CN113620590A - 一种ovd沉积烧结组合装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及气相沉积技术领域，具体涉及一种OVD沉积烧结组合装置。该OVD沉积烧结组合装置包括：旋转运移机构、沉积室和烧结炉。旋转运移机构包括至少三个竖向升降臂，所有的竖向升降臂均匀间隔设置在同一圆周上，并可同时等速沿圆周旋转，所有的竖向升降臂下端均设有旋转抓取结构；沉积室设于圆周上，包括两个竖向设置并可打开的沉积腔壁，以使竖向升降臂可带着旋转抓取结构抓取的芯棒在圆周上旋转移动；烧结炉设于圆周上，并与沉积室的间隔距离等于两个竖向升降臂的间隔距离，竖向升降臂升降，可将芯棒置于烧结炉内或提出烧结炉外。能够解决现有技术中VD工序和烧结工序之间需多次转运环节，效率低下，并且容易损坏疏松体的问题。

Description

一种OVD沉积烧结组合装置

技术领域

本发明涉及气相沉积技术领域，具体涉及一种OVD沉积烧结组合装置。

背景技术

OVD（Outside Vapor Deposition，外部气相沉积），相比管内沉积能制备更大尺寸的光纤预制棒，因而更具有发展潜质。

在光纤预制棒的制造过程中，OVD工序是在芯棒的外侧沉积原料制造成疏松体；疏松体沉积制造完成后，制品再通过各类搬运输送装置进入烧结工序设备；在烧结炉内烧结生成透明的成品；OVD工序和烧结工序，以及其间的各类搬运输送装置，都是光纤预制棒制造过程中的重要环节。

现有技术中，OVD工序和烧结工序之间需多次转运环节，包括从沉积腔内取出疏松体放置到OVD专用的搬运台车上，利用OVD运输台车将疏松体运输至输送链装置，再从输送链装置利用烧结搬运台车将疏松体运送至烧结炉位置，再将疏松体放置到烧结炉内，但是疏松体体积和质量都较大，而且容易损坏，多次转运容易造成对疏松体的破坏。

发明内容

针对现有技术中存在的缺陷，本发明的目的在于提供一种OVD沉积烧结组合装置，能够解决现有技术中VD工序和烧结工序之间需多次转运环节，效率低下，并且容易损坏疏松体的问题。

为达到以上目的，本发明采取的技术方案是：

本发明提供一种OVD沉积烧结组合装置，包括：

旋转运移机构，其包括至少三个竖向升降臂，所有的所述竖向升降臂均匀间隔设置在同一圆周上，并可同时等速沿所述圆周旋转，所有的所述竖向升降臂下端均设有旋转抓取结构，用于抓取芯棒并驱动其旋转；

沉积室，其设于所述圆周上，用于使所述芯棒竖向伸入所述沉积室内进行沉积，所述沉积室包括两个竖向设置并可打开的沉积腔壁，以使所述竖向升降臂在所述沉积腔壁打开时，可带着所述旋转抓取结构抓取的芯棒在所述圆周上旋转移动；

烧结炉，其设于所述圆周上，并与所述沉积室的间隔距离等于两个所述竖向升降臂的间隔距离，所述竖向升降臂升降，可将所述芯棒置于所述烧结炉内或提出所述烧结炉外。

在一些可选的实施例中，所述沉积室还包括两块密封挡板，其形状与所述沉积腔壁下部相匹配，当两个所述沉积腔壁合拢时，两块密封挡板分别抵持在两个所述沉积腔壁的下方，以使所述沉积室密封。

在一些可选的实施例中，所述沉积腔壁呈圆弧形，且与其对应的所述密封挡板也呈圆弧形。

在一些可选的实施例中，每个所述沉积腔壁的上端设有密封盖，所述密封盖上设有第一半圆孔，当两个所述沉积腔壁合拢时，两个所述密封盖上的第一半圆孔形成可使所述芯棒穿过并转动的第一通孔。

在一些可选的实施例中，每个所述密封盖上还设有半封隔罩，所述半封隔罩上设有第二半圆孔，当两个所述沉积腔壁合拢时，两个所述半封隔罩上的第二半圆孔形成可使所述芯棒穿过并转动的第二通孔。

在一些可选的实施例中，所述竖向升降臂还设有密封罩体，其套设在所述旋转抓取结构的外侧，下端位于所述旋转抓取结构的下侧，每个所述密封盖上设有半密封槽，当两个所述沉积腔壁合拢时，两个所述半密封槽也合拢形成整密封槽，所述密封罩体抵持在所述整密封槽形成密封结构。

在一些可选的实施例中，所述烧结炉的盖体上设有使沉积棒穿过的第三通孔，并且第三通孔周围设有与所述密封罩体匹配的烧结密封槽。

在一些可选的实施例中，所述旋转抓取结构包括：

旋转卡盘，其用于抓取所述芯棒；

驱动机构，其与所述竖向升降臂下端连接，用于驱动所述旋转卡盘转动。

在一些可选的实施例中，所述旋转运移机构还包括：

立柱，其位于所述圆周的中心位置；

旋转机构，其套设在所述立柱的上端，并可相对于所述立柱旋转；

支撑臂，其与所述竖向升降臂个数相同，一端与所述旋转机构连接，另一端设有所述竖向升降臂，以在所述旋转机构旋转时带动所述竖向升降臂旋转；

升降驱动，其设于所述支撑臂的端部，用于驱动所述竖向升降臂升降。

在一些可选的实施例中，所述旋转运移机构包括四个竖向升降臂，分别位于所述圆周的四等分位置。

与现有技术相比，本发明的优点在于：通过旋转运移机构在圆周的周向方向均匀间隔设置多个竖向升降臂，以及竖向升降臂上设置的旋转抓取结构，并在同一圆周上，两个相邻竖向升降臂间隔距离相同的间隔设置沉积室和烧结炉，实现预装芯棒，并且旋转进入沉积室的方式，可以节省作业时间，通过将沉积完成的沉积棒直接旋转进入烧结炉内进行烧结，可以节省转运工序，提高效率，并且可以降低转运过程中对沉积棒造成损害的风险。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例中OVD沉积烧结组合装置的沉积状态俯视结构示意图；

图2为本发明实施例中图1中A向视图；

图3为本发明实施例中OVD沉积烧结组合装置的运转状态俯视结构示意图。

图中：1、旋转运移机构；11、竖向升降臂；12、旋转抓取结构；121、旋转卡盘；122、驱动机构；13、密封罩体；14、旋转机构；15、支撑臂；16、升降驱动；17、立柱；2、芯棒；3、沉积室；31、沉积腔壁；32、密封挡板；33、密封盖；331、第一半圆孔；332、半密封槽；333、半封隔罩；4、烧结炉；41、第三通孔；42、烧结密封槽；5、沉积棒；6、喷灯；61、滑道。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

以下结合附图对本发明的实施例作进一步详细说明。

如图1至图3所示，本发明提供一种OVD沉积烧结组合装置，包括：旋转运移机构1、沉积室3和烧结炉4。

其中，旋转运移机构1包括至少三个竖向升降臂11，所有的竖向升降臂11均匀间隔设置在同一圆周上，并可同时等速沿圆周旋转，所有的竖向升降臂11下端均设有旋转抓取结构12，用于抓取芯棒2并驱动其旋转；沉积室3设于圆周上，用于使芯棒2竖向伸入沉积室3内进行沉积，沉积室3包括两个竖向设置并可打开的沉积腔壁31，以使竖向升降臂11在沉积腔壁31打开时，可带着旋转抓取结构12抓取的芯棒2在圆周上旋转移动；烧结炉4设于圆周上，并与沉积室3的间隔距离等于两个竖向升降臂11的间隔距离，竖向升降臂11升降，可将芯棒2置于烧结炉4内或提出烧结炉4外。

在使用时，首先通过竖向升降臂11带动旋转抓取结构12抓取的芯棒2置于至沉积室3内，并驱动芯棒2旋转进行沉积作业；由于沉积室3与烧结炉4位于所有竖向升降臂11所处的圆周上，并且沉积室3与烧结炉4之间的间隔距离与两个竖向升降臂11之间的间隔距离相同，所有的竖向升降臂11在圆周上均匀间隔设置，即等分圆周，并且圆周设有至少三个竖向升降臂11，因此此时烧结炉4位于其中一个竖向升降臂11的下方，沉积室3的另一侧等分位置也设有一个竖向升降臂11，并且在竖向升降臂11的下端设有旋转抓取结构12，所以在沉积的同时，可在沉积室3的另一侧等分位置上竖向升降臂11下端的旋转抓取结构12上预装芯棒2。当沉积室3内的芯棒2完成沉积得到沉积棒5（疏松体）后，将沉积室3的两个竖向设置的沉积腔壁31打开，以使竖向升降臂11带着旋转抓取结构12抓取的芯棒2在圆周上直接旋转移动，并且控制竖向升降臂11在竖向旋转时，同时上升，将沉积棒5移动到烧结炉4的上方后，下降竖向升降臂11，将沉积棒5降至烧结炉4进行烧结工序，由于所有的竖向升降臂11可在圆周上同时等速旋转，此时预装的芯棒2会旋转移动至沉积位置，将打开的两个沉积腔壁31再次合拢形成沉积室3，可对沉积室3内的芯棒2进行沉积工序，于此同时，可在沉积室3的另一侧等分位置上竖向升降臂11下端的旋转抓取结构12上预装芯棒2。等待沉积室3内沉积工序和烧结炉4内的烧结工序完工，可再次打开两个沉积腔壁31，并上提烧结完成的沉积棒5后，旋转竖向升降臂11，卸下烧结完成的沉积棒5后再次预装芯棒2，并同时进行下一次的沉积和烧结作业。

通过预装芯棒2，并且旋转进入沉积室3的方式，可以节省作业时间，通过将沉积完成的沉积棒5直接旋转进入烧结炉4内进行烧结，可以节省转运工序，提高效率，并且可以降低转运过程中对沉积棒5造成损害的风险。

在一些可选的实施例中，沉积室3还包括两块密封挡板32，其形状与沉积腔壁31下部相匹配，当两个沉积腔壁31合拢时，两块密封挡板32分别抵持在两个沉积腔壁31的下方，以使沉积室3密封。

在本实施例中，沉积室3的两个沉积腔壁31相对设置，两端不封闭，留作进气侧和排气侧，本方案中进气侧设置在圆周径向方向的外侧，排气侧设置在径向方向的内侧。进气侧竖向排列设置的多个喷灯6，喷灯6的喷气方向朝向沉积室3内的芯棒2，并且喷灯6的底座设置有滑道61，随着沉积的进行，沉积棒5的直径会越来越大，可通过使喷灯6在滑道61滑动调整喷灯6与沉积棒5的间距，以保证沉积质量；排气侧设置吸气装置，吸气装置用来吸走未沉积到芯棒2上的反应气体。

本例中，为了实现更好的沉积效果，沉积室3除了进气侧和排气侧，其他位置均应该密封，又由于沉积腔壁31需要打开和关闭，并设置在地面或者基座上，在 打开和关闭沉积腔壁31时，若还保持沉积腔壁31地面或者基座的密封，必然会导致较大的磨损。所以，本方案在两个沉积腔壁31合拢形成沉积室3的位置，分别设置密封挡板32，当两个沉积腔壁31合拢时，分别抵持在两个沉积腔壁31的下方，即可实现沉积室3下部的密封，并且不会在打开和关闭沉积腔壁31时，对密封部分产生磨损。另外，还可以在密封挡板32与沉积腔壁31相抵持的部分设置密封条，以实现更好的密封效果。另外，需要注意的是，密封挡板32的设计高度要小于芯棒2旋转移动时的最低高度，以避免芯棒2与密封挡板32之间的相互干涉。

在一些可选的实施例中，沉积腔壁31呈圆弧形，且与其对应的密封挡板32也呈圆弧形。

在本实施例中，将沉积腔壁31和密封挡板32设计为圆弧形，可以使两个沉积腔壁31合拢时，更好的贴合在密封挡板32上。另外，将沉积腔壁31和密封挡板32设计为圆弧形可以在保证沉积腔壁31与密封挡板32之间贴合效果的前提下，也更好的设计进气侧和排气侧的宽度，仅仅通过改变设计沉积腔壁31和密封挡板32的弧度即可实现。

在一些可选的实施例中，每个沉积腔壁31的上端设有密封盖33，密封盖33上设有第一半圆孔331，当两个沉积腔壁31合拢时，两个密封盖33上的第一半圆孔331形成可使芯棒2穿过并转动的第一通孔。

在本实施例中，在使用时，沉积室3位于竖向升降臂11的下方，旋转抓取结构12抓取的芯棒2需要穿过沉积室3的顶部，并且，为了实现较好的沉积效果，沉积室3的上方也应该是密封的。本方案中，是在每个沉积腔壁31的上端设置密封盖33，并且在每个密封盖33上设置第一半圆孔331，当两个沉积腔壁31合拢时，两个密封盖33上的第一半圆孔331可合拢呈第一通孔，这样就可以使芯棒2伸入沉积室3进行沉积作业，并且可以保证沉积室3的相对密封。

本例中，将芯棒2置于沉积室3内进行沉积时，是先将两个沉积腔壁31打开后，将预装在相邻位置的旋转抓取结构12上的芯棒2旋转移动至沉积位置，再将两个沉积腔壁31合拢形成沉积室3，此时两个第一半圆孔331正好卡设在芯棒2上，即芯棒2位于可穿过并转动的第一通孔内，芯棒2可被旋转抓取结构12驱动旋转，从而进行沉积作业。

在一些可选的实施例中，每个密封盖33上还设有半封隔罩333，半封隔罩333上设有第二半圆孔，当两个沉积腔壁31合拢时，两个半封隔罩333上的第二半圆孔形成可使芯棒2转动的第二通孔。

在本实施例中，为了得到更好的密封效果，同样的，在每个密封盖33上设置半封隔罩333，本例中，半封隔罩333呈倒扣状的半圆筒形，在倒扣状半圆筒形的半封隔罩333上方设置第二半圆孔。将芯棒2置于沉积室3内进行沉积时，是先将两个沉积腔壁31打开后，将预装在相邻位置的旋转抓取结构12上的芯棒2旋转移动至沉积位置，再将两个沉积腔壁31合拢形成沉积室3，此时两个第二半圆孔正好卡设在芯棒2上，即芯棒2位于可穿过并转动的第二通孔内，芯棒2可被旋转抓取结构12驱动旋转，从而进行沉积作业，实现了对沉积室3的进一步密封。

在一些可选的实施例中，竖向升降臂11还设有密封罩体13，其套设在旋转抓取结构12的外侧，下端位于旋转抓取结构12的下侧，每个密封盖33上设有半密封槽332，当两个沉积腔壁31合拢时，两个半密封槽332也合拢形成整密封槽，密封罩体13抵持在整密封槽形成密封结构。

在本实施例中，密封罩体13呈倒扣状的半圆筒形，呈倒扣状的半圆筒形的密封罩体13上部密封套设在竖向升降臂11，下部套设在旋转抓取结构12的外侧，并保证与旋转抓取结构12之间留有间隙。对应的在每个密封盖33上设有半密封槽332，当两个沉积腔壁31合拢时，两个半密封槽332也合拢形成整密封槽，整密封槽的形状与密封罩体13下端的形状相同，密封罩体13抵持在整密封槽形成密封结构，保证了沉积室3的上部密封，另外，在整密封槽内设置有密封垫片，以提高密封效果。

由于在沉积时，密封罩体13抵持在整密封槽内，所以在沉积完成后，打开沉积腔壁31时，密封罩体13会与整密封槽产生干涉，所以在打开沉积腔壁31前，需向上升起竖向升降臂11一定距离，以使密封罩体13的下端高于整密封槽，这样就可以使沉积腔壁31在没有干涉的情况下打开。

在一些可选的实施例中，烧结炉4的盖体上设有使沉积棒5穿过的第三通孔41，并且第三通孔41周围设有与密封罩体13匹配的烧结密封槽42。

在本实施例中，第三通孔41可方便将沉积棒5放入烧结炉4内，和从烧结炉4取出。在第三通孔41周围设置与密封罩体13匹配的烧结密封槽42，可在竖向升降臂11将沉积棒5放入烧结炉4后，使竖向升降臂11上的密封罩体13抵持在烧结密封槽42上，实现对烧结炉4的密封。

在一些可选的实施例中，旋转抓取结构12包括：旋转卡盘121和驱动机构122。其中，旋转卡盘121用于抓取芯棒2；驱动机构122与竖向升降臂11下端连接，用于驱动旋转卡盘121转动。

在本实施例中，在沉积室3向芯棒2上进行沉积作业时，以及在烧结炉4内进行烧结工序时，都需要带动芯棒2转动。本例中，利用旋转卡盘121实现对芯棒2的夹持，驱动机构122驱动旋转卡盘121转动，即可实现带动芯棒2转动，以实现在沉积室3向芯棒2上进行沉积作业，以及在烧结炉4内进行烧结工序。

在一些可选的实施例中，旋转运移机构1还包括：立柱17、旋转机构14、支撑臂15和升降驱动16。

立柱17位于圆周的中心位置；旋转机构14套设在立柱17的顶端，并可相对于立柱17旋转；支撑臂15与竖向升降臂11个数相同，一端与旋转机构14连接，另一端设有竖向升降臂11，以在旋转机构14旋转时带动竖向升降臂11旋转；升降驱动16设于支撑臂15的端部，用于驱动竖向升降臂11升降。

在本实施例中，在圆周的中心位置设置立柱17，在立柱17上端设置旋转机构14，并在旋转机构14的周向方向上均匀间隔设置与竖向升降臂11个数相同支撑臂15，用来连接竖向升降臂11，旋转机构14旋转时带动竖向升降臂11旋转，即可实现带着旋转抓取结构12抓取的芯棒2在圆周上旋转移动。在支撑臂15的端部设置升降驱动16，可通过升降驱动16驱动竖向升降臂11升降，从而带动旋转抓取结构12抓取的芯棒2升降，将沉积棒5移动到烧结炉4的上方后，放入烧结炉4内，或者从烧结炉4内取出。

在一些可选的实施例中，旋转运移机构1包括四个竖向升降臂11，分别位于圆周的四等分位置。

在本实施例中，旋转运移机构1设有四个竖向升降臂11，均匀间隔设置在圆周的四等分位置，可在沉积室3内进行沉积，在烧结炉4内进行烧结时，预装芯棒2，以及卸下已经烧结完成的沉积棒5，可提高作业效率。在其他实施例中，也可以设置三个竖向升降臂11，也可以达到同样的效果。

在本申请的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

需要说明的是，在本申请中，诸如“第一”和“第二”等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上所述仅是本申请的具体实施方式，使本领域技术人员能够理解或实现本申请。对这些实施例的多种修改对本领域的技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本申请的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本申请将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所申请的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种OVD沉积烧结组合装置，其特征在于，包括：

旋转运移机构（1），其包括至少三个竖向升降臂（11），所有的所述竖向升降臂（11）均匀间隔设置在同一圆周上，并可同时等速沿所述圆周旋转，所有的所述竖向升降臂（11）下端均设有旋转抓取结构（12），用于抓取芯棒（2）并驱动其旋转；

沉积室（3），其设于所述圆周上，用于使所述芯棒（2）竖向伸入所述沉积室（3）内进行沉积，所述沉积室（3）包括两个竖向设置并可打开的沉积腔壁（31），以使所述竖向升降臂（11）在所述沉积腔壁（31）打开时，可带着所述旋转抓取结构（12）抓取的芯棒（2）在所述圆周上旋转移动；

烧结炉（4），其设于所述圆周上，并与所述沉积室（3）的间隔距离等于两个所述竖向升降臂（11）的间隔距离，所述竖向升降臂（11）升降，可将所述芯棒（2）置于所述烧结炉（4）内或提出所述烧结炉（4）外。

2.如权利要求1所述的OVD沉积烧结组合装置，其特征在于：所述沉积室（3）还包括两块密封挡板（32），其形状与所述沉积腔壁（31）下部相匹配，当两个所述沉积腔壁（31）合拢时，两块所述密封挡板（32）分别抵持在两个所述沉积腔壁（31）的下方，以使所述沉积室（3）密封。

3.如权利要求2所述的OVD沉积烧结组合装置，其特征在于：所述沉积腔壁（31）呈圆弧形，且与其对应的所述密封挡板（32）也呈圆弧形。

4.如权利要求1所述的OVD沉积烧结组合装置，其特征在于，每个所述沉积腔壁（31）的上端设有密封盖（33），所述密封盖（33）上设有第一半圆孔（331），当两个所述沉积腔壁（31）合拢时，两个所述密封盖（33）上的第一半圆孔（331）形成可使所述芯棒（2）穿过并转动的第一通孔。

5.如权利要求4所述的OVD沉积烧结组合装置，其特征在于，每个所述密封盖（33）上还设有半封隔罩（333），所述半封隔罩（333）上设有第二半圆孔，当两个所述沉积腔壁（31）合拢时，两个所述半封隔罩（333）上的第二半圆孔形成可使所述芯棒（2）穿过并转动的第二通孔。

6.如权利要求4所述的OVD沉积烧结组合装置，其特征在于，所述竖向升降臂（11）还设有密封罩体（13），其套设在所述旋转抓取结构（12）的外侧，下端位于所述旋转抓取结构（12）的下侧，每个所述密封盖（33）上设有半密封槽（332），当两个所述沉积腔壁（31）合拢时，两个所述半密封槽（332）也合拢形成整密封槽，所述密封罩体（13）抵持在所述整密封槽形成密封结构。

7.如权利要求6所述的OVD沉积烧结组合装置，其特征在于，所述烧结炉（4）的盖体上设有使沉积棒（5）穿过的第三通孔（41），并且第三通孔（41）周围设有与所述密封罩体（13）匹配的烧结密封槽（42）。

8.如权利要求1所述的OVD沉积烧结组合装置，其特征在于，所述旋转抓取结构（12）包括：

旋转卡盘（121），其用于抓取所述芯棒（2）；

驱动机构（122），其与所述竖向升降臂（11）下端连接，用于驱动所述旋转卡盘（121）转动。

9.如权利要求1所述的OVD沉积烧结组合装置，其特征在于，所述旋转运移机构（1）还包括：

立柱（17），其位于所述圆周的中心位置；

旋转机构（14），其套设在所述立柱（17）的上端，并可相对于所述立柱（17）旋转；

支撑臂（15），其与所述竖向升降臂（11）个数相同，一端与所述旋转机构（14）连接，另一端设有所述竖向升降臂（11），以在所述旋转机构（14）旋转时带动所述竖向升降臂（11）旋转；

升降驱动（16），其设于所述支撑臂（15）的端部，用于驱动所述竖向升降臂（11）升降。

10.如权利要求1所述的OVD沉积烧结组合装置，其特征在于，所述旋转运移机构（1）包括四个竖向升降臂（11），分别位于所述圆周的四等分位置。

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