CN113444276A - 离型膜和其制造方法 - Google Patents

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Abstract

公开了一种离型膜及其制造方法。在所述离型膜中，基材和离型层可以依次位置，所述离型层可以为包括包括氟化聚硅氧烷的聚合物或共聚物以及有机或无机粒子的硬化膜，所述有机或无机粒子的平均粒径可以具有硬化后的所述硬化膜的厚度的1000％至3000％的范围。所述离型膜可以具有稳定的剥离力和贴紧性，而不会由于表面氟基的沉降而随时间改变剥离力，并且可以改善残余粘着率。

Description

离型膜和其制造方法
相关申请的交叉引用
本申请要求于2020年3月27日提交的韩国专利申请No.10-2020-0037795的优先权和权益，其通过引用合并于此用于所有目的，如同在此完全阐述一样。
技术领域
涉及一种离型膜和其制造方法。
背景技术
通常，由于硅基粘合剂具有耐热性、耐候性、柔韧性和耐化学性等，因此其最近不仅用于一般的工业用粘合胶带，并且还用于诸如手机、半导体和显示器等的IT领域的广泛用途。
但是，由于使用硅基粘合剂的硅基离型膜完全结合于粘合剂上而不剥离，此通常使用涂覆有包括氟基树脂的离型剂的膜。由于包括所述氟基树脂的离型剂具有低表面能且不能与普通有机溶剂充分混合导致可能引起涂覆不良，因此必须使用氟基溶剂，并且在包括氟基溶剂和氟基树脂的离型剂的情况下，因为相比于普通的硅基离型剂贵数十倍，因此在生产性和经济性方面存在问题。
此外，包括氟基树脂的离型剂除了具有在普通的硅基离型膜中的问题即在硬化后残留的硬化剂引起剥离力随时间变化之外，更具有以下的问题：在加工成卷状态并缠绕时，随着时间的流逝，施加在涂覆表面的压力使表面氟基沉降至涂覆层下，导致剥离力变化。
为了解决该问题，需要可以具有稳定的剥离力和贴紧性，而不会由于表面氟基的沉降而随时间改变剥离力，并且改善残余粘着率的离型膜和其制造方法。
发明内容
一方面提供可以具有稳定的剥离力和贴紧性，而不会由于表面氟基的沉降而随时间改变剥离力，并且改善残余粘着率的离型膜。
另一方面提供所述离型膜的制造方法。
根据一方面，
提供一种离型膜，其中，基材和离型层依次位置，
所述离型层可以为包括包括氟化聚硅氧烷的聚合物或共聚物以及有机或无机粒子的硬化膜，
所述有机或无机粒子的平均粒径可以具有硬化后的所述硬化膜的厚度的1000％至 3000％的范围。
所述氟化聚硅氧烷可以包括由下化学式1表示的有机聚硅氧烷：
<化学式1>
Figure BDA0002993920700000021
<化学式2>
Figure BDA0002993920700000022
<化学式3>
Figure BDA0002993920700000023
其中，在所述化学式1中，
R1可以为取代或未取代的C1至C10的一价烃基或取代或未取代的C2至C10的链烯基；
R2可以为取代或未取代的C1至C10的一价烃基、取代或未取代的C2至C10的链烯基或氢基；
R3可以为由所述式化学式2表示的氟化烷基、由所述化学式3表示的氟化醚基或其组合；
n可以为1至8的整数，m可以为1至5的整数；
p可以为1至5的整数，q可以为0或1，r可以为0、1或2，或v可以为1至5的整数；
A可以为氧原子或单键；
x、y和z可以分别为大于或等于1的整数；
*可以为与相邻原子的键合位置；
然而，R1和R2中的至少一个可以是取代或未取代的C2至C10的链烯基。
所述有机或无机粒子可以为选自天然矿物；1族至4族、11族至12族、14族、16 族至18族元素的氧化物、氢氧化物、硫化物、氮化物或卤化物；碳酸盐、硫酸盐、乙酸盐、磷酸盐、亚磷酸盐、羧酸盐、硅酸盐、钛酸盐、硼酸盐或其水合物；以及其复合化合物的无机粒子。
所述有机或无机粒子可以为选自氟基树脂、三聚氰胺基树脂、苯乙烯基树脂、丙烯酸基树脂、硅基树脂、苯乙烯-二乙烯基苯基共聚物树脂以及与这些树脂交联的聚合物或共聚物的有机粒子。
所述离形层可以进一步包括含氢聚硅氧烷(hydrogen polysiloxane)和酸催化剂中的至少一种。
所述离型层硬化膜的厚度可以为0.03μm至3μm。
在所述离型层的XPS表面分析时，根据下式1的F/Si原子比可以为1.5至3.5：
<式1>
F/Si原子比＝[离型层表面的氟含量(原子％)/离型层表面的硅含量(原子％)]
所述离型层的根据下式2的剥离力变化率可以等于或小于30％：
<式2>
剥离力变化率(％)＝{(30天后的剥离力-初始剥离力)/(初始剥离力)}×100
所述离型膜的残余粘着率可以大于或等于90％。
根据另一方面，
提供一种制造离型膜的方法，其包括准备基材；以及
通过在所述基材的至少一表面上涂覆包括包括氟化聚硅氧烷的聚合物或共聚物以及有机或无机粒子的用于形成离型层的组合物并进行干燥，从而形成离型层，
其中，基于总固形份，所述有机或无机粒子的含量为0.5重量％至10重量％。
附图说明
被包括以提供对本发明的进一步理解并且被并入且构成本说明书的一部分的附图例示本发明的示例性实施例，并且与说明书一起用于解释本发明构思。
图1为根据一实施例的离型膜的示意性截面图。
具体实施方式
在下文中，将参照本发明的实施例和附图详细描述离型膜和其制造方法。这些实施例仅被示例性地呈现以更详细地解释本发明，并且对于本领域的普通技术人员显而易见的是，本发明的范围不受这些实施例的限制。
除非定义，否则本说明书中使用的所有技术和科学术语具有与本发明所属领域的普通技术人员通常所理解的相同含义。在发生冲突的情况下，以包括定义的本说明书为优先。
尽管与本说明书描述的那些类似或等同的方法和材料可以用于本发明的实施或试验中，但是合适的方法和材料描述于本说明书中。
在本说明书中，术语“包括”是指可以另外包括其他元件而不是排除其他元件，除非另有说明。
在本说明书中，术语“其组合”是指一种或多种所述元件的混合或组合。
在本说明书中，术语“和/或”旨在包括关于其描述的一个或多个项目的任何和所有组合。在本说明书中，术语“或”表示“和/或”。在本说明书中，在元件前的表述“至少一种”或“一种或多种”是指可以对所有元件的目录进行补充并不意味着可以对所述记载的个别元件进行补充。
在本说明书中，当提到一元件被设置在另一元件之“上”时，一元件可以直接设置在另一元件之上，或者在所述元件之间可以存在中间元件。相反，当提到一元件“直接设置在另一元件之上”时，中间元件可以不存在。
在本说明书中，“
Figure BDA0002993920700000041
基树脂”、“
Figure BDA0002993920700000042
基聚合物”或/和“
Figure BDA0002993920700000043
基共聚物”是指“
Figure BDA0002993920700000044
树脂”，“
Figure BDA0002993920700000045
聚合物”，“
Figure BDA0002993920700000046
共聚物”或/和包括所有“
Figure BDA0002993920700000047
树脂，聚合物或共聚物的衍生物”的广义。
在本说明书中，术语“与这些树脂交联的聚合物或共聚物”是指“与上述树脂交联的聚合物或共聚物”。
在根据一实施例的离型膜中，基材和离型层可以依次位置，所述离型层可以为包括包括氟化聚硅氧烷的聚合物或共聚物以及有机或无机粒子的硬化膜，所述有机或无机粒子的平均粒径可以具有硬化后的所述硬化膜的厚度的1000％至3000％的范围。
根据一实施例的离型膜显示出对硅基粘合剂良好的离型性，并且可以具有稳定的剥离力和贴紧性，而不会由于表面氟基的沉降而随时间改变剥离力，并且可以改善残余粘着率。
组成离型膜的基材和离型层、所述离型膜以及其制造方法将在下面详细描述。
<基材>
在本发明中使用的基材可以使用已知为离型膜的基材的基材膜或片。例如，可以使用聚酯基树脂膜作为基材。作为聚酯基树脂，可以使用在离型膜领域中通常使用的公知的基材膜。例如，所述聚酯基基材膜可以使用在韩国注册专利第10-1268584号、韩国公开专利第2012-45213号和第2012-99546号等中揭示的聚酯基基材膜。然而，在本发明的一实施例中，为了仅描述本发明的特征，没有限制地描述了聚酯基基材膜，但是应当理解，其包括已知的聚酯基基材膜有关的技术特征。
所述聚酯基基材膜可以包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯等。
形成所述基材膜的聚酯基树脂可以是通过使芳香族二羧酸或脂肪族二羧酸和脂肪族二醇缩聚而得到的聚酯，可以使用间苯二甲酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、2，6-萘二甲酸、己二酸、癸二酸和羟基羧酸(例如，p-羟基苯甲酸等)等作为芳香族二羧酸或脂肪族二羧酸，并且可以使用乙二醇、二甘醇、丙二醇、丁二醇、1，4-环己烷二甲醇和新戊二醇等作为脂肪族二醇。这些聚酯基树脂可以组合使用二羧酸成分和二醇成分中的至少两种而得到的聚酯，也可以使用含有第三成分的共聚物。
此外，聚酯基基材膜可以使用具有高透明度以及优异的生产率和可加工性的单轴或双轴配向膜。所述聚酯基基材膜可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)或聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等。
此外，聚酯基基材膜可以含有粒子以赋予优异的卷(roll)间走行特性，只要对添加的粒子表现出优异的滑动特性，可以不受限制地使用。
这样的粒子可以包括二氧化硅、氧化硅、碳酸钙、硫酸钙、磷酸钙、碳酸镁、磷酸镁、碳酸钡、高岭土、氧化铝和氧化钛等的粒子，对要使用的粒子的形状没有限制，例如，可以使用球状、块状、棒状和板状粒子中的任何一种。
另外，粒子的硬度、比重和颜色不受限制，但是根据需要可以组合使用至少两种种类，并且例如，所用的粒子的平均粒径可以为0.1μm至5μm，例如，可以使用0.1μm 至2μm范围的平均粒径的粒子。此时，当粒子的平均粒径小于0.1μm时，可能发生粒子之间的凝集现象导致分散不良，并且当粒子的平均粒径超过5μm时，膜的表面粗糙度特性可能变差，导致后加工时涂层不良。
另外，当在聚酯基基材膜中包括粒子时，基于聚酯基基材膜的总重量，粒子的含量可以为0.01重量％至5重量％，例如0.01重量％至3重量％。当粒子的含量小于0.01重量％时，聚酯膜的滑动特性变差导致卷间的走行特性变差，并且当粒子的含量超过5重量％时，膜的表面平滑性变差。
聚酯基基材膜的厚度不受限制，但是可以为30μm至125μm。
当所述聚酯基基材膜太薄而厚度小于30μm时，在加工时可能会因热处理而变形，并且当所述聚酯基基材膜太厚而厚度大于125μm时，可能无法充分地传递热，并在硬化中出现问题。
<离型层>
根据一实施例的离型膜的离型层可以为包括包括氟化聚硅氧烷的聚合物或共聚物以及有机或无机粒子的硬化膜。
所述氟化聚硅氧烷可以包括由下化学式1表示的有机聚硅氧烷：
<化学式1>
Figure BDA0002993920700000061
<化学式2>
Figure BDA0002993920700000062
<化学式3>
Figure BDA0002993920700000063
其中，在所述化学式1中，
R1可以为取代或未取代的C1至C10的一价烃基或取代或未取代的C2至C10的链烯基；
R2可以为取代或未取代的C1至C10的一价烃基、取代或未取代的C2至C10的链烯基或氢基；
R3可以为由所述式化学式2表示的氟化烷基、由所述化学式3表示的氟化醚基或其组合；
n可以为1至8的整数，m可以为1至5的整数；
p可以为1至5的整数，q可以为0或1，r可以为0、1或2，v可以为1至5的整数；
A可以为氧原子或单键；
x、y和z可以分别为大于或等于1的整数；
*可以为与相邻原子的键合位置；
然而，R1和R2中的至少一个可以是取代或未取代的C2至C10的链烯基。
根据情况，所述氟化聚硅氧烷可以为由所述化学式1表示的有机聚硅氧烷和由下化学式4表示的有机聚硅氧烷的混合物，或者可以是其中由所述化学式1表示的有机聚硅氧烷和由下化学式4表示的有机聚硅氧烷连接的共聚物：
<化学式4>
Figure BDA0002993920700000071
<化学式5>
Figure BDA0002993920700000072
其中，在所述化学式4中，
R'1可以为取代或未取代的C1至C10的一价烃基或取代或未取代的C2至C10的链烯基；
R'2可以为由所述化学式5表示的氟化醚基；
n‘可以为1至8的整数，m’可以为3至17的整数；
*可以为与相邻原子的键合位置。
例如，由所述化学式1表示的有机聚硅氧烷与由所述化学式4表示的有机聚硅氧烷的重量比可以为10：1至1:10。
所述有机或无机粒子可以为选自天然矿物；1族至4族、11族至12族、14族、16 族至18族元素的氧化物、氢氧化物、硫化物、氮化物或卤化物；碳酸盐、硫酸盐、乙酸盐、磷酸盐、亚磷酸盐、羧酸盐、硅酸盐、钛酸盐、硼酸盐或其水合物；以及其复合化合物的无机粒子。
所述有机或无机粒子可以为选自氟基树脂、三聚氰胺基树脂、苯乙烯基树脂、丙烯酸基树脂、硅基树脂、苯乙烯-二乙烯基苯基共聚物树脂以及与这些树脂交联的聚合物或共聚物的有机粒子。
对所使用的有机或无机粒子的形状没有特别限制，并且可以是球状、块状、棒状或板状等。此外，所述有机或无机粒子的硬度、比重和颜色不受限制，但是根据需要，所述有机或无机粒子可以单独使用或使用至少两种种类。
所述有机或无机粒子的平均粒径可以具有硬化后的所述硬化膜的厚度的1000％至 3000％的范围。当所述有机或无机粒子的平均粒径小于硬化后的所述硬化膜的厚度的1000％时，不仅不会出现防粘连，更随着时间的流逝，缠绕时的压力会导致表面上的氟基沉降到深部，导致相比于生产初始，剥离力可能会逐渐增加。当所述有机或无机粒子的平均粒径超过硬化后的所述硬化膜的厚度的3000％时，过多的凹凸形状可能会直接转移到粘合层，并且有机或无机粒子可能会从涂覆层掉下来，污染生产线或在涂覆外观产生针孔。
所述离形层可以进一步包括含氢聚硅氧烷(hydrogen polysiloxane)和酸催化剂中的至少一种。
所述含氢聚硅氧烷可以包括附加反应型硅氧烷树脂、缩合反应型硅氧烷树脂和紫外线硬化型硅氧烷树脂中的至少一种。所述含氢聚硅氧烷可以为直链状、支链状或环状中的一个形式，或可以是其混合物的形式。所述含氢聚硅氧烷的粘度或分子量不受限制，但是必须与上述的有机聚硅氧烷具有良好的相容性，并且所述含氢聚硅氧烷可以不包含氟基。然而，所述含氢聚硅氧烷可以包括与上述有机聚硅氧烷相同的氟化烷基或/和氟化醚基。
基于用于形成离型层的组合物的总重量，所述含氢聚硅氧烷的含量可以为1.0重量％至10.0重量％。
所述酸催化剂可以使用选自4族至14族元素中的至少一种金属或两性元素，例如，可以使用选自Rh、Pt、Sn、Ti、Pd、Ir、W、Co中的至少一种。例如，酸催化剂可以包括铂螯合物催化剂。
根据情况，所述离型层可以进一步包括用于赋予各种功能的添加剂，例如反应调节剂和抗静电剂等。
所述离型层硬化膜的厚度可以为0.01μm至3.0μm。当所述离型层硬化膜小于0.01μm时，离型层的覆盖性(coverage)不好，并且当所述离型层硬化膜大于3μm时，在硬化时需要大量的热量，可能引起基材膜的热变形。
在所述离型层的XPS表面分析时，根据下式1的F/Si原子比可以为1.5至3.5：
<式1>
F/Si原子比＝[离型层表面的氟含量(原子％)/离型层表面的硅含量(原子％)]
当在所述离型层的XPS表面分析时，F/Si的原子比在上述范围内时，则有助于在离型层的表面上定位氟化烷基或/和氟化醚基，并且包括其的离型膜可以具有优异的剥离性。
<离型膜>
图1为根据一实施例的离型膜120的示意性截面图。
参照图1，根据一实施例的离型膜120可以是基材100和离型层110依次位置的结构。
根据一实施例的离型膜120可以提供具有稳定的剥离力和贴紧性，而不会由于表面氟基的沉降而随时间改变剥离力，并且改善残余粘着率的离型膜。
所述离型层的根据下式2的剥离力变化率可以等于或小于30％：
<式2>
剥离力变化率(％)＝{(30天后的剥离力-初始剥离力)/(初始剥离力)}×100
所述离型膜的残余粘着率可以大于或等于90％。
所述离型膜的残余粘着率小于90％时，离型层的硬化不足，导致离型剂可能转移至粘合层，并且粘合剂的粘合性可能变差。
<离型膜的制造方法>
根据一实施例的离型膜的制造方法可以包括准备基材；以及通过在所述基材的至少一表面上涂覆包括包括氟化聚硅氧烷的聚合物或共聚物以及有机或无机粒子的用于形成离型层的组合物并进行干燥，从而形成离型层，其中，基于所述用于形成离型层的组合物的总固形份，所述有机或无机粒子的含量为0.5重量％至10重量％。
根据一实施例的离型膜的制造方法可以提供具有稳定的剥离力和贴紧性，而不会由于表面氟基的沉降而随时间改变剥离力，并且改善残余粘着率的离型膜。
此时，只要可以通过分散所述用于形成离型层的组合物的固形份而涂覆于基材上的话，可以不受限制地使用在用于形成离型层的组合物中使用的溶剂。当所述用于形成离型层的组合物的总固形份含量小于0.5重量％时，均匀的离型层未形成导致可能发生诸如硅基粘合层和离型膜之间的不适当剥离的问题，并且当所述用于形成离型层的组合物的总固形份含量超过10重量％时，所述用于形成离型层的组合物的粘度高，导致可能会出现流平 (levelling)不均匀，并且离型膜的厚度均匀性可能变差。
作为在所述用于形成离型层的组合物中使用的溶剂，可以使用甲苯和重二甲苯等的芳香族烃基溶剂；己烷、庚烷、正辛烷、异辛烷、癸烷、环己烷、甲基环己烷和异链烷烃等的脂肪族烃基溶剂；工业用汽油(橡胶汽油等)、石油苯和溶剂石脑油等的烃基溶剂；丙酮、甲基乙基甲酮、2-戊酮、3-戊酮、2-己酮、2-庚酮、4-庚酮、甲基异丁基酮、二异丁基酮、2,5-己二酮和环己酮等的酮基溶剂；乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸异丙酯、乙酸丁酯和乙酸异丁酯等的酯基溶剂；二乙醚、二丙醚、二异丙醚、二丁醚、1，2-二甲氧基乙烷和1， 4-二氧杂环乙烷等的醚基溶剂；2-甲氧基乙酸乙酯、2-乙氧基乙酸乙酯、丙二醇单甲醚乙酸酯和2-丁氧基乙酸乙酯等的具有酯和醚部分的溶剂；六甲基二硅氧烷、八甲基三硅氧烷、八甲基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷、三(三甲基硅氧烷基)甲基硅烷和四(三甲基硅氧基) 硅烷等的硅氧烷基溶剂；三氟甲苯、六氟二甲苯、甲基九氟丁醚和乙基九氟丁基醚等的氟基溶剂；或其混合溶剂等。例如，可以使用庚烷作为用于所述用于形成离型层的组合物的溶剂。
作为在基材上涂覆所述用于形成离型层的组合物的方法，可以使用棒涂覆、凹版涂覆和狭缝涂布等的本领域中可使用的涂覆方法。硬化处理所述用于形成离型层的组合物的能源没有特别限制，但可以使用热处理、紫外线照射或电子束照射，可以单独使用或组合使用热处理、紫外线照射或电子束照射，但是可以单独处理热处理或组合处理热和紫外线。
在本说明书中，“取代”是通过将在未取代的母体基团(mother group)中的一个或多个氢与另一个原子或官能团交换而诱导的。除非另有说明，否则当某官能团被认为是“取代的”时，应当理解，所述官能团是以选自碳数为1至40的烷基，碳数为2至40的链烯基，碳数为2至40的炔基、碳数为3至40的环烷基、碳数为3至40的环烯基和碳数为 7至40的芳基中的至少一个的取代基取代。当将官能团描述为“任选地被取代”时，是指该官能团可以被上述取代基取代。
在本说明书中，C1至C10的一价烃基是指，例如，甲基、乙基、正己基、正辛基和正癸基等的直链烷基；异丙基、叔丁基、新戊基和异己基等的支链烷基；环戊基和环己基等的环烷基；乙烯基、烯丙基等的链烯基；和苯基、甲苯基的芳基；和苄基和苯乙基的芳烷基等。其中，考虑到原料的调配容易性，可以是烷基，考虑到产物的有用性，可以是甲基或乙基。
在本说明书中，C2至C10的链烯基是指具有至少一个碳-碳双键的支链或非支链烃。链烯基的非限制性实例包括乙烯基、烯丙基、丁烯基、异丙烯基或异丁烯基。
在下文中，将通过实施例和比较例更详细地描述本发明的结果和根据其的效果。但是，显然，这些实施例用于更详细地解释本发明，并且本发明的范围不限于这些实施例。
[实施例]
实施例1：离型膜
准备了厚度为50μm的聚酯膜(东丽先进材料，XD500P)。
除此之外，将包括由下化学式2表示的氟化烷基的由下化学式1表示的有机聚硅氧烷 (Dow Chemical，Q2-7785)的100重量份、含氢聚硅氧烷(Dow Chemical，Q2-7560)的3重量份以及铂螯合催化剂(Dow Chemical，SYL-OFF 4000)的0.1重量份稀释于庚烷溶剂中来制造其总固形份含量为5重量％的组合物后，在此，通过混合基于总固形份的1重量％的粒径为3μm的二氧化硅粒子来准备用于形成离型层的组合物。
通过在所述聚酯膜的一表面上涂覆所述用于形成离型层的组合物并在150℃的热风干燥机中热处理60秒来形成厚度为0.3μm的离型层，从而制备了离型膜(二氧化硅粒子的粒径＝硬化膜的厚度的1000％)：
<化学式1>
Figure BDA0002993920700000111
<化学式2>
Figure BDA0002993920700000112
其中，在所述化学式1中，
R1为乙烯基，R2为甲基，R3为所述化学式2表示的氟化烷基；
n＝4，m为2，*为与相邻原子的键合部位，
实施例2：离型膜
除了以1：1的重量比使用100重量份的包括由所述化学式2表示的氟化烷基的由所述化学式1表示的有机聚硅氧烷(Dow Chemical，Q2-7785)和不包括由所述化学式2表示的氟化烷基的有机聚硅氧烷(Shin-Etsu Silicones，KS-847H)之外，以与实施例1相同的方式制备了离型膜。
实施例3：离型膜
除了以1：1的重量比使用100重量份的包括由所述化学式2表示的氟化烷基的由所述化学式1表示的有机聚硅氧烷(Dow Chemical，Q2-7785)和包括由下化学式5表示的氟化醚基的由下化学式4表示的有机聚硅氧烷(Shin-Etsu Silicones，X-70-201S)之外，以与实施例1相同的方式制备了离型膜。
<化学式4>
Figure BDA0002993920700000121
<化学式5>
Figure BDA0002993920700000122
其中，在所述化学式4中，
R'1为乙烯基，R'2为由所述化学式5表示的氟化醚基；
n'是2，m'是4，x'是1。
实施例4:离型膜
除了通过混合基于总固形份的5重量％的粒径为3μm的二氧化硅粒子来准备用于形成离型层的组合物之外，以与实施例1相同的方式制备了离型膜。
实施例5:离型膜
除了通过混合基于总固形份的8重量％的粒径为3μm的二氧化硅粒子来准备用于形成离型层的组合物之外，以与实施例1相同的方式制备了离型膜。
比较例1：离型膜
除了不混合粒径为3μm的二氧化硅粒子之外，以与实施例1相同的方式制备了离型膜。
比较例2：离型膜
除了通过混合基于总固形份的1重量％的粒径为300nm的二氧化硅粒子来准备用于形成离型层的组合物之外，以与实施例1相同的方式制备了离型膜(二氧化硅粒子的粒径＝硬化膜的厚度的100％)。
比较例3：离型膜
除了通过混合基于总固形份的1重量％的粒径为12μm的二氧化硅粒子来准备用于形成离型层的组合物之外，以与实施例1相同的方式制备了离型膜(二氧化硅粒子的粒径＝硬化膜的厚度的4000％)。
比较例4：离型膜
除了通过混合基于总固形份的0.1重量％的粒径为3μm的二氧化硅粒子来准备用于形成离型层的组合物之外，以与实施例1相同的方式制备了离型膜。
比较例5：离型膜
除了通过混合基于总固形份的12重量％的粒径为3μm的二氧化硅粒子来准备用于形成离型层的组合物之外，以与实施例1相同的方式制备了离型膜。
评估例1：物性评估
通过以下方法评估由实施例1至5和比较例1至5制造的离型膜的物性，其结果示于表1。
(1)对离型层的XPS分析
对于每个离型膜，使用XPS分析仪(ThermoFisher，K-ALPHA)在离型层的400 μm面积(点尺寸)中分析Si，F，C和O的原子组成，以原子％表示，并代入式1来分析F/S i原子比。
<式1>
F/Si原子比＝[离型层表面的氟含量(原子％)/离型层表面的硅含量(原子％)]
(2)测定离型膜的剥离力
将每个离型膜切成500mm×1500mm的尺寸以制备样品。将所述样品在25℃和65％RH下保存24小时(初始剥离力样品)和保存30天(30天后剥离力样品)。之后，将硅基粘合胶带(SYMBIO，MY2G)在50℃和20g/cm2的荷载下压在所述样品的离型层上24小时，然后通过使用剥离力测试仪(Cheminstrument公司制造)AR-2000装置在180°和0.3mpm的速度下测量250㎜×1500mm尺寸的剥离力。此时，测量剥离力5次，然后计算平均值来获得初始剥离力和30天后剥离力，并且剥离力变化率通过代入下式2来获得：
<式2>
剥离力变化率(％)＝{(30天后的剥离力-初始剥离力)/(初始剥离力)}×100
(3)离型膜的残余粘着率分析
将每个离型膜切成500mm×1500mm的尺寸以制备样品。将所述样品在25℃和65％RH下保存24小时。在室温和20g/cm2的荷载下将粘合胶带(Nitto，31B)压在所述样品的剥离层上24小时后，无污染地收集粘合到离型层上的粘合胶带。将所述粘合胶带粘合在具有平坦清洁表面的聚对苯二甲酸乙二酯膜的表面。用2kg胶带滚轮(ASTMD-1000-55T)将粘合在所述聚对苯二甲酸乙二酯膜的表面上的粘合胶带往复压一次，并通过使用剥离力测试仪AR- 1000装置在180°和0.3mpm的速度下测量250㎜×1500mm尺寸的剥离力。然后代入下式3，获得残余粘着率。
<式3>
残余粘着率(％)＝[(粘合至离型层后剥离的粘合胶带的剥离力)/(未粘合至离型层的粘合胶带的剥离力)×100]
(4)评估离型层的外观
将每个离型膜准备为A4尺寸的样品，放置在具有黑色底部的评估板上，并记录在荧光灯下在离型层中的大于或等于300μm的针孔(pinhole)数。
○：少于或等于3个针孔/A4尺寸
△：4个至7个针孔/A4尺寸
X：多于7个针孔/A4尺寸
【表1】
Figure BDA0002993920700000141
Figure BDA0002993920700000151
参照表1，可以确认，在由实施例1至5制造的离型膜中，即使在30天后，表面的氟基保持没有沉降至深部，因此剥离力的变化率低，并且涂覆外观特性极好。可以确认，在由根据比较例1、比较例2和比较例4制造的离型膜中，没有防粘连，并且在30天后，表面的氟基沉降至深部，导致XPS分析的结果F/Si比低至1.5或更低，并且剥离力增加。可以确认，在由根据比较例1和比较例5制造的离型膜中，没有表面氟基的沉降，因此剥离力的变化小，但是粒子容易从涂覆表面掉落并且在外观中出现针孔。
【符号的说明】
100：基材, 110：离型层, 120：离型膜
在根据一方面的离型膜中，离型层可以为包括包括氟化聚硅氧烷的聚合物或共聚物以及有机或无机粒子的硬化膜，所述有机或无机粒子的平均粒径可以具有硬化后的所述硬化膜的厚度的1000％至3000％的范围，因此可以具有稳定的剥离力和贴紧性，而不会由于表面氟基的沉降而随时间改变剥离力，并且可以改善残余粘着率。
虽然已在此描述了某些示例性实施例和实施方式，但是根据该描述，其它实施例和修改将是明显的。因此，本发明构思不限于这些实施例，而是限于所附权利要求的更宽范围，并且对于本领域普通技术人员来说，各种显而易见的修改和等同布置将是明显的。

Claims (10)

1.一种离型膜，其中，基材和离型层依次位置，
所述离型层为包括包括氟化聚硅氧烷的聚合物或共聚物以及有机或无机粒子的硬化膜，
所述有机或无机粒子的平均粒径具有硬化后的所述硬化膜的厚度的1000％至3000％的范围。
2.根据权利要求1所述的离型膜，其中，
所述氟化聚硅氧烷包括由下化学式1表示的有机聚硅氧烷：
<化学式1>
Figure FDA0002993920690000011
<化学式2>
Figure FDA0002993920690000012
<化学式3>
Figure FDA0002993920690000013
其中，在所述化学式1中，
R1为取代或未取代的C1至C10的一价烃基或取代或未取代的C2至C10的链烯基；
R2为取代或未取代的C1至C10的一价烃基、取代或未取代的C2至C10的链烯基或氢基；
R3为由所述式化学式2表示的氟化烷基、由所述化学式3表示的氟化醚基或其组合；
n为1至8的整数，m为1至5的整数；
p为1至5的整数，q为0或1，r为0、1或2，v为1至5的整数；
A为氧原子或单键；
x、y和z分别为大于或等于1的整数；
*为与相邻原子的键合位置；
然而，R1和R2中的至少一个是取代或未取代的C2至C10的链烯基。
3.根据权利要求1所述的离型膜，其中，
所述有机或无机粒子为选自天然矿物；1族至4族、11族至12族、14族、16族至18族元素的氧化物、氢氧化物、硫化物、氮化物或卤化物；碳酸盐、硫酸盐、乙酸盐、磷酸盐、亚磷酸盐、羧酸盐、硅酸盐、钛酸盐、硼酸盐或其水合物；以及其复合化合物的无机粒子。
4.根据权利要求1所述的离型膜，其中，
所述有机或无机粒子为选自氟基树脂、三聚氰胺基树脂、苯乙烯基树脂、丙烯酸基树脂、硅基树脂、苯乙烯-二乙烯基苯基共聚物树脂以及与这些树脂交联的聚合物或共聚物的有机粒子。
5.根据权利要求1所述的离型膜，其中，
所述离形层进一步包括含氢聚硅氧烷和酸催化剂中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的离型膜，其中，
所述离型层硬化膜的厚度为0.03μm至3μm。
7.根据权利要求1所述的离型膜，其中，
在所述离型层的XPS表面分析时，根据下式1的F/Si原子比为1.5至3.5：
<式1>
F/Si原子比＝[离型层表面的氟含量(原子％)/离型层表面的硅含量(原子％)] 。
8.根据权利要求1所述的离型膜，其中，
所述离型层的根据下式2的剥离力变化率等于或小于30％：
<式2>
剥离力变化率(％)＝{(30天后的剥离力-初始剥离力)/(初始剥离力)}×100 。
9.根据权利要求1所述的离型膜，其中，
所述离型膜的残余粘着率大于或等于90％。
10.一种制造离型膜的方法，包括：
准备基材；以及
通过在所述基材的至少一表面上涂覆包括包括氟化聚硅氧烷的聚合物或共聚物以及有机或无机粒子的用于形成离型层的组合物并进行干燥，从而形成离型层，
其中，基于总固形份，所述有机或无机粒子的含量为0.5重量％至10重量％。
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