CN113355634A - 蒸镀掩模单元的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种蒸镀掩模单元的制作方法。该方法包含：形成具有多个开口的蒸镀掩模的步骤；将具有光固化性树脂膜和保护膜的抗蚀剂膜，以由蒸镀掩模和保护膜夹着光固化性树脂膜，且光固化性树脂膜覆盖多个开口的方式配置在蒸镀掩模上的步骤；隔着保护膜对光固化性树脂膜实施第一曝光的步骤；去除保护膜的步骤；在去除了保护膜之后，对光固化性树脂膜实施第二曝光的步骤；通过使光固化性树脂膜显影来形成多个抗蚀剂掩模的步骤；将具有至少一个窗的支承架以与蒸镀掩模接触的方式配置在蒸镀掩模上的步骤；和使用镀敷法形成用于将支承架固定于蒸镀掩模的连接部的步骤。根据本发明，能够以高成品率或低成本地制造蒸镀掩模单元。
Description
技术领域
本发明的实施方式之一涉及蒸镀掩模单元的制作方法。
背景技术
作为平板型显示装置的一个例子，可举出液晶显示装置或有机电致发光显示装置。这些显示装置都是包含绝缘体、半导体、导体等各种材料的薄膜被层叠在基板上而成的构造体，这些薄膜通过适当地图案化、连接，能够表现出作为显示装置的功能。
形成薄膜的方法大致分为气相法、液相法、固相法。气相法分为物理气相法和化学气相法，作为前者的代表例，已知一种蒸镀法。蒸镀法中的最简便的方法是真空蒸镀法，通过在高真空下加热材料，使材料升华或蒸发(以下将升华和蒸发统称为气化)而生成材料的蒸气，通过使该蒸气在目的区域(以下称为蒸镀区域)固化、沉积，能够得到材料的薄膜。这时，为了在蒸镀区域有选择地形成薄膜，且在其以外的区域(以下称为非蒸镀区域)不沉积材料，使用物理屏蔽非蒸镀区域的掩模(参照专利文献1、2)。该掩模被称为蒸镀掩模等。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2009-87840号公报。
专利文献2：日本特开2013-209710号公报。
发明内容
发明所要解决的问题
本发明实施方式的一个目的在于，提供一种蒸镀掩模单元的制作方法。例如，本发明实施方式的一个目的在于，提供一种用于以高成品率或低成本地制造蒸镀掩模单元的方法。
用于解决问题的技术手段
本发明的实施方式之一是蒸镀掩模单元的制作方法。该方法包含：形成具有多个开口的蒸镀掩模的步骤；将具有光固化性树脂膜和保护膜的抗蚀剂膜，以由蒸镀掩模和保护膜夹着光固化性树脂膜，且光固化性树脂膜覆盖多个开口的方式配置在蒸镀掩模上的步骤；隔着保护膜对光固化性树脂膜实施第一曝光的步骤；去除保护膜的步骤；在去除了保护膜之后，对光固化性树脂膜实施第二曝光的步骤；通过使光固化性树脂膜显影来形成多个抗蚀剂掩模的步骤；将具有至少一个窗的支承架以与蒸镀掩模接触的方式配置在蒸镀掩模上的步骤；和使用镀敷法形成用于将支承架固定于蒸镀掩模的连接部的步骤。
本发明的实施方式之一是蒸镀掩模单元的制作方法。该方法包含：形成具有多个开口的蒸镀掩模的步骤；以覆盖多个开口的方式将第一光固化性树脂膜配置在蒸镀掩模上的步骤；将具有第二光固化性树脂膜和保护膜的抗蚀剂膜，以由蒸镀掩模和保护膜夹着第二光固化性树脂膜，且第二光固化性树脂膜覆盖多个开口的方式配置在第一光固化性树脂膜上的步骤；隔着保护膜对第一光固化性树脂膜和第二光固化性树脂膜实施第一曝光的步骤；去除保护膜的步骤；在去除了保护膜之后，对第一光固化性树脂膜和第二光固化性树脂膜实施第二曝光的步骤；通过使第一光固化性树脂膜和第二光固化性树脂膜显影，来形成多个抗蚀剂掩模的步骤；将具有至少一个窗的支承架以与蒸镀掩模接触的方式配置在蒸镀掩模上的步骤；和使用镀敷法形成用于将支承架固定于蒸镀掩模的连接部的步骤。
本发明的实施方式之一是蒸镀掩模单元的制作方法。该方法包含：形成具有多个开口的蒸镀掩模的步骤；将具有第一光固化性树脂膜和第一保护膜的第一抗蚀剂膜，以由蒸镀掩模和第一保护膜夹着第一光固化性树脂膜，且第一光固化性树脂膜覆盖多个开口的方式配置在蒸镀掩模上的步骤；隔着第一保护膜对第一光固化性树脂膜实施第一曝光的步骤；去除第一保护膜的步骤；以覆盖多个开口的方式，将具有第二光固化性树脂膜的第二抗蚀剂膜配置在第一光固化性树脂膜上的步骤；对第一光固化性树脂膜和第二光固化性树脂膜实施第二曝光的步骤；通过使第一光固化性树脂膜和第二光固化性树脂膜显影，来形成多个抗蚀剂掩模的步骤；将具有至少一个窗的支承架以与蒸镀掩模接触的方式配置在蒸镀掩模上的步骤；和使用镀敷法形成用于将支承架固定于蒸镀掩模的连接部的步骤。
根据本发明，能够以高成品率或低成本地制造蒸镀掩模单元。
附图说明
图1A是可应用由本发明的实施方式的一个方法制作的蒸镀掩模单元的蒸镀装置的示意俯视图。
图1B是可应用由本发明的实施方式的一个方法制作的蒸镀掩模单元的蒸镀装置的示意侧视图。
图2是由本发明的实施方式的一个方法制作的蒸镀掩模单元的示意俯视图。
图3是由本发明的实施方式的一个方法制作的蒸镀掩模单元的示意剖视图。
图4A是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图4B是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图4C是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图5A是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图5B是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图6A是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图6B是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图7A是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图7B是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图8A是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图8B是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图9A是表示制作蒸镀掩模单元的现有方法的示意剖视图。
图9B是表示制作蒸镀掩模单元的现有方法的示意剖视图。
图9C是表示制作蒸镀掩模单元的现有方法的示意剖视图。
图10A是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图10B是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图11A是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图11B是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图12A是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图12B是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图13A是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图13B是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图14A是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图14B是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图15A是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
图15B是表示本发明的一个实施方式的制作蒸镀掩模单元的方法的示意剖视图。
附图标记说明
100：蒸镀掩模单元，102：蒸镀掩模，102a：开口，102b：开口组，104：虚设图案，110：支承架，110a：窗，110b：侧面，120：连接部，130：支承基板，132：剥离层，134：抗蚀剂掩模，136：抗蚀剂膜，136a：剥离膜，136b：光固化性树脂膜，136c：保护膜，136d：区域，138：光掩模，138a：遮光部，138b：透光部，140：第二抗蚀剂膜，140b：第二光固化性树脂膜，140c：第二保护膜，150：抗蚀剂掩模，150a：针孔，150b：抗蚀剂掩模，150c：抗蚀剂掩模，152：杂质，154：杂质，160：蒸镀腔室，162：负载锁定门，164：蒸镀源，166：开闭件，168：移动机构，170：保持件，180：基板。
具体实施方式
下面，参照附图对本发明的各实施方式进行说明。但是，本发明可在不脱离其主旨的范围内以各种方式实施，不限定于以下例示的实施方式记载的内容来解释。
为了更明确地进行说明，附图与实际形态相比，有时示意地表示各部的宽度、厚度、形状等，但终究是一个例子，并不限定本发明的解释。在本说明书和各图中，往往在与利用现有图进行了说明的要素具有同样功能的要素上标注相同的符号，省略重复的说明。
在本说明书及权利要求书中，在表达在某构造体上配置其他构造体的形态时，在简单地表述为“在上方”的情况下，只要没有特别说明，就包含以与某构造体接触的方式在正上方配置其他构造体的情况和在某构造体的上方还隔着另外的构造体而配置其他构造体的情况双方。
以下，“某构造体从其他构造体露出”之类的表达是指某构造体的一部分未被其他构造体覆盖的形态，该未被其他构造体覆盖的部分还包含被另外的构造体覆盖的形态。
＜第一实施方式＞
下面，对本发明的实施方式之一的蒸镀掩模单元100的制作方法进行说明。
1.蒸镀装置
在通过蒸镀法来形成有机化合物、无机化合物、或包含有机化合物和无机化合物的膜时，利用本制作方法制作的蒸镀掩模单元100能够用于在目的蒸镀区域有选择地形成膜。图1A和图1B表示基于蒸镀的膜形成时所使用的典型蒸镀装置的示意俯视图和侧视图。蒸镀装置由具有各种功能的多个腔室构成。腔室之一是图1A所示的蒸镀腔室160，蒸镀腔室160通过负载锁定门162与相邻的腔室隔开，构成为内部维持高真空的减压状态、或充满氮气或氩气等不活泼气体的状态。因此，未图示的减压装置或吸排气机构等与蒸镀腔室160连接。
蒸镀腔室160提供可收纳基板等形成膜的对象物的空间。在图1A、图1B所示的例子中，在基板180的下方配置有蒸镀源164，在蒸镀源164中填充有要蒸镀的材料。在蒸镀源164中，材料被加热而气化，当材料的蒸气经由蒸镀掩模单元100的开口102a(后述)到达基板180的表面时就被冷却而固化，材料沉积并在基板180上(在图1B中，基板180的下侧的面上)提供材料的膜。在图1A所示的例子中，具备具有大致线状的形状且沿着基板180的一个边配置的蒸镀源164(也称为线源)，但蒸镀源164可具有任意的形状，也可以是与基板180的重心重叠那样的被称为所谓点源的蒸镀源164。在点源的情况下，基板180和蒸镀源164的相对位置是固定的，也可以设置用于使基板180旋转的机构。
在使用线源型蒸镀源164的情况下，蒸镀腔室160以基板180和蒸镀源164相对移动的方式构成。在图1A中，图示的是蒸镀源164被固定且基板180在其上移动的例子。如图1B所示，在蒸镀腔室160内还具备用于保持基板180和蒸镀掩模单元100的保持件170、用于使保持件170移动的移动机构168、开闭件166等。通过保持件170，能够维持基板180和蒸镀掩模单元100的相互位置关系，通过移动机构168，能够使基板180和蒸镀掩模单元100在蒸镀源164上移动。开闭件166为了屏蔽材料的蒸气或容许其到达基板180而设置在蒸镀源164上，由未图示的控制装置控制开闭。虽然未图示，但在蒸镀腔室160内具备用于监测材料的蒸镀速度的传感器、用于防止材料的污染的防附着板、用于监测蒸镀腔室160内的压力的压力计等。
2.蒸镀掩模单元
图2表示蒸镀掩模单元100的俯视示意图，图3表示沿着图2的点划线A－A′的剖面示意图。蒸镀掩模单元100具有至少一个或多个蒸镀掩模102。在下面的说明中，使用一个蒸镀掩模单元100具有多个蒸镀掩模102的例子进行说明。
蒸镀掩模102具备贯通蒸镀掩模102的多个开口102a。将蒸镀掩模102中的开口102a以外的区域称为非开口部。非开口部包围开口102a。蒸镀掩模单元100还具有在非开口部经由连接部120与蒸镀掩模102连接的支承架110。连接部120包围多个开口102a，且在非开口部与支承架110和蒸镀掩模102接触。
在蒸镀时，以蒸镀区域与开口102a重叠且非蒸镀区域与非开口部重叠的方式配置蒸镀掩模单元100和基板180，材料的蒸气穿过开口102a，在蒸镀区域上沉积材料。多个开口102a的配置不受制约，但例如分别在显示装置的设置于显示区域的多个像素上形成膜的情况下，多个开口102a设置为与基板上的设有像素的区域重叠。因此，在多个像素排列成矩阵状的情况下，多个开口102a也排列成矩阵状。在使用一个蒸镀掩模单元100制造多个显示装置的情况下，在被称为母玻璃的大型基板180上形成多个显示装置的显示区域。在这种情况下，多个开口102a以形成分别与多个显示区域对应的多个开口组102b的方式设置。相邻开口组102b间的距离比各开口组102b的相邻开口102a间的距离大。
支承架110具有至少一个窗110a(图3)。在以形成多个开口组102b的方式设置开口102a的情况下，至少一个窗110a也可以包含多个窗110a。各窗110a以与蒸镀掩模102的多个开口102a重叠的方式设置。即，多个开口102a从支承架110经由任一个窗110a而露出。另外，各开口组102b也从支承架110经由任一个窗110a而露出，支承架110的一部分在相邻的开口组102b之间与蒸镀掩模102及连接部120接触。
连接部120连接蒸镀掩模102和支承架110，具有将两者相互固定的功能。因此，虽然支承架110不与蒸镀掩模102直接接触，但连接部120在蒸镀掩模102的非开口部与蒸镀掩模102的上表面接触，且与支承架110的侧面接触。
蒸镀掩模102或连接部120含有镍、铜、钛、铬等零价金属，优选含有镍。蒸镀掩模102和连接部120的材料组成也可以相互相同。支承架110也含有零价金属，作为金属，可从镍、铁、钴、铬、锰等中选择。例如支承架110也可以是含有铁和铬的合金、铁、镍、锰的合金，还可以在合金中含有碳。
3.蒸镀掩模单元的制作方法
使用图4A至图8B对蒸镀掩模单元100的制作方法的一个例子进行说明。这些图都是蒸镀掩模单元100的示意剖视图，都与图3对应。
3－1.蒸镀掩模的形成
首先，在设有剥离层132的支承基板130上形成抗蚀剂掩模134。支承基板130是具有在形成蒸镀掩模单元100时保持蒸镀掩模102或支承架110的功能的基板，含有玻璃、石英、塑料、或铜、铝、钛、铁、镍、钴、铬、钼、锰等金属、或它们的合金。在蒸镀掩模102含有合金的情况下，合金例如也可以是含有铁和铬的合金、铁、镍和锰的合金，还可以在合金中含有碳。在使用含有玻璃、石英、塑料的基板的情况下，也可以使用形成有上述金属或合金的膜的基板。如后所述，蒸镀掩模102或连接部120因为是使用电解镀敷法或无电解镀敷法(以下将它们统称为镀敷法)形成的，所以在利用电解镀敷法的情况下，优选使用能够作为电极发挥功能的金属基板或合金基板作为支承基板130。剥离层132是用于促进将形成于支承基板130上的蒸镀掩模单元100从支承基板剥离的功能层，例如可使用镍、钼、钨等金属薄膜。剥离层132例如只要以成为20μm以上200μm以下、或40μm以上150μm以下的厚度的方式利用镀敷法、溅射法或化学气相沉积(CVD)法形成即可。
抗蚀剂掩模134设置为岛状。即，有选择地形成于形成多个开口102a及后述的虚设图案104的区域。例如将负性光致抗蚀剂涂布于剥离层132上，并隔着光掩模进行曝光，以使形成多个开口102a和虚设图案104的区域有选择地曝光。或者，将正性光致抗蚀剂涂布于剥离层132上，并隔着光掩模进行曝光，以使非开口部有选择地曝光。然后，进行显影，得到被图案化后的抗蚀剂掩模134(图4A)。此外，抗蚀剂掩模134的形成优选也形成于剥离层132的外缘部，以使剥离层132能够容易地从蒸镀掩模单元100剥离。
接着，利用镀敷法，在未被抗蚀剂掩模134包覆的区域形成电镀图案，形成蒸镀掩模102(图4B)。电镀图案的形成也可以在一个阶段进行，还可以分多个阶段进行。在多个阶段进行的情况下，也可以按照在不同的阶段形成不同的金属的方式进行电镀。另外，电镀也可以按照电镀图案的上表面比抗蚀剂掩模134的上表面低的方式进行，还可以按照比其高的方式进行。在后者的情况下，也可以通过表面抛光进行电镀图案上表面的平坦化。之后，通过基于剥离液的蚀刻或/及灰化来去除抗蚀剂掩模134，形成具有多个开口102a的蒸镀掩模102(图4C)。
在蒸镀掩模102的形成时，形成与蒸镀掩模102分离的虚设图案104。虚设图案104在俯视时构成为包围多个蒸镀掩模102。因为虚设图案104和蒸镀掩模102同时形成，所以两者能够具有相互相同的组成和厚度。虽然未图示，但也可以设置于与相邻的窗110a之间重叠的区域。
3－2.开口的保护
在虚设图案104上配置支承架110，然后，通过利用镀敷法形成连接部120，蒸镀掩模102和支承架110被相互固定。因此，在连接部120的形成时，为了防止在开口102a处电镀金属，如后所述，形成覆盖开口102a的抗蚀剂掩模150。
抗蚀剂掩模150的形成使用薄膜状的抗蚀剂(以下，称为抗蚀剂膜)136来进行。作为抗蚀剂膜136，例如如图5A所示，能够具有由剥离膜136a和保护膜136c夹着光固化性树脂膜136b的构造。在光固化性树脂膜136b中含有负性光固化性树脂。即，含有因光而固化的高分子或低聚物。光固化性树脂膜136b的厚度可任意选择，例如只要从20μm以上500μm以下、50μm以上200μm以下、或50μm以上120μm以下的范围内即可。为了确保该厚度，也可以将抗蚀剂膜136层叠起来。保护膜136c含有高分子，作为高分子，例如可从聚烯烃、聚酰亚胺、聚酯、聚苯乙烯、或含氟聚烯烃等中选择。
抗蚀剂膜136在剥离了剥离膜136a之后，以光固化性树脂膜136b由蒸镀掩模102和保护膜136c夹着的方式配置在蒸镀掩模102上(图5B)。抗蚀剂膜136以至少覆盖所有开口102a的方式设置，一部分覆盖非开口部。
接着，对光固化性树脂膜136b进行第一次曝光。具体地说，如图6A所示，将具有遮光部138a和透光部138b的光掩模138以透光部138b与多个开口102a重叠的方式配置在抗蚀剂膜136上，隔着光掩模138进行曝光。由此，曝光后的部分相对于显影液的溶解性降低。这里，曝光是在配置有保护膜136c的状态下进行的。换句话说，曝光是隔着保护膜136c进行的。
之后，进一步进行第二次曝光。在第二次曝光中，也可以使用与第一次曝光相同的光源(即，相同波长的光)，光掩模138也可以相同。具体地说，如图6B所示，剥离去除保护膜136c，隔着光掩模138进行曝光。即，以透光部138b与多个开口102a重叠的方式将光掩模138配置在抗蚀剂膜136上，隔着光掩模138进行曝光。因此，在第二次曝光中，在光固化性树脂膜136b露出后的状态下进行曝光。通过第一次曝光，抗蚀剂膜136的大部分区域都已经完成了曝光，在第二次曝光中，其膜质几乎没有发生变化。之后，通过使用显影液进行显影来去除未曝光部分，形成覆盖多个开口102a的抗蚀剂掩模150(图7A)。此外，在该工序中，也可以形成覆盖所有开口102a的单一抗蚀剂掩模150。或者，在设置多个开口组102b的情况下，也可以形成分别覆盖一个或多个开口组102b的多个抗蚀剂掩模150。假如在剥离前的保护膜136c上存在颗粒，则该颗粒成为曝光的阴影，在本来应该被曝光的地方作为未被曝光的区域残留在抗蚀剂膜136的局部之后，也能够通过保护膜136c剥离后的第二次曝光，正常地进行曝光。进而，即使在剥离后在抗蚀剂膜136上重新载置有颗粒，也因为其下方已经实施了第一次曝光，所以不会成为曝光不良的原因。
3－3.支承架的配置和连接部的形成
接着，如图7B所示，将支承架110配置在蒸镀掩模102及虚设图案104上。支承架110以窗110a与多个开口102a重叠的方式配置。换句话说，支承架110与任一个开口102a都不重叠，而是与非开口部重叠，以多个抗蚀剂掩模150分别从对应的窗110a露出的方式配置在蒸镀掩模102上。
之后，使用镀敷法，形成连接部120。连接部120主要从蒸镀掩模102的表面中的未被支承架110和抗蚀剂掩模150覆盖的部分开始生长，其结果是，如图8A所示，形成与蒸镀掩模102的上表面及支承架110的构成窗110a的侧面110b接触的连接部120。由此，蒸镀掩模102和支承架110被固定。
连接部120也可以形成为其厚度与抗蚀剂掩模150的厚度相同。或者，连接部120也可以形成为厚度比抗蚀剂掩模150的厚度小，如图8A所示，还可以形成为比其大。在连接部120的厚度比抗蚀剂掩模150的厚度大的情况下，能够对蒸镀掩模102和支承架110间赋予更牢固的结合力。另一方面，因为通过以具有抗蚀剂掩模150的厚度以下的厚度的方式形成连接部120，来防止在抗蚀剂掩模150上形成连接部120，所以能够在抗蚀剂掩模150的去除时防止连接部120被破坏，或者由此引起的开口102a损坏等不良情况。
然后，通过使用剥离液的蚀刻和/或灰化等来去除抗蚀剂掩模150(图8B)，进而将剥离层132从蒸镀掩模102剥离，由此能够制作蒸镀掩模单元100。这时，虚设图案104也从支承架110分离，最终成为图3所示的形状。
如上所述，在本实施方式中，对光固化性树脂膜136b进行二次曝光。在第一次曝光中，隔着保护膜136c照射光，第二次曝光在去除了保护膜136c之后进行。这样，通过进行曝光，能够由抗蚀剂掩模150可靠地保护多个开口102a，在接下来的电镀中，能够防止开口102a内被电镀。其结果是，能够以高成品率制造蒸镀掩模单元100。使用图9A至图9C对该理由进行说明。
在现有方法中，在使用抗蚀剂膜136保护开口102a时，在去除了剥离膜136a之后，在蒸镀掩模102上配置抗蚀剂膜136，进而在剥离了保护膜136c之后，进行曝光。在这种情况下，当剥离了保护膜136c时，光固化性树脂膜136b的表面往往会带电，因此，存在于曝光环境中的灰尘等杂质152容易附着于表面(图9A)。当在这种状态下进行曝光时，在与杂质152重叠的区域中，不能进行充分的曝光。其结果是，该区域的光固化性树脂膜136b在显影时被去除，在抗蚀剂掩模150上产生针孔150a(图9B)。当在针孔150a存在的状态下应用镀敷法形成连接部120时，也会从位于针孔150a之下的蒸镀掩模102开始发生电镀生长，所以开口102a被金属堵塞(参照图9C的箭头)。当堵塞了开口102a时，因为在那一部分被蒸镀的材料的蒸气不能穿过，所以不能在蒸镀区域形成膜。这种不良的发生成为蒸镀掩模单元的成品率降低的原因。
另一方面，当在剥离保护膜136c之前进行曝光时，在保护膜136c的表面附着有杂质的情况下，杂质的下方不会被曝光，在剥离了保护膜136c之后的显影中，在杂质下方的未被曝光的部位形成相同的针孔150a，成为与上述同样的发生不良的原因。
但是，通过本发明的实施方式之一的蒸镀掩模单元100的制作方法，能够有效防止发生上述的不良。即，因为不剥离保护膜136c就进行第一次曝光，所以抗蚀剂膜136的带电得到抑制，杂质附着的概率降低。即使因在附着有杂质152的状态下进行曝光而产生了未被充分曝光的区域136d(图10A)，也因为通过剥离保护膜136c，该杂质152也被去除，所以通过第二次曝光，能够对该区域136d进行充分的曝光(图10B)。另外，即使在剥离了保护膜136c之后附着了新的杂质154，也因为由该杂质154覆盖的部分通过第一次曝光被充分曝光，所以在显影时不会出现针孔。进而，因为杂质154以重叠的方式附着在区域136d上的可能性极其低，所以区域136d通过第二次曝光能够可靠地固化。因此，能够防止产生针孔，能够以高成品率制造蒸镀掩模单元。这也有助于降低蒸镀掩模单元的制造成本。
＜第二实施方式＞
在本实施例中，对上述蒸镀掩模单元100的制造方法的变形例进行说明。在以下变形例中，关于与第一实施方式所述的方法、构造同样或类似的方法、结构，省略说明。
1.变形例1
首先，与第一实施方式同样地制作具备多个开口102a的蒸镀掩模102(图4C)。然后，将剥离膜136a从抗蚀剂膜136剥离，以蒸镀掩模102和保护膜136c夹着光固化性树脂膜136b的方式将抗蚀剂膜136配置在蒸镀掩模102上(图5B)。抗蚀剂膜136设置为覆盖多个开口102a全部。
在本变形例中，在曝光前，去除保护膜136c，并且还使用具有与图5A所示的抗蚀剂膜136同样的构造的抗蚀剂膜(以下，称为第二抗蚀剂膜)140。具体地说，在去除了保护膜136c之后，从依次层叠有剥离膜(未图示)、第二光固化性树脂膜140b、第二保护膜140c而得的第二抗蚀剂膜140去掉剥离膜，以蒸镀掩模102和第二保护膜140c夹着第二光固化性树脂膜140b的方式将第二抗蚀剂膜140配置在蒸镀掩模102上(图11A)。第二抗蚀剂膜140也设置为覆盖多个开口102a全部。此外，第二光固化性树脂膜140b和第二光固化性树脂膜140b的厚度可以相互相同，也可以不同。
接着，在第二光固化性树脂膜140b上配置有第二保护膜140c的状态下，隔着光掩模138进行曝光(图11A)，接下来，剥离第二保护膜140c，隔着光掩模138进行第二次曝光(图11B)。然后，通过进行显影而去除未曝光部，来形成抗蚀剂掩模150(图12A)。
之后，与第一实施方式同样地配置支承架110，使用镀敷法，形成连接部120。由于这些工序与第一实施方式的工序同样，因此省略说明。
在该变形例中，因为使用多个抗蚀剂膜，所以能够形成具有更大厚度的抗蚀剂掩模150。因此，即使以厚度不超过抗蚀剂掩模150的厚度的方式形成连接部120，也能够对蒸镀掩模102与支承架110间赋予牢固的结合力。进而，不需要以覆盖抗蚀剂掩模150的方式形成连接部120。因此，在连接部120的形成后，在使用剥离液去除抗蚀剂掩模150时，能够防止连接部120因伴随抗蚀剂掩模150的膨润而来的表观上的体积膨胀而损坏。
在本变形例中，也不剥离第二保护膜140c，而是隔着第二保护膜140c进行第一次曝光。因此，与第一实施方式的制造方法同样，杂质的附着概率低。另外，即使在第二保护膜140c上附着有杂质152的状态下进行曝光，也因为其后剥离第二保护膜140c，进行第二次曝光，所以由杂质152引起的未曝光部分被曝光。因此，在显影时，能够有效防止在抗蚀剂掩模150上产生针孔，由此，能够低成本地以高成品率制造蒸镀掩模单元。
此外，虽然未图示，但抗蚀剂膜的数量不限定于两张，也可以使用三张以上。在这种情况下，在仅残留有配置于最上层的抗蚀剂膜的保护膜的状态下，只要隔着该保护膜进行第一次曝光，其后在去除了该保护膜之后进行第二次曝光即可。
2.变形例2
在本变形例中，也与变形例1同样，使用多个抗蚀剂膜。但是，在如下方面与变形例1不同，即，在通过第一次曝光仅使光固化性树脂膜136b曝光之后，对光固化性树脂膜136b和第二光固化性树脂膜140b进行第二次曝光。
具体地说，与第一实施方式同样，隔着保护膜136c对光固化性树脂膜136b进行第一次曝光(图13A)。接着，去掉保护膜136c，以蒸镀掩模102和第二保护膜140c夹着第二光固化性树脂膜140b的方式将去掉了剥离膜的第二抗蚀剂膜140配置在光固化性树脂膜136b上。然后，对第二光固化性树脂膜140b进行曝光。该第二次曝光也可以在去掉了第二保护膜140c之后进行，或者，如图13B所示，也可以在第二光固化性树脂膜140b上残留有第二保护膜140c的状态下进行。因为其后的工序与变形例1同样，所以省略说明。虽然省略了说明，但在本变形例中，也可以使用三张以上的抗蚀剂膜。在这种情况下，抗蚀剂膜的使用张数和曝光次数相同。
在本变形例中，也因为能够形成具有较大厚度的抗蚀剂掩模150，所以不仅能够对蒸镀掩模102与支承架110间赋予牢固的结合力，而且还能够在抗蚀剂掩模150的去除时防止连接部120损坏。
在本变形例中，不仅第二保护膜140c未剥离，保护膜136c也未剥离，能够隔着它们进行曝光。因此，因保护膜136c或第二保护膜140c的剥离而产生的光固化性树脂膜136b或第二光固化性树脂膜140b的表面带电得到抑制，杂质的附着概率低。另外，即使在保护膜136c上附着有杂质152的状态下进行曝光，也因为配置第二抗蚀剂膜140进行第二次曝光，所以由杂质152引起的未曝光部分被曝光。因此，在显影时，能够有效防止在抗蚀剂掩模150上产生针孔，由此，能够低成本地以高成品率制造蒸镀掩模单元。
3.变形例3
在本变形例中，也与变形例1、2同样，使用多个抗蚀剂膜。但是，在各曝光后进行显影这方面与变形例1、2不同。
具体地说，与第一实施方式同样，将剥离了剥离膜136a的抗蚀剂膜136设置在蒸镀掩模102上，隔着保护膜136c进行曝光(图14A)。然后，去掉保护膜136c，进而，进行显影，形成抗蚀剂掩模150b(图14B)。
然后，将剥离了剥离膜的第二抗蚀剂膜140配置在抗蚀剂掩模150b上(图15A)。第二抗蚀剂膜140的大小也可以比抗蚀剂膜136小，只要是覆盖抗蚀剂掩模150b整体的大小即可。另外，光固化性树脂膜136b的厚度和第二光固化性树脂膜140b的厚度可以相同，也可以不同。
接着，在第二光固化性树脂膜140b上配置有第二保护膜140c的状态下，隔着光掩模138将第二光固化性树脂膜140b曝光(图15A)。之后，通过显影，去除未曝光部，由此在抗蚀剂掩模150b上形成抗蚀剂掩模150c(图15B)。由于之后的工序与第一实施方式同样，因此省略说明。
在本变形例中，也因为由抗蚀剂掩模150b、150c形成具有较大厚度的掩模，所以不仅能够对蒸镀掩模102与支承架110间赋予牢固的结合力，而且还能够在抗蚀剂掩模150b、150c的去除时防止连接部120损坏。
在本变形例中，抗蚀剂掩模150b的形成中的曝光是隔着保护膜136c进行的。因此，杂质的附着概率低。另外，在抗蚀剂掩模150b的形成后，隔着第二保护膜140c对设置于其上的第二抗蚀剂膜140进行曝光。因此，即使因杂质而在抗蚀剂掩模150b上产生了针孔，也以覆盖该针孔的方式形成抗蚀剂掩模150b。因此，能够防止发生由针孔引起的不良，能够低成本地以高成品率制造蒸镀掩模单元。
作为本发明实施方式的上述各实施方式只要不相互矛盾，都能够适当组合来实施。另外，关于本领域技术人员基于各实施方式的制作方法进行了适当工序的追加、省略或条件变更而成的实施方式，只要具备本发明的主旨，也都包含在本发明的范围内。
即使是与上述各实施方式的形态带来的作用效果不同的其他作用效果，关于由本说明书的记载明确的效果、或在本领域技术人员中可容易预测的效果，当然也都应当理解成是由本发明带来的。
Claims (20)
1.一种蒸镀掩模单元的制作方法，其特征在于，包含：
形成具有多个开口的蒸镀掩模的步骤；
将具有光固化性树脂膜和保护膜的抗蚀剂膜，以由所述蒸镀掩模和所述保护膜夹着所述光固化性树脂膜，且所述光固化性树脂膜覆盖所述多个开口的方式配置在所述蒸镀掩模上的步骤；
隔着所述保护膜对所述光固化性树脂膜实施第一曝光的步骤；
去除所述保护膜的步骤；
在去除了所述保护膜之后，对所述光固化性树脂膜实施第二曝光的步骤；
通过使所述光固化性树脂膜显影来形成多个抗蚀剂掩模的步骤；
将具有至少一个窗的支承架以与所述蒸镀掩模接触的方式配置在所述蒸镀掩模上的步骤；和
使用镀敷法形成用于将所述支承架固定于所述蒸镀掩模的连接部的步骤。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于：
所述第一曝光和所述第二曝光是隔着同一光掩模进行的。
3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于：
所述保护膜含有聚烯烃、聚酰亚胺、聚酯、聚苯乙烯或者含氟聚烯烃。
4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于：
所述支承架含有铁和镍。
5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于：
所述连接部的形成是以所述连接部的厚度成为所述多个抗蚀剂掩模的厚度以下的方式进行的。
6.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于：
所述至少一个窗包含多个窗，
所述支承架以所述多个抗蚀剂掩模的至少一个从所述多个窗中的一个窗露出的方式配置在所述蒸镀掩模上。
7.一种蒸镀掩模单元的制作方法，其特征在于，包含：
形成具有多个开口的蒸镀掩模的步骤；
以覆盖所述多个开口的方式将第一光固化性树脂膜配置在所述蒸镀掩模上的步骤；
将具有第二光固化性树脂膜和保护膜的抗蚀剂膜，以由所述蒸镀掩模和所述保护膜夹着所述第二光固化性树脂膜，且所述第二光固化性树脂膜覆盖所述多个开口的方式配置在所述第一光固化性树脂膜上的步骤；
隔着所述保护膜对所述第一光固化性树脂膜和第二光固化性树脂膜实施第一曝光的步骤；
去除所述保护膜的步骤；
在去除了所述保护膜之后，对所述第一光固化性树脂膜和第二光固化性树脂膜实施第二曝光的步骤；
通过使所述第一光固化性树脂膜和第二光固化性树脂膜显影，来形成多个抗蚀剂掩模的步骤；
将具有至少一个窗的支承架以与所述蒸镀掩模接触的方式配置在所述蒸镀掩模上的步骤；和
使用镀敷法形成用于将所述支承架固定于所述蒸镀掩模的连接部的步骤。
8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于：
所述第一曝光和所述第二曝光是隔着同一光掩模进行的。
9.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于：
所述保护膜含有聚烯烃、聚酰亚胺、聚酯、聚苯乙烯或者含氟聚烯烃。
10.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于：
所述支承架含有铁和镍。
11.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于：
所述连接部的形成是以所述连接部的厚度成为所述多个抗蚀剂掩模的厚度以下的方式进行的。
12.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于：
所述至少一个窗包含多个窗，
所述支承架以所述多个抗蚀剂掩模的至少一个从所述多个窗中的一个窗露出的方式配置在所述蒸镀掩模上。
13.一种蒸镀掩模单元的制作方法，其特征在于，包含：
形成具有多个开口的蒸镀掩模的步骤；
将具有第一光固化性树脂膜和第一保护膜的第一抗蚀剂膜，以由所述蒸镀掩模和所述第一保护膜夹着所述第一光固化性树脂膜，且所述第一光固化性树脂膜覆盖所述多个开口的方式配置在所述蒸镀掩模上的步骤；
隔着所述第一保护膜对所述第一光固化性树脂膜实施第一曝光的步骤；
去除所述第一保护膜的步骤；
以覆盖所述多个开口的方式，将具有第二光固化性树脂膜的第二抗蚀剂膜配置在所述第一光固化性树脂膜上的步骤；
对所述第一光固化性树脂膜和所述第二光固化性树脂膜实施第二曝光的步骤；
通过使所述第一光固化性树脂膜和第二光固化性树脂膜显影，来形成多个抗蚀剂掩模的步骤；
将具有至少一个窗的支承架以与所述蒸镀掩模接触的方式配置在所述蒸镀掩模上的步骤；和
使用镀敷法形成用于将所述支承架固定于所述蒸镀掩模的连接部的步骤。
14.根据权利要求13所述的制作方法，其特征在于：
所述第一曝光和所述第二曝光是隔着同一光掩模进行的。
15.根据权利要求13所述的制作方法，其特征在于：
所述第一保护膜含有聚烯烃、聚酰亚胺、聚酯、聚苯乙烯或者含氟聚烯烃。
16.根据权利要求13所述的制作方法，其特征在于：
所述第二抗蚀剂膜包含第二保护膜，
去除了所述第一保护膜之后的所述第一光固化性树脂膜和第二光固化性树脂膜的所述第二曝光是隔着所述第二保护膜进行的。
17.根据权利要求16所述的制作方法，其特征在于：
所述第二保护膜含有聚烯烃、聚酰亚胺、聚酯、聚苯乙烯或者含氟聚烯烃。
18.根据权利要求13所述的制作方法，其特征在于：
所述支承架含有铁和镍。
19.根据权利要求13所述的制作方法，其特征在于：
所述连接部的形成是以所述连接部的厚度成为所述多个抗蚀剂掩模的厚度以下的方式进行的。
20.根据权利要求13所述的制作方法，其特征在于：
所述至少一个窗包含多个窗，
所述支承架以所述多个抗蚀剂掩模的至少一个从所述多个窗中的一个窗露出的方式配置在所述蒸镀掩模上。
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