CN113426781B - 反应釜清洗装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种反应釜清洗装置，包括釜体和搅拌器，所述搅拌器位于所述釜体内，所述搅拌器包括搅拌杆和搅拌部分；所述搅拌杆上设置有活动架，所述活动架可沿着所述搅拌杆移动；所述活动架上设置有清洁器，所述清洁器用于对所述釜体进行清洁；还包括有活动控制装置，所述活动控制装置用于控制所述活动架移动；通过采用活动控制装置控制活动架沿着搅拌杆移动，使清洁器可在需要清洁时移动到预定清洁位置进行清洁，不需要清洁时就收藏起来，清洁器不需安装/拆卸，不影响生产工作，尤其适合在相对密封的反应釜内工作。

Description

反应釜清洗装置

技术领域

本发明涉及化工生产技术领域，特别是一种反应釜清洗装置。

背景技术

反应釜广泛应用于化工生产当中，例如电池回收处理中就常用到反应釜作为反应容器。反应釜长时间使用后需要专门的清洗人员对其内部清洗。但因为反应釜内部空间较小，属于较危险的受限空间作业，会给操作人员造成一定的危险。另外因为在实际使用中会更换不同的电池粉通过反应釜生产，需要在更换前对反应釜做出彻底的清洗，频繁的冲洗增大了发生危险的几率。因此需要在反应釜加装清洗装置。

目前的反应釜清洗装置有很多。但是实践中发现现有的反应釜清洗装置具有如下的缺陷：1.清洗用的刷头不能够隐藏，导致搅拌的操作繁琐；2.由于清洗头长时间暴露在反应釜内，减少清洗头的寿命，容易导致清洗头本身出现较脏的状况，丧失清洗的功能；3.清洗头一直位于反应釜内部，最终容易导致清洗头上的材质被腐蚀，清洗过程会留下一些杂质，更换不同成分的产品材料时会造成污染，对后期的电池粉除杂影响，出现产品质量下降的问题。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本发明提供一种反应釜清洗装置。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种反应釜清洗装置，包括釜体和搅拌器，所述搅拌器位于所述釜体内，所述搅拌器包括搅拌杆和搅拌部分；所述搅拌杆上设置有活动架，所述活动架可沿着所述搅拌杆移动；所述活动架上设置有清洁器，所述清洁器用于对所述釜体进行清洁；还包括有活动控制装置，所述活动控制装置用于控制所述活动架移动。

根据本发明所提供的反应釜清洗装置，通过采用活动控制装置控制活动架沿着搅拌杆移动，使清洁器可在需要清洁时移动到预定清洁位置进行清洁，不需要清洁时就收藏起来，清洁器不需安装/拆卸，不影响生产工作，尤其适合在相对密封的反应釜内工作。

作为本发明的一些优选实施例，所述活动架上设置有非圆孔，所述搅拌杆包括有非圆形截面段。

作为本发明的一些优选实施例，所述搅拌杆包括有圆形截面段。

作为本发明的一些优选实施例，所述搅拌杆上设置有套体，所述套体相对于所述搅拌杆可旋转。

作为本发明的一些优选实施例，所述活动架与所述清洁器之间设置有伸缩装置。

作为本发明的一些优选实施例，所述伸缩装置为剪叉式伸缩结构。

作为本发明的一些优选实施例，所述套体与所述搅拌杆之间设置有密封圈。

作为本发明的一些优选实施例，所述活动控制装置包括有卷绳机和吊绳。

作为本发明的一些优选实施例，所述釜体包括有隐藏密封腔和搅拌腔。

作为本发明的一些优选实施例，所述隐藏密封腔与所述搅拌腔之间设置有密封腔封盖。

本发明的有益效果是：

1、新清洗装置通过活动控制装置控制活动架沿着搅拌杆移动的设计，实现清洁器可隐藏，清洁器不需安装/拆卸，不影响生产工作；

2、新清洗装置通过活动架的非圆孔配合搅拌杆的非圆形截面段设计，不需额外配置外部驱动清洁器的动力即可通过搅拌杆旋转带动清洁器旋转；

3、新清洗装置通过套体设计，保证在工作的时候，活动架不会与搅拌杆相对旋转造成搅拌杆或活动架的磨损；

4、密封腔封盖与盖密封套体配合，将釜体内的隐藏密封腔、搅拌腔之间密封起来，使清洗器在反应釜工作时隐藏在密封的空间内，保证反应釜工作与清洁器隐藏不冲突。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。

图1是本发明中清洁器在工作状态时的结构示意图；

图2是本发明中清洁器在收缩状态时的结构示意图；

图3是本发明中清洁器在隐藏状态时的结构示意图；

图4是本发明中活动架在圆形截面段位置时的俯视图；

图5是本发明中活动架在非圆形截面段位置时的俯视图；

图6是本发明中活动架在非圆形截面段位置时另一种实施例的俯视图；

图7是本发明中套体(静止位套体)的结构示意图；

图8是本发明中套体(盖密封套体)的结构示意图。

附图标记：

釜体100、隐藏密封腔110、维护板111、搅拌腔120、进水管121、排水管122、排水泵123；搅拌器200、搅拌杆210、非圆形截面段211、圆形截面段212、搅拌部分220、搅拌减速机230；活动架300、非圆孔310；清洁器400；伸缩装置500、剪叉式伸缩结构510；活动控制装置600、卷绳机610、吊绳620；套体700、密封圈701、卡簧702、轴承703、静止位套体710、盖密封套体720、支撑套721、密封套722；密封腔封盖800、封盖控制装置810。

具体实施方式

为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施方式，对本发明进行进一步详细说明。为透彻的理解本发明，在接下来的描述中会涉及一些特定细节。而在没有这些特定细节时，本发明仍可实现，即所属领域内的技术人员使用此处的这些描述和陈述向所属领域内的其他技术人员可更有效的介绍他们的工作本质。

此外需要说明的是，下面描述中使用的词语“左侧”、“右侧”、“上侧”、“下侧”等指的是附图中的方向，词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向，相关技术人员在对上述方向作简单、不需要创造性的调整不应理解为本申请保护范围以外的技术。

如果有描述到“第一”、“第二”等只是用于区分技术特征为目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。

应当理解，此处所描述的具体实施方式仅仅用以解释本申请，并不用于限定实际保护范围。而为避免混淆本发明的目的，由于熟知的制造方法、控制程序、部件尺寸、材料成分、管路布局等的技术已经很容易理解，因此它们并未被详细描述。

图1是本发明中清洁器一个实施方式在工作状态时的结构示意图，参照图1，本发明的一个实施方式提供了一种一种反应釜清洗装置，包括釜体100和搅拌器200，搅拌器200位于釜体100内，搅拌器200包括搅拌杆210和搅拌部分220。搅拌杆210旋转带动搅拌部分220，具体工作原理可参照现有的反应釜结构，在此不再赘述。

参照图2、图3，进一步的，搅拌杆210上设置有活动架300，活动架300可沿着搅拌杆210移动。

再进一步的，活动架300上设置有清洁器400，清洁器400用于对釜体100进行清洁。

再进一步的，本反应釜清洗装置还包括有活动控制装置600，活动控制装置600用于控制活动架300移动。

在实际工作时，参照图1，开始清洁时，活动控制装置600控制活动架300移动，并带动清洁器400移动到预定清洗位置后，清洁器400就对釜体100内壁进行清洗。参照图2、图3，清洁完成后，活动控制装置600控制活动架300移动，带动清洁器400到预定收藏位置隐藏起来。

以上公开的一种反应釜清洗装置所揭露的仅为本发明较佳的实施方式，仅用于说明本发明的技术方案，而非对其限制。本领域的普通技术人员应当理解，其依然可以对前述的技术方案所记载的技术方案结合现有技术进行修改或者补充，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或替换，并不使相应的技术方案的本质脱离本发明的实施方式技术方案的精神和范围。

以下结合一些实施例进行说明，其中此处所称的“实施例”是指可包含于本申请至少一个实现方式中的特定特征、结构或特性。在本说明书中不同地方出现的“实施例中”并非均指同一个实施例，也不是单独的或选择性的与其他实施例互相排斥的实施例。此外，表示一个或多个实施例的细节并非固定的指代任何特定顺序，也不构成对本发明的限制。

在一些实施例中，搅拌杆210沿着上下侧方向延伸，搅拌部分220位于搅拌杆210下侧。

在一些实施例中，搅拌部分220可采用搅拌叶、搅拌刀、搅拌螺杆或者其它搅拌结构。

在一些实施例中，搅拌杆210通过上侧的搅拌电机、搅拌减速机230驱动。

在一些实施例中，参照图4、5、6，活动架300上设置有非圆孔310，参照图5、图6，搅拌杆210包括有非圆形截面段211。活动架300的非圆孔310与搅拌杆210的非圆形截面段211形状、大小对应。活动架300通过非圆孔310套装在搅拌杆210上。参照图1，当活动架300移动到搅拌杆210的非圆形截面段211位置时，搅拌杆210旋转则可带动活动架300旋转，进而带动清洁器400旋转，使清洁器400进行清洁工作更方便。

本实施例中，可选的，参照图4、图5，非圆孔310为方形孔，非圆形截面段211为方形状。

本实施例中，可选的，参照图6，非圆孔310为弧边三角孔，非圆形截面段211为弧边三角状。

在一些实施例中，参照图4，搅拌杆210包括有圆形截面段212。参照图3，当活动架300移动到搅拌杆210的圆形截面段212位置时，活动架300就不影响搅拌杆210旋转，即搅拌杆210旋转时清洁器400不会跟着旋转，方便清洁器400在不需要工作时进入隐藏状态。

本实施例中，可选的，圆形截面段212位于搅拌杆210上侧，非圆形截面段211位于搅拌杆210下侧。

在一些实施例中，搅拌杆210上设置有套体700，套体700相对于搅拌杆210可旋转，这样就可以保证搅拌杆210旋转时不会与周围不旋转的部件产生直接摩擦，不会被周围不旋转的部件影响。

在一些实施例中，参照图7、图8，套体700与搅拌杆210之间设置有密封圈701，避免杂质进入套体700与搅拌杆210之间空隙影响套体700、搅拌杆210工作和寿命。

在一些实施例中，套体700与搅拌杆210之间设置有卡簧702，用于固定套体700同时不影响套体700相对于搅拌杆210旋转，避免套体700沿着搅拌杆210长度延伸方向移动错位。

在一些实施例中，套体700与搅拌杆210之间设置有轴承703，保证套体700能相对于搅拌杆210顺利套体700相对于搅拌杆210旋转。

在一些实施例中，清洁器400包括有刮板，用于刮除反应釜内的脏物。

在一些实施例中，活动架300与清洁器400之间设置有伸缩装置500，用于控制清洁器400伸缩。参照图1，当需要清洁器400工作时，伸缩装置500控制清洁器400伸向釜体100内壁进行清洁过。参照图2，当清洁完成后，伸缩装置500控制清洁器400收缩，清洁器400进入收缩状态。这样就方便清洁器400收拢，也便于清洁器400根据釜体100形状调整位置。

本实施例中，可选的，伸缩装置500控制清洁器400顺着水平方向平移活动。

在一些实施例中，伸缩装置500为剪叉式伸缩结构510，使清洁器400伸缩过程更平稳。

在一些实施例中，伸缩装置500为活塞缸结构，使清洁器400伸缩过程更快速。

在一些实施例中，活动控制装置600包括有卷绳机610和吊绳620。吊绳620与卷绳机610、活动架300连接。通过卷绳机610控制吊绳620收放，进而控制活动架300移动。这种结构简单移用，适合反应釜内空间狭小、密封环境中工作。

在一些实施例中，釜体100包括有隐藏密封腔110和搅拌腔120。搅拌部分220位于搅拌腔120内工作。隐藏密封腔110用于收藏不需要工作的清洁器400，即清洁器400当移动至隐藏密封腔110时，清洁器400就进入隐藏状态。

本实施例中，可选的，隐藏密封腔110位于釜体100上侧，搅拌腔120位于釜体100下侧。

在一些实施例中，隐藏密封腔110上设置有维护窗口和维护板111。清洁器400在隐藏状态时，当需要对清洁器400进行检修维护，则可打开维护板111，工人就可以通过维护窗口对清洁器400进行检修维护，不需要拆出活动架300或清洁器400。

本实施例中，可选的，维护窗口位于隐藏密封腔110左侧或右侧。

在一些实施例中，搅拌腔120上设置有进水管121、排水管122、排水泵123，搅拌腔120通过进水管121进水，通过排水管122配合排水泵123排水。

工作时，参照图1，活动架300带动清洁器400下降到釜体100的搅拌腔120后，伸缩装置500控制清洁器400伸向釜体100内壁并挤压，搅拌电机控制搅拌杆210旋转并带动清洁器400一起旋转，并且打开进水管121和排水泵123同时进水和出水，配合清洁器400对釜体100内壁进行清洗。参照图2，清洗后的废水随着排水管122排出反应釜的釜体100，清洗完成后关闭搅拌电机，伸缩装置500控制清洁器400收缩。参照图3，活动控制装置600控制升起活动架300，清洁器400就可停留在搅拌杆210的上方，即隐藏密封腔110内。

在一些实施例中，参照图2、图7，套体700包括静止位套体710，这样当清洁器400需要隐藏时，活动架300可移动到搅拌杆210的静止位套体710位置上。这样清洁器400在隐藏状态时，活动架300不会影响搅拌杆210旋转。

本实施例中，可选的，静止位套体710套装在搅拌杆210位于隐藏密封腔110内部分的位置上。

在一些实施例中，隐藏密封腔110与搅拌腔120之间设置有密封腔封盖800，用于封闭隐藏密封腔110与搅拌腔120之间位置。

本实施例中，可选的，密封腔封盖800通过封盖控制装置810控制活动。

本实施例中，可选的，封盖控制装置810为气缸。

在一些实施例中，参照图3、图8，套体700包括盖密封套体720，当密封腔封盖800关闭时，密封腔封盖800就可顶住盖密封套体720，使搅拌杆210可穿过关闭的密封腔封盖800，同时密封腔封盖800不会影响搅拌杆210旋转。

本实施例中，可选的，密封腔封盖800分列左右两侧，密封腔封盖800之间开有凹位对应盖密封套体720位置。

本实施例中，可选的，盖密封套体720包括支撑套721、密封套722。密封套722位于外侧，密封腔封盖800关闭时与密封套722贴合保证密封效果。支撑套721位于内侧作为盖密封套体720的支撑结构。

本实施例中，可选的，支撑套721采用硬质塑料制成，密封套722采用软质且密封效果好的塑料制成。

根据上述原理，本发明还可以对上述实施方式进行适当的变更和修改。因此，本发明并不局限于上面揭示和描述的具体实施方式，对本发明的一些修改和变更也应当落入本发明的权利要求的保护范围内。

Claims (5)

1.一种反应釜清洗装置，包括釜体（100）和搅拌器（200），所述搅拌器（200）位于所述釜体（100）内，所述搅拌器（200）包括搅拌杆（210）和搅拌部分（220），其特征在于：

所述釜体（100）包括有隐藏密封腔（110）和搅拌腔（120），所述隐藏密封腔（110）与所述搅拌腔（120）之间设置有密封腔封盖（800），所述搅拌部分（220）位于所述搅拌腔（120）内工作；

所述搅拌杆（210）上设置有活动架（300），所述活动架（300）可沿着所述搅拌杆（210）移动；

所述活动架（300）上设置有清洁器（400），所述清洁器（400）用于对所述釜体（100）进行清洁；

还包括有活动控制装置（600），所述活动控制装置（600）用于控制所述活动架（300）移动，所述活动控制装置（600）包括有卷绳机（610）和吊绳（620）；

所述活动架（300）上设置有非圆孔（310），所述搅拌杆（210）包括有非圆形截面段（211）；

所述搅拌杆（210）包括有圆形截面段（212）；

所述圆形截面段（212）位于所述搅拌杆（210）上侧，所述非圆形截面段（211）位于所述搅拌杆（210）下侧；

所述活动架（300）的所述非圆孔（310）与所述搅拌杆（210）的所述非圆形截面段（211）形状、大小对应，所述活动架（300）通过所述非圆孔（310）套装在所述搅拌杆（210）上；

当所述活动架（300）移动到所述搅拌杆（210）的所述圆形截面段（212）位置时，所述活动架（300）就不影响所述搅拌杆（210）旋转，即所述搅拌杆（210）旋转时所述清洁器（400）不会跟着旋转，方便所述清洁器（400）在不需要工作时进入所述隐藏密封腔（110），此时所述清洁器（400）进入隐藏状态；

当所述活动架（300）移动到所述搅拌杆（210）的所述非圆形截面段（211）位置时，所述搅拌杆（210）旋转则可带动所述活动架（300）旋转，进而带动所述清洁器（400）旋转，使所述清洁器（400）进行清洁工作更方便。

2.根据权利要求1所述的一种反应釜清洗装置，其特征在于：所述搅拌杆（210）上设置有套体（700），所述套体（700）相对于所述搅拌杆（210）可旋转。

3.根据权利要求2所述的一种反应釜清洗装置，其特征在于：所述套体（700）与所述搅拌杆（210）之间设置有密封圈（701）。

4.根据权利要求1所述的一种反应釜清洗装置，其特征在于：所述活动架（300）与所述清洁器（400）之间设置有伸缩装置（500）。

5.根据权利要求4所述的一种反应釜清洗装置，其特征在于：所述伸缩装置（500）为剪叉式伸缩结构（510）。

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