KR102068574B1 - 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일실시예는 연속되는 나노패턴을 가지는 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법을 제공한다. 여기서, 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법은 임프린팅단계, 제거단계 그리고 생성단계를 포함한다. 임프린팅단계는 폴리머층의 전체 면적보다 작은 면적을 가지고 표면에 나노패턴이 형성된 스탬프를 폴리머층에 가압하여, 폴리머층에 나노패턴에 대응되는 전사패턴이 임프린팅된 복수의 임프린팅 영역을 연속적으로 형성한다. 제거단계는 폴리머층에서, 이웃하는 임프린팅 영역의 사이에 설정된 경계 영역에 잔존하는 잔존 폴리머에 제1레이저빔을 조사하여 잔존 폴리머를 제거한다. 생성단계는 경계 영역의 양측에 임프린팅된 전사패턴과 연속되도록 경계 영역에 폴리머 소재의 추가 나노패턴을 생성한다.

Description

나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법{METHOD OF MANUFACTURING LARGE AREA STAMP FOR NANO IMPRINTING}
본 발명은 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 연속되는 나노패턴을 가지는 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법에 관한 것이다.
최근, 선격자 편광자(wire grid polarizer), 초발수성 표면 등 나노패턴을 이용한 대면적 제품이 주요한 산업 아이템으로 주목을 받고 있다. 나노 제품이 상용화되기 위해서는 대면적 대량 생산이 가능해야 하며, 이를 위한 가장 효과적인 방법은 롤투롤(roll-to-roll) 공정을 이용한 프린팅 공정을 적용하는 것이다.
롤투롤 공정은 원통형의 금형에 제작된 패턴을 필름 표면에 복제하는 기술로서, 열 또는 UV를 이용하여 필름 기판 자체, 또는 필름 기판에 도포되는 폴리머 레진에 패턴을 전사한다. 따라서 롤투롤 공정에서는 원통 금형이 핵심적인 부품이며, 원통 금형의 생산, 관리가 중요한 이슈이다.
투명 전극 패턴, 재귀반사 패턴과 같이 마이크론 크기의 패턴을 가진 원통 금형은 주로 기계 가공 방법으로 제작하였다. 이 방법은 원통 금형의 크기에 상관없이 연속적인 패턴을 가진 금형을 생산할 수 있으며, 금속 표면 자체에 패턴을 제작할 수 있어 매우 경제적인 장점을 가진다. 그러나 이 방법은 나노미터 크기의 패턴을 제작하기가 어려운 문제점이 있다.
다른 방법으로 E-beam을 이용하여 원통 금형을 제작하고도 있다. 이 방법에서는 금속형 원통 금형 표면에 e-beam 용 레지스트를 도포한 후 전용 시스템에서 e-beam을 이용하여 패턴을 제작한다. 이 방법은 수십 나노미터(nm)까지 제작할 수 있는 높은 정밀도를 가지지만, 제작 시간이 매우 길고, e-beam 리소그래피 공정을 수행하는 진공 챔버 크기의 한계로 원통 금형의 크기가 제한되는 문제점이 있다.
대한민국 공개특허공보 제2012-0067170호(2012.06.25. 공개)
상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 연속되는 나노패턴을 가지는 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 폴리머층의 전체 면적보다 작은 면적을 가지고 표면에 나노패턴이 형성된 스탬프를 상기 폴리머층에 가압하여, 상기 폴리머층에 상기 나노패턴에 대응되는 전사패턴이 임프린팅된 복수의 임프린팅 영역을 연속적으로 형성하는 임프린팅단계; 상기 폴리머층에서, 이웃하는 임프린팅 영역의 사이에 설정된 경계 영역에 잔존하는 잔존 폴리머에 제1레이저빔을 조사하여 상기 잔존 폴리머를 제거하는 제거단계; 그리고 상기 경계 영역의 양측에 임프린팅된 상기 전사패턴과 연속되도록 상기 경계 영역에 폴리머 소재의 추가 나노패턴을 생성하는 생성단계를 포함하는 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법을 제공한다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 생성단계는 상기 경계 영역에 광경화성 폴리머를 보충하여 채우는 채움단계와, 상기 광경화성 폴리머에 제2레이저빔을 조사하고, 상기 제2레이저빔이 조사된 부분이 경화되어 상기 추가 나노패턴으로 생성되어 상기 경계 영역에 이웃하여 임프린팅된 상기 전사패턴과 서로 이어지도록 하는 패턴연결단계를 가질 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 나노패턴 및 상기 추가 나노패턴은 패턴의 크기가 200 나노미터 이하이고, 상기 제2레이저빔은 펨토초 펄스 레이저빔일 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제거단계에서, 상기 제1레이저빔은 나노초 펄스 레이저빔일 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 폴리머층에 임프린팅된 전사패턴의 사이의 잔존 폴리머를 제거하고, 광경화성 폴리머를 채운 후 펨토초 펄스 레이저빔을 조사하여 광경화성 폴리머에서 원하는 부분의 광경화성 폴리머만을 경화시킬 수 있다. 이를 통해, 광경화성 폴리머에는 200 나노미터 이하의 추가 나노패턴이 정밀하게 생성될 수 있고, 이웃하는 전사패턴과 연속되는 정밀한 형태의 패턴이 구현될 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법으로 제조되는 대면적 스탬프에 전기도금 공정을 통하여 금속의 복제 몰드를 제작하고, 제작된 복제 몰드를 롤러의 원주면에 감아서 롤투롤 공정 용 롤러 금형을 제작할 수 있다. 이러한 방법을 사용하면, 롤러 금형을 용이하게 제작할 수 있고, 나노패턴이 롤러 금형의 원주면에 연속적으로 마련될 수 있다.
본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법을 나타낸 흐름도이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법에 따른 공정을 나타낸 공정예시도이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조공정을 나타낸 단면예시도이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법에서 펨토초 펄스 레이저빔과 나노초 펄스 레이저빔에 의한 나노패턴의 생성예를 나타낸 예시도이다.
이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 “연결(접속, 접촉, 결합)”되어 있다고 할 때, 이는 “직접적으로 연결”되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 “간접적으로 연결”되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 “포함”한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.
본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, “포함하다” 또는 “가지다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법을 나타낸 흐름도이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법에 따른 공정을 나타낸 공정예시도이다.
도 1 및 도 2에서 보는 바와 같이, 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법은 임프린팅단계(S110), 제거단계(S120) 그리고 생성단계(S130)를 포함할 수 있다.
임프린팅단계(S110)는 폴리머층(220)의 전체 면적보다 작은 면적을 가지고 표면에 나노패턴(231)이 형성된 스탬프(230)를 폴리머층(220)에 가압하여, 폴리머층(220)에 나노패턴(231)에 대응되는 전사패턴(222)이 임프린팅된 복수의 임프린팅 영역(A2)을 연속적으로 형성하는 단계일 수 있다.
도 2의 (a)를 참조하면, 폴리머층(220)은 기판(210)의 상부에 전체적으로 마련될 수 있다.
폴리머층(220)은 복수의 가상의 구획 영역(A1)을 가질 수 있으며, 구획 영역(A1)은 스탬프(230)의 하부에 형성되는 나노패턴(231)이 형성되는 면적에 대응되는 면적을 가지도록 미리 정해질 수 있다.
이에 따라, 구획 영역(A1)에 스탬프(230)의 나노패턴(231)이 가압되면, 나노패턴(231)은 구획 영역(A1)에 꼭 맞게 임프린팅될 수 있다.
스탬프(230)의 하부에 형성되는 나노패턴(231)은 나노패턴 금형에 형성하고자 하는 최종적인 패턴에 대응되는 패턴일 수 있다. 그리고, 상기 나노패턴 금형은 롤러 금형일 수 있으나 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 예를 들면, 프레스 금형일 수도 있다.
도 2의 (b)에서 보는 바와 같이, 스탬프(230)는 폴리머층(220)의 구획 영역(A1)을 각각 순차적으로 가압하여 각각의 구획 영역(A1)에 나노패턴(231)에 대응되는 전사패턴(222)이 임프린팅되도록 할 수 있다.
이를 통해, 폴리머층(220)에는 전사패턴(222)이 임프린팅된 복수의 임프린팅 영역(A2)이 연속적으로 형성될 수 있으며, 임프린팅되는 전사패턴(222)은 서로 연속성을 가지도록 형성될 수 있다.
임프린팅단계(S110)에서 수행되는 임프린팅 방법에는 열경화 나노임프린팅(Thermal nanoimprinting) 또는 자외선 나노임프린팅(UV nanoimprinting)의 적용이 가능하다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조공정을 나타낸 단면예시도인데, 이하에서는 도 3을 더 포함하여 설명한다.
도 3의 (a)에서 보는 바와 같이, 스탬프(230)로 폴리머층(220)에 마련되는 각각의 구획 영역(A1)을 가압하여 전사패턴(222)이 임프린팅되도록 할 때, 이웃하는 임프린팅 영역(A2)의 사이에 설정된 경계 영역(A3)에는 잔존 폴리머(224)가 잔존할 수 있다. 즉, 해당 구획 영역에 임프린팅된 각각의 전사패턴(222a,222b)의 사이에는 잔존 폴리머(224)가 생성될 수 있다.
잔존 폴리머(224)가 발생하는 원인은 폴리머층(220)이 스탬프(230)에 의해 가압되는 압력에 의해 구획 영역(A1)의 폴리머가 가장자리 부분으로 밀려나게 되면서 발생할 수 있다.
잔존 폴리머(224)는 전사패턴(222)이 형성된 영역보다 높은 둔덕처럼 형성될 수 있다. 잔존 폴리머(224)에서는 전사패턴(222)이 형성되지 않을 수 있으며, 이에 따라 서로 이웃하는 전사패턴(222a,222b)이 서로 연결되지 않게 되는 문제점이 발생할 수 있다.
본 발명은 잔존 폴리머(224)에 의해 서로 이웃하는 전사패턴(222a,222b)이 서로 연결되지 않게 되는 문제점을 해결하기 위해서, 다음과 같은 단계의 공정을 진행할 수 있다.
제거단계(S120)는 폴리머층(220)에서, 이웃하는 임프린팅 영역(A2) 사이에 설정된 경계 영역(A3)에 잔존하는 잔존 폴리머(224)에 제1레이저빔(310)을 조사하여 잔존 폴리머(224)를 제거하는 단계일 수 있다.
여기서, 경계 영역(A3)은 가상의 구획 영역(A1)의 경계 영역에 해당될 수 있다.
그리고, 경계 영역(A3)은 패턴정보, 폴리머층정보 및 가압정보를 포함하는 임프린팅 정보를 기초로, 잔존할 것으로 예상되는 잔존 폴리머(224)의 폭을 예측하고, 이를 기초로 미리 정해질 수 있다.
상기 패턴정보는 전사패턴(222)의 형상, 폭, 깊이 등을 포함할 수 있다.
그리고, 상기 폴리머층정보는 폴리머층(220)의 두께, 폴리머의 종류 및 특성 등을 포함할 수 있다.
또한, 상기 가압정보는 스탬프(230)로 폴리머층(220)을 가압하는 가압력, 가압 깊이, 가압 시간 등을 포함하는 정보일 수 있다.
이를 통해, 경계 영역(A3)은 이웃하는 임프린팅 영역(A2)의 사이에 잔존할 것으로 예측되는 잔존 폴리머(224)의 폭을 포함하도록 설정될 수 있다. 그리고 경계 영역(A3)의 중심은 가상의 구획 영역(A1)의 경계와 일치하도록 설정될 수 있다.
제거단계(S120)에서, 잔존 폴리머(224)는 제1레이저빔(310)을 이용하여 제거될 수 있다.
이를 위해, 경계 영역(A3)의 상측에는 조사부(300)가 구비될 수 있으며, 조사부(300)는 경계 영역(A3)으로 제1레이저빔(310)을 조사할 수 있다.
여기서, 제1레이저빔(310)은 나노초(nano second) 펄스 레이저빔일 수 있다. 나노초 펄스 레이저빔은 충격파를 생성하여 용융층이 비교적 넓게 형성되도록 할 수 있어 잔존 폴리머(224)를 신속하게 제거할 수 있다.
더하여, 제1레이저빔(310)으로 UV 펄스 레이저빔이 사용될 수도 있다.
제거단계(S120)에서는 제1레이저빔(310)을 이용하여 잔존 폴리머(224)를 용융하여 제거하는 과정에서 잔존하는 용융물을 제거하기 위해 추가적으로 세척공정이 더 이루어질 수 있다.
생성단계(S130)는 경계 영역(A3)의 양측에 임프린팅된 전사패턴(222a,222b)과 연속되도록 경계 영역(A3)에 폴리머 소재의 추가 나노패턴(226)을 생성하는 단계일 수 있다.
이를 위해, 생성단계(S130)는 채움단계(S131) 및 패턴연결단계(S132)를 가질 수 있다.
채움단계(S131)는 경계 영역(A3)에 광경화성 폴리머(240)를 보충하여 채우는 단계일 수 있다.
도 3의 (c)에서 보는 바와 같이, 광경화성 폴리머(240)는 이웃하는 전사패턴(222a,222b)의 높이에 대응되는 높이로 채워질 수 있다.
경계 영역(A3)에 채워지는 광경화성 폴리머(240)는 아직 경화되지 않은 액체상태일 수 있다.
패턴연결단계(S132)는 광경화성 폴리머(240)에 제2레이저빔(320)을 조사하고, 제2레이저빔(320)이 조사된 부분이 경화되어 추가 나노패턴(226)으로 생성되어 경계 영역(A3)에 이웃하여 임프린팅된 전사패턴(222a,222b)과 서로 이어지도록 하는 단계일 수 있다.
도 3의 (d)를 참조하면, 조사부(300)는 제2레이저빔(320)을 광경화성 폴리머(240)에 조사하여 경계 영역(A3)에 이웃하여 임프린팅된 전사패턴(222a,222b)과 서로 이어지도록 추가 나노패턴(226)을 생성할 수 있다.
패턴연결단계(S132)에서 제2레이저빔(320)을 이용하여 추가 나노패턴(226)을 생성하는 방법으로는 레이저 직접 묘화(Direct Laser Writing) 방법이 사용될 수 있다.
레이저 직접 묘화는 대물렌즈 초점에 집속된 레이저빔을 이용하여 광경화성 폴리머를 일정한 패턴의 형태로 제작하는 공정일 수 있다. 레이저 직접 묘화 기술은 제작하고자 하는 패턴의 크기에 따라 적절한 종류의 레이저 직접 묘화 기술이 적용될 수 있다.
본 발명에서 나노패턴(231) 및 추가 나노패턴(226)은 패턴의 크기가 200 나노미터 이하일 수 있다.
그리고, 이와 같이 200 나노미터 이하의 추가 나노패턴(226)을 생성하기 위해서 사용되는 제2레이저빔(320)은 펨토초(Femtosecond) 펄스 레이저빔일 수 있다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법에서 펨토초 펄스 레이저빔과 나노초 펄스 레이저빔에 의한 나노패턴의 생성예를 나타낸 예시도이다. 여기서, 도 4의 (a)는 펨토초 펄스 레이저빔을 이용하여 추가 나노패턴을 생성하는 경우를 나타낸 것이고, 도 4의 (b)는 나노초 펄스 레이저빔을 이용하여 추가 나노패턴을 생성하는 경우를 나타낸 것이다.
먼저, 펨토초 펄스 레이저빔에 대해 설명하면, 펨토초 펄스 레이저빔은 펨토초의 펄스로 레이저빔이 조사되기 때문에, 타깃소재에 펨토초 펄스 레이저빔이 조사되었을 때, 조사되는 영역 이외의 영역에서 용융층이 생성되지 않고, 주변영역에서 소재의 변질이 발생하지 않는다. 또한, 타깃소재의 표면왜곡도 발생하지 않으며, 소재에 마이크로 크랙도 발생하지 않는다.
즉, 펨토초 펄스 레이저빔은 펨토초 단위의 펄스로 레이저빔이 조사되기 때문에, 조사되는 부분에만 열에너지가 효과적으로 가해질 수 있다.
따라서, 도 4의 (a)에서 보는 바와 같이, 광경화성 폴리머(240)에 조사되는 제2레이저빔(320)이 펨토초 펄스 레이저빔인 경우, 광경화성 폴리머(240)에서 원하는 부분의 광경화성 폴리머만 경화시킬 수 있다. 그리고 이를 통해, 광경화성 폴리머(240)에는 200 나노미터 이하의 추가 나노패턴(226)이 정밀하게 생성될 수 있고, 이웃하는 전사패턴(222a,222b)과 연속되는 정밀한 형태의 패턴이 구현될 수 있다.
펨토초 펄스 레이저빔을 이용하여 추가 나노패턴(226)을 생성하는 경우, 이광자중합(Two-photon polymerization) 기술이 적용될 수 있다.
한편, 나노초 펄스 레이저빔은 펨토초 보다 큰 나노초의 펄스로 레이저빔이 조사되기 때문에, 타깃소재에 나노초 펄스 레이저빔이 조사되었을 때, 펨토초 펄스 레이저빔이 타깃소재에 조사된 경우와 비교했을 때, 조사되는 영역 이외의 영역에서 용융층이 더 많이 생성될 수 있고, 주변영역에서 소재의 변질이 더 발생할 수 있다. 또한, 타깃소재의 표면왜곡도 발생할 수 있으며, 소재에 마이크로 크랙도 발생할 수 있다.
따라서, 도 4의 (b)에서 보는 바와 같이, 제2레이저빔(30)이 나노초 펄스 레이저빔인 경우, 경화시키고자 하는 부분의 외부의 광경화성 폴리머까지 경화될 수 있다. 따라서, 제2레이저빔(30)이 나노초 펄스 레이저빔인 경우, 생성되는 추가 패턴(20)의 형상이 정밀하지 않게 되어 이웃하는 전사패턴(222a,222b)과 연속되는 정밀한 형태의 패턴을 구현하기가 어렵다.
추가 나노패턴(226)의 생성이 완료된 후에는 경화되지 않고 남은 광경화성 폴리머(240)를 제거하는 공정이 진행될 수 있다. 경화되지 않고 남은 광경화성 폴리머(240)는 세척 등의 방법으로 제거될 수 있다.
본 발명에 따른 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법으로 제조되는 대면적 스탬프는 전기도금(Electroplating) 공정을 이용하여 롤러 금형으로 제작될 수 있다.
즉, 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법으로 제조되는 대면적 스탬프에 전기도금 공정을 통하여 금속의 복제 몰드를 제작하고, 제작된 복제 몰드를 롤러의 원주면에 감아서 롤투롤 공정 용 롤러 금형을 제작할 수 있다.
이러한 방법을 사용하면, 롤러 금형을 용이하게 제작할 수 있고, 나노패턴이 롤러 금형의 원주면에 연속적으로 마련될 수 있다.
전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.
본 발명의 범위는 후술하는 청구범위에 의하여 나타내어지며, 청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
210: 기판
220: 폴리머층
222, 222a, 222b: 전사패턴
224: 잔존 폴리머
226: 추가 나노패턴
230: 스탬프
231: 나노패턴
240: 광경화성 폴리머
300: 조사부
310: 제1레이저빔
320: 제2레이저빔
A1: 구획 영역
A2: 임프린팅 영역
A3: 경계 영역

Claims (4)

  1. 폴리머층의 전체 면적보다 작은 면적을 가지고 표면에 나노패턴이 형성된 스탬프를 상기 폴리머층에 가압하여, 상기 폴리머층에 상기 나노패턴에 대응되는 전사패턴이 임프린팅된 복수의 임프린팅 영역을 연속적으로 형성하는 임프린팅단계;
    상기 폴리머층에서, 이웃하는 임프린팅 영역의 사이에 설정된 경계 영역에 잔존하면서 서로 이웃하는 상기 전사패턴이 서로 연결되지 않도록 하는 잔존 폴리머에 제1레이저빔을 조사하여 상기 잔존 폴리머를 제거하는 제거단계;
    상기 경계 영역의 양측에 임프린팅된 상기 전사패턴과 연속되도록 상기 경계 영역에 폴리머 소재의 추가 나노패턴을 생성하는 생성단계; 그리고
    상기 추가 나노패턴의 생성이 완료된 후 경화되지 않고 남은 광경화성 폴리머를 제거하는 단계를 포함하고,
    상기 생성단계는
    상기 경계 영역에 서로 이웃하는 상기 전사패턴의 높이에 대응되는 높이로 광경화성 폴리머를 보충하여 채우는 채움단계와,
    상기 광경화성 폴리머에 제2레이저빔을 조사하고, 상기 제2레이저빔이 조사된 부분이 경화되어 상기 추가 나노패턴으로 생성되어 상기 경계 영역에 이웃하여 임프린팅된 상기 전사패턴과 서로 이어지도록 하는 패턴연결단계를 가지는 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 나노패턴 및 상기 추가 나노패턴은 패턴의 크기가 200 나노미터 이하이고, 상기 제2레이저빔은 펨토초 펄스 레이저빔인 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제거단계에서, 상기 제1레이저빔은 나노초 펄스 레이저빔인 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법.
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