层21，并且该抗蚀剂层21被图案化为规定的形状。接下来，如图24的A所示，通过蚀刻技术在无机材料层17E中形成间隙17C，以形成微透镜阵列17。最后，如图24的B所示，去除抗蚀剂层21。通过如上所述在留下抗蚀剂层21的同时执行蚀刻，可以执行处理，使得每个微透镜17A的顶部的每个侧表面的角度变为大约90度。
应当注意，可以执行上述蚀刻过程，直到去除抗蚀剂层21。在这种情况下，可以省略上述去除抗蚀剂层21的步骤。应当注意，在上述示例中已经描述了通过使用无机材料层17E形成微透镜阵列17的情况，但是可以使用聚合物树脂层来代替无机材料层17E。
[5应用示例]
(电子设备)
根据上述实施例及其变形例中的任何一个的显示装置10作为模块包含到各种电子设备中，例如，如图25所示。具体地，显示装置10适用于电子设备，例如，电子取景器或用于摄像机或单反相机的头戴式显示器，该电子设备需要高分辨率并且通过放大眼睛附近来使用。该模块在基板11的一个短边上具有区域210，在没有被对向基板19和树脂填充层18覆盖的情况下暴露该区域210，并且通过延伸信号线驱动电路120和扫描线驱动电路130的布线来在区域210中形成外部连接端子(未示出)。用于输入和输出信号的柔性印刷电路(FPC)220可以连接到外部连接端子。
(具体示例1)
图26的A和图26的B示出了数码相机310的外观的示例。数码相机310是镜头可互换单镜头反射型的数码相机，具有大致位于相机主体部(相机主体)311的前部中央的可互换摄影镜头单元(可互换镜头)312，并且具有由位于前部左侧的摄影师握持的握持部分313。
监视器314设置在从相机主体部311的后表面的中心偏离的左侧位置。电子取景器(目镜窗口)315设置在监视器314上方。摄影师可以通过观察电子取景器315来视觉识别从摄影镜头单元312引导的对象的光学图像，以确定构图。作为电子取景器315，可以使用根据上述实施例或其任何一个变形例的显示装置10。
(具体示例2)
图27示出了头戴式显示器320的外观的示例。头戴式显示器320具有例如以眼镜形状佩戴在显示部321两侧的用户头部的耳挂部分322。作为显示部321，可以使用根据上述实施例或其任何一个变形例的显示装置10。
(具体示例3)
图28示出了电视装置330的外观的示例。电视装置330具有例如包括前面板332和滤光玻璃333的视频显示屏部331，并且该视频显示屏部331使用根据上述实施例或其任何一个变形例的显示装置10来配置。
(照明装置)
在上述实施例中，已经描述了将本公开应用于显示装置的示例，但是本公开不限于此，并且本公开可以应用于照明装置。
图29示出了立式照明装置400的外观的示例。在照明装置400中，照明部413附接到设置在基座411上的支撑件412。作为照明部413，在根据上述实施例及其变形例中的任何一个的显示装置10中使用包括用于照明装置的驱动电路而不是用于显示装置的驱动电路(例如，信号线驱动电路120和扫描线驱动电路130)的照明部。此外，不需要设置滤色器16，并且可以根据照明装置400的光学特性适当地选择绝缘层13的开口尺寸。此外，通过采用使用膜作为基板11和对向基板19的柔性配置，可以实现如图29所示的可选形状，诸如圆柱形或弯曲形状。应当注意，发光元件12的数量可以是一个。此外，可以提供单色滤光器来代替滤色器16。
在此处，已经描述了照明装置是立式照明装置400的情况，但是照明装置的形式不限于此，并且可以是例如安装在天花板、墙壁、地板等上的形式。
[测试示例]
下面将使用测试示例具体描述本公开，但是本公开不限于这些测试示例。
在测试示例中，时域有限差分法(FDTD法)用作波浪分析模拟的方法。作为波浪分析模拟的分析模型，使用以下分析模型A至E。
(分析模型A)
图30示出了分析模型A的配置。在分析模型A中，使用了具有圆柱形状的微透镜。
(分析模型B)
图31示出了分析模型B的配置。在分析模型B中，使用了具有截锥形状的微透镜。
(分析模型C)
图32示出了分析模型C的配置。在分析模型C中，使用了具有倒截锥形状的微透镜。
(分析模型D)
图33示出了分析模型D的配置。在分析模型D中，使用了其圆柱形顶部形成为锥形的微透镜。
应当注意，在上述分析模型A至分析模型D中，各层的折射率设置如下。
铝电极的折射率：0.96
有机层的折射率：1.8
保护层的折射率：1.8
底涂层：1.5
微透镜的折射率：1.5
树脂填充层的折射率：1.38
对向基板的折射率：1.5。
(分析模型E)
图34示出了分析模型E的配置。在分析模型E中，使用了半球形微透镜。
测试示例将按以下顺序进行描述。
i.有机层和微透镜之间的距离DH与前向亮度之间的关系的研究
ii.每个微透镜的高度H与前向亮度之间的关系的研究
iii.微透镜之间的间隙的宽度W与前向亮度之间的关系的研究
iv.每个微透镜的倾斜角θ与前向亮度之间的关系的研究
v.每个微透镜顶部的倾斜角θa与前向亮度之间的关系的研究。
<i.有机层和微透镜之间的距离DH与前向亮度之间的关系的研究>
[测试示例1-1至测试示例1-4]
使用分析模型A获得当有机层和微透镜之间的距离DH改变时分析模型A的前向亮度
下面示出分析模型A的条件的细节。
每个微透镜的形状：圆柱形
微透镜的每个侧表面的倾斜角θ：90.0度
每个微透镜的高度H：2.0μm
有机层和微透镜之间的距离DH：1.3μm(测试示例1-1)、2.8μm(测试示例1-2)、3.8μm(测试示例1-3)和4.9μm(测试示例1-4)
微透镜之间的间隙的宽度W：1.0μm
间隙的间距PD：5.4μm。
[测试示例1-5至测试示例1-8]
使用分析模型E获得当有机层和微透镜之间的距离DH改变时分析模型E的前向亮度。
下面示出分析模型E的设置条件的细节。
每个微透镜的形状：半球形
每个微透镜的高度H：2.5μm
有机层和微透镜之间的距离DH：3.8μm(测试示例1-5)、5.3μm(测试示例1-6)、7.3μm(测试示例1-7)和9.3μm(测试示例1-8)。
图35示出了测试示例1-1至测试示例1-8的分析结果。从结果中可以发现以下内容。
在使用圆柱形微透镜的测试示例1-1至测试示例1-4中，与使用半球形透镜作为微透镜的测试示例1-5至测试示例1-8相比，可以降低前向亮度对有机层和微透镜之间的距离DH的依赖性。因此，在使用圆柱形微透镜的测试示例1-1至测试示例1-4中，即使在有机层和微透镜之间的距离DH小的情况下，与使用半球形透镜作为微透镜的测试示例1-5至测试示例1-8相比，改善前向亮度的效果大。
从提高前向亮度的观点来看，有机层和微透镜之间的距离DH优选大于0.35μm，更优选地在1.3μm以上，还优选地在2.8μm以上，特别优选地在3.8μm以上。
当在几何光学中考虑时，在光线进入微透镜的垂直侧表面的情况下，入射角和反射角变得彼此相等，因此在前方向上的提取没有改善。然而，当在波分析(FDTD)中考虑时，改善了光源外围附近的提取，并且改善了前方向的光提取。
<ii.每个微透镜的高度H与前向亮度之间的关系的研究>
[测试示例2-1至测试示例2-4]
使用分析模型A获得当每个微透镜的高度H改变时分析模型A的前向亮度。
如下描述分析模型A的设置条件的细节。
每个微透镜的形状：圆柱形
每个微透镜的倾斜角θ：90.0度
每个微透镜的高度H：1.5μm(测试示例2-1)、2.0μm(测试示例2-2)、2.5μm(测试示例2-3)和3.0μm(测试示例2-4)
有机层和微透镜之间的距离DH：3.8μm
微透镜之间的间隙的宽度W：0.8μm
间隙之间的间距PD：5.4μm。
[测试示例2-5至测试示例2-7]
除了将微透镜之间的间隙的宽度W设置为1.0μm之外，与测试示例2-1至测试示例2-3类似地获得分析模型A的前向亮度。
[测试示例2-8至测试示例2-10]
除了将微透镜之间的间隙的宽度W设置为1.2μm之外，与测试示例2-1至测试示例2-3类似地获得分析模型A的前向亮度。
图36示出了测试示例2-1至测试示例2-10的分析结果。从结果中可以发现以下内容。
由于微透镜不起到简单波导的作用，所以当每个微透镜的高度为2.0μm时，前向亮度最大
从改善前向亮度的观点来看，每个微透镜的高度H优选地在1.5μm以上且2.5μm以下。
<iii.微透镜之间的间隙的宽度W与前向亮度之间的关系的研究>
[测试示例3-1至测试示例3-5]
使用分析模型A获得当微透镜之间的间隙的宽度W改变时分析模型A的前向亮度。
下面示出分析模型A的设置条件的细节。
每个微透镜的形状：圆柱形
每个微透镜的倾斜角θ：90.0度
每个微透镜的高度H：2.5μm
有机层和微透镜之间的距离DH：3.8μm
微透镜之间的间隙的宽度W：0.4μm(测试示例3-1)、0.6μm(测试示例3-2)、0.8μm(测试示例3-3)、1.0μm(测试示例3-4)和1.2μm(测试示例3-5)
间隙之间的间距PD：5.4μm。
图37示出了测试示例3-1至3-5的分析结果。从结果中可以发现以下内容。
在微透镜之间的间隙的宽度为0.8μm的情况下，前向亮度最大化。
从改善前向亮度的观点来看，微透镜之间的间隙的宽度W优选地在0.4μm以上且1.2μ以下，更优选地在0.6μm以上且1.2μ以下，还优选地在0.8μm以上且1.2μ以下，并且特别优选地在0.8μm以上且1.0μ以下。
<iv.每个微透镜的倾斜角θ与前向亮度之间的关系的研究>
[测试示例4-1至测试示例4-6]
使用分析模型A、分析模型B和分析模型C获得当每个透镜的倾斜角θ改变时每个分析模型A、分析模型B和分析模型C的前向亮度。
下面示出分析模型A、B和C的条件的细节。
每个微透镜的形状：圆柱形(分析模型A)、截锥形(分析模型B)和倒截锥形(分析模型C)
每个微透镜的倾斜角θ：81.8度(测试示例4-1)、86.0度(测试示例4-2)、88.0度(测试示例4-3)、90.0度(测试示例4-4)、94.0度(测试示例4-5)和98.2度(测试示例4-6)
每个微透镜的高度H：2.0μm
有机层和微透镜之间的距离DH：3.8μm
微透镜之间的间隙的宽度W：1.0μm
间隙之间的间距PD：5.4μm。
图38示出了测试示例4-1至测试示例4-6的分析结果。从结果中可以发现以下内容。
在每个微透镜的倾斜角θ为90度的情况下，前向亮度最大化。
如果微透镜的每个侧表面的倾斜角在80度至100度的范围内，则可以获得足够优异的前亮度。
从改善前向亮度的观点来看，微透镜的每个侧表面的倾斜角优选为81.8度至98.2度，更优选为84.0度至96.0度，还优选为86.0度至94.0度，特别优选为88.0度至92.0度，最优选为约90度。
<v.每个微透镜顶部的倾斜角度θa与前向亮度之间的关系的研究>
[测试示例5-1至测试示例5-3]
使用分析模型A和分析模型E获得当每个微透镜的顶部的倾斜角θa改变时每个分析模型A和分析模型E的前向亮度。
如下描述分析模型A和分析模型E的条件的细节。
每个微透镜的形状：圆柱形(分析模型A)和圆柱形顶部形成为锥形的形状(分析模型D)
每个微透镜的高度H：2.0μm
顶部的倾斜角θa：45度(测试示例5-1)、75度(测试示例5-2)和90度(顶部没有倾斜)(测试示例5-3)
有机层和微透镜之间的距离DH：3.8μm
微透镜之间的间隙的宽度W：1.0μm
间隙之间的间距PD：5.4μm。
[测试示例5-4]
除了每个微透镜的高度H被设置为1.5μm之外，与测试示例5-3类似地获得分析模型A的前向亮度。应当注意，测试示例5-4的分析模型A与测试示例5-1和测试示例5-2中使用的从每个微透镜的顶部切掉锥形部分的分析模型E相对应。
图39示出了测试示例5-1至测试示例5-10的分析结果。从结果中可以发现以下内容。
在使用90度的垂直平面配置微透镜的整个侧表面中的每一个的情况下，前向亮度最大化。然而，即使每个微透镜的顶部倾斜，对前向亮度的影响也很小，并且可以获得足够优异的前向亮度。
尽管上面已经具体描述了本公开的实施例及其变形例，但是本公开不限于上述实施例及其变形例，并且可以基于本公开的技术思想进行各种修改。
例如，在上述实施例及其变形例中提到的配置、方法、步骤、形状、材料、数值等仅仅是示例，并且根据需要可以使用不同的配置、方法、步骤、形状、材料、数值等。
此外，上述实施例及其变形例的配置、方法、步骤、形状、材料、数值等可以彼此组合，而不脱离本公开的主旨。
另外，在上述实施例及其变形例中逐步描述的数值范围中，一级的数值范围的上限值或下限值可以用另一级的数值范围的上限值或下限值代替。
此外，除非另有说明，否则在上述实施例及其变形例中例示的材料可以一种单独使用或者两种或更多种组合使用。
此外，本公开还可以采用以下配置。
(1)一种显示装置，包括：
基板，基板具有主表面；
多个发光元件，设置在主表面上；以及
多个结构体，设置在多个发光元件上，并且具有垂直于或大致垂直于主表面的侧表面，
其中，结构体之间的折射率低于结构体的折射率，并且
其中，发光元件的间距是结构体的间距的三倍或更小。
(2)根据(1)的显示装置，还包括：
上层，设置在多个结构体上，
其中，上层的折射率低于结构体的折射率。
(3)根据(1)或(2)的显示装置，
其中，结构体的高度在1.5μm以上且2.5μm以下。
(4)根据(1)至(3)中任一项的显示装置，
其中，结构体之间的部分的宽度在0.4μm以上且1.2μm以下。
(5)根据(1)至(4)中任一项的显示装置，
其中，发光元件的间距为1μm以上且10μm以下。
(6)根据(1)至(5)中任一项的显示装置，
其中，发光元件与结构体之间的距离大于0.35μm且在7μm以下。
(7)根据(1)至(6)中任一项的显示装置，
其中，侧表面相对于基板主表面的倾斜角θ在80度以上且100度以下。
(8)根据(1)至(7)中任一项的显示装置，
其中，结构体与发光元件相对应地设置，并且
其中，结构体的材料相同而与每个发光元件无关。
(9)根据(1)至(8)中任一项的显示装置，
其中，多个发光元件包括用于发射具有不同波长的光的多种光学元件。
(10)根据(1)至(8)中任一项的显示装置，还包括：
滤色器层，设置在多个发光元件与多个结构体之间。
(11)根据(1)至(10)中任一项的显示装置，
其中，每个结构体具有平坦的顶面。
(12)根据(1)至(11)中任一项的显示装置，
其中，每个结构体具有柱形状或大致柱形状。
(13)根据(1)至(12)中任一项的显示装置，
其中，多个发光元件包括OLED。
(14)根据(1)至(13)中任一项的显示装置，
其中，多个发光元件包括微型LED。
(15)一种显示装置，包括：
基板，基板具有主表面；
多个发光元件，设置在主表面上；以及
多个结构体，设置在多个发光元件上，并且具有垂直于或大致垂直于主表面的侧表面，
其中，结构体之间的部分的折射率低于结构体的折射率，并且
其中，发光元件的间距是结构体的间距的三倍或更大(n是等于或大于1的整数)。
(16)一种电子设备，包括：
根据(1)至(5)中任一项的显示装置。
[附图标记列表]
10：显示装置
11：基板
12：发光元件
12A：第一电极
12B：有机层
12B1：空穴注入层
12B2：空穴传输层
12B3：发光层
12B4：电子传输层
12C：第二电极
13：绝缘层
14：保护层
15、20：底涂层
16：滤色器
17：微透镜阵列
17A：微透镜
17B：底部
17C：间隙
17D：光敏树脂层
17E：无机材料层
18：树脂填充层
18A、18B：填充树脂
18C：空间
19：对向基板
21：抗蚀剂层
100R、100G、100B：子像素
110A：显示区域
110B：外围区域
120：信号线驱动电路
130：扫描线驱动电路
120A：信号线
130A：扫描线
310：数码相机(电子设备)
320：头戴式显示器(电子设备)
330：电视装置(电子设备)
400：照明装置。

Claims (16)

1.一种显示装置，包括：
基板，具有主表面；
多个发光元件，设置在所述主表面上；以及
多个结构体，设置在多个所述发光元件上，并且具有垂直于或大致垂直于所述主表面的侧表面，
其中，所述结构体之间的折射率低于所述结构体的折射率，并且
其中，所述发光元件的间距是所述结构体的间距的三倍或更小。
2.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：
上层，设置在多个所述结构体上，
其中，所述上层的折射率低于所述结构体的所述折射率。
3.根据权利要求1所述的显示装置，
其中，所述结构体的高度在1.5μm以上且2.5μm以下。
4.根据权利要求1所述的显示装置，
其中，所述结构体之间的部分的宽度在0.4μm以上且1.2μm以下。
5.根据权利要求1所述的显示装置，
其中，所述发光元件的间距在1μm以上且10μm以下。
6.根据权利要求1所述的显示装置，
其中，所述发光元件与所述结构体之间的距离大于0.35μm且在7μm以下。
7.根据权利要求1所述的显示装置，
其中，所述侧表面相对于所述基板的所述主表面的倾斜角θ在80度以上且100度以下。
8.根据权利要求1所述的显示装置，
其中，所述结构体与所述发光元件相对应地设置，并且
其中，所述结构体的材料相同而与每个所述发光元件无关。
9.根据权利要求1所述的显示装置，
其中，多个所述发光元件包括用于发射具有不同波长的光的多种光学元件。
10.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：
滤色器层，设置在多个所述发光元件与多个所述结构体之间。
11.根据权利要求1所述的显示装置，
其中，每个所述结构体具有平坦的顶面。
12.根据权利要求1所述的显示装置，
其中，每个所述结构体具有柱形状或大致柱形状。
13.根据权利要求1所述的显示装置，
其中，多个所述发光元件包括OLED。
14.根据权利要求1所述的显示装置，
其中，多个所述发光元件包括微型LED。
15.一种显示装置，包括：
基板，具有主表面；
多个发光元件，设置在所述主表面上；以及
多个结构体，设置在多个所述发光元件上，并且具有垂直于或大致垂直于所述主表面的侧表面，
其中，所述结构体之间的部分的折射率低于所述结构体的折射率，并且
其中，所述发光元件的间距是所述结构体的间距的n倍或更大(n是大于或等于1的整数)。
16.一种电子设备，包括：
根据权利要求1所述的显示装置。
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