CN113568103B - 剥除光纤涂覆层的方法及光纤 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种剥除光纤涂覆层的方法及光纤，剥除光纤涂覆层的方法包括：固定光纤，光纤包括纤芯、依次围绕纤芯的包层和涂覆层，涂覆层包括沿光纤的延伸方向连接的待保留涂覆层和待去除涂覆层；在待保留涂覆层上涂抹第一溶剂，第一溶剂浸润待保留涂覆层；在待保留涂覆层和待去除涂覆层上涂抹第二溶剂，第二溶剂用于溶解涂覆层，第一溶剂用于阻止第二溶剂进入到待保留涂覆层。通过本发明的方法能去除待去除涂覆层，并在待保留涂覆层与待去除涂覆层的交界处形成平滑的切口，能有效地改善涂覆层切口处边界条件的变化导致的光波泄露和热效应问题，且工艺过程简单，易操作。

Description

剥除光纤涂覆层的方法及光纤

技术领域

本发明涉及光纤技术领域，具体涉及一种剥除光纤涂覆层的方法及光纤。

背景技术

随着通讯技术的飞速发展，信息的传递更加频繁，这就对通讯领域提出更高要求，高效、便捷和简单化越来越深入人心，光纤自从进入应用到通讯领域，以其优越的性能得到迅速普及，这也使得光纤的需求量越来越大，光纤的剥离是其加工的一个重要环节，人们一直在研究剥离光纤的方法来适应加工需要。

其中，光纤一般由纤芯、包层和涂覆层构成。在光纤加工过程中，多需要就将涂覆层剥除，然而，涂覆层切口处边界条件的变化容易导致光波泄露，这种损耗会成为光纤热效应问题的一个重要因素。现有的剥除光纤涂覆层的方法包括：光纤剥线钳剥除、刀片切除和酸蚀法，然而，光纤剥线钳剥除会造成切口处褶皱和涂覆层断裂等复杂的结构，引起涂覆层光波在切口处小空间内多次反射而且剥除残留的碎屑和灰尘很难清洁，这些颗粒变成热源从而引起切口高温；而刀片切口整齐没有褶皱，漏光面积小，温度低，但刀片剥除涂覆层的方式对操作人员的技能水平要求很高，稍有操作失误，就会损伤包层或者切口不整齐，从而包层光泄露发热或者切口发热，而且刀片切剥的效率较低，不适合大批量生产；而酸蚀法，因酸液与涂覆层因表面状态或成分不均匀，导致表面张力不一致，导致腐蚀面状态不一致，平整度差。

因此，现有技术存在缺陷，需要改进。

发明内容

本发明的目的在于提供一种剥除光纤涂覆层的方法及光纤，能在涂覆层形成平滑的切口，且工艺过程简单，易操作。

为了解决上述问题，本发明提供了一种剥除光纤涂覆层的方法，包括：固定光纤，光纤包括纤芯、依次围绕纤芯的包层和涂覆层，涂覆层包括

待保留涂覆层和待去除涂覆层；在待保留涂覆层上涂抹第一溶剂，第一溶剂浸润待保留涂覆层；在待保留涂覆层和待去除涂覆层上涂抹第二溶剂，第二溶剂用于溶解涂覆层，第一溶剂用于阻止第二溶剂进入到待保留涂覆层。

其中，在将光纤浸没在去除剂中之后，还包括：

对光纤进行第一清洗处理，以去除光纤表面残留的第二溶剂；

对光纤进行第二清洗处理，以去除光纤表面残留的第一溶剂；

对光纤进行第三清洗处理，以去除光纤表面的残留物。

其中，第一溶剂包括硅油，第一溶剂包括丙酮。

其中，第一溶剂包括硅含氟的匹配油，第一溶剂包括甲苯。

其中，固定光纤，具体包括：

通过夹具对光纤的两端进行固定，待去除涂覆层位于光纤的中部。

其中，固定光纤，具体包括：

通过夹具对光纤的中部进行固定，待去除涂覆层位于光纤的两端中的至少一端。

其中，通过在待保留涂覆层和待去除涂覆层上涂抹第二溶剂，使在待保留涂覆层与待去除涂覆层的交界处形成切口，切口的截面形状包括圆弧形。

其中，光纤包括高功率光纤。

其中，在待保留涂覆层和待去除涂覆层上涂抹第二溶剂之后，还包括：

干燥处理。

为了解决上述问题，本发明还提供了一种光纤，由如上述任一项的剥除光纤涂覆层的方法形成。

本申请的有益效果是：区别于现有技术，本申请提供了一种剥除光纤涂覆层的方法及光纤，剥除光纤涂覆层的方法包括：固定光纤，光纤包括纤芯、依次围绕纤芯的包层和涂覆层，涂覆层包括沿光纤的延伸方向连接的待保留涂覆层和待去除涂覆层；在待保留涂覆层上涂抹第一溶剂，第一溶剂浸润待保留涂覆层；在待保留涂覆层和待去除涂覆层上涂抹第二溶剂，第二溶剂用于溶解涂覆层，第一溶剂用于阻止第二溶剂进入到待保留涂覆层。通过在待保留涂覆层上涂抹第一溶剂，利用第一溶剂阻止第二溶剂进入到待保留涂覆层，在采用第二溶剂去除待去除涂覆层时，随着待去除涂覆层被去除，第一溶剂局部扩张到在去除剂和待保留涂覆层之间，使得在去除待去除涂覆层之后，最终在待保留涂覆层的侧壁形成平滑的切口，能有效地改善涂覆层切口处边界条件的变化导致的光波泄露和热效应问题，且工艺过程简单，易操作。

附图说明

下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为本发明实施例提供的剥除光纤涂覆层的方法的流程图。

图2为本发明实施例提供的光纤的结构示意图。

图3为本发明实施例提供的涂抹浸润剂之后形成的结构示意图。

图4为本发明实施例提供的涂抹去除剂之后形成的结构示意图。

图5为本发明实施例提供的剥除光纤涂覆层之后形成的结构示意图。

附图标记说明：

100-光纤；110-纤芯；120-包层；130-涂覆层；131-待保留涂覆层；132-待去除涂覆层；133-切口；140-浸润剂膜；150-去除剂。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本发明作进一步的详细描述。特别指出的是，以下实施例仅用于说明本发明，但不对本发明的范围进行限定。同样地，以下实施例仅为本发明的部分实施例而非全部实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

另外，本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在各个附图中，结构相似的单元采用相同的附图标记来表示。为了清楚起见，附图中的各个部分没有按比例绘制。此外，附图中可能未示出某些公知的部分。

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图，对本申请的实施例进行进一步详细说明。

如图1所示，本申请实施例提供了一种剥除光纤涂覆层130的方法，具体流程对照图2至图5的结构图，可以包括如下：

S101：固定光纤100，光纤100包括纤芯110、依次围绕纤芯110的包层120和涂覆层130，涂覆层130包括沿光纤100的延伸方向连接的待保留涂覆层131和待去除涂覆层132。

具体地，结合图2-5对本申请实施例的剥除光纤涂覆层130的方法进行详细描述。应当理解，除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不应被理解为对本发明范围的限制。此外，为了便于描述，附图中所示出的各个部件的尺寸并不必然按照实际的比例关系绘制，例如某些层的厚度或宽度可以相对于其他层有所夸大。以下对示例性实施例的描述仅仅是说明性的，在任何意义上都不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和装置可能不作详细讨论，但在适用这些技术、方法和装置情况下，这些技术、方法和装置应当被视为本说明书的一部分。应当注意，相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义或说明，则在随后的附图的说明中将不需要对其进行进一步讨论。

如图2所示，光纤100由纤芯110、依次围绕纤芯110的包层120和涂覆层130组成，涂覆层130包括沿光纤100的延伸方向连接的待保留涂覆层131和待去除涂覆层132。一般情况下，纤芯110和包层120的材质主要是熔石英玻璃，涂覆层130的材质主要是丙烯酸酯或聚酰亚胺。涂覆层130的主要作用是保护纤芯110和包层120，提高光纤100的机械强度。由于涂覆层130有一定的韧性，对包层120有较强附着力，不易被精确加工，同时对大部分光谱都有较高的吸收率，因此，在对成品光纤100进行各类加工时，都需要全部剥除或部分剥除光纤100的涂覆层130，光纤涂覆层130剥除技术也被广泛应用于光纤熔接、光栅制备、光纤能量耦合、光纤器件以及光纤传感器的制作中。

此外，需要说明的是，可以采用各种方法对光纤100进行固定，比如，采用常见的机械夹具对光纤100的一端或者多端进行固定，以便于后续步骤的进行。对于固定光纤100的方式具体不作特别的限制，只要能实现对光纤100的一端或者多端进行固定，以便于后续步骤的进行即可。

其中，S101中的“固定光纤100”，具体包括：

通过夹具对光纤100的两端进行固定，待去除涂覆层132位于光纤100的中部。

具体地，由上文可知，光纤涂覆层剥除技术也被广泛应用于光纤熔接、光栅制备、光纤能量耦合、光纤器件以及光纤传感器的制作中。当光纤100应用在不同的场景时，需要剥除的涂覆层130在光纤100的位置也不同，比如，当剥除光纤涂覆层130的方法应用于光栅制备，以形成光纤光栅时，光纤光栅是一种通过一定的方法使纤芯110的折射率发生轴向周期性调制而形成的衍射光栅，是一种无源滤波器件，在光纤光栅的制备过程中，一般需要剥除光纤100中部的涂覆层130，可以通过夹具对光纤100的两端进行固定，以便于后续去除位于光纤100中部的待去除涂覆层132。

其中，S101中的“固定光纤100”，具体包括：

通过夹具对光纤100的中部进行固定，待去除涂覆层132位于光纤100的两端中的至少一端。

具体地，由上文可知，光纤涂覆层130剥除技术也被广泛应用于光纤熔接、光栅制备、光纤能量耦合、光纤器件以及光纤传感器的制作中。当光纤100应用在不同的场景时，需要剥除的涂覆层130在光纤100的位置也不同，比如，当剥除光纤涂覆层130的方法应用于光纤熔接时，光纤熔接技术主要是用熔纤机将光纤100和光纤100或光纤100和尾纤连接，把光缆中的裸纤和光纤100尾纤熔合在一起变成一个整体，而尾纤则有一个单独的光纤100头，光纤熔接一般需要剥除光纤100两端中的至少一端，因此，可以通过夹具对光纤100的中部进行固定，以便于后续去除位于光纤100两端中的至少一端的待去除涂覆层132。

S102：在待保留涂覆层131上涂抹第一溶剂，第一溶剂浸润待保留涂覆层131。

图3显示S102形成的结构，包括：纤芯110、包层120、待去除涂覆层132、待保留涂覆层131以及位于待保留涂覆层131上的第一溶剂。

具体地，对于第一溶剂不作特别的限制，只有能实现第一溶剂浸润待保留涂覆层即可，比如，第一溶剂为浸润剂。浸润剂的浸润特性指的是液体维持和固体表面接触的能力，其本质是液体和固体表面分子间的相互作用力。因此，浸润度(或者叫可湿度)取决于液体分子间的结合力(Cohesion Force)和液体分子与固体分子之间的粘和力(AdhesiveForce)的合力(表面张力)。简单来说就是指，分子引力和斥力的宏观表现，引力大于斥力就是浸润，反之就是不浸润，比如，水和玻璃就是浸润，水银和玻璃就是不浸润。通过在待保留涂覆层131上涂抹浸润剂，利用浸润剂的浸润特性，以在待保留涂覆层131上形成有一层浸润剂膜140，基于浸润剂的浸润特性，浸润剂膜140的截面形状是带有圆弧形的平滑曲面，而待去除涂覆层132上没有涂抹浸润剂，因此，在待去除涂覆层132上并没有形成有一层浸润剂膜140。

此外，需要说明的是，本申请实施例中采用的浸润剂，主要是利用浸润剂的浸润特性，只要能实现通过在待保留涂覆层131上涂抹浸润剂，以在待保留涂覆层131上形成有一层浸润剂膜140，而在待去除涂覆层132上没有形成有一层浸润剂膜140即可，对于浸润剂的具体材料可以根据涂覆层130的材料质去选取，具体不作限制。

S103：在待保留涂覆层131和待去除涂覆层132上涂抹第二溶剂，第二溶剂用于溶解涂覆层，第一溶剂用于阻止第二溶剂进入到待保留涂覆层。

图4显示S103中“在待保留涂覆层131和待去除涂覆层132上涂抹第二溶剂”形成的结构，包括：纤芯110、包层120、待去除涂覆层132、待保留涂覆层131、位于待保留涂覆层131上的浸润剂膜140和位于待去除涂覆层132上的第二溶剂(即去除剂150)。

图5显示S103中“第二溶剂溶解涂覆层130”之后形成的结构示意图，包括：纤芯110、包层120和待保留涂覆层131，其中，在待保留涂覆层131与待去除涂覆层132的交界处形成有平滑的切口133。

具体地，第二溶剂可以是一种去除剂150，能溶解涂覆层130，不能溶解或腐蚀纤芯110和包层120，且与涂覆层130的浸润度低，比如，酸、丙酮或甲苯等，具体不作限制。由于待保留涂覆层131上形成有一层浸润剂膜140，基于浸润剂的浸润特性，浸润剂膜140的截面形状是带有圆弧形的平滑曲面，而在待去除涂覆层132上没有形成有一层浸润剂膜140，在待保留涂覆层131和待去除涂覆层132上涂抹第二溶剂之后，由于第一溶剂用于阻止第二溶剂进入到待保留涂覆层131，待保留涂覆层131不会直接与去除剂150接触，最终会被保留下来，而待去除涂覆层132会直接与去除剂150接触，最终会被去除。通过浸润剂的表面张力在待保留涂覆层131上形成一层浸润剂膜140，与此同时，基于浸润剂的浸润特性，浸润剂膜140的截面形状是带有圆弧形的平滑曲面，在采用去除剂150去除待去除涂覆层132时，随着待去除涂覆层132被去除，浸润剂能局部扩张到在去除剂150和待保留涂覆层131之间，由于浸润剂膜始终保持着截面形状是平滑的，使得去除剂150在去除待去除涂覆层132之后，最终在待保留涂覆层131与待去除涂覆层132的交界处形成平滑的切口133。通过利用浸润剂的浸润作用对待保留涂覆层131进行保护以及浸润剂膜140始终保持着截面形状是平滑的，再利用去除剂150与待去除涂覆层132直接接触，最终去除待去除涂覆层132，从而在待保留涂覆层131与待去除涂覆层132的交界处形成平滑的切口133，能有效地改善切口133处边界条件的变化导致的光波泄露和热效应问题，且工艺过程简单，易操作。

此外，需要说明的是，可以通过控制去除剂150的温度去控制去除剂150去除涂覆层130的速度，但温度不能影响浸润剂的浸润效果。另外，去除剂150的类型可以是酸，也可以其它的化学物质，只要能实现溶解涂覆层130，不能溶解或腐蚀纤芯110和包层120，且与涂覆层130的浸润度较低的溶液即可，对于去除剂150的材料不作特别的限制。

其中，第一溶剂包括硅油，第二溶剂包括丙酮。

具体地，硅油通常指的是在室温下保持液体状态的线型聚硅氧烷产品。一般分为甲基硅油和改性硅油两类。而甲基硅油是最常用的硅油，也称为普通硅油，其有机基团全部为甲基，甲基硅油具有良好的化学稳定性、绝缘性。

具体地，丙酮(Acetone，分子式为C₃H₆O)，又名二甲基酮，是一种有机物，是最简单的饱和酮。易溶于水和甲醇、乙醇、乙醚、氯仿、吡啶等有机溶剂。丙酮在工业上主要作为溶剂用于炸药、塑料、橡胶、纤维、制革、油脂、喷漆等行业中，也可作为合成烯酮、醋酐、碘仿、聚异戊二烯橡胶、甲基丙烯酸甲酯、氯仿、环氧树脂等物质的重要原料。

由上文可知，一般情况下，涂覆层130的材料是丙烯酸酯或聚酰亚胺，而当执行S102采用的第一溶剂是硅油时，硅油在材料为丙烯酸酯或聚酰亚胺的待保留涂覆层131上有较高的浸润度，可以很好地在待保留涂覆层131上形成有一层浸润剂膜140，而在待去除涂覆层132上没有形成有一层浸润剂膜140。随后，当执行S103采用的第二溶剂是丙酮时，由于硅油，比如甲基硅油，它的化学性质非常稳定，不与一般的化学物质发生反应，耐酸碱，耐高温，而且还有很高的难溶解性，不会与醇类、醚类、DMF、丙酮反应，可以通过丙酮去除待去除的涂覆层130，而不溶解或腐蚀表面形成有一层浸润剂膜140的待保留涂覆层131，从而在待保留涂覆层131与待去除涂覆层132的交界处形成平滑的切口133，能有效地改善切口133处边界条件的变化导致的光波泄露和热效应问题，且工艺过程简单，易操作。

其中，第一溶剂包括硅含氟的匹配油，第二溶剂包括甲苯。

具体地，甲苯(Toluene，分子式：C₇H₈)，是一种无色、带特殊芳香味的易挥发液体，有强折光性，能与乙醇、乙醚、丙酮、氯仿、二硫化碳和冰乙酸混溶，极微溶于水。作为溶剂甲苯用于油类、树脂、天然橡胶和合成橡胶、煤焦油、沥青、醋酸纤维素，也可以作为溶剂用于纤维素油漆和清漆，以及用为照像制版、墨水的溶剂。

由上文可知，一般情况下，涂覆层130的材料是丙烯酸酯或聚酰亚胺，而当执行S102采用的第一溶剂是含氟的匹配油(Immersion Oil)时，相对于在光纤100领域常用的匹配油，含氟的匹配油具有更高的浸润度，可以更好地在待去除涂覆层132表面形成一层浸润剂膜140，即可以很好地在待保留涂覆层131上形成有一层浸润剂膜140，而在待去除涂覆层132上没有形成有一层浸润剂膜140。随后，当执行S103采用的第二溶剂是甲苯时，可以通过甲苯去除待去除的涂覆层130，而不溶解或腐蚀表面形成有一层浸润剂膜140的待保留涂覆层131，从而在待保留涂覆层131与待去除涂覆层132的交界处形成平滑的切口133，能有效地改善切口133处边界条件的变化导致的光波泄露和热效应问题，且工艺过程简单，易操作。

此外，需要说明的是，由上文可知，光纤涂覆层130剥除技术也被广泛应用于光纤熔接、光栅制备、光纤能量耦合、光纤器件以及光纤传感器的制作中。当剥除光纤涂覆层130的方法应用于光栅制备，以形成光纤光栅时，光纤光栅的制备一般需要剥除光纤100中部的一整圈的涂覆层130，而当剥除光纤涂覆层130的方法应用于光纤熔接时，光纤熔接一般需要剥除光纤100两端中的至少一端的一整圈或者一整圈中的部分的涂覆层130。因此，在剥除光纤涂覆层130的方法时，可以通过调整S102：在待保留涂覆层131上涂抹第一溶剂，第一溶剂浸润待保留涂覆层131，即将特定的待保留涂覆层131全部涂抹上第一溶剂，从而实现去除想要的待去除涂覆层132，以满足不同场合的需求。另外，待去除涂覆层132可以位于光纤100的中部、两端中的至少一端或者其它任意的位置，对于待去除涂覆层132的位置和大小不作特别限制。

其中，在S103之后，还包括：

S104：对光纤100进行第一清洗处理，以去除光纤100表面残留的第二溶剂；

S105：对光纤100进行第二清洗处理，以去除光纤100表面残留的第一溶剂；

S106：对光纤100进行第三清洗处理，以去除光纤100表面的残留物。

具体地，在执行S103：在待保留涂覆层131和待去除涂覆层132上涂抹第二溶剂，以去除待去除涂覆层132，使在待保留涂覆层131与待去除涂覆层132的交界处形成平滑的切口133之后，还需要对光纤100进行一次或多次清洗处理，以去除光纤100表面残留的第二溶剂(比如去除剂150)、第一溶剂(比如浸润剂)和残留物。其中，可以通过执行S104：对光纤100进行第一清洗处理，以去除光纤100表面残留的第二溶剂；随后，执行S105：对光纤100进行第二清洗处理，以去除光纤100表面残留的第一溶剂；最后，执行S106：对光纤100进行第三清洗处理，以去除光纤100表面的残留物，获得表面没有残留的第二溶剂、第一溶剂和残留物，且切口133平滑的光纤100。

具体地，由上文可知，在执行S102采用的浸润剂是硅油，执行S103采用的去除剂150是丙酮之后，继续执行S104，可以采用去离子水(又称之为DI Water，Deionized Water)作为第一清洗处理的清洗剂，去离子水是通过离子交换树脂除去水中的离子态杂质而得到的近于纯净的水，通过去离子水去除作为浸润剂残留的丙酮。随后，执行S105，可以采用乙醇或丙醇作为第二清洗处理的清洗剂，由于硅油稍溶于甲醇，能溶于乙醇或丙醇，通过乙醇或丙醇去除作为去除剂150残留的硅油。最后，执行S106，可以采用去离子水作为第三清洗处理的清洗剂，不同于S104的作用，此次主要作用是清洁光纤100表面的残留物，以彻底清除光纤100的表面。

具体地，由上文可知，在执行S102采用的浸润剂是含氟的匹配油，执行S103采用的去除剂150是甲苯之后，继续执行S104，可以采用汽油清洗光纤100表面，主要作用是去除作为浸润剂残留的匹配油。随后，执行S105，可以采用乙醇或丙醇清洗光纤100表面，主要作用是去除作为去除剂150残留的甲苯。最后，执行S106，可以再次采用去离子水，不同于S104的作用，此次主要作用是清洁光纤100表面的残留物，以彻底清除光纤100的表面。

其中，通过在待保留涂覆层131和待去除涂覆层132上涂抹第二溶剂，使在待保留涂覆层131与待去除涂覆层132的交界处形成切口133，切口133的截面形状包括圆弧形。

具体地，如图4所示，由于浸润剂的浸润特性，当执行S102：在待保留涂覆层131上涂抹浸润剂，第一溶剂浸润待保留涂覆层131之后，会在待保留涂覆层131上形成一层浸润剂膜140，而浸润剂膜140并不是垂直包裹待保留涂覆层131，由于浸润剂的表面张力，会在待保留涂覆层131上形成截面形状是边缘带有微小圆弧形的一层浸润剂膜140。随后，继续执行S103，以去除待去除涂覆层132，浸润剂因为表面张力与待保留涂覆层131结合的很紧密，而去除剂150与待去除涂覆层132的结合没有那么紧密，随着去除剂150逐渐与待去除涂覆层132反应，边缘的浸润剂会补充在待去除涂覆层132和待保留涂覆层131之间，使去除剂150无法直接与浸润剂所覆盖的涂覆层130接触，如图5所示，最终会在待保留涂覆层131与待去除涂覆层132的交界处的上、下边缘形成带有微小弧形且平滑的切口133。基于浸润剂的浸润特性，通过在待保留涂覆层131与待去除涂覆层132的交界处形成平滑的切口133，能有效地改善切口133处边界条件的变化导致的光波泄露和热效应问题。

其中，光纤100包括高功率光纤。

具体地，光纤100的结构决定了其有较小的直径，光纤100上某一点边界条件的变化导致光泄露在很小的区域。随着激光功率的不断提高，损耗引起的热功率也随之增加，热效应对激光器的影响也越来越突出，尤其是对于高功率光纤激光器，切口133处微小的损耗可能使较多的热量聚集在很小的区域。由于光纤涂覆层130通常由丙烯酸酯或掺氟丙烯酸酯等有机聚合物组成，相比于作为纤芯110或包层120的石英，涂覆层130是整个光纤100熔点最低部分。当涂覆层130温度超过130℃就有可能烧毁，要使光纤激光器长期稳定的工作，通常涂覆层130温度小于80℃，特别是熔点附近的涂覆层130，由于波导结构突变使光波泄漏出包层120，特别容易造成局部高温，在光纤100后切口133处热效应尤为明显。基于高功率光纤激光器的上述特性，在剥除高功率光纤的涂覆层130时，可以采用浸润剂保护待保留涂覆层131，再采用去除剂150去除待去除涂覆层132的方案，以在待保留涂覆层131与待去除涂覆层132的交界处形成平滑的切口133，能有效地改善高功率光纤切口133处边界条件的变化导致的光波泄露和热效应问题。

其中，在待保留涂覆层131和待去除涂覆层132上涂抹第二溶剂之后，还包括：

干燥处理。

具体地，在执行S103：在待保留涂覆层131和待去除涂覆层132上涂抹第二溶剂，以去除待去除涂覆层132，使在待保留涂覆层131与待去除涂覆层132的交界处形成平滑的切口133之后，或在执行S106：对光纤100进行第三清洗处理，以去除光纤100表面的残留物之后，可以对形成有平滑的切口133的光纤100进行干燥处理，比如，通过采用干燥剂或者干燥装置对光纤100进行干燥处理，当采用干燥装置时，可以采用电热器，通过热辐射，使热均匀达到光纤100的表面，与此同时，还可以通过控制加热器的温度，在对光纤100进行干燥处理的同时，不损伤光纤100的膜层，以获得干燥的光纤100。

其中，在对光纤100进行第三清洗处理之后，还包括：

对光纤100采用石英管进行封装。

具体地，在执行S103：在待保留涂覆层131和待去除涂覆层132上涂抹第二溶剂，以去除待去除涂覆层132，使在待保留涂覆层131与待去除涂覆层132的交界处形成平滑的切口133之后，可以对形成有平滑切口133的光纤100进行光栅的制备或光纤熔接等步骤，在完成该步骤之后，还可以采用石英管对光纤100进行封装，以避免因为剥除部分的光纤涂覆层130而导致的在待去除涂覆层132处容易断裂的问题。

基于上述实施例描述的剥除光纤涂覆层的方法，本申请实施例还提供了一种光纤100，由如上述任一项的剥除光纤涂覆层的方法形成，如图5所示，利用剥除光纤涂覆层的方法形成的光纤100包括：纤芯110、依次围绕纤芯110的包层120和待保留涂覆层131，待保留涂覆层131的侧壁上形成有平滑的切口133。通过在待保留涂覆层131的侧壁上形成有平滑的切口133，能有效地改善涂覆层切口133处边界条件的变化导致的光波泄露和热效应问题。

由上述可知，本发明提供了一种剥除光纤涂覆层的方法及光纤，剥除光纤涂覆层的方法包括：固定光纤，光纤包括纤芯、依次围绕纤芯的包层和涂覆层，涂覆层包括沿光纤的延伸方向连接的待保留涂覆层和待去除涂覆层；在待保留涂覆层上涂抹第一溶剂，第一溶剂浸润待保留涂覆层；在待保留涂覆层和待去除涂覆层上涂抹第二溶剂，第二溶剂用于溶解涂覆层，第一溶剂用于阻止第二溶剂进入到待保留涂覆层。通过在待保留涂覆层上涂抹第一溶剂，利用第一溶剂阻止第二溶剂进入到待保留涂覆层，在采用第二溶剂去除待去除涂覆层时，随着待去除涂覆层被去除，第一溶剂局部扩张到在去除剂和待保留涂覆层之间，使得在去除待去除涂覆层之后，最终在待保留涂覆层与待去除涂覆层的交界处形成平滑的切口，能有效地改善涂覆层切口处边界条件的变化导致的光波泄露和热效应问题，且工艺过程简单，易操作。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种剥除光纤涂覆层的方法，其特征在于，包括：

固定光纤，所述光纤包括纤芯、依次围绕所述纤芯的包层和涂覆层，所述涂覆层包括沿所述光纤的延伸方向连接的待保留涂覆层和待去除涂覆层；

在所述待保留涂覆层上涂抹第一溶剂，所述第一溶剂浸润所述待保留涂覆层；

在所述待保留涂覆层和所述待去除涂覆层上涂抹第二溶剂，所述第二溶剂用于溶解所述涂覆层，所述第一溶剂用于阻止所述第二溶剂进入到所述待保留涂覆层；

其中，通过在所述待保留涂覆层和所述待去除涂覆层上涂抹第二溶剂，使在所述待保留涂覆层与所述待去除涂覆层的交界处形成切口，所述切口的截面形状包括圆弧形。

2.如权利要求1所述的剥除光纤涂覆层的方法，其特征在于，在所述待保留涂覆层和所述待去除涂覆层上涂抹第二溶剂之后，还包括：

对所述光纤进行第一清洗处理，以去除所述光纤表面残留的所述第二溶剂；

对所述光纤进行第二清洗处理，以去除所述光纤表面残留的所述第一溶剂；

对所述光纤进行第三清洗处理，以去除所述光纤表面的残留物。

3.如权利要求1所述的剥除光纤涂覆层的方法，其特征在于，所述第一溶剂包括硅油，所述第二溶剂包括丙酮。

4.如权利要求1所述的剥除光纤涂覆层的方法，其特征在于，所述第一溶剂包括硅含氟的匹配油，所述第二溶剂包括甲苯。

5.如权利要求1所述的剥除光纤涂覆层的方法，其特征在于，所述固定光纤，具体包括：

通过夹具对所述光纤的两端进行固定，所述待去除涂覆层位于所述光纤的中部。

6.如权利要求1所述的剥除光纤涂覆层的方法，其特征在于，所述固定光纤，具体包括：

通过夹具对所述光纤的中部进行固定，所述待去除涂覆层位于所述光纤的两端中的至少一端。

7.如权利要求1所述的剥除光纤涂覆层的方法，其特征在于，所述光纤包括高功率光纤。

8.如权利要求1所述的剥除光纤涂覆层的方法，其特征在于，在所述待保留涂覆层和所述待去除涂覆层上涂抹第二溶剂之后，还包括：

干燥处理。

9.一种光纤，其特征在于，由如权利要求1至8任一项所述的剥除光纤涂覆层的方法形成。

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