CN113467131B - 配向膜制作方法 - Google Patents

Abstract

本申请涉及显示技术领域，提供了一种配向膜制作方法，包括：提供基板，基板包括至少一个显示区域；在显示区域的边缘处形成可光解的光解层；在基板上涂布配向膜，配向膜至少覆盖显示区域和光解层，并在配向膜上沿光解层与显示区域的相交处形成切割线；光照光解层，以去除光解层；沿切割线切割配向膜，以形成平整的配向膜边界。根据本申请提供的配向膜制作方法，能够提高产品的信赖性和合格率。

Description

配向膜制作方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及配向膜制作方法。

背景技术

随着光电显示技术和半导体制造技术的发展，液晶显示器(Liquid CrystalDisplay，LCD)目前已经成为显示器件的主流。液晶显示器通常包括薄膜晶体管(Thin FilmTransistor，TFT)阵列基板和彩膜(Color Filter，CF)基板，以及配置于TFT阵列基板和CF基板之间的液晶层(Liquid Crystal，LC)，为了使LC具有一定的取向性，通常需要在CF基板和TFT阵列基板上涂布一层配向膜(Polyimide，PI)；但是，配向膜通常具有一定的流动性，容易在显示区域四周扩散不均匀，造成产品信赖性较低。

相关技术中，通过配向膜流动至非显示区域的部分进行曝光显影，并去除非显示区域的部分配向膜，从而使得配向膜边界平整，提高产品信赖性。

但是，这种方式需要对配向膜的特性进行改变，导致产品合格率较低。

发明内容

本申请提供一种配向膜制作方法，无需改变配向膜的特性，能够方便的使得配向膜形成平整整齐的边界，能够提高产品信赖性和合格率。

根据本申请的一个方面，提供配向膜制作方法，包括：

提供基板，所述基板包括至少一个显示区域；

在所述显示区域的边缘处形成可光解的光解层；

在所述基板上涂布配向膜，所述配向膜至少覆盖所述显示区域和所述光解层，并在所述配向膜上沿所述光解层与所述显示区域相交处形成切割线；

光照所述光解层，以去除所述光解层；

沿所述切割线切割所述配向膜，以剥离所述显示区域边缘处的所述配向膜，形成平整的配向膜边界。

在一种可能的设计方式中，所述在所述显示区域的边缘处形成可光解的光解层，包括：

在所述基板的整面形成所述光解层；

沿所述显示区域的边缘光刻掉位于所述显示区域的所述光解层，以在所述显示区域的边缘处形成所述光解层。

在一种可能的设计方式中，所述在所述基板的整面形成可光解的所述光解层，包括：

通过化学气相沉积在所述基板的整面形成所述光解层。

在一种可能的设计方式中，所述光解层为富氢非晶硅或者氮化镓。

在一种可能的设计方式中，所述光照所述光解层，以去除所述光解层，包括：

通过第一激光光束照射所述光解层，所述光解层发生分解产生气体，以去除所述光解层。

在一种可能的设计方式中，所述第一激光光束的波长为248nm、266nm、355nm中的任意一种。

在一种可能的设计方式中，所述沿所述切割线切割所述配向膜，以剥离所述显示区域边缘处的所述配向膜，形成平整的配向膜边界，包括：

通过第二激光光束沿所述切割线的边缘切割所述配向膜。

在一种可能的设计方式中，所述第二激光光束的波长小于所述第一激光光束的波长。

在一种可能的设计方式中，所述在所述基板上涂布配向膜，包括：

在所述基板上涂布配向溶液；

等待预设时间段，以使所述配向溶液的表面平整；

烘烤所述基板和所述配向溶液，以使所述配向溶液在所述基板上形成所述配向膜。

在一种可能的设计方式中，所述基板包括多个显示区域，多个所述显示区域相互间隔排布，所述光解层位于相邻两个所述显示区域之间。

本申请实施例，通过在基板的显示区域的边缘处形成一层可光解的光解层，然后对基板的整个面涂布配向膜，这样，无需控制配向膜的边界流动，方便配向膜的涂布，并在配向膜上沿光解层与显示区域相交处形成切割线；然后，通过光照对光解层进行照射，使得光解层分解，从而能够使得配向膜位于显示区域边缘处的边界能够方便的与基板分离，最后，沿切割线对配向膜进行切割，不需要改变配向膜的特性就能够使得配向膜的边界平整，不会在显示器的边缘出现亮斑的情况。相比于现有技术，能够提高产品的信赖性和合格率。

本申请的构造以及它的其他目的及有益效果将会通过结合附图进行详细说明，以保证对优选实施例的描述更加明显易懂。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施例提供的配向膜制作方法的流程图；

图2a是本申请第一个方面实施例提供的配向膜制作方法中基板的结构示意图；

图2b是本申请第一个方面实施例提供的配向膜制作方法中形成光解层的结构示意图；

图2c是本申请第一个方面实施例提供的配向膜制作方法中涂布配向膜的结构示意图；

图2d是本申请第一个方面实施例提供的配向膜制作方法中分解光解层的示意图；

图2e是本申请第一个方面实施例提供的配向膜制作方法中对配向膜进行切割的示意图；

图2f是本申请第一个方面实施例提供的配向膜制作方法完成配向膜涂布后的结构示意图；

图3a是本申请第二个方面实施例提供的配向膜制作方法中在基板上形成光解层的结构示意图；

图3b是本申请第二个方面实施例提供的配向膜制作方法中对光解层进行光刻制程的示意图；

图3c是本申请第二个方面实施例提供的配向膜制作方法完成光解层的结构示意图；

图4a是本申请第三个方面实施例提供的配向膜制作方法中基板的结构示意图；

图4b是本申请第三个方面实施例提供的配向膜制作方法中形成光解层的结构示意图；

图4c是本申请第三个方面实施例提供的配向膜制作方法中对光解层的光刻制程的示意图；

图4d是本申请第三个方面实施例提供的配向膜制作方法完成光解层的结构示意图；

图4e是本申请第三个方面实施例提供的配向膜制作方法中涂布配向膜后的结构示意图；

图4f是本申请第三个方面实施例提供的配向膜制作方法中分解光解层的示意图；

图4g是本申请第三个方面实施例提供的配向膜制作方法中对配向膜进行切割的示意图；

图4h是本申请第三个方面实施例提供的配向膜制作方法完成配向膜制作后的结构示意图。

附图标记说明：

1-基板；2-光解层；3-配向膜；

11-显示区域。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请实施例的描述中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“内”、“外”、“上”、“底”、“前”、“后”等指示的方位或者位置关系(若有的话)为基于附图1所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或者暗示所指的装置或者元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

根据本申请第一个方面实施例，参照图1所示，图1是本申请实施例提供的配向膜制作方法的流程图。本申请第一个方面实施例，提供配向膜制作方法。具体的，该配向膜制作方法可以用于在液晶显示器的阵列基板或者彩膜基板上制作对液晶的取向进行配向的配向膜，该配向膜制作方法包括以下步骤：

步骤S101，提供基板1，基板1包括至少一个显示区域11。

具体的，参照图2a所示，图2a是本申请第一个方面实施例提供的配向膜制作方法中基板的结构示意图。本申请实施例中，基板1为完成制作的基板，具体地，完成制作的基板具体为：在基板1的显示区域11形成有TFT阵列和电极结构；或者在基板1的显示区域11形成有彩色色阻结构，该彩色色阻结构可以但不限于由树脂材料制作。

其中，形成有TFT阵列和电极结构的基板是针对阵列基板的制作而言的，即在制作阵列基板的基板上形成TFT阵列和电极等结构。

形成有彩色树脂结构是针对CF基板的制作而言的，即在制作CF基板的基板上形成彩色树脂和黑矩阵等结构。

在一些可能的示例中，完成制作的基板还可以是将彩色树脂结构集成于阵列基板上，即在制作阵列基板的基板上形成TFT阵列和电极等结构，且将制作彩膜的彩色树脂和黑矩阵等结构集成于所述阵列基板。

可以理解的是，已完成制作的TFT阵列基板上通常已完成栅极、漏极、像素电极、公共电极、绝缘保护层等的制作。在一些可能的示例中，在TFT阵列基板是上还可以完成有源层多晶硅或非晶硅的制作，以及平坦层的制作。

需要说明的是，在基板1为CF基板时，CF基板上除了完成彩色色阻和黑色矩阵等的制作外，通常还需要完成保护层、隔垫物以及透明导电层等的制作，本申请实施例中，透明导电层可以是导电玻璃氧化铟锡(Indium tin oxide，ITO)。

其中，色阻层可以是彩色树脂，色阻层具体可以包括红色色阻(Red，R)、蓝色色阻(Blue，B)、绿色色阻(Green，G)，三种不同颜色的色阻。RGB三种色阻可以间隔设置。

在具体设置时，色阻层可以与黑色矩阵设置在同层。具体可以是在黑色矩阵上开孔，RGB色阻分别设置在开孔内，这样，在光线透过RGB色阻后，能够组合成不同颜色的光，实现彩色显示效果。

其中，显示区域11可以是位于基板1的中间部位，在一些可能的示例中，例如无边框液晶显示器中，显示区域11也可以是延伸至基板1的三边的边缘处，而另外一边可以设置驱动芯片以及与绑定衬垫边框相连接。可以理解，图2a中以显示区域11位于基板的中间部位作为示例进行说明。

步骤S102，在显示区域11的边缘处形成可光解的光解层2。

具体的，参照图2b所示，图2b是本申请第一个方面实施例提供的配向膜制作方法中形成光解层的结构示意图。本申请实施例中，光解层2从显示区域11的边缘处向远离显示区域11的方向延伸，并覆盖在基板1的边缘处。

可以理解的是，光解层2可以是在光照下能够分解的材料制成，例如富氢非晶硅(aSi:H)或者氮化镓(GaN)等能够在激光照射下发生分解的材料。需要说明的是，本申请实施例中，富氢非晶硅或者氮化镓仅作为一种具体示例进行说明，在一些可能的实现方式中，光解层2也可以选用其他能够在激光照射下发生分解的物质制成。

在具体形成光解层2时，可以通过保护膜或者保护层对显示区域11进行覆盖保护，然后在显示区域11的边缘处向远离显示区域11的方向形成光解层2。

步骤S103，在基板1上涂布配向膜3，配向膜3至少覆盖显示区域11和光解层2，并在配向膜3上沿光解层2与显示区域11相交处形成切割线。

具体的，本申请实施例中，在基板1上涂布配向膜3，可以是在基板1的整个表面上均涂布配向膜3，这样，可以不用可以控制配向膜3的边界流动，能够提高生产效率。

具体的，可以首先在基板1的整个表面上通过转印或者喷墨打印的方式涂布配向溶液。

本申请实施例中，配向溶液可以采用普通的配向溶液。

在一些可能的示例中，配向溶液也可以采用采用光致交联(Optical Alignment)类的配向溶液，例如桂皮酸脂溶液等可以光配向且易显影剥离的配向膜材料，OpticalAlignment类型的配向膜液同时也是一种光阻(PR，Photo Resist)胶。

等待预设时间段，以使配向溶液的表面平整。

具体的，本申请实施例中，预设时间段的长度可以根据实际需求选择，以保证配向溶液的充分流动，使得配向溶液的表面平整。在一些可能的示例中，预设时间段的长度可以是2～5min。

本领域技术人员能够理解，在基板1为阵列基板时，基板1上通常会存在沟槽或者过孔，等待预设时间段，可以保证配向溶液的充分流动，以填充过孔或者沟槽。这样，能够使得配向膜3在基板1上更加平整，从而提高配向质量。

烘烤基板1和配向溶液，以使配向溶液在基板1上形成配向膜3。

具体的，在配向溶液在基板1上充分流动后，需要对配向溶液进行固化，以在基板1上形成配向膜3。参照图2c所示，图2c是本申请第一个方面实施例提供的配向膜制作方法中涂布配向膜的结构示意图。为此，需要对基板1和配向溶液进行烘烤。

具体的，烘烤基板1和配向溶液可以包括预烤和后烤两个过程，预烤可以对配向溶液进行初步固化，预热升温；后烤对配向溶液彻底固化在基板1上，使配向膜3稳定的与基板1连接，形成图2c所示出的结构。

步骤S104，光照光解层2，以去除光解层2。

具体的，参照图2d所示，图2d是本申请第一个方面实施例提供的配向膜制作方法中分解光解层的示意图。本申请实施例中，可以从配向膜3的一侧照射光解层2。在一些可能的示例中，也可以从基板1的一侧照射光解层2。本领域技术人员能够理解，不论基板1还是配向膜3均为透明材料，因此，可以从配向膜3的一侧照射光解层2，也可以从基板1的一侧照射光解层2，提高了对配向膜3制作的灵活性。

具体的，本申请实施例中，可以通过第一激光光束照射光解层2，光解层2发生分解产生气体，从而可以将光解层2去除掉。

具体的，如前所示，本申请实施例中，光解层2可以是富氢非晶硅或者氮化镓，富氢非晶硅在激光照射下可分解产生氢气，氮化镓在激光照射下可分解产生氮气，氢气和氮气在配向膜3的下方可对配向膜3产生冲击，从而能够方便配向膜3位于显示区域11边缘处的部分与基板1之间的剥离，提高显示区域11边缘处的配向膜3的剥离效率，提高产品质量。

在一些具体示例中，第一激光光束的波长为248nm、266nm、355nm中的任意一种。

可以理解的是，第一激光光束的波长可以根据光解层2的实际材料进行选择。

本申请实施例中，通过对第一激光光束的波长进行选择，使得第一激光光束具有较好的收束性，在照射光解层2时，能够保证不对显示区域11的配向膜3造成影响，提高产品的质量。

在本申请的一种实施例中，第一激光光束的波长也可以是其他的波长。在对光解层2进行照射时，还可以通过遮光罩对显示区域11进行遮罩，遮光罩可以选用不透光的材料制成。

步骤S105，沿切割线切割配向膜3，以剥离显示区域11边缘处的配向膜3，形成平整的配向膜边界。

具体的，参照图2e所示，图2e是本申请第一个方面实施例提供的配向膜制作方法中对配向膜进行切割的示意图。本申请实施例中，在显示区域11的边缘处与光解层2相交处可形成一切割线，沿该切割线对配向膜3进行切割。

如前所述，由于通过第一激光光束对光解层2进行照射，使得显示区域11边缘处的配向膜3与基板1发生分离，在将配向膜3切割后，能够方便的将显示区域11边缘处的配向膜3剥离，从而形成平整的配向膜边界。

在本申请的一种示例中，可通过第二激光光束沿切割线切割配向膜3。

具体的，本申请实施例中，第二激光光束的波长可以小于第一激光光束的波长。

这样，第二激光光束可以选用热效应更高的激光光束，能够更加容易对配向膜3进行切割。

参照图2f所示，图2f是本申请第一个方面实施例提供的配向膜制作方法完成配向膜涂布后的结构示意图。在对配向膜3进行切割后，可在基板1上形成平整的配向膜边界。这样，配向膜3不会与封框胶相互发生干涉，也不会在显示器的边缘形成亮斑，从而能够提高产品的信赖性和用户使用体验效果。

本申请实施例，通过在基板1的显示区域11的边缘处形成一层可光解的光解层2，然后对基板1的整个面涂布配向膜3，这样，无需控制配向膜3的边界流动，方便配向膜3的涂布，并在配向膜3上沿光解层2与显示区域11相交处形成切割线；然后，通过光照对光解层2进行照射，使得光解层2分解，从而能够使得配向膜3位于显示区域11边缘处的边界能够方便的与基板1分离，最后，沿切割线对配向膜3进行切割，不需要改变配向膜3的特性就能够使得配向膜3的边界平整，不会在显示器的边缘出现亮斑的情况。相比于现有技术，能够提高产品的信赖性和合格率。

可以理解的是，本申请实施例中，在将配向膜3位于显示区域11边缘处的边界剥离切割后，基板1位于显示区域11边缘处的部分上还会有光解层2分解后产生的硅或者镓，本申请实施例中，可以使用去离子水对基板11进行清洗，洗去残留的硅或者镓，提高产品的信赖性。

根据本申请第二个方面实施例，参照图3a-图3c，图3a是本申请第二个方面实施例提供的配向膜制作方法中在基板上形成光解层的结构示意图，图3b是本申请第二个方面实施例提供的配向膜制作方法中对光解层进行光刻制程的示意图，图3c是本申请第二个方面实施例提供的配向膜制作方法完成光解层的结构示意图。本实施与前述实施例的不同之处在于，步骤S102，在显示区域11的边缘处形成可光解的光解层2，包括：

在基板1的整面形成光解层2。

具体的，参照图3a所示，本申请实施例中，可以通过化学气相沉积(chemicalvapour deposition，CVD)在基板1的整面形成光解层2。

参照图3b所示，本申请实施例中，沿显示区域11的边缘光刻掉位于显示区域11的光解层2，以在显示区域11的边缘处形成光解层2。

具体的，本申请实施例中，可以利用第一激光光束将显示区域11内的光解层2光刻掉，保留显示区域11边缘处的光解层2。

可以理解，第一激光光束也可以同时照射整个显示区域11的光解层2，使得显示区域11的光解层2分解，能够提高生产效率。

本申请实施例中，通过在基板1的整面上沉积形成光解层2，这样，不需要对光解层2进行特殊定位，能够方便光解层2的沉积，提高生产效率。

根据本申请第三个方面实施例，参照图4a-图4e所示，图4a是本申请第三个方面实施例提供的配向膜制作方法中基板的结构示意图，图4b是本申请第三个方面实施例提供的配向膜制作方法中形成光解层的结构示意图，图4c是本申请第三个方面实施例提供的配向膜制作方法中对光解层的光刻制程的示意图，图4d是本申请第三个方面实施例提供的配向膜制作方法完成光解层的结构示意图，图4e是本申请第三个方面实施例提供的配向膜制作方法中涂布配向膜后的结构示意图。本实施例与前述实施例的不同之处在于，本实施例中，基板1包括多个显示区域11，多个显示区域11相互间隔排布，光解层2位于相邻两个显示区域11之间。

具体的，参照图4a所述，图4a中以基板1包括四个显示区域11作为示例示出，本领域技术人员能够理解，基板1上也可以是更多个显示区域11。

本申请实施例中，对个显示区域11相互间隔排布，其中，间隔处可以作为切割基板1时，切割刀具的切割位，以及封框胶的涂布位。

在具体设置时，参照图4b所示，光解层2仍可以沉积在基板1的整个表面上；然后，参照图4c所示，通过光刻的方式将显示区域11处的光解层2蚀刻掉，形成如图4d所示的结构。

参照图4e所示，本申请实施例中，通过转印或者喷墨打印的方式在基板1的整面上涂布配向膜3。

然后，参照图4f所示，图4f是本申请第三个方面实施例提供的配向膜制作方法中分解光解层的示意图。通过第一激光光束照射光解层2，对光解层2进行分解。图4f中以第一激光光束从基板1一侧进行照射作为示例进行说明，可以理解的是，本申请实施例中，第一激光光束也可以是从配向膜3侧进行照射。

在光解层2分解后，参照图4g所示，图4g是本申请第三个方面实施例提供的配向膜制作方法中对配向膜进行切割的示意图。在显示区域11的边沿与光解层2相交处，配向膜3由于光解层2分解时产生的气体与基板1之间分离形成间隙。然后，通过第二激光光束沿切割线对配向膜3进行切割。参照图4h所示，图4h是本申请第三个方面实施例提供的配向膜制作方法完成配向膜制作后的结构示意图。从而形成平整的配向膜边界。

从图4h可以看出，具有多个显示区域11的基板1上完成多个显示区域11对应的配向膜3的制作，然后，可以通过切割道具或其他设备对基板1进行切割，具体可以沿相邻两个显示区域11之间的间隔区域进行切割，从而形成单个的显示基板。

在一些可选示例中，也可以是在完成封框胶涂布、液晶注入以及对侧基板(例如CF基板或者TFT基板)的粘贴后，再进行切割工序，从而形成单个的独立显示面板。

本申请实施例通过在基板1上设置多个间隔排布的显示区域11，然后在相邻显示区域11之间形成光解层2，这样，能够提高配向膜3的制作效率，提高显示器的生产效率。

以上所述，仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.配向膜制作方法，其特征在于，包括：

提供基板(1)，所述基板(1)包括至少一个显示区域(11)；

在所述显示区域(11)的边缘处形成可光解的光解层(2)；

在所述基板(1)上涂布配向膜(3)，所述配向膜(3)至少覆盖所述显示区域(11)和所述光解层(2)，并在所述配向膜(3)上沿所述光解层(2)与所述显示区域(11)相交处形成切割线；

光照所述光解层(2)，以去除所述光解层(2)；

沿所述切割线切割所述配向膜(3)，以剥离所述显示区域(11)边缘处的所述配向膜(3)，形成平整的配向膜边界。

2.根据权利要求1所述的配向膜制作方法，其特征在于，所述在所述显示区域(11)的边缘处形成可光解的光解层(2)，包括：

在所述基板(1)的整面形成所述光解层(2)；

沿所述显示区域(11)的边缘光刻掉位于所述显示区域(11)的所述光解层(2)，以在所述显示区域(11)的边缘处形成所述光解层(2)。

3.根据权利要求2所述的配向膜制作方法，其特征在于，所述在所述基板(1)的整面形成所述光解层(2)，包括：

通过化学气相沉积在所述基板(1)的整面形成所述光解层(2)。

4.根据权利要求1-3任一项所述的配向膜制作方法，其特征在于，所述光解层(2)为富氢非晶硅或者氮化镓。

5.根据权利要求1所述的配向膜制作方法，其特征在于，所述光照所述光解层(2)，以去除所述光解层(2)，包括：

通过第一激光光束照射所述光解层(2)，所述光解层(2)发生分解产生气体，以去除所述光解层(2)。

6.根据权利要求5所述的配向膜制作方法，其特征在于，所述第一激光光束的波长为248nm、266nm、355nm中的任意一种。

7.根据权利要求5或6所述的配向膜制作方法，其特征在于，所述沿所述切割线切割所述配向膜(3)，以剥离所述显示区域(11)边缘处的所述配向膜(3)，形成平整的配向膜边界，包括：

通过第二激光光束沿所述切割线切割所述配向膜(3)。

8.根据权利要求7所述的配向膜制作方法，其特征在于，所述第二激光光束的波长小于所述第一激光光束的波长。

9.根据权利要求1所述的配向膜制作方法，其特征在于，所述在所述基板(1)上涂布配向膜(3)，包括：

在所述基板(1)上涂布配向溶液；

等待预设时间段，以使所述配向溶液的表面平整；

烘烤所述基板(1)和所述配向溶液，以使所述配向溶液在所述基板(1)上形成所述配向膜(3)。

10.根据权利要求1所述的配向膜制作方法，其特征在于，所述基板(1)包括多个显示区域(11)，多个所述显示区域(11)相互间隔排布，所述光解层(2)位于相邻两个所述显示区域(11)之间。

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