JP7059839B2 - 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、蒸着パターン形成方法、および有機半導体素子の製造方法 - Google Patents
蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、蒸着パターン形成方法、および有機半導体素子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7059839B2 JP7059839B2 JP2018131663A JP2018131663A JP7059839B2 JP 7059839 B2 JP7059839 B2 JP 7059839B2 JP 2018131663 A JP2018131663 A JP 2018131663A JP 2018131663 A JP2018131663 A JP 2018131663A JP 7059839 B2 JP7059839 B2 JP 7059839B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin
- resin plate
- manufacturing
- laser
- vapor deposition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 31
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 13
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 71
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 71
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 46
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 23
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 claims description 22
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 12
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 claims 1
- 238000007736 thin film deposition technique Methods 0.000 claims 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 10
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 3
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- -1 Polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920005648 ethylene methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920006350 polyacrylonitrile resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
図1は、本開示の実施形態にかかる蒸着マスクの製造方法の工程図である。
図1(a)に示すように、本製造方法においては、樹脂板10を準備する工程が行われる。
図1(b)に示すように、本製造方法においては、樹脂板を準備する工程に次いで、第1レーザー照射工程が行われる。
図1(c)に示すように、本製造方法においては、第1レーザー照射工程に次いで、第2レーザー照射工程が行われる。
次に、本開示の実施形態にかかる蒸着マスク製造装置について説明する。
本開示の実施形態にかかる蒸着マスク製造方法、および蒸着マスク製造装置において製造された蒸着マスクは、種々の分野において、蒸着パターンを形成することに利用可能である。
15・・・開口部
Claims (4)
- 蒸着マスクの製造方法であって、
樹脂板を準備する工程と、
前記樹脂板に対して、前記樹脂板への吸収係数が1[1/μm]以上の波長のレーザーを照射する第1レーザー照射工程と、
前記樹脂板に対して、前記樹脂板への吸収係数が1[1/μm]未満の波長のレーザーを照射する第2レーザー照射工程と、を含む蒸着マスクの製造方法。 - 蒸着マスク製造装置であって、
樹脂板にレーザーを照射して開口部を形成するためのレーザー照射部を含み、
前記レーザー照射部は、
前記樹脂板への吸収係数が1[1/μm]以上の波長のレーザーと、前記樹脂板への吸収係数が1[1/μm]未満の波長のレーザーと、を照射可能である蒸着マスク製造装置。 - 蒸着法による蒸着パターン形成方法であって、
前記請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法で製造された蒸着マスクを使用する、蒸着パターン形成方法。 - 有機半導体素子の製造方法であって、
前記請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法で製造された蒸着マスクを使用する、有機半導体素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018131663A JP7059839B2 (ja) | 2018-07-11 | 2018-07-11 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、蒸着パターン形成方法、および有機半導体素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018131663A JP7059839B2 (ja) | 2018-07-11 | 2018-07-11 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、蒸着パターン形成方法、および有機半導体素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020007622A JP2020007622A (ja) | 2020-01-16 |
JP7059839B2 true JP7059839B2 (ja) | 2022-04-26 |
Family
ID=69150892
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018131663A Active JP7059839B2 (ja) | 2018-07-11 | 2018-07-11 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、蒸着パターン形成方法、および有機半導体素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7059839B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7391719B2 (ja) | 2020-03-05 | 2023-12-05 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスクユニットの作製方法 |
CN115799047A (zh) * | 2021-09-10 | 2023-03-14 | 隆基绿能科技股份有限公司 | 一种薄膜掩膜 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012113773A (ja) | 2010-11-22 | 2012-06-14 | Dainippon Printing Co Ltd | サスペンション用基板、サスペンション用基板の製造方法、サスペンション、素子付サスペンションおよびハードディスクドライブ |
JP2017014620A (ja) | 2015-07-03 | 2017-01-19 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク準備体、有機半導体素子の製造方法、及び蒸着マスク |
JP2017082313A (ja) | 2015-10-30 | 2017-05-18 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 成膜マスクの製造方法 |
JP2018024932A (ja) | 2016-08-05 | 2018-02-15 | 新日鉄住金化学株式会社 | 蒸着マスク及びその製造方法並びに蒸着マスク用積層体及びその製造方法 |
JP2018070933A (ja) | 2016-10-27 | 2018-05-10 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク準備体、有機半導体素子の製造方法、及び有機elディスプレイの製造方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05299845A (ja) * | 1992-04-23 | 1993-11-12 | Fujitsu Ltd | 薄膜多層回路基板の製造方法 |
JP3101421B2 (ja) * | 1992-05-29 | 2000-10-23 | 富士通株式会社 | 整形金属パターンの製造方法 |
-
2018
- 2018-07-11 JP JP2018131663A patent/JP7059839B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012113773A (ja) | 2010-11-22 | 2012-06-14 | Dainippon Printing Co Ltd | サスペンション用基板、サスペンション用基板の製造方法、サスペンション、素子付サスペンションおよびハードディスクドライブ |
JP2017014620A (ja) | 2015-07-03 | 2017-01-19 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク準備体、有機半導体素子の製造方法、及び蒸着マスク |
JP2017082313A (ja) | 2015-10-30 | 2017-05-18 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 成膜マスクの製造方法 |
JP2018024932A (ja) | 2016-08-05 | 2018-02-15 | 新日鉄住金化学株式会社 | 蒸着マスク及びその製造方法並びに蒸着マスク用積層体及びその製造方法 |
JP2018070933A (ja) | 2016-10-27 | 2018-05-10 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク準備体、有機半導体素子の製造方法、及び有機elディスプレイの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020007622A (ja) | 2020-01-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4951241B2 (ja) | 微細加工方法 | |
JP7059839B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、蒸着パターン形成方法、および有機半導体素子の製造方法 | |
JP2007050250A (ja) | 粒子治療設備の粒子線の粒子エネルギー分布拡大装置、粒子線監視及び粒子線調節ユニット及び方法 | |
JP2007526491A (ja) | 正確に位置合わせされた開口マスクを持つマイクロレンズアレイおよびその製造方法 | |
US9520335B2 (en) | Wavelength selective heat radiation material selectively radiating heat radiation light corresponding to infrared ray transmission wavelength region of resin member and method for manufacturing the same | |
WO2016059928A1 (ja) | 曲面回折格子の型の製造方法、曲面回折格子の製造方法、曲面回折格子、および光学装置 | |
JP6215837B2 (ja) | 伸縮変形可能な光学素子の生産方法及びそれにより得られる素子 | |
CN109425612B (zh) | 检查用晶片和能量分布的检查方法 | |
KR102086187B1 (ko) | 절두 렌즈, 절두 렌즈의 쌍 및 상응하는 장치의 제조 | |
JP2001156017A5 (ja) | レーザー装置及び処理方法 | |
Bashir et al. | Surface and structural modifications of titanium induced by various pulse energies of a femtosecond laser in liquid and dry environment | |
Barthels et al. | High precision ultrashort pulsed laser drilling of thin metal foils by means of multibeam processing | |
Parvin et al. | Regular self-microstructuring on CR39 using high UV laser dose | |
WO2016112975A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum lösen eines substrats von einem substratstapel | |
JP6837905B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
US9527730B2 (en) | Micropattern generation with pulsed laser diffraction | |
DE102017205635A1 (de) | Verfahren und Fertigungssystem zur Herstellung mikroelektronischer Komponenten mit Schichtaufbau | |
JP6168726B2 (ja) | 光学フィルタ | |
JP5498206B2 (ja) | 電磁波集光シート | |
US20170363880A1 (en) | Direct laser writing of 3-d gratings and diffraction optics | |
Giannuzzi et al. | 1-D and 2-D surface structuring of steel by bursts of femtosecond laser pulses | |
Mezera et al. | Laser-induced periodic surface structures (LIPSS) manufacturing by defocused laser processing | |
Lorenz et al. | Nanosecond laser-induced ablation and laser-induced shockwave structuring of polymer foils down to sub-µm patterns | |
CN205927544U (zh) | 用超短激光脉冲在光学透明薄层上打出精密孔的装置 | |
JP5057202B2 (ja) | 微細構造体の製造方法および製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210525 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220308 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220315 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220328 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7059839 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |