CN113625529B - 掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置 - Google Patents

掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置 Download PDF

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    • H05F3/00—Carrying-off electrostatic charges
    • H05F3/04—Carrying-off electrostatic charges by means of spark gaps or other discharge devices

Abstract

本发明属涉及一种掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置，包括：除尘吹气接头，用于将吹气组件吹出的气导向光斑区域，其中，所述光斑区域为激光经所述光刻机镜头后落在所述掩模版上形成的区域，所述吹气除尘接头的出气口与所述光斑区域在垂直于所述掩模版的方向上错位设置。本发明能够在曝光过程中清除掩模版表面颗粒，从而解决了在检查完成后的传递和装载过程中仍然会有部分灰尘落到掩模版表面，并产生掩模版黑缺陷，影响产品良率的问题。

Description

掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置
技术领域
本发明属涉及一种掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置。
背景技术
在掩模版光刻环节的曝光前，光刻人员会用射灯检查掩模版表面的灰尘，但是在检查完成后的传递和装载过程中仍然会存在一些灰尘落到掩模版表面的情况，如此，在曝光过程中，这些灰尘会遮挡住激光，导致被灰尘覆盖位置的光刻胶不能被有效曝光，从而产生掩模版黑缺陷，影响产品良率。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的不足，提供了一种掩模版表面颗粒曝光实时清除装置，其旨在解决光刻人员在检查掩模版表面的灰尘完成后的传递和装载过程中仍然会存在一些灰尘落到掩模版表面的情况，并导致曝光过程中，被灰尘覆盖位置的光刻胶不能被有效曝光，从而产生掩模版黑缺陷，影响产品良率。
本发明是这样实现的：
一种掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置，与光刻机镜头配合使用，其中，所述光刻机镜头用于将激光导向掩模版，以进行曝光，所述掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置包括：
除尘吹气接头，用于将吹气组件吹出的气导向光斑区域，其中，所述光斑区域为激光经所述光刻机镜头后落在所述掩模版上形成的区域，所述吹气除尘接头的出气口与所述光斑区域在垂直于所述掩模版的方向上错位设置。
可选地，所述除尘吹气接头的导气方向与所述掩模版的板面之间形成的夹角a为35°～40°。
可选地，所述吹气除尘接头与所述光刻机镜头之间的位置相对固定。
可选地，还包括静电消除器，所述静电消除器连接于所述除尘吹气接头，并用于使经所述除尘吹气接头吹出的气体带正负电荷。
可选地，还包括：
颗粒收集引导头，与外部的抽取组件连接配合，并与所述掩模版间隔设置，所述除尘吹气接头、所述光刻机镜头和所述颗粒收集引导头在第一方向上依次设置，所述第一方向与所述掩模版的板面平行，所述颗粒收集引导头朝向所述光刻机镜头的侧面为气流引导面，所述气流引导面到所述掩模版的距离在所述第一方向上减缩设置，所述颗粒收集引导头在朝向所述掩模版的侧面开设有的蓄流槽，各所述蓄流槽的延伸方向平行第二方向，所述第二方向与所述第一方向交错设置，所述蓄流槽的槽底开设有至少一个颗粒收集孔，各所述颗粒收集孔连通至所述抽取组件。
可选地，所述蓄流槽的两侧槽壁均与槽底光滑过渡，所述蓄流槽的两侧槽壁与所述颗粒收集引导头朝向所述掩模版的侧面光滑过渡。
可选地，所述第二方向与所述第一方向垂直设置。
可选地，所述颗粒收集引导头到所述掩模版的距离小于所述光刻机镜头到所述掩模版的距离。
可选地，所述蓄流槽至少设有两个，各所述蓄流槽在所述第一方向依次间隔设置。
可选地，各所述蓄流槽的槽深在所述第一方向上渐小设置。
基于本发明，能够在曝光过程中清除掩模版表面颗粒，从而解决了在检查完成后的传递和装载过程中仍然会有部分灰尘落到掩模版表面，并产生掩模版黑缺陷，影响产品良率的问题。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例一提供的掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置的结构示意图；
图2是本发明实施例二提供的掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置的结构示意图；
图3是本发明实施例二提供的掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置的颗粒收集引导头的结构示意图。
附图标号说明：
标号 名称 标号 名称
100 光刻机镜头
200 掩模版
300 除尘吹气接头
400 静电消除器
500 颗粒收集引导头
501 气流引导面 502 蓄流槽
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”和“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
实施例一
请参阅图1，本发明实施例提供一种掩模版200曝光过程表面颗粒实时清除装置，与光刻机镜头100配合使用，其中，光刻机镜头100用于将激光导向掩模版200，以进行曝光。
该掩模版200曝光过程表面颗粒实时清除装置包括：
除尘吹气接头300用于将吹气组件吹出的气导向光斑区域，其中，在具体实施中，吹气组件向除尘吹气接头300吹出的其他是经过净化、无尘的气体。光斑区域为激光经光刻机镜头100后落在掩模版200上形成的区域，也是掩模版200正在曝光的区域，吹气除尘接头300的出气口与光斑区域在垂直于掩模版200的方向上错位设置。
在此需要说明的是，图1中黑色区块为气流经除尘吹气接头300流出后且是到达掩模版之前流经的区域，而虚线则是灰尘颗粒受到去留吹动后的移动路径。
基于此结构，在使用过程中，也即是光刻机镜头100用于将激光导向掩模版200以进行曝光的过程中，如掩模版200的光斑区域上存在灰尘颗粒，首先，可利用除尘吹气接头300将吹气组件吹出的气导向光斑区域，从而将光斑区域上的灰尘颗粒吹走，其次，吹气除尘接头300的出气口与光斑区域在垂直于掩模版200的方向上错位设置，也即是从而避免光斑区域里的灰尘颗粒遮挡住激光，除尘吹气接头300的导气方向并不垂直于掩模版200的板面，如此，经除尘吹气接头300引导至光斑区域的气流，在气流到达掩模版200后，将会折向光刻机镜头100的侧边，而不会直接流向光刻机镜头100，从而避免被吹起的灰尘颗粒悬浮于光刻机镜头100和掩模版200之间，或将灰尘颗粒吹到光刻机镜头100上，从而防止灰尘遮挡住激光，避免掩模版产生黑缺陷，提高产品良率。
由上可知，基于本发明，能够在曝光过程中清除掩模版200表面颗粒，从而解决了在检查完成后的传递和装载过程中仍然会有部分灰尘落到掩模版表面，并产生掩模版黑缺陷，影响产品良率的问题。
在此需要说明的是，由于掩模版200曝光过程的需要较长的时间，通常是完成一个区域的曝光之后，在到其他区域进行曝光；除尘吹气接头300将吹气组件吹出的气导向光斑区域，可以是在光刻机镜头100将激光导向掩模版200之前，可以是同时进行，还可以是在光刻机镜头100将激光导向掩模版200之前既开始向光斑区域吹气，并持续到光刻机镜头100将激光导向掩模版200。
具体地，在本发明实施例中，除尘吹气接头300的导气方向与掩模版200的板面之间形成的夹角a为35°～40°。
具体地，在本发明实施例中，吹气除尘接头300与光刻机镜头100之间的位置相对固定，如此，吹气除尘接头300与光刻机镜头100的同步运动，光刻机镜头100移动到其他位置时，能够保证吹气除尘接头300的吹气位置依然是光斑区域。
其中，吹气除尘接头300可直接连接于光刻机镜头100，也可以是连接于其他结构，只要实现与光刻机镜头100的同步运动即可。
请参阅图1，在本发明实施例中，掩模版200曝光过程表面颗粒实时清除装置还包括静电消除器400，静电消除器400连接于除尘吹气接头300，并用于使经除尘吹气接头300吹出的气体带正负电荷。
在实际使用过程中，会因掩模版表面存在一些静电，使得灰尘颗粒与之间具有静电吸附力，进而导致灰尘颗粒在掩模版200表面的粘附力较大，单纯通过物理吹气，需要较大的风力才能将灰尘颗粒吹气，而增大风力会进一步增加光刻机平台的振动，使得平台控制信号难以通过控制而抵消因增大风力而导致的光刻机平台振动。而基于此结构设计，吹出的气体带有正负电荷，从而能够消减掉灰尘颗粒与之间的静电吸附力，使得气流不需要过大，避免出现平台控制信号难以通过控制而抵消因增大风力而导致的光刻机平台振动的情况。
实施例二
请参阅图2和3，本实施例与实施例一的区别在于，掩模版200曝光过程表面颗粒实时清除装置还包括颗粒收集引导头500。
颗粒收集引导头500与外部的抽取组件连接配合，并与掩模版200间隔设置。除尘吹气接头300、光刻机镜头100和颗粒收集引导头500在第一方向上依次设置，第一方向与掩模版200的板面平行，颗粒收集引导头500朝向光刻机镜头100的侧面为气流引导面501，气流引导面501到掩模版200的距离在第一方向上减缩设置，颗粒收集引导头500在朝向掩模版200的侧面开设有的蓄流槽502，各蓄流槽502的延伸方向平行第二方向，第二方向与第一方向交错设置，蓄流槽502的槽底开设有至少一个颗粒收集孔，各颗粒收集孔连通至抽取组件。
在此需要说明的是，图2中黑色区块为气流经除尘吹气接头300流出后且是到达掩模版之前流经的区域，而如未设置颗粒收集引导头500，灰尘颗粒的移动路径会如图1中虚线所示的路径移动。
而基于本发明的结构设计，首先，气流引导面501与掩模版200之间会形成导气通道，且气流引导面501到掩模版200的距离在第一方向上减缩设置，如此，在气流引导面501最靠近掩模版200的地方的气流的流速较快，从而能够很好地将灰尘颗粒引导到颗粒收集引导头500和掩模版200之间，其次，气流进入到颗粒收集引导头500和掩模版200之间后，气流具有一个向上运动的趋势，并将灰尘颗粒一并带到蓄流槽502的底部，而蓄流槽502开设有至少一个颗粒收集孔，灰尘颗粒将经颗粒收集孔快速、高效地回收到抽取组件。
请参阅图1，在本发明实施例中，蓄流槽502的两侧槽壁均与槽底光滑过渡，蓄流槽502的两侧槽壁与颗粒收集引导头500朝向掩模版200的侧面光滑过渡，如此，可减小气流流向蓄流槽502，有利于提高灰尘颗粒的抽吸效果。
具体地，在本发明实施例中，第二方向与第一方向垂直设置。
请参阅图2，在本发明实施例中，颗粒收集引导头500到掩模版200的距离小于光刻机镜头100到掩模版200的距离。
请参阅图2和图3，在本发明实施例中，蓄流槽502至少设有两个，各蓄流槽502在第一方向依次间隔设置，如此，当灰尘颗粒未能在第一个蓄流槽502处被吸走时，还可以在后面的蓄流槽502处吸走。
在此需要说明的是，各颗粒收集孔可以连通至通一个抽气组件，如此，可以降低生产制造成本，各颗粒收集孔还可以分几组连接至至少两个抽气组件，如，当其中一个抽气组件出现损坏时，不影响正常作业。
进一步地，请参阅图2，在本发明实施例中，各蓄流槽502的槽深在第一方向上渐小设置。
其中，气流沿第一方向移动，流速会发生衰减，气流折回的高度也会下降，也即是灰尘颗粒被吹起的高度也会下降，而基于此结构设计，能够更好地将灰尘颗粒抽走。
以上仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换或改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置，与光刻机镜头配合使用，其中，所述光刻机镜头用于将激光导向掩模版，以进行曝光，其特征在于，所述掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置包括：
除尘吹气接头，用于将吹气组件吹出的气导向光斑区域，其中，所述光斑区域为激光经所述光刻机镜头后落在所述掩模版上形成的区域，所述除尘 吹气接头的出气口与所述光斑区域在垂直于所述掩模版的方向上错位设置；
所述掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置还包括：
颗粒收集引导头，与外部的抽取组件连接配合，并与所述掩模版间隔设置，所述除尘吹气接头、所述光刻机镜头和所述颗粒收集引导头在第一方向上依次设置，所述第一方向与所述掩模版的板面平行，所述颗粒收集引导头朝向所述光刻机镜头的侧面为气流引导面，所述气流引导面到所述掩模版的距离在所述第一方向上减缩设置，所述颗粒收集引导头在朝向所述掩模版的侧面开设有的蓄流槽，各所述蓄流槽的延伸方向平行第二方向，所述第二方向与所述第一方向交错设置，所述蓄流槽的槽底开设有至少一个颗粒收集孔，各所述颗粒收集孔连通至所述抽取组件。
2.如权利要求1所述的掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置，其特征在于，所述除尘吹气接头的导气方向与所述掩模版的板面之间形成的夹角a为35°～40°。
3.如权利要求1所述的掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置，其特征在于，所述除尘吹气接头与所述光刻机镜头之间的位置相对固定。
4.如权利要求1所述的掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置，其特征在于，还包括静电消除器，所述静电消除器连接于所述除尘吹气接头，并用于使经所述除尘吹气接头吹出的气体带正负电荷。
5.如权利要求4所述的掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置，其特征在于，所述蓄流槽的两侧槽壁均与槽底光滑过渡，所述蓄流槽的两侧槽壁与所述颗粒收集引导头朝向所述掩模版的侧面光滑过渡。
6.如权利要求4所述的掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置，其特征在于，所述第二方向与所述第一方向垂直设置。
7.如权利要求4所述的掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置，其特征在于，所述颗粒收集引导头到所述掩模版的距离小于所述光刻机镜头到所述掩模版的距离。
8.如权利要求4所述的掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置，其特征在于，所述蓄流槽至少设有两个，各所述蓄流槽在所述第一方向依次间隔设置。
9.如权利要求8所述的掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置，其特征在于，各所述蓄流槽的槽深在所述第一方向上渐小设置。
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