JP2020007622A - 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、蒸着パターン形成方法、および有機半導体素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本開示の実施形態にかかる蒸着マスクの製造方法の工程図である。
図1(a)に示すように、本製造方法においては、樹脂板10を準備する工程が行われる。
図1(b)に示すように、本製造方法においては、樹脂板を準備する工程に次いで、第1レーザー照射工程が行われる。
図1(c)に示すように、本製造方法においては、第1レーザー照射工程に次いで、第2レーザー照射工程が行われる。
次に、本開示の実施形態にかかる蒸着マスク製造装置について説明する。
本開示の実施形態にかかる蒸着マスク製造方法、および蒸着マスク製造装置において製造された蒸着マスクは、種々の分野において、蒸着パターンを形成することに利用可能である。
15・・・開口部
Claims (4)
- 蒸着マスクの製造方法であって、
樹脂板を準備する工程と、
前記樹脂板に対して、前記樹脂板への吸収係数が1[1/μm]以上の波長のレーザーを照射する第1レーザー照射工程と、
前記樹脂板に対して、前記樹脂板への吸収係数が1[1/μm]未満の波長のレーザーを照射する第2レーザー照射工程と、を含む蒸着マスクの製造方法。 - 蒸着マスク製造装置であって、
樹脂板にレーザーを照射して開口部を形成するためのレーザー照射部を含み、
前記レーザー照射部は、
前記樹脂板への吸収係数が1[1/μm]以上の波長のレーザーと、前記樹脂板への吸収係数が1[1/μm]未満の波長のレーザーと、を照射可能である蒸着マスク製造装置。 - 蒸着法による蒸着パターン形成方法であって、
前記請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法で製造された蒸着マスクを使用する、蒸着パターン形成方法。 - 有機半導体素子の製造方法であって、
前記請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法で製造された蒸着マスクを使用する、有機半導体素子の製造方法。
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