CN113564613A - 一种用于清洗激光全息模压版的清洗剂 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及工业清洗剂技术领域，且公开了一种用于清洗激光全息模压版的清洗剂，包括以下质量分数配比的原料：由纳米二氧化钛和聚乙炔组成的清洗催化剂3～8％，辛基酚聚氧乙烯醚(OPE)5％，脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO)2.5％，N,N'‑双油酰基乙二胺二乙磺酸钠(DTM)3％，乙二醇单丁醚(EB)5～12％，余量为去离子水。本发明的清洗催化剂在光线照射时，能够使污渍的分子接受光生电子‑空穴对发生降解，并溶解在本发明的清洗剂中，从而对于激光全息模压版上大面积的污渍达到去污力99％以上的技术效果。
Description
技术领域
本发明涉及工业清洗剂技术领域，具体为一种用于清洗激光全息模压版的清洗剂。
背景技术
激光全息防伪材料由于防伪力度高、制作成本较低而且兼具良好的包装效果，目前已经在防伪和包装领域形成了千亿规模的应用。激光全息防伪材料的防伪信息通过模压工艺完成信息从镍版到材料的转移。通常，记录防伪信息的材料为高分子热塑性树脂。在模压过程中，模压机版辊的高温(模压温度通常在185℃±5℃)使得树脂软化，然后通过压力将固定在版辊上的镍版上面的激光全息信息压印到高分子树脂上。模压过程中，镍版不可避免会粘附一些高分子树脂，这些粘附的污渍会遮盖模压版上的激光全息信息，从而影响激光全息信息的压印转移口。因此，清洗激光全息模压版对于批量制作激光全息防伪材料就显得十分重要。
目前行业里通常用擦版膏来清除镍版上的污渍，这种方法对于局部少量污渍比较有效，对于大面积的污渍则无能为力，而且擦版膏的使用会使生产环境中充满油雾而影响产品质量。
发明内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足，本发明提供一种用于清洗激光全息模压版的清洗剂，以解决采用擦版膏来清除镍版上的污渍，对于大面积的污渍则无能为力的技术问题。
(二)技术方案
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种用于清洗激光全息模压版的清洗剂，包括以下质量分数配比的原料：由纳米二氧化钛和聚乙炔组成的清洗催化剂3～8％，辛基酚聚氧乙烯醚(OPE)5％，脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO)2.5％，N,N'-双油酰基乙二胺二乙磺酸钠(DTM)3％，乙二醇单丁醚(EB)5～12％，余量为去离子水。
进一步的，所述清洗催化剂由30～60％的纳米二氧化钛和40～70％的聚乙炔组成。
进一步的，所述清洗催化剂由30～60％的平均粒径≤50nm的纳米二氧化钛和40～70％的聚乙炔组成。
进一步的，所述清洗剂在清洗激光全息模压版的方法包括以下步骤：
步骤一，在烘箱中把污损模压版加热至100℃，取出之后浸入清洗剂中，浸泡；
步骤二，采用紫外光照射模压版；
步骤三，在紫外光照射下，用超声波振荡清洗模压版，取出后用去离子水充分清洗，并放入100℃以上的去离子水中浸泡，随即在100℃的烘箱中干燥。
(三)有益的技术效果
与现有技术相比，本发明具备以下有益的技术效果：
由于激光全息模压版污渍特点为高分子树脂和色粉在高温下长期加热而处于半固化状态，通过水溶性增溶剂对污渍溶解溶胀，而本发明的清洗催化剂在光线照射时，使污渍的分子接受光生电子-空穴对发生降解，并溶解在本发明的清洗剂中，从而达到去污力达到99％以上的技术效果。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例一：
一种用于清洗激光全息模压版的清洗剂，包括以下质量分数配比的原料：由50％的平均粒径≤10nm的二氧化钛和50％的聚乙炔组成的清洗催化剂3％，辛基酚聚氧乙烯醚(OPE)5％，脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO)2.5％，N,N'-双油酰基乙二胺二乙磺酸钠(DTM)3％，乙二醇单丁醚(EB)5％，余量为去离子水；
上述清洗剂在清洗激光全息模压版的方法包括以下步骤：
步骤一，在烘箱中把污损模压版加热至100℃，取出之后浸入温度为60℃的清洗剂中，浸泡5min；
步骤二，采用800w紫外光照射模压版10min；
步骤三，在800w紫外光照射下，用超声波(80kHz)振荡清洗模压版10min，取出后用去离子水充分清洗，并放入100℃以上的去离子水中浸泡约2min，随即在100℃的烘箱中干燥约5min；
实施例二：
一种用于清洗激光全息模压版的清洗剂，包括以下质量分数配比的原料：由30％的平均粒径≤5nm的二氧化钛和70％的聚乙炔组成的清洗催化剂5％，辛基酚聚氧乙烯醚(OPE)5％，脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO)2.5％，N,N'-双油酰基乙二胺二乙磺酸钠(DTM)3％，乙二醇单丁醚(EB)9％，余量为去离子水；
上述清洗剂在清洗激光全息模压版的方法包括以下步骤：
步骤一，在烘箱中把污损模压版加热至100℃，取出之后浸入温度为80℃的清洗剂中，浸泡5min；
步骤二，采用800w紫外光照射模压版5min；
步骤三，在800w紫外光照射下，用超声波(80kHz)振荡清洗模压版5min，取出后用去离子水充分清洗，并放入100℃以上的去离子水中浸泡约1min，随即在100℃的烘箱中干燥约10min；
实施例三：
一种用于清洗激光全息模压版的清洗剂，包括以下质量分数配比的原料：由60％的平均粒径≤50nm的二氧化钛和40％的聚乙炔组成的清洗催化剂8％，辛基酚聚氧乙烯醚(OPE)5％，脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO)2.5％，N,N'-双油酰基乙二胺二乙磺酸钠(DTM)3％，乙二醇单丁醚(EB)12％，余量为去离子水；
上述清洗剂在清洗激光全息模压版的方法包括以下步骤：
步骤一，在烘箱中把污损模压版加热至100℃，取出之后浸入温度为100℃的清洗剂中，浸泡5min；
步骤二，采用800w紫外光照射模压版8min；
步骤三，在800w紫外光照射下，用超声波(80kHz)振荡清洗模压版8min，取出后用去离子水充分清洗，并放入100℃以上的去离子水中浸泡约3min，随即在100℃的烘箱中干燥约8min；
性能测试：
将污损镍版按10cm×10cm规格取样，并称量其质量；同时取没有使用过的镍版按同样规格取样称量，作为标准镍版；污损镍版超出标准镍版质量部分视为污渍质量；
去污力测试：由于激光全息模压版的清洗是在高温作业时稍作降温即进行清洗，因此本实验去污力测试也是在高温下进行；按规定规格取污损镍版并称量质量，其质量与标准镍版质量的差视为污渍质量；采用上述清洗方法清洗之后再称量其质量；污损镍版与其差值即为去除污渍质量。
由去除污渍质量与污渍总质量计算去污力；
测试结果：
实施例一：去污力为99.2％；
实施例二：去污力为99.6％；
实施例三：去污力为99.1％；
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (4)
1.一种用于清洗激光全息模压版的清洗剂，其特征在于，包括以下质量分数配比的原料：由纳米二氧化钛和聚乙炔组成的清洗催化剂3～8％，辛基酚聚氧乙烯醚(OPE)5％，脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO)2.5％，N,N'-双油酰基乙二胺二乙磺酸钠(DTM)3％，乙二醇单丁醚(EB)5～12％，余量为去离子水。
2.根据权利要求1所述的用于清洗激光全息模压版的清洗剂，其特征在于，所述清洗催化剂由30～60％的纳米二氧化钛和40～70％的聚乙炔组成。
3.根据权利要求2所述的用于清洗激光全息模压版的清洗剂，其特征在于，所述清洗催化剂由30～60％的平均粒径≤50nm的纳米二氧化钛和40～70％的聚乙炔组成。
4.根据权利要求3所述的用于清洗激光全息模压版的清洗剂，其特征在于，所述清洗剂在清洗激光全息模压版的方法包括以下步骤：
步骤一，在烘箱中把污损模压版加热至100℃，取出之后浸入清洗剂中，浸泡；
步骤二，采用紫外光照射模压版；
步骤三，在紫外光照射下，用超声波振荡清洗模压版，取出后用去离子水充分清洗，并放入100℃以上的去离子水中浸泡，随即在100℃的烘箱中干燥。
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Citations (4)
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|---|---|---|---|---|
| WO2008145424A1 (de) * | 2007-05-31 | 2008-12-04 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Wasch- oder reinigungsmittel mit flüssiger, gelförmiger oder pastenartiger konsistenz |
| US20100062966A1 (en) * | 2008-09-09 | 2010-03-11 | Novipella, Inc. | Self-cleaning thin-film forming compositions |
| CN103898526A (zh) * | 2014-04-18 | 2014-07-02 | 邯郸学院 | 用于去除银器表面色斑的洗液和方法 |
| CN109504550A (zh) * | 2018-11-26 | 2019-03-22 | 湖北华工图像技术开发有限公司 | 一种激光全息模压版清洗剂 |
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008145424A1 (de) * | 2007-05-31 | 2008-12-04 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Wasch- oder reinigungsmittel mit flüssiger, gelförmiger oder pastenartiger konsistenz |
| US20100062966A1 (en) * | 2008-09-09 | 2010-03-11 | Novipella, Inc. | Self-cleaning thin-film forming compositions |
| CN103898526A (zh) * | 2014-04-18 | 2014-07-02 | 邯郸学院 | 用于去除银器表面色斑的洗液和方法 |
| CN109504550A (zh) * | 2018-11-26 | 2019-03-22 | 湖北华工图像技术开发有限公司 | 一种激光全息模压版清洗剂 |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| 王成刚等: "《综合化学实验教程》", 28 February 2013, 华中师范大学出版社 * |
| 郑成赋等: "高效激光全息模压版清洗剂的研制", 《山东化工》 * |
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