CN113330547A - 装载端口模块 - Google Patents

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R·索诺加托夫
R·卡尔森
M·克罗拉克
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Abstract

一种衬底装载装置包括：框架，其适于连接到衬底处理设备，该框架具有运输开口，衬底通过该运输开口被运输到处理设备；盒支撑件，其连接到框架以用于将至少一个衬底盒容器保持靠近运输开口，该支撑件被构造成使得容器的密封的内部气氛在容器的预定的出入位置处从支撑件出入，并且该盒支撑件具有预定的连续稳态压差增压室区域，该预定的连续稳态压差增压室区域至少部分地由产生压差的流体流的边界确定，使得该预定的连续稳态压差增压室区域限定连续稳态流体流隔离屏障，该连续稳态流体流隔离屏障在容器的预定的出入位置和支撑件的将其他预定区域与预定的出入位置隔离的另一个预定区段之间设置在支撑件上。

Description

装载端口模块
相关申请的交叉引用
本非临时申请要求2018年11月28日提交的美国临时申请号62/772,376的优先权和利益，该申请的公开内容通过引用整体并入本文中。
技术领域
本公开的各方面通常涉及衬底处理设备，且更特别地，涉及用于衬底处理设备的改进的装载端口模块。
背景技术
在半导体制造（也称为“工厂（fab）”）环境中，在一些半导体制造期间，装载端口经受腐蚀性气体（例如，诸如溴化氢气体、盐酸气体等），这些腐蚀性气体可能对装载端口的暴露部件产生不利影响。装载端口的这些暴露部件通常涂有防腐蚀涂层，以缓解暴露于腐蚀性气体的风险。
由于例如气流（诸如，来自装载端口的吹扫通风口或其他气体源）不可预测的本质，提供其他腐蚀性气体缓解已证明是困难且昂贵的，所述气流不可预测的本质是由于例如以下几点：由装载端口保持的前开式晶圆传送盒（称为“FOUP”）的不同几何形状；FOUP内各部件的脱气量可随FOUP的不同而不同，由FOUP保持的晶圆或衬底的数量可随FOUP的不同而不同，等。在可能经受或可能不经受腐蚀性气体的装载端口部件上提供涂层增加了装载端口的成本。另外，修改装载端口以适应涂层和/或重新引导腐蚀性气体还增加了成本、增加了装载端口的复杂性以及增加了装载端口的制造提前期。
发明内容
无。
附图说明
在以下描述中，结合附图解释了本公开的前述方面和其他特征，其中：
图1A是根据本公开的各方面的衬底处理设备的示意性透视图；
图1B是根据本公开的各方面的衬底处理设备的示意性图示；
图1C是根据本公开的各方面的衬底处理设备的示意性图示；
图2是根据本公开的各方面的图1A-1C的衬底处理设备中的任一者的装载端口模块的示意性图示；
图3是根据本公开的各方面的图2的装载端口模块的示意性图示；
图4A-4D是根据本公开的各方面的图2的装载端口模块的一部分的示意性图示；
图5是根据本公开的各方面的图2的装载端口模块的一部分的示意性图示；
图6A和图6B是衬底运输容器的示意性图示；
图7A和图7B是根据本公开的各方面的图1A-1C中的任一者的衬底处理设备的一部分的示意性图示；
图8A是根据本公开的各方面的用于将容器联接到衬底处理设备的流程图；
图8B是根据本公开的各方面的用于将容器与衬底处理设备解除联接的流程图；
图9是根据本公开的各方面的图2的装载端口模块的一部分的示意性图示；
图10A是根据本公开的各方面的图2的装载端口模块的一部分的示意性图示；
图10B是根据本公开的各方面的图2的装载端口模块的一部分的示意性图示；
图11是根据本公开的各方面的图2的装载端口模块的一部分的示意性图示；
图12是根据本公开的各方面的图2的装载端口模块的一部分的示意性图示；
图13是根据本公开的各方面的图2的装载端口模块的一部分的示意性图示；
图14是根据本公开的各方面的示例性流程图；以及
图15是根据本公开的各方面的示例性流程图。
具体实施方式
参考图1A，图示了结合本公开的特征的衬底处理设备10的透视图。尽管将参考附图中所示的方面来描述本公开，但是应理解，本公开可以以方面的许多替代形式来具体实施。另外，可使用任何合适的尺寸、形状或类型的元件或材料。
在图1A中所图示的方面中，已仅出于示例目的将设备10示为具有一般的衬底批处理工具构型。在替代的实施例中，衬底处理设备可具有任何其他合适的构型，因为本发明的特征（如下文将更详细描述的）同样适用于任何衬底处理工具构型，包括用于单独衬底处理的工具和/或线性工具站，诸如在图1B和图1C中所图示并且在2006年5月26日提交的标题为“Linearly Distributed Semiconductor Workpiece Processing Tool”的美国专利申请号11/442,511中所描述的用于单独衬底处理的工具和/或线性工具站，该申请的公开内容通过引用整体并入本文中。设备10可能够运送和处理任何期望的类型的平板或衬底，诸如200 mm或300 mm半导体晶圆、半导体封装衬底（例如，高密度互连件）、半导体制造过程成像板（例如，掩模或分划板）、以及用于平板显示器的衬底。设备10可通常包括前面区段12和后面区段14。前面区段12（为了方便起见，术语前面在这里用于识别示例性参考系，并且在替代的实施例中，设备的前面可建立在设备的任何期望的侧上）。前面区段12具有提供允许将来自工厂的衬底传入设备10的内部中的接口的系统（如下文将更详细描述的）。前面区段12还通常具有壳体16和自动化部件，这些自动化部件位于壳体中、在后面区段14和通向外部的前面区段接口之间运送衬底。后面区段14连接到前面区段的壳体16。设备的后面区段14可具有受控气氛（例如，真空、惰性气体），并且通常包括用于处理衬底的处理系统。例如，后面区段可通常包括具有衬底运输装置的中心运输腔室、以及用于对设备内的衬底执行期望的制造过程（例如，蚀刻、材料沉积、清洁、烘焙、检查等）的周边处理模块。在工厂内，衬底可在容器T（也称为载体）中运输到处理设备10。容器T可被定位在前面区段接口上或靠近前面区段接口。可在前面区段12中使用自动化部件将衬底从容器通过接口（诸如，BOLTS（开箱器/装载机对工具标准）接口）带到前面区段12中。然后，可经由装载锁将衬底运输到受气氛控制的后面区段，以在处理模块中的一者或多者中进行处理。随后可以以基本上反转的方式将处理过的衬底返回到前面区段12且然后返回到运输容器T以进行移除。
前面区段12（其可另称为环境前端模块或EFEM）可具有限定受保护的环境或微环境的壳或外壳，衬底可在该受保护的环境或微环境中出入和运送并且在用于在FAB内运输衬底的运输容器T和提供到后面处理区段14中的受控气氛的入口的装载锁14L之间具有最小的污染潜在性。装载端口或装载端口模块24（如下文将进一步描述的，数量为一个或多个）位于前面区段的一个或多个侧上，从而提供前面区段和FAB之间的接口。装载端口模块可基本上类似于在2014年9月2日授权的标题为“Load Port Module”的美国专利号8,821,099中所描述的装载端口模块，该专利的公开内容通过引用整体并入本文中。装载端口模块24可具有在EFEM内部和外部之间形成可闭合接口（诸如，BOLTS接口）的可闭合端口30P。如图1A中所见，装载端口模块可具有用于衬底运输容器T的支撑区域。还可在该支撑区域下面提供可暂时缓冲运输容器的次级保持区域。运输容器支撑区域可允许将支撑在其上的运输容器T自动地移动到最终或对接的位置。当运输容器处于对接的位置中时，装载端口模块的端口门可接合运输容器以便打开运输容器，同时还打开装载端口框架中的出入端口30P，以提供到运输容器内的衬底的通路（access）以及用于在容器和EFEM内部之间运输衬底的通路。可通过独立地可操作的键实现端口门和运输容器之间的接合，如美国专利号8,821,099中所描述的。根据本公开的各方面，本文中所描述的（多个）装载端口模块24包括在装载端口24的往复件52上或邻近于该往复件的压差增压室空间或区域。如本文中将描述的，压差增压室基本上遏制（contain）和/或排空可从设置在往复件上并与装载端口24接口连接的衬底运输容器T通过容器门密封件逸出和/或基本上在开始（和/或基本上在结束）由装载端口24对衬底运输容器T进行吹扫/排气时逸出的任何腐蚀性气体（例如，被排气的气体）。压差增压室还可基本上遏制和/或排空基本上在由装载端口24打开衬底运输容器T门时逸出或被排气的腐蚀性气体。压差增压室可基本上防止腐蚀性气体与例如装载端口24的任何合适的部件接触，这些部件包括但不限于印刷电路板（PCB）74（图5）、（多个）线性轴承283（图3）、马达（见例如马达53（图4D））、传感器（见传感器T12-T20（图4B）、传感器68O（图5）、开关68（图5）、传感器92（图4C））、（多条）线束72（图4D）、（多个）检测系统110（图2）和/或装载端口24的在设置于装载端口24上的容器T附近的其他合适的部件。
现在参考图1B，示出了线性衬底处理系统2010的示意性平面图，其中工具接口区段2012安装到转移腔室模块3018，使得接口区段2012大致面朝（例如，向内）转移腔室3018的纵向轴线X但从该纵向轴线偏移。转移腔室模块3018可通过将其他转移腔室模块3018A、3018I、3018J附接到接口2050、2060、2070而沿任何合适的方向延伸，如美国专利申请号11/442,511中所描述的，该专利先前通过引用并入本文中。每个转移腔室模块3018、3019A、3018I、3018J包括用于贯穿处理系统2010运输衬底并且进出例如处理模块PM的衬底运输件2080。如可认识到的，每个腔室模块可能够保持隔离的、受控的或密封的气氛（例如，N2、清洁空气、真空）。
参考图1C，示出了示例性处理工具410的示意性正视图，诸如可沿着线性转移腔室416的纵向轴线X截取。在一个方面中，如图1C中所示，工具接口区段12可代表性地连接到转移腔室416。在该方面中，接口区段12可限定工具转移腔室416的一端。如图1C中所见，转移腔室416可例如在与接口区段12的相对端处具有另一个工件入口/出口站412。在其他方面中，可提供用于从转移腔室插入/移除工件的其他入口/出口站，诸如在工具转移腔室416的端部之间。在本公开的一个方面中，接口区段12和入口/出口站412可允许从工具装载和卸载工件。在其他方面中，工件可从一端被装载到工具中并从另一端移除。在一个方面中，转移腔室416可具有一个或多个转移腔室模块18B、18i。每个腔室模块可能够保持隔离的、受控的或密封的气氛（例如，N2、清洁空气、真空）。如前所述，转移腔室模块18B、18i、装载锁模块56A、56B和形成图1C中所示的转移腔室416的工件站的构型/布置仅仅是示例性的，并且在其他方面中，转移腔室可具有以任何期望的模块化布置来设置的更多或更少的模块。在一个方面中，站412可以是装载锁。在其他方面中，装载锁模块可位于端部入口/出口站（类似于站412）之间，或者邻接的转移腔室模块（类似于模块18i）可被构造成作为装载锁操作。还如前所述，转移腔室模块18B、18i具有位于其中的一个或多个对应的运输设备26B、26i。相应的转移腔室模块18B、18i的运输设备26B、26i可协作以在转移腔室中提供线性分布的工件运输系统420。在其他方面中，转移腔室模块18B可被构造成允许任何合适的运输车（未示出）沿着线性转移腔室416的长度的至少一部分在转移腔室模块18B之间行进。如可认识到的，运输车900可包括安装到其并且基本上类似于本文中所描述的那些运输设备的任何合适的运输设备。如图1C中所示，在一个方面中，运输设备26B的臂可布置成提供可称为快速交换布置的布置，其允许运输件从拾取/放置位置快速交换晶圆，如下文也将进一步详细描述的。运输臂26B可具有合适的驱动区段，用于与常规驱动系统相比从简化的驱动系统向每个臂提供三（3）个（例如，绕肩部和肘部关节的独立旋转并具有Z轴运动）自由度。在其他方面中，驱动区段可向臂提供多于或少于三个自由度。如图1C中所见，在一个方面中，模块56A、56、30i可填隙地位于转移腔室模块18B、18i之间并且可限定合适的处理模块、（多个）装载锁、（多个）缓冲站、（多个）计量站或者（多个）任何其他期望的站。例如，填隙模块（诸如，装载锁56A、56以及工件站30i）可各自具有静止的工件支撑件/搁架56S、56S1、56S2、30S1、30S2，所述工件支撑件/搁架可与运输臂协作以实现运输或工件沿着转移腔室的线性轴线X通过转移腔室的长度。举例来说，（多个）工件可通过接口区段12被装载到转移腔室416中。（多个）工件可用接口区段的运输臂15被定位在装载锁模块56A的（多个）支撑件上。在装载锁模块56A中，（多个）工件可通过模块18B中的运输臂26B在装载锁模块56A和装载锁模块56之间移动，并且以类似和连续的方式，用臂26i（在模块18i中）在装载锁56和工件站30i之间移动以及用模块18i中的臂26i在站30i和站412之间移动。该过程可完全或部分被反转以沿相反方向移动（多个）工件。因此，在一个方面中，工件可沿着轴线X沿任何方向移动并且沿着转移腔室移动到任何位置，并且可被装载到与转移腔室连通的任何期望的模块（处理或者其他）以及从任何期望的模块卸载。在其他方面中，在转移腔室模块18B、18i之间可不提供具有静态的工件支撑件或搁架的填隙转移腔室模块。在本公开的这种方面中，邻接的转移腔室模块的运输臂可将工件直接（或通过使用缓冲站）从端部执行器或一个运输臂传递到另一个运输臂的端部执行器，以将工件移动通过转移腔室。处理站模块可通过各种沉积、蚀刻或其他类型的过程在衬底上操作以在衬底上形成电路或者其他期望的结构。处理站模块连接到转移腔室模块，以允许将衬底从转移腔室传递到处理站，且反之亦然。在美国专利申请序列号11/442,511中描述了具有与图1C中所描绘的处理设备类似的一般特征的处理工具的合适示例，该申请先前通过引用并入本文中。
参考图1A和图2（图2是根据本公开的该示例性方面的处理设备的装载端口模块24的透视图），装载端口模块24具有框架29，该框架可大致限定（如前所述）运输容器保持或支撑区域28和可闭合端口30P，衬底通过该可闭合端口运输进出前面区段壳体16内部的微环境。装载端口模块24可基本上类似于在2014年9月2日授权的标题为“Load Port Module”的美国专利号8,821,099中所描述的装载端口模块，该专利的公开内容通过引用整体并入本文中。如下文将进一步描述的，EFEM的壳体16和装载端口模块24连接以形成从外部基本上闭合的腔室或空间25，并且如前所述，在前面区段12（也称为EFEM）内提供受控的或微环境。例如，前面区段可包括受控的空气流系统（未示出），诸如通风口、百叶窗、层流系统，以避免颗粒污染物进入前面区段12中的微环境。如图1A和图2中所见，装载端口模块24的运输容器保持区域28可具有初级或第一站36和次级站34。在该方面中，保持区域28的每个站36、34可能够保持运输容器T，然而在替代的实施例中，运输容器保持区域可具有更多或更少的保持站，并且每个保持站可能够支撑任何期望数量的衬底运输容器。被示为安置在保持站36、34上的运输容器T（图1A）出于示例目的被描绘为前开式晶圆传送盒（FOUP）型容器，然而在替代的实施例中，装载端口保持区域的保持站可能够支撑任何期望的类型的运输容器，诸如SMIF容器。
在图1A中所示的方面中，出于示例目的，前面区段12具有位于前面区段12的前面的面（front face）12F上的装载端口模块24。在该位置中，装载端口模块24可被定位成促进使用任何合适的自动化材料运送系统（AMHS）（未示出）将运输容器T放置到装载端口模块保持区域28的至少一个保持站34、36上和从所述至少一个保持站移除运输容器T。如图1A-2中所见，装载端口模块保持区域28从前面区段的面12F向前突出，并且用于用AMHS将运输容器T移除/放置到保持区域28上的通路可以是从顶部或前面。在替代的实施例中，装载端口模块可根据需要位于前面区段的其他侧上。在再其他替代的实施例中，装载端口模块可位于前面区段12的两个或更多个侧上。如图2中所见，该示例性方面中的装载端口模块24可具有从装载端口模块24的底板向外突出的延伸区38。
再次参考图1A-3，装载端口模块24的运输容器保持区域28可具有上部支撑站36和下部支撑站34，每个支撑站36、34可能够保持或支撑如图1A中所示的运输容器T。在该方面中，下部站34大致位于上部站36下面。下部站34可包括能够适形地接合运输容器T的结构的相反的构件34L（图3中仅示出了其中一个），使得当运输容器放置在下部站34中时，从构件34L支撑运输容器。图6A-6B分别是示例性衬底运输容器T的前视透视图和底视透视图。图6A-6B中的容器T被示为具有FOUP型构型。在替代的实施例中，衬底容器可具有任何其他期望的构型，如图6A中最佳地所见，运输容器T通常具有外壳T2和可移除地连接到外壳的外壳盖或门T4。外壳T4具有上部表面T6，该上部表面具有从其突出的固定装置（fixture）T8。固定装置T8可包括从外壳的上部表面T6偏移某一距离的侧向凸缘或向外突出的安置表面T10。安置表面T10可以是符合SEMI；E47.1-1001的运送凸缘的一部分。安置表面T10可用于接合自动化材料运送系统的容器运输器的联接部分（未示出）并由此支撑来自运输器的容器。再次参考图2-3，在该方面中，装载端口模块保持区域28上的下部站34的支撑构件34L被示为具有角度或大致L形构型。构件34L具有如图所示的向内突出的凸缘34F。在替代的实施例中，支撑构件34L可具有任何其他合适的形状。支撑构件34L可以是例如金属、塑料、或任何其他合适的材料，并且可如图3中所示连接到装载端口框架29的支撑结构296。向内指向的凸缘34F的尺寸被设置成接纳在运输容器上的安置表面T10（见图6A）和容器的上部表面T6之间。相反的构件34L的凸缘34F充分地分离以允许容器T的支撑固定装置T8插入凸缘之间，其中向外突出的安置表面T10悬于（至少部分地）对应的凸缘34F之上。因此，当被装载到下部站34中时，通过安置在凸缘34F上的安置表面T10来支撑运输容器T。
在该方面中，操作者可通过插入容器T（沿由图2中的箭头I指示的方向）使得固定装置T8在凸缘34F之间移动而将该容器手动地定位在下部站34上。在替代的实施例中，下部支撑站的支撑构件可具有任何其他期望的取向，以允许从任何其他期望的方向来定位运输容器。可以以基本上反转的方式实现从下部站34移除运输容器T，其中用户沿与安装相反的方向手动地撤回容器。下部支撑站34向装载端口模块提供了另一个容器存放位置，在以下情况下，用户可将运输容器T放置在该另一个容器存放位置处：当上部支撑站36被另一个运输容器占据抑或处于防止将运输容器T放置在上部站上的某种状态（诸如，测试）时。如前所述，在替代的实施例中，装载端口模块可不具有在运输容器保持区域28中的下部支撑站。
现在再次参考图2，装载端口模块24上的运输容器保持区域28的上部支撑站36通常包括基底支撑件或搁架50和可移动地安装在搁架50上的滑架或往复件52。往复件驱动系统54将往复件52可操作地连接到搁架50并且能够在搁架50上移动往复件52。驱动系统54在第一位置和第二位置之间移动往复件（沿由图2中的箭头M指示的方向）。如下文将进一步描述的，往复件52被构造成允许运输容器T放置在其上。第一往复件位置可设置成使得可通过自动化材料运送系统（未示出）将运输容器T自动地定位在滑架上（或从滑架上取下）。如下文将进一步描述的，往复件52可移动到的第二位置定位成使得往复件上的运输容器T可对接到门30D（见图1A）。当往复件处于该第二位置中时，其上的运输容器T位于出于方便的目的将被称为对接位置的位置中。如下文将进一步描述的，控制器400可通信地连接到驱动系统和往复件上的传感器。
如图1A中所见，运输容器T放置在往复件52上，其中容器的底部表面安置在往复件上。因此，如下文将进一步描述的，往复件52被构造成适形地接合运输容器T的底部。图6B是图示示例性衬底运输容器T的底部T3的特征的底视图。在该方面中，运输容器的底部T3具有大致符合SEMI E47.1中的规范的特征。在替代的实施例中，衬底运输容器的底部可具有任何其他期望的特征。在这种情况下，底部T3通常包括容器感测垫T12、前段制程（FEOL）和后段制程（BEOL）信息垫T14、T16每一者各一个、容器容量（即，衬底保持位置的数量）信息垫T18和盒子或盒信息垫T20。容器底部T3可进一步包括用于被往复件52上的定位/运动学联接销66接合的槽T22。进入底部表面中的第一凹部T24被提供为第一保持特征。容器的底部还具有形成在其中的第二保持特征T26。第二保持特征通常包括形成到底部中的通常为圆形的凹部T30，该凹部具有外孔口T32，该外孔口具有基本上做成方形的边缘T34（形成接合唇部T36）。
图4A-4D分别是往复件52和往复件安置在其上的支撑搁架结构的一部分的示意性透视图、顶视平面图、前视正视图和侧视正视图（支撑搁架结构50仅在图4C-4D中可见）。往复件52通常包括底盘或框架55和被定位在底盘上的盖56。往复件52还可通常具有用于帮助将容器T恰当地定位到往复件上的定位特征58、用于将安置的容器T强制（positive）联接到往复件的联接特征60、以及用于检测容器T在往复件52上的存在和准确放置的检测系统62。现在也参考图5，其示出了往复件52的局部剖视图，底盘55可具有任何合适的形状，并且可由任何合适的材料制成，能够支撑与运输容器T在往复件上的放置和移除以及容器和往复件在第一位置和第二位置之间的移动相关联的静态和动态的负载。底盘55可具有允许往复件52（沿由图2中的箭头M指示的方向）相对于装载端口模块框架的支撑搁架50自由地移动的运动系统（未示出），诸如滚子或滑动件。可通过框架29（见图3）的支撑结构296形成图5中部分地示出的支撑搁架50（也见图2）。搁架50可包括形成在框架结构296（例如，顶板296H或侧板296E）上或从该框架结构悬置的轨道或轨条（未示出），底盘55的运动系统骑坐在所述轨道和轨条上。容器定位特征58、联接特征60、检测系统62和盖56安装到底盘55。
如图4A-4B中最佳地所见，在该方面中，往复件52上的容器定位特征58可包括突出的接合构件64。在该方面中，接合构件64可具有大致截头棱锥体形状，其大致适形于容器的底部T3中的定位凹部T24（见图6B）的形状。接合构件64可锚定到底盘55，并且突出穿过盖56中的合适的开口且充分高于盖的上部表面56U，以在容器T安置在往复件52上时接合容器中的定位凹部T24。接合构件64可具有用于与容器定位特征的边缘协作的凸轮表面64C，以便帮助将容器T恰当地自动定位到往复件上。在替代的实施例中，往复件可不具有接合构件（比如构件64）。在该方面中，往复件52可具有定位柱（也称为运动学联接销）66。柱66既可用作帮助将容器T正确地定位在往复件52上的定位特征，以及又可用于提供将容器T强制联接（即，运动学联接）到往复件52的器件。如可从图4B和6B认识到的，柱66被定位在往复件52上以与容器底部T3中的槽T22协作。如图5中所示，可由任何合适的材料（诸如，金属或塑料）形成的柱66可直接锚定到往复件的底盘54。柱66可突出穿过盖56（中的合适的孔）以在槽T22（见图6B）中接合容器的底部。在该方面中，柱66可限定用于往复件上的运输容器T的支撑平面。如图4D和5中所见，柱66的端部或梢端（tip）66T可具有大致圆锥形的或倒圆的形状。这在往复件52和容器的底部之间提供了期望的三个接触点，以精确地和可重复地限定用于往复件上的容器的支撑平面。如可认识到的，柱66支撑容器T的重量，且因此具有诸如图5中所示的径向凸缘之类的构型，以将容器重量分布到底盘。柱66的圆锥形顶部66T还可作为抵靠容器底部中的槽T22的倾斜侧的凸轮表面操作，从而沿着支撑平面机械地引导容器，直到建立往复件上的容器的期望的位置（通过槽T22和柱66的顶部66T的几何形状实现）。
往复件52的检测系统62通常包括分布在往复件的区域上的若干个开关68。开关68可位于往复件52上以与容器的底部上的容器感测垫T12、FEOL和BEOL信息垫T14、T16、容器容量和盒信息垫T18、T20协作。图4B图示了覆在盖56上的容器T的底部上的垫T12-T20和往复件52的开关68的位置。在该方面中，开关68通常为相同的类型且彼此类似，并且下文将参考代表性开关进行描述。在替代的实施例中，可在往复件上的不同位置中使用不同种类的开关，所述位置对应于能够通过容器T的不同的信息垫T16-T20中继到给定开关的不同类型的信息。代表性开关68的架构在图5中最佳地所见。在该方面中，开关68可以是通常包括基底或传感器部分68O和致动部分68I的光电开关。如下文将进一步描述的，致动部分68I为弹簧加载的，并且通过与容器底部上的对应垫接触而被致动。传感器部分68O检测致动部分的致动，从而将信号发送到控制系统。如图5中所见，传感器部分68O可安装在被定位于往复件的底盘55上的PCB 74上。PCB 74可具有形成在其中的用于电力和信号两者传输的迹线68E。迹线68E可终止到合适的表面触点（未示出），电子部件的接触端子可根据需要连接到所述表面触点（使用用于将电子部件安装到PCB上的任何合适的手段，包括齐平波动焊（flushwave soldering））。传感器部分68O的接触端子（电力和信号两者）可以以类似的方式连接到PCB 74中的迹线68E。将电子部件（诸如，开关68的传感器部分68O）安装到具有一体式迹线的PCB（诸如，PCB 74）用于消除原本用于将部件连接到电源和控制系统的单独的导体以及这些单独的导体在底盘上的昂贵并且费时的安装。PCB中的迹线68E可延伸到端子连接器（未示出），例如，柔性线束72（也见图4D）的被连接器化（connectorized）的端部可配对到该端子连接器。如可认识到的，线束可链接PCB 74中的迹线68E，且因此将电子部件（诸如，检测器开关68的传感器部分）链接到控制系统400（见图2）和电源（未示出）。传感器部分68O可具有例如合适的光源（诸如，LED）和光检测器（诸如，光电管）。在开关的未激活状态下，光源可例如照明光电管，这引起传感器部分68O将信号发送（经由迹线68E）到控制系统400，该控制系统将该信号解释为开关68的未激活状态。在阻挡光源（诸如，通过开关的致动部分68I的某一部分）时，来自光电管的信号改变，这进而由控制系统读取为开关现在处于致动状态。在替代的实施例中，传感器部分68O可被构造成使得当开关68处于未激活状态时阻塞光源，并且当处于激活状态时照明光检测器。
如图5中所见，开关68的致动部分68I被集成到往复件52的盖56中。在该方面中，使致动部分68I偏压的弹簧由盖56的一部分形成。往复件52的盖56可例如由塑料或片金属或任何其他合适的材料制成。在该方面中，盖56可以是一件式构件（即，具有一体式构造）。在盖56为塑料的情况下，可例如通过注射模制或任何其他合适的过程形成盖。如图4A-4D中所见，在该方面中，盖56可具有大致六面体形状，其具有上部表面56U和从上部表面突出的周边壁56W。在替代的实施例中，往复件盖可具有任何其他合适的形状。如图2中最佳地所见，当盖56安装在底盘55上时，该盖用于将底盘基本上围封在内，但是在盖周边壁56W的底部边缘和搁架50之间提供微小的间隙，以在最小化灰尘或其他颗粒进入往复件系统中的同时促进往复件的自由相对移动。如图4A中所示，盖的顶部表面56U具有形成在其中的通孔56H。如图5中最佳地所见，孔56H允许柱66延伸穿过盖56。如图5中还示出的，在该方面中，孔56H还用于将盖56定位到往复件底盘55上（孔边缘和对应的柱66之间的间隙足够小，使得柱66提供盖56相对于底盘55的准确定位）。进一步地，如图5中所示，在该方面中，孔56H的边沿安置在柱66的套环66C上，由此从柱支撑盖56。在替代的实施例中，盖可具有用于附接盖和底盘的任何其他期望的安装系统。如图4A-4B中所见，盖的上部表面56U具有形成在其中的若干个弹性的柔性突出部或指状物70。突出部70可通过任何合适的手段形成，诸如切割盖56的顶部表面56U。突出部70的数量可与检测系统62的开关68的数量相符。在该方面中，存在形成到盖的上部表面中的八个突出部70。在替代的实施例中，盖可具有形成在其中的任何其他期望数量的柔性突出部。在其他替代的实施例中，柔性突出部可形成在盖的任何其他期望的表面中。在图4A-4B中所示的方面中，突出部70彼此基本上类似，且因此，突出部70可具有类似的弹性地柔性特性。在替代的实施例中，不同突出部的形状（即，长度、横截面）可变化，以提供具有不同的柔性特性的不同突出部。在该方面中，突出部70的梢端70E位于盖上，使得当将盖安装到底盘时，每个梢端70E基本上被定位在对应开关68（见图5）的传感器部分68O上。在替代的实施例中，突出部可放置成使得突出部的任何其他期望的部分（即，突出部中间区段）被定位在对应开关的传感器部分上。盖的上部表面56U上的突出部取向可根据需要另外选择，以向突出部提供无约束悬臂的柔性。图4A-4B中所示的突出部70的取向仅仅是示例性的，并且突出部可具有任何其他期望的取向。
如图5中最佳地所见，在该方面中，开关68的致动部分68I安装在或位于对应突出部70的梢端70E上。致动部分68I可以具有与突出部70的一体式构造（例如在盖上部表面的模制过程期间形成），或者可用合适的结合手段（诸如，粘合剂）安装到突出部70。致动部分68I从盖的上部表面56U充分地突出以接触放置在柱66上的容器的对应垫T12-T20，并且通过此接触产生突出部70的足够的偏转以移动致动部分的断续器标志部分68F，从而（例如，阻挡光源并且）引起开关68的激活。当从往复件52移除容器T时，柔性突出部70弹回到未偏转位置，从而将开关恢复到未激活状态。如可认识到的，如果容器T没有恰当地放置在往复件上，则在容器的垫T12-T20和开关68的致动部分68I中的至少一些之间可存在一些未对准，使得开关中的至少一些不激活。一些激活的开关和其他未激活的开关的信号组合可由控制系统400解释为指示容器T在往复件上的不恰当放置。然后，控制系统编程可防止往复件52的运动并且命令矫正动作以矫正放置或从往复件移除容器。
如前所述，往复件52可具有用于将运输容器T强制联接到往复件的联接特征60。还如前所述，柱66在往复件运动期间用作往复件和容器之间的运动学联接器件。在该方面中，往复件联接特征60还可包括容器夹持系统61，该容器夹持系统基本上类似于在美国专利号8,821,099中所描述的容器夹持系统，该专利先前通过引用整体并入本文中。
现在再次参考图2和图4A-4D，可通过驱动系统54在往复件52的第一或装载位置和对接的位置之间移动（沿由图2中的箭头M指示的方向）该往复件。如图4C-4D中最佳地所见，在该方面中，往复件驱动系统54通常包括驱动导螺杆57的电动马达53。在替代的实施例中，往复件可具有任何合适类型的驱动系统，诸如气动的或液压的驱动系统。在该方面中，电动马达53可以是任何合适类型的马达，诸如A.C.或D.C.马达、步进马达或伺服马达。马达53可固定地安装到搁架结构50。导螺杆57连接到马达的输出轴。马达可能够既顺时针又逆时针旋转导螺杆。导螺杆57还驱动地接合到沿着（多个）线性轴承283（图3）骑坐的往复件52的底盘55。导螺杆和底盘之间的接合可通过任何合适的手段提供，诸如例如固定到底盘并且被导螺杆可螺纹接合的带螺纹的套筒。导螺杆57通过马达53的旋转导致套筒在导螺杆上的轴向运动，且因此导致底盘和往复件52相对于搁架50（马达53固定到该搁架）的轴向运动。如图4C中所见，马达53通过合适的电路91可通信地连接到控制器400。控制器400可通过电路91将命令信号和电力（来自合适的电源）两者提供给马达53。马达54可包括用于将位置指示数据发送到控制器的马达编码器58E（见图4D）。控制器400可能够处理马达编码器数据以识别装载端口上的往复件的位置。在替代的实施例中，线性编码器可安装在往复件和支撑搁架之间，以识别在移动期间的往复件位置。如图4C中所见，在该方面中，电路91还可包括能够检测对往复件运动的阻挡的挤压保护电路90。挤压保护电路可包括任何合适类型并且具有能够测量到马达53的电流变化的期望的灵敏度的电流传感器92。根据需要，电流传感器92被构造成监测通过电路91供应给马达53的电流。来自传感器92的测量信号通过电路90传输到控制器400。根据需要，挤压保护电路90可以是闭环或开环系统。如可认识到的，当往复件通过驱动马达53前进并且遇到障碍物时，供应给马达（经由电路91）的电流一般而言与由障碍物提供的对往复件运动的阻力水平成比例地增加。“过量”电流被传感器92检测到并且信息经由电路90中继到控制器400。传感器92可能够将原始的或未经处理的传感器数据发送到控制器400。控制器可被编程（诸如，合适的算法）以处理来自传感器的数据，从而从噪声中识别过量电流（其具有足够的水平和足够的持续时间以指示障碍物）何时供应给马达53。控制器400具有自动反转程序402（见图1A），其中，在识别到过量电流时（且因此识别对往复件运动的障碍物时），控制器将命令信号发送到马达53，从而停止先前所命令的操作并且反转马达方向。因此，实现往复件52移动的导螺杆57旋转也被反转，由此引起往复件的移动反转以远离障碍物。往复件可被反转从编码器53E信息确立的预定距离。在替代的实施例中，电流传感器92可以是可编程的，以选择用于检测过量电流的期望的设定点。在这种情况下，电流传感器可在检测到具有超过编程的设定点的水平和持续时间的过量电流时将合适的信号发送到控制器。在接收到来自电流传感器的信号时，控制器访问控制器存储器中的自动反转程序402。这提供了比采用可偏转（即，挤压）棒的常规系统成本更低的优良的障碍物检测和恢复系统。
现在再次参考图2，在所示的方面中的装载端口模块可具有运输容器前进检测系统110（图2中示意性地描绘）。容器前进检测系统110为非接触式系统，其用以检测安装到往复件52和通过该往复件前进的容器T的特征并且实现停止往复件，使得当容器处于对接的位置中时，容器的前面的面处于期望的可重复位置中，而不论不同容器之间的公差变化如何。期望停止装载端口往复件前进运动，使得在容器和装载端口框架29之间不实际接触的情况下，其间存在最小间隙。因为容器尺寸将变化（尤其是在制造之间），因此在常规系统中，通常针对“最坏情况”来调整往复件移动，从而允许在大多数情况下的过大的间隙。装载端口模块24的容器前进检测系统110克服了常规系统的问题，从而允许在L1处的前面的面提供最小间隙的情况下使不同的容器停止。在该方面中，检测系统110具有“穿透束”传感器构型，该传感器构型具有辐射能量的发射器或源和用于检测从发射器辐射的能量的检测器。例如，在该方面中，检测系统110可具有光源112，诸如在连接到合适的远程光源的光纤的终端上的LED或激光二极管。系统110还可具有合适的光感测部分114，诸如用于感测来自源112的光束的光电管。如图2中所见，光源112和传感器114被定位在往复件52的相对侧上并且处于期望的高度，使得安装到往复件52并通过其运输的容器T将打断由源112发射并且至少照明传感器114的感测部分的光束B。虽然未在图2中示出，但是光源112和传感器114可被容纳在合适的盖中，以实现接触和颗粒保护并且防止除了通过往复件52运输的容器以外的物体非故意地中断光束。如图2中所见，传感器112、114沿往复件行进方向（由图2中的箭头M指示）被定位在某个偏移距离处，使得当容器T被往复件带到对接的位置时，光束B与该容器的前面的面的位置L1间隔期望的距离d。如可认识到的，当光束B处于距对接的位置L1距离d处时，通过往复件前进的容器T的前面的面打断该光束。控制器400用距离d进行编程。控制器400还用算法（图1A中的程序模块401）进行编程，该算法使用往复件移动信息（诸如，可通过马达编码器53E（也见图4D）提供给控制器的往复件移动信息）和距离d以确定将何时停止往复件前进移动，使得往复件上的容器T的前面的面处于位置L1处。因此，当前进的容器T的前面的面打断光束B时，传感器114将合适的信号发送给控制器400，从而通知控制器检测到容器的前面的面。如上所述，然后，控制器400可确定何时命令往复件前进停止，并且在正确的时间将命令发送给往复件驱动区段54。以这种方式，通过往复件运输的每个容器T适当地被定位在其对的接位置中以使容器的前面的面处于位置L1处，而不论容器之间的尺寸变化如何。
如图1A中所示，在容器T处于对接的位置中的情况下，容器的门T4可被装载端口模块出入端口30P的门30D接合。在图6A中示意性地图示了容器T的前面的面中的门T4。门T4可包括当接合时将门T4保持在容器盒子中的闩锁系统T40、T42。在1998年6月30日授权并且通过引用整体并入本文中的美国专利号5,772,386中公开了用于容器门的闩锁系统的示例。门闩锁系统T40、T42可包括可枢转的毂T44，闩锁突出部T46可铰接地链接到该毂。毂T44的旋转引起闩锁突出部T46的致动，以接合和脱离接合容器壳体。闩锁毂T44可通过门T4中的闩锁键出入孔T50接近。容器门T4还可具有如图6A中所示的定位器销孔T52。再次参考图2，装载端口模块的出入端口门30D具有呈与容器的门T4中的定位器销孔T52和闩锁键出入孔T50互补或匹配构型的定位器销120和闩锁键122。端口门30D中的定位器销120和闩锁键122可类似于在美国专利号5,772,386（先前通过引用并入本文中）中的定位器销和闩锁键。端口门30D的闩锁键122适形于容器门中的键出入孔T50和闩锁系统的毂T44中的键孔的形状。当端口门30D接合容器门T4时，出入门30D上的闩锁键122通过键出入孔T50进入到形成在容器的毂T44中的键孔中。闩锁键122的旋转引起毂T44的旋转和闩锁系统的致动以接合/脱离接合闩锁突出部，由此从容器锁定或解锁容器门T4。闩锁键122可旋转地安装在出入门结构中，并且以基本上类似于在美国专利申请8,821,099中所描述的方式的方式操作，该申请的公开内容通过引用整体并入本文中。
现在参考图7A和图7B，示出了根据另一个示例性实施例的衬底处理设备或工具1002和连接到其的（多个）容器T的示意性正视图。在图7A中所示的示例性实施例中，处理设备1002大致类似于图1A、图1B和图1C中所图示的衬底处理工具。处理工具1002可大致具有处理区段1006和EFEM 1004（仅出于解释的目的继续参考惯例，其中晶圆可被认为是从前面装载到工具中的）。在示例性实施例中，处理区段1006和EFEM 1004可共享共同的受控环境或气氛（例如，惰性气体（N2）、（Ar）或非常清洁的干燥空气）。处理区段1006被示意性地示出，并且可包括连接到EFEM 1004的一个或多个处理区段或模块（图7A中所示的布置仅仅是示例性的，并且EFEM和（多个）处理区段模块可在替代的实施例中以任何期望的布置彼此连接）。（多个）处理区段或模块1006可能够与EFEM 1004隔离，诸如用可闭合的开口（例如，闸阀）。因此，处理区段也可设置有与EFEM气氛不同的处理气氛。在替代的实施例中，处理区段1006可包括装载锁，该装载锁允许处理模块具有不相似的气氛或将真空保持连接到EFEM，如下文将进一步描述的。
图7A中所示的示例性实施例中的EFEM 1004可类似于上文所描述的EFEM，如另有说明的情况除外。EFEM 1004可包括合适的环境控件以在衬底被运输到处理区段1006和从处理区段1006运输衬底时在EFEM中维持期望的受控环境或气氛。例如，EFEM 1004可包括：控制器31000（其可基本上类似于上文所描述的控制器400）；一个或多个流体控制阀31010、31020；压力释放阀或止回阀31030；以及传感器，诸如例如压力传感器31040、污染传感器31041和温度传感器31042。控制器可被构造成调整或调节EFEM（和处理区段1006）内受控环境的气流31050的属性，诸如温度压力和速率。例如，控制器31000可从压力传感器31040、温度传感器31042和环境污染传感器31041接收信号。取决于那些信号中的环境信息，控制器可通过致动适当的阀31010、31030来释放或增加EFEM内的压力、增加或减少EFEM内的空气流31050。控制器31000还可被构造成基于由温度传感器31042提供的温度读数来增加或减小EFEM内气体的温度（例如，经由调整通过辐射体31060的冷却剂流量）。如可认识到的，虽然关于图7A和图7B描述了控制器31000以及相关联的阀和传感器，但是控制器31000可用于控制本文中所公开的其他实施例的（多种）环境。
EFEM 1004可包括能够保持和运输衬底的衬底运输设备或机器人1004R（如可认识到的，机器人可以是任何期望的类型）。类似于上文所描述的情况，EFEM 1004可包括装载端口24（如本文中所描述的），该装载端口用于将一个或多个容器T接口连接到工具1002并允许将衬底装载到工具1002和从工具1002卸载衬底。EFEM 1004的装载端口24和（多个）容器T的对应的互补接口部分（如本文中所描述的）可被构造成使得能够在容器和EFEM之间装载和卸载衬底，而不使EFEM 1004和处理区段1006中的受控环境劣化。EFEM装载端口24和容器T的互补接口部分（其可统称为容器到EFEM接口）可布置成使得接口连接到EFEM的（多个）容器T被集成到工具中。举例来说，经由装载端口24如此集成的（多个）容器T可限定共享与EFEM相同的受控气氛的（多个）腔室，且因此能够将衬底保持在与EFEM相同的受控气氛中，使得可由EFEM运输机器人1004R将衬底直接从容器T运输到处理区段或处理模块。类似于之前所描述的本公开的各方面，图7A中所示的示例性实施例中的容器到EFEM接口限定了从容器腔室内通过接口进入EFEM并且贯穿处理区段的之前可称为清洁隧道的部分（具有与贯穿EFEM和处理区段基本上相同的清洁度）。清洁隧道可被闭合（诸如，当从装载端口移除（多个）容器时），并且可自由地打开而不对清洁隧道造成劣化。在图7A中所示的方面中，容器到EFEM接口还可布置成使得能够以基本上类似于在2015年8月11日授权的标题为“SideOpening Unified Pod”的美国专利号9,105,673中所描述的方式的方式独立于接口之前的容器环境将容器T与工具直接集成（基本上如上文所描述的），该专利的公开内容通过引用整体并入本文中。因此，在图7A中所图示的方面中，（多个）容器T可与具有不同或不相似的环境（例如，清洁空气到惰性气体环境，或清洁空气到真空）的处理工具接口连接并直接集成到所述处理工具，且然后直接在具有不同或不相似的环境的工具之间运输并且再次与这些工具接口连接和集成，如下文将进一步描述的。因此，可用EFEM机器人1004R直接将具有受控环境的一个工具处的（多个）衬底从处理区段（类似于处理区段1006）通过清洁隧道转移到（多个）容器T中，所述（多个）容器T直接被运输和接口连接到可能地具有不相似/不同的受控环境的另一个工具的EFEM（类似于EFEM 1004），并且用EFEM机器人直接将（多个）衬底通过现在被限定在另一工具中的清洁隧道转移到处理区段，而不使另一处理工具中的受控环境劣化。实际上，容器到EFEM接口与容器的结合可被认为是限定外部装载锁或容器装载锁。
仍然参考图7A，在图7A中所图示的方面中，出于示例目的，装载端口24被示为与一个容器T接口连接，然而在替代的实施例中，装载端口可布置成与任何期望数量的容器接口连接。例如，在替代的方面中，装载端口可具有能够使以某种堆叠排列的若干个容器接口连接的大致堆叠的构型，该堆叠类似于在美国专利号9,105,673中所描述的构型，该专利的公开内容先前已经通过引用整体并入本文中。根据本公开，装载端口24可具有真空源1010V，该真空源能够可连通地连接到保持在装载端口上的（多个）容器T以便对容器进行抽空降压（pump down），例如当容器在装载端口上时从容器内部和其中的衬底清洁掉分子污染物。相反，容器可以以任何合适的方式布置成与装载端口处的真空源1010V可连通地接口连接并在容器被抽空降压到真空时承受容器窗框（casement）中的气压，诸如在美国专利号9,105,673中所描述的情况。
容器T可具有合适的过道（passage）和（多个）孔口或端口776（其可以是真空端口、吹扫气体端口，或者这些端口可以是真空气体源和吹扫气体源两者所共有的），使得在将容器与装载端口24连接或联接时，装载端口的真空源1010V自动联接到容器壳体并与容器内部连通。如本文中所描述的，容器T到真空源1010V的联接和/或当真空源1010V联接到容器T时对该真空源的致动可诸如在联接件处和/或穿过容器T的门密封件引起来自容器T的腐蚀性气体流出物910、920、930（图9）。图7A中所示的端口776的位置仅仅是示例性的，并且在替代的实施例中，可根据需要定位真空端口。如可认识到的，容器密封件（见例如图9中的门密封件940）具有期望的完整性以承受跨密封件的真空。
如图7A中所见，在所图示的示例性实施例中，容器T还可被构造成可连通地连接到气体馈送件，诸如排气或吹扫气体源。在图7A中所示的示例性实施例中，当容器T安置在装载端口24的容器支撑件上时，可将该容器可连通地连接到气体源/馈送件1010G。如可认识到的，容器T可具有合适的入口端口776（塞子和连接容器内部的合适的气体通道）以联接（例如，自动地）到气体馈送件1010G的喷嘴，诸如当容器放置在装载端口支撑表面上时。如本文中所描述的，容器T到气体源1010G的联接和/或当气体源1010G联接到容器T时对该气体源的致动可诸如在联接件处和/或穿过容器T的门密封件引起来自容器T的腐蚀性气体流出物910、920、930（图9）。图7A中所示的装载端口和容器之间的气体源接口的布置仅仅是示例性的，并且在替代的实施例中，容器和装载端口之间的气体源接口可具有任何其他期望的位置和构型。如前所述，气体源1010G可能够将例如吹扫气体和/或排气气体提供给安置在装载端口24上或位于装载端口24处的容器。举例来说，在容器T被适当地定位（诸如，从置顶运输件）在装载端口24处、以及气体馈送件喷嘴连接到容器以将气体馈送到容器壳体中的情况下，如果需要，可将吹扫气体（例如，N2）馈送到容器中（取决于当容器被定位在装载端口处时该容器的内部气氛、以及在EFEM中所维持的环境）。因此，如果容器例如包含某种处理气氛（诸如，来自与前一工具的接口）并且EFEM 1004可维持有可能与容器气氛不相似的惰性气体或非常清洁的空气气氛，则在将容器定位在装载端口处时，可将期望的吹扫气体馈送到容器中（诸如，经由气体馈送件1010G），从而吹扫容器气氛，使得容器可与装载端口开口接口连接并被集成到工具1002，如先前所描述的。此外，在容器气氛被认为与EFEM环境不相容或可能向EFEM环境呈现不期望的污染物的情况下，在将容器定位在装载端口处时（但例如在使容器内部通向EFEM环境之前），容器内部可经由真空源1010V被抽到足够的真空，并且类似于EFEM中的环境填充有惰性气体（例如，N2、非常清洁的空气），以从容器T清洁掉潜在污染物，并允许将容器T集成到工具，如先前所描述的。如可认识到的，端口776中的一者或多者可联接到真空源1010V，并且一个或多个其他端口776可联接到吹扫气体源1010G以实现对容器T的吹扫。
如上所述，除了真空源1010V之外或代替真空源1010V，吹扫气体馈送件1010G可以以基本上类似于上文所描述的方式的方式来操作致动器5000。可将关于容器气氛的信息记录在能够被合适的读取器读取（或以其他方式访问）的RFID（射频识别）标签或其他合适的数据存储装置上，该读取器在装载有容器的装载端口24处或靠近该装载端口。因此，关于容器内部的合适的信息可由工具控制器获得，用期望的协议审查，并且如果需要，当容器被定位在装载端口24处时，可对容器抽空和排气，如先前所描述的。例如，当容器对接到装载端口时或任何其他合适的时间，可将关于容器气氛的信息例如记录在容器携带的存储装置上。如果需要，这种信息也可由遍布于FAB的控制器跟踪。如可认识到的，容器T还可与可能不具有真空和气体馈送件连接件的EFEM接口连接。在替代的实施例中，容器可包括内部或机载吹扫气体源（诸如，在美国专利9,105,673中所描述的），以在容器被定位在装载端口处时实现吹扫容器。如可认识到的，在其他方面中，与容器接口连接的装载端口接口可设置有真空连接件而没有气体馈送件，使得例如从容器机载的气体源提供气体。因此，如可认识到的，容器现在可用作工具的衬底清洁腔室，其将衬底存储在工具处因此它们正经历清洁。如可认识到的，容器抽空/排气也可在从装载端口24移除容器T之前执行，诸如当将容器T重新定位到另一个工具时。
如前所述，图7A中所示的装载端口和容器到工具接口的布置如仅仅是示例性的，并且在其他方面中，接口可具有任何其他期望的构型。例如，气体馈送件可根据需要被定位成在容器内部已被抽空之后将气体从EFEM环境排气到容器中。
参考图9-11，如上文所描述的，将容器T放置在装载端口24上（或从装载端口24移除容器T）可在例如吹扫/排气端口联接件10000-10005处引起来自容器T的腐蚀性气体流出物910、920，其中吹扫/排气端口联接件10000-10005基本上联接到容器T上的端口776（例如，预定的出入位置，还应注意，容器门30D到容器T接口983也可被视为预定的出入位置）。腐蚀性气体流出物930还可能在门密封件940（图9）处/从该门密封件出现，诸如在门密封件940被磨损或容器T的内部被过度加压的情况下。例如，在往复件52和搁架50之间可存在狭缝或小开口999，该狭缝或小开口可允许到以下各者的流体通路：例如，印刷电路板（PCB）74（图5）、（多个）线性轴承283（图3）、马达（见例如马达53（图4D））、传感器（见传感器T12-T20（图4B）、传感器68O（图5）、开关68（图5）、传感器92（图4C））、（多条）线束72（图4D）、（多个）检测系统110（图2）和/或装载端口24的其他合适的部件。根据本公开的各方面，并且如本文中所描述的，至少一个连续稳态压差增压室960-963（也称为（多个）连续稳态流体质量流增压室区域）可基本上防止腐蚀性气体流出物通过狭缝999并且基本上防止腐蚀性气体与例如装载端口24的合适的部件接触，这些部件包括但不限于印刷电路板（PCB）74（图5）、（多个）线性轴承283（图3）、马达（见例如马达53（图4D））、传感器（见传感器T12-T20（图4B）、传感器68O（图5）、开关68（图5）、传感器92（图4C））、（多条）线束72（图4D）、（多个）检测系统110（图2）和/或装载端口24的在设置于装载端口24上的容器T附近的其他合适的部件。还如上所述，所述至少一个连续稳态压差增压室区域960-963可减轻与施加到装载端口部件的涂层相关联的成本、修改、制造复杂性和制造提前期。在一个方面中，控制器400被构造成取决于由装载端口24保持的容器T的构型来控制连续稳态压差增压室区域960-963的流体质量流。例如，控制器400可以以任何合适的方式调整流体质量流以扩大或减小被连续稳态压差增压室区域960-963覆盖的面积（例如，改变流体流边界的位置），使得所覆盖的区域涵盖联接到装载端口24的载体T的吹扫端口601-604（图6B）构型（例如，其中吹扫端口构型可随容器的不同和/或随容器制造商的不同而改变）。
如上文所描述的，装载端口模块24包括框架29，该框架适于将装载端口模块24连接到衬底处理设备（诸如，上文所描述的衬底处理设备）。运输容器保持区域28连接到框架29以用于将至少一个衬底盒容器T保持靠近装载端口模块24的出入端口/运输开口30P。运输容器保持区域28被构造成使得在所述至少一个衬底盒容器T的预定的出入位置（例如，诸如端口776）处从运输容器保持区域28出入所述至少一个衬底盒容器T的密封的内部气氛977。运输容器保持区域28具有（多个）预定的连续稳态压差增压室区域（见图9、图10A和图10B中的不同的压力增压室区域960、961、962、963、966、967、以及图9、图10B和图11中的连续稳态压差增压室区域963），所述预定的连续稳态压差增压室区域设置在运输容器保持区域28上、位于EFEM外部和装载端口开口30P外部（例如，在装载端口模块24和EFEM 12之间的BOLTS接口外部）。
（多个）预定的连续稳态压差增压室区域至少部分地由产生压差的流体流的边界960B、961B、962B、963B、964、965、966B、967B确定，使得（多个）预定的连续稳态压差增压室区域限定连续稳态流体流隔离屏障968（也称为流体流的连续稳态隔离屏障），该连续稳态流体流隔离屏障设置在运输容器保持区域28上、在所述至少一个衬底盒容器T的预定的出入位置（例如，端口776）和运输容器保持区域28的将其他预定区段与预定的出入位置隔离的另一个预定区段（例如，诸如装载端口模块24的可能易受腐蚀的影响的区段/部分）之间。在一个方面中，产生（多个）连续稳态压差增压室区域的连续稳态流体流隔离屏障968，以提供从盒支撑件（诸如，支撑件36）或装载端口24的通过连续稳态流体流隔离屏障968被隔离的其他预定区段的预定偏移，并且该预定偏移由产生（多个）连续稳态压差增压室区域的压差的流体流设定。例如，还参考图10B，连续稳态流体流隔离屏障968包括具有相应边界967B、962B的连续稳态压差增压室区域962、967。在该示例中，盒支撑件或往复件52的其他预定区段可以是用于将容器T强制联接到往复件的联接特征60的孔口10099。将受保护以免受腐蚀性气体的影响的马达、印刷电路板等可设置在孔口10099下方并且可通过该孔口出入。可控制相应的连续稳态压差增压室区域962、967的流体质量流，使得屏障967B、962B从孔口10099偏移距离10098以基本上防止腐蚀性气体流出物进入孔口10099中。在一个方面中，连续稳态流体流隔离屏障968的流体流的流体边缘（例如，诸如边界960B、961B、962B、963B、964、965、966B、967B）将其他预定区段密封而与预定的出入位置隔绝。在一个方面中，连续稳态流体流隔离屏障的流体流的流体边缘密封其他预定区段，以防排气气体（例如，腐蚀性气体流出物910、920、930）在预定的出入位置处从所述至少一个衬底盒容器T的密封的内部气氛逸出。
参考图9-11，根据本公开的各方面，装载端口模块24包括一个或多个增压室端口10010-10016，所述增压室端口被构造成产生或以其他方式形成流体流，该流体流至少部分地限定（多个）预定的连续稳态压差增压室区域的边界960B、961B、962B、963B、964、965、966B、967B。所述一个或多个增压室端口10010-10016与装载端口模块24的容器T真空吹扫端口10000-10005分离且不同。虽然所述一个或多个增压室端口10010-10016被图示为基本上圆形的孔口或基本上矩形的孔口，但是在其他方面中，所述一个或多个增压室端口可以是细长的狭缝，其外接或以其他方式设置成邻近装载端口24的预定特征（诸如，本文中所描述的预定特征）以便形成实现本文中所描述的边界960B、961B、962B、963B、964、965、966B、967B的流体壁。所述一个或多个增压室端口10010-10016被定位成靠近装载端口模块24外部的邻近于装载端口模块24特征（例如，诸如上文所描述的特征）的预定区段/区域（这些预定区段/区域具有使该特征易受腐蚀（例如，来自腐蚀性气体流出物）的影响的预定特性），以便基本上防止腐蚀性气体流出物接口连接或以其他方式接触该装载端口模块24特征。在其他方面中，还参考图12和图13，一个或多个增压室端口10017、10018（基本上类似于增压室端口10010-10016）可设置在往复件52和支撑件50之间，使得一个或多个连续稳态压差增压室区域970、971（基本上类似于本文中所描述的其他（多个）连续稳态压差增压室区域）至少部分地设置在往复件52和支撑件50之间，使得（多个）连续稳态压差增压室区域970、971的边界970B、971B基本上防止腐蚀性气体流出物到达任何合适的部件（例如，马达、印刷电路板等，如本文中所描述的）。在再其他方面中，增压室端口可设置在装载端口的任何合适的位置处，以形成任何合适数量的连续稳态压差增压室区域，从而用对应的连续稳态流体流隔离屏障来基本上保护装载端口部件免受腐蚀性气体流出物的影响。取决于所述一个或多个增压室端口10010-10018是正压力端口还是负压力（例如，真空）压力端口，所述一个或多个增压室端口10010-10018可设置在装载端口特征上方或下方，将在该装载端口周围提供（多个）连续稳态压差增压室区域。
所述一个或多个增压室端口10010-10018被构造成形成边界960B、961B、962B、963B、966B、967B、970B、971B中的一者或多者，而其他边界964、965可由装载端口24的结构（诸如，往复件52的表面52S（图10A））和/或衬底盒容器T形成，其中（多个）连续稳态压差增压室区域至少在一侧上由装载端口24的盒支撑结构的表面界定，该表面至少部分地限定（多个）连续稳态压差增压室区域。在一个方面中，表面52S可引导（多个）连续稳态压差增压室区域的产生压差的流体流。在一个方面中，表面52S可包括叶片52V（图10A）或其他流体流控制特征，所述叶片或其他流体流控制特征引导（多个）连续稳态压差增压室区域的产生压差的流体流。在一个方面中，每个增压室端口10010-10018被构造成产生相应的预定的连续稳态压差增压室区域，该预定的连续稳态压差增压室区域外接或以其他方式包围相应的增压室端口10010-10018、以及相关联的预定的出入位置的至少一部分（例如，相应的真空/吹扫端口10000-10005和容器/门接口983）。
如可以在图9和图10A中所见（注意，为清楚起见，未在图10A中图示容器T），增压室端口10010、10013被构造成产生具有相应边界966B、961B的相应的预定的压差增压室966、961。增压室端口10002、10012被构造成产生具有相应边界967B、962B的相应的预定的压差增压室967、962。如可认识到的，容器T的底部表面和往复件52的外部表面也可形成相应的压差增压室966、961、967、962的边界964、965。这些压差增压室可基本上遏制来自容器T的相关联的真空/吹扫端口776的腐蚀性气体流出物，容器T的相关联的真空/吹扫端口基本上联接到装载端口模块24的相应的真空/吹扫端口10000-10005。
如可以在图9、图10B和图11中所见，增压室端口10014-10018中的一者或多者被构造成产生具有相应边界963B的相应的压差增压室963。如可认识到的，边界963B的至少一部分可由往复件52和/或容器T的外部表面形成。压差增压室的尺寸可被设置成基本上遏制来自容器/门接口983和装载端口门30D到装载端口框架29接口276（见图2）中的一者或多者的腐蚀性气体流出物。压差增压室端口10014可设置在装载端口模块24搁架50上，而压差增压室端口10015、10016可设置在往复件52的面向装载端口开口30P的一侧上，使得压差增压室963从装载端口门30D到装载端口框架29接口276延伸到容器/门接口983；而在其他方面中，往复件52上的压差增压室端口10015、10016和搁架50上的压差增压室端口10014可提供分离且不同的压差增压室（例如，当往复件52设置在容器T装载位置处时），其中当往复件设置在容器T对接位置处时，这些分离且不同的压差增压室合并（例如，其中衬底进入和退出容器所通过的容器衬底过道开口与装载端口开口30P配对）。在该方面中，压差增压室端口中的至少一些可相对于往复件52参考系是静止的（例如，这些压差增压室端口安装到往复件），而其他压差增压室端口相对于装载端口模块24框架29是静止的或固定的（例如，其中往复件和/或要受保护以免受腐蚀性气体的影响的部分相对于框架29移动）。
在一个方面中，可通过调整移入（例如，真空/吸入压力增压室）或移出（例如，正压力增压室）相应的增压室端口10010-10018的流体的质量流率来增加或减小相应的压差增压室966、961、967、962、963、970、971的尺寸。参考图9，相应的压差增压室966、961、967、962、963的尺寸可使得这些相应的压差增压室中的一者或多者与这些压差增压室中的另一者合并。例如，如图9中所图示的，压差增压室961、966、962、967可合并以形成组合式压差增压室960，该组合式压差增压室在基本上整个容器T底部上延伸。在再其他方面中，压差增压室963也可与压差增压室960合并，使得压差增压室也延伸以覆盖容器门30D/容器T接口983（和/或装载端口门/框架接口276–图2）。在其他方面中，压差增压室966、961、967、962、963的尺寸可被设置成使得任何合适数量的压差增压室均被合并成公共压差增压室。
仍然参考图9-11，如上文所描述的，由（多个）预定的连续稳态压差增压室区域960、961、962、963、966、967形成的连续稳态流体流隔离屏障968可以是正压力连续稳态流体流隔离屏障。例如，压差ΔP（见图9中）相对于气氛（例如，包围容器T和装载端口模块24的外部区域）是正压力。在另一个方面中，压差ΔP相对于在预定的出入位置（例如，端口776）处来自所述至少一个衬底盒容器T的密封的内部气氛的逸出气体（例如，腐蚀性气体流出物910、920、930）的压力（例如，分压力）是正压力。还参考图13，其中由（多个）预定的连续稳态压差增压室区域960、961、962、963、966、967形成的连续稳态流体流隔离屏障968是正压力连续稳态流体流隔离屏障，来自任何合适的清洁干燥空气源13000的清洁干燥空气以任何合适的方式（例如，诸如通过合适的导管13010）被提供给压差增压室端口10010-10018中的一者或多者。可在装载端口模块24上提供任何合适的压力传感器以监测从压差增压室端口10010-10018中的所述一者或多者发出的清洁干燥空气。可基本上连续地提供清洁干燥空气（例如，在容器与往复件52对接时、在容器T联接到装载端口开口30P时、在容器与装载端口开口30P解除联接时、以及在容器T与往复件52解除对接时），使得正压力连续稳态流体流隔离屏障基本上防止来自至少容器T的腐蚀性气体进入装载端口模块24的的区域，在其周围提供有（多个）连续稳态流体流隔离屏障968。
仍然参考图9-11，如上文所描述的，由（多个）预定的连续稳态压差增压室区域960、961、962、963、966、967形成的连续稳态流体流隔离屏障968可以是负压力连续稳态流体流隔离屏障。例如，压差ΔP（见图9中）相对于气氛（例如，包围容器T和装载端口模块24的外部区域）是负压力。在另一个方面中，压差ΔP相对于在预定的出入位置（例如，端口776）处来自所述至少一个衬底盒容器T的密封的内部气氛的逸出气体（例如，腐蚀性气体流出物910、920、930）的压力（例如，分压力）是负压力。可与正压力连续稳态流体流隔离屏障结合或代替正压力连续稳态流体流隔离屏障来采用负压力连续稳态流体流隔离屏障。类似地，可在没有负压力连续稳态流体流隔离屏障的情况下采用正压力连续稳态流体流隔离屏障。
在一个方面中，还参考图12，其中由（多个）预定的连续稳态压差增压室区域960、961、962、963、966、967形成的连续稳态流体流隔离屏障968是负压力连续稳态流体流隔离屏障，来自任何合适的远程（例如，远离装载端口往复件52和往复件支撑件50）真空/吸力源12000（例如，诸如泵、风扇、真空等）的真空/吸力以任何合适的方式（例如，诸如通过合适的导管12010）被提供给压差增压室端口10010-10016中的一者或多者。在另一个方面中，还参考图13，其中由（多个）预定的连续稳态压差增压室区域960、961、962、963、966、967形成的连续稳态流体流隔离屏障968是负压力连续稳态流体流隔离屏障，来自任何合适的局部（例如，设置在往复件52和/或往复件支撑件50上）真空/吸力源12001（例如，诸如泵（例如，声学空气泵、压电泵、隔膜泵等）、风扇等）的真空/吸力以任何合适的方式（例如，诸如通过合适的导管12010）被提供给压差增压室端口10010-10018中的一者或多者。虽然局部真空/吸力源12001被图示为联接到往复件52以便与往复件52一起移动；但是应理解，真空/吸力源12001可以以类似的方式联接到往复件支撑件50（诸如，以例如将吸力提供给压差增压室端口10014），以便与往复件支撑件50一起是静止的。可在任何合适的位置处将由（多个）负压力预定的连续稳态压差增压室区域960、961、962、963、966、967排空的所吸取的腐蚀性气体排放远离装载端口模块24。在真空/吸力源12001位于往复件52和/或往复件支撑件50局部的情况下，任何合适的流体引导路径13012（例如，通道、软管、叶片、过道等）均可形成在往复件52和/或往复件支撑件中或穿过往复件52和/或往复件支撑件，以输出/排出可从容器T的密封环境逸出的任何腐蚀性气体流出物910、920、930。
参考图7A、图8A、图9和图10A，将描述容器T和装载端口24之间的示例性对接过程。例如，容器T被运输到装载端口24（图8A，框800）并且任选地被夹持到装载端口（图8A，框805），诸如用上文所描述的容器夹持系统61。在容器T到达时，（多个）预定的连续稳态压差增压室区域960、961、962、963、966、967是有效（active）的，使得在将容器T联接到往复件52时，形成连续稳态流体流隔离屏障968。在该方面中，装载端口24的真空吹扫端口10000-10005可与容器T的端口776自动联接。如上文所描述的，容器T到气体源1010G和/或真空源1010V的联接（和/或当气体源1010G和/或真空源1010V联接到容器T时对该气体源和/或真空源的致动）可诸如在端口10000-10005与端口776之间的联接件处和/或穿过容器T的门密封件940引起来自容器T的腐蚀性气体流出物910、920、930（见图9）。在压差增压室空间或区域作用（或有效）的情况下，可基本上遏制/约束和/或排空腐蚀性气体流出物910、920、930。例如，如上文所描述的，连续稳态流体流隔离屏障968可基本上遏制（例如，在真空屏障的情况下）或基本上防止来自容器T的密封环境的任何腐蚀性气体流出物910、920、930（在端口10000-10005与端口776联接时出现）进入（在正压力屏障的情况下）到装载端口的受流体隔离屏障968的保护以免受腐蚀性气体的影响的区域（诸如，上文所述的区域）。
装载端口24往复件52使容器T前进到容器/装载端口接口750，其中容器/装载端口接口750是BOLTS接口（图8A，框810）。在容器T前进到容器/装载端口接口750之前或期间，可对容器T进行排气和/或吹扫，如上文所描述的。在一个方面中，装载端口门还可包括真空，该真空可在容器T前进期间被激活，使得可在容器T和装载端口24接口连接期间去除容器T的表面上的任何颗粒物质。
装载端口24往复件52将容器T压靠在容器/装载端口接口276（图2）上，以将容器T联接到装载端口24（图8A，框815）。容器门T4（图6A）被夹持到装载端口门30D，如本文中所描述的（图8A，框820）。（多个）预定的连续稳态压差增压室区域960、961、962、963、966、967可保持有效，使得在被容器门T4到端口门30D接口至少部分地占据或以其他方式位于其下面的区域中存在连续稳态流体流隔离屏障968。容器门T4开始缩回（图8A，框835）。当容器门T4开始缩回时，容器T和容器门T4之间的密封件可放松并且来自容器T内部的腐蚀性气体可从容器逸出。（多个）预定的连续稳态压差增压室区域960、961、962、963、966、967（诸如，压差增压室区域963）可基本上遏制（例如，在真空屏障的情况下）或基本上防止来自容器T的密封环境的任何腐蚀性气体流出物910、920、930（在容器门T4从容器T缩回时出现）的进入（在正压力屏障的情况下）。容器门T4与容器T分离（图8A，框845）并被降入到装载端口24的门存储区域770（图7A）中（图8A，框850）。在替代的方面中，容器T可以以任何合适的方式配准/对接到装载端口24。
参考图7A、图8B、图9和图10A，将描述容器T和装载端口24之间的示例性解除对接过程。容器门T4从门存储区域770上升（图8B，框855）并朝向容器T前进（图8A，框860）。容器门T4开始与容器一起密封（图8B，框865），并且容器门T4的进一步前进将容器门T4与容器T一起密封（图8B，框870）。当容器门开始密封并与容器T一起密封时，来自容器T的内部的气体可要么通过门密封件940（图9）和/或要么通过容器T的端口776和装载端口24的端口10000-10005之间的接口而从容器中移位出来。（多个）预定的连续稳态压差增压室区域960、961、962、963、966、967可基本上遏制（例如，在真空屏障的情况下）或基本上防止来自容器T的任何腐蚀性气体流出物910、920、930（在容器门T4与容器T一起密封时出现）的进入（在正压力屏障的情况下）。
从例如装载端口门30D松开容器门T4（图8B，框875），并且从容器到装载端口开口接口276释放容器T（图2）。容器T通过往复件52的移动从接口276撤退（图8A，框885）。在一些方面中，从装载端口24的往复件85松开容器T（图8B，框890）。容器T以任何合适的方式（诸如，通过自动化运送装置或手动地）离开装载端口24（图8B，框985）。容器T与气体源1010G和/或真空源1010V的解除联接可诸如在端口10000-10005之间的联接件处引起来自容器T的腐蚀性气体流出物910、920、930（见图9）。在压差增压室空间或区域作用（或有效）的情况下，可基本上遏制/约束和/或排空腐蚀性气体流出物910、920、930。例如，如上文所描述的，连续稳态流体流隔离屏障968可基本上遏制（例如，在真空屏障的情况下）或基本上防止来自容器T的密封环境的任何腐蚀性气体流出物910、920、930（在端口10000-10005与776解除联接时出现）进入（在正压力屏障的情况下）到装载端口的受流体隔离屏障968的保护以免受腐蚀性气体的影响的区域（诸如，上文所述的区域）。在替代的方面中，容器T可以以任何合适的方式与装载端口24取消配准/解除对接。
参考图7A、图8B、图9、图10A和图14，将描述示例性方法1400。方法1400包括：提供衬底装载装置的框架29（图14，框1401）。框架29适于将衬底装载装置连接到衬底处理设备10，框架29具有运输开口30P，衬底通过该运输开口在衬底装载装置和处理设备10之间运输。提供盒支撑件28（图14，框1402）并且该盒支撑件连接到框架29以用于将至少一个衬底盒容器T保持靠近运输开口30P，盒支撑件28被构造成使得所述至少一个衬底盒容器T的密封的内部气氛977在所述至少一个衬底盒容器T的预定的出入位置776处从盒支撑件28出入。该方法还包括：用预定的连续稳态压差增压室区域960-963限定连续稳态流体流隔离屏障968，连续稳态流体流隔离屏障968在所述至少一个衬底盒容器T的预定的出入位置776和盒支撑件28的将其他预定区段与预定的出入位置776隔离的另一个预定区段之间设置在盒支撑件28上（图14，框1403），其中盒支撑件28具有设置在盒支撑件28上的预定的连续稳态压差增压室区域960-963，并且预定的连续稳态压差增压室区域960-963至少部分地由产生压差的流体流的边界960B、961B、962B、963B、964、965、966B、967B确定。
参考图7A、图8B、图9、图10A和图15，将描述示例性方法1500。方法1500包括：提供衬底装载装置的框架29（图15，框1501），该框架适于将装置连接到衬底处理设备10，框架29具有运输开口30P，衬底通过该运输开口在装置和处理设备之间运输。提供盒支撑件28（图15，框1502）并且该盒支撑件连接到框架29以用于将至少一个衬底盒容器T保持靠近运输开口30P，支撑件28被构造成使得容器T的密封的内部气氛977在容器T的预定的出入位置776处从支撑件28出入。该方法还包括：用连续稳态流体质量流增压室区域限定流体流的连续稳态隔离屏障968，连续稳态隔离屏障968在容器T的预定的出入位置776和盒支撑件28的将其他预定区段与预定的出入位置776隔离的另一个预定区段之间设置在支撑件28上（图15，框1503），其中盒支撑件28具有设置在支撑件28上的预定的连续稳态流体质量流增压室区域，并且预定的连续稳态流体质量流增压室区域至少部分地由流体质量流的边界960B、961B、962B、963B、964、965、966B、967B确定。
根据本公开的一个或多个方面，提供了一种衬底装载装置。所述衬底装载装置包括：框架，其适于将所述衬底装载装置连接到衬底处理设备，所述框架具有运输开口，衬底通过所述运输开口在所述衬底装载装置和处理设备之间运输；盒支撑件，其连接到所述框架以用于将至少一个衬底盒容器保持靠近所述运输开口，所述盒支撑件被构造成使得所述至少一个衬底盒容器的密封的内部气氛在所述至少一个衬底盒容器的预定的出入位置处从所述盒支撑件出入；并且所述盒支撑件具有设置在所述盒支撑件上的预定的连续稳态压差增压室区域，所述预定的连续稳态压差增压室区域至少部分地由产生压差的流体流的边界确定，使得所述预定的连续稳态压差增压室区域限定连续稳态流体流隔离屏障，所述连续稳态流体流隔离屏障在所述至少一个衬底盒容器的所述预定的出入位置和所述盒支撑件的将其他预定区段与所述预定的出入位置隔离的另一个预定区段之间设置在所述容器支撑件上。
根据本公开的一个或多个方面，所述连续稳态流体流隔离屏障的所述流体流的流体边缘将所述其他预定区段密封而与所述预定的出入位置隔绝。
根据本公开的一个或多个方面，所述连续稳态流体流隔离屏障的所述流体流的流体边缘密封所述其他预定区段，以防排气气体在所述预定的出入位置处从所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛逸出。
根据本公开的一个或多个方面，所述压差相对于气氛是正压力。
根据本公开的一个或多个方面，所述压差相对于在所述预定的出入位置处来自所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛的逸出气体的压力是正压力。
根据本公开的一个或多个方面，所述压差相对于气氛是负压力。
根据本公开的一个或多个方面，所述压差相对于在所述预定的出入位置处来自所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛的逸出气体的压力是负压力。
根据本公开的一个或多个方面，所述预定的连续稳态压差增压室区域至少在一侧上由所述盒支撑件的表面界定，所述表面至少部分地限定所述预定的连续稳态压差增压室区域。
根据本公开的一个或多个方面，所述表面是用于所述预定的连续稳态压差增压室区域的产生所述压差的所述流体流的引导表面。
根据本公开的一个或多个方面，产生所述连续稳态压差增压室区域的所述连续稳态流体流隔离屏障，以提供从所述盒支撑件的通过所述连续稳态流体流隔离屏障被隔离的所述其他预定区段的预定偏移，并且所述预定偏移由所述连续稳态压差增压室区域的产生所述压差的所述流体流设定。
根据本公开的一个或多个方面，所述衬底装载装置包括控制器，所述控制器取决于所述至少一个衬底盒容器的构型来控制所述预定的连续稳态压差增压室区域。
根据本公开的一个或多个方面，一种衬底装载装置包括：框架，其适于将所述装置连接到衬底处理设备，所述框架具有运输开口，衬底通过所述运输开口在所述装置和处理设备之间运输；盒支撑件，其连接到所述框架以用于将至少一个衬底盒容器保持靠近所述运输开口，所述支撑件被构造成使得所述容器的密封的内部气氛在所述容器的预定的出入位置处从所述支撑件出入；并且所述盒支撑件具有设置在所述支撑件上的预定的连续稳态流体质量流增压室区域，所述预定的连续稳态流体质量流增压室区域至少部分地由流体质量流的边界确定，使得所述连续稳态流体质量流增压室区域限定流体流的连续稳态隔离屏障，该流体流的连续稳态隔离屏障在所述容器的所述预定的出入位置和所述盒支撑件的将其他预定区段与所述预定的出入位置隔离的另一个预定区段之间设置在所述支撑件上。
根据本公开的一个或多个方面，所述流体流的连续稳态隔离屏障的所述流体流的流体边缘将所述其他预定区段密封而与所述预定的出入位置隔绝。
根据本公开的一个或多个方面，所述流体流的连续稳态隔离屏障的所述流体流的流体边缘密封所述其他预定区段，以防排气气体在所述预定的出入位置处从所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛逸出。
根据本公开的一个或多个方面，所述压差相对于气氛是正压力。
根据本公开的一个或多个方面，所述流体质量流相对于在所述预定的出入位置处来自所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛的逸出气体的压力具有正压力。
根据本公开的一个或多个方面，所述流体质量流相对于气氛具有负压力。
根据本公开的一个或多个方面，所述流体质量流相对于在所述预定的出入位置处来自所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛的逸出气体的压力具有负压力。
根据本公开的一个或多个方面，所述预定的连续稳态流体质量流增压室区域至少在一侧上由所述盒支撑件的表面界定，所述表面至少部分地限定所述预定的连续稳态流体质量流增压室区域。
根据本公开的一个或多个方面，所述表面是用于所述预定的连续稳态流体质量流增压室区域的所述流体质量流的引导表面。
根据本公开的一个或多个方面，产生所述连续稳态流体质量流增压室区域的所述流体流的连续稳态隔离屏障，以提供从所述盒支撑件的通过所述流体流的连续稳态隔离屏障被隔离的所述其他预定区段的预定偏移，并且所述预定偏移由所述连续稳态流体质量流增压室区域的所述流体质量流设定。
根据本公开的一个或多个方面，所述衬底装载装置包括控制器，所述控制器取决于所述至少一个衬底盒容器的构型来控制所述预定的连续稳态压差增压室区域。
根据本公开的一个或多个方面，提供了一种方法。所述方法包括：提供衬底装载装置的框架，所述框架适于将所述衬底装载装置连接到衬底处理设备，所述框架具有运输开口，衬底通过所述运输开口在所述衬底装载装置和处理设备之间运输；提供盒支撑件，所述盒支撑件连接到所述框架以用于将至少一个衬底盒容器保持靠近所述运输开口，所述盒支撑件被构造成使得所述至少一个衬底盒容器的密封的内部气氛在所述至少一个衬底盒容器的预定的出入位置处从所述盒支撑件出入；以及用预定的连续稳态压差增压室区域限定连续稳态流体流隔离屏障，该连续稳态流体流隔离屏障在所述至少一个衬底盒容器的所述预定的出入位置和所述盒支撑件的将其他预定区段与所述预定的出入位置隔离的另一个预定区段之间设置在所述载体支撑件上，其中所述盒支撑件具有设置在所述盒支撑件上的所述预定的连续稳态压差增压室区域，并且所述预定的连续稳态压差增压室区域至少部分地由产生压差的流体流的边界确定。
根据本公开的一个或多个方面，其进一步包括：用所述连续稳态流体流隔离屏障的所述流体流的流体边缘将所述其他预定区段密封而与所述预定的出入位置隔绝。
根据本公开的一个或多个方面，其进一步包括：用所述连续稳态流体流隔离屏障的所述流体流的流体边缘密封所述其他预定区段，以防排气气体在所述预定的出入位置处从所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛逸出。
根据本公开的一个或多个方面，所述压差相对于气氛是正压力。
根据本公开的一个或多个方面，所述压差相对于在所述预定的出入位置处来自所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛的逸出气体的压力是正压力。
根据本公开的一个或多个方面，所述压差相对于气氛是负压力。
根据本公开的一个或多个方面，所述压差相对于在所述预定的出入位置处来自所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛的逸出气体的压力是负压力。
根据本公开的一个或多个方面，所述预定的连续稳态压差增压室区域至少在一侧上由所述盒支撑件的表面界定，所述表面至少部分地限定所述预定的连续稳态压差增压室区域。
根据本公开的一个或多个方面，所述表面是用于所述预定的连续稳态压差增压室区域的产生所述压差的所述流体流的引导表面。
根据本公开的一个或多个方面，产生所述连续稳态压差增压室区域的所述连续稳态流体流隔离屏障，以提供从所述盒支撑件的通过所述连续稳态流体流隔离屏障被隔离的所述其他预定区段的预定偏移，并且所述预定偏移由所述连续稳态压差增压室区域的产生所述压差的所述流体流设定。
根据本公开的一个或多个方面，其进一步包括：取决于所述至少一个衬底盒容器的构型，用控制器来控制所述预定的连续稳态压差增压室区域。
根据本公开的一个或多个方面，提供了一种方法。所述方法包括：提供衬底装载装置的框架，所述框架适于将所述装置连接到衬底处理设备，所述框架具有运输开口，衬底通过所述运输开口在所述装置和处理设备之间运输；提供盒支撑件，所述盒支撑件连接到所述框架以用于将至少一个衬底盒容器保持靠近所述运输开口，所述支撑件被构造成使得所述容器的密封的内部气氛在所述容器的预定的出入位置处从所述支撑件出入；以及用连续稳态流体质量流增压室区域限定流体流的连续稳态隔离屏障，该流体流的连续稳态隔离屏障在所述容器的所述预定的出入位置和所述盒支撑件的将其他预定区段与所述预定的出入位置隔离的另一个预定区段之间设置在所述支撑件上，其中所述盒支撑件具有设置在所述支撑件上的所述预定的连续稳态流体质量流增压室区域，并且所述预定的连续稳态流体质量流增压室区域至少部分地由流体质量流的边界确定。
根据本公开的一个或多个方面，其进一步包括：用所述流体流的连续稳态隔离屏障的所述流体流的流体边缘将所述其他预定区段密封而与所述预定的出入位置隔绝。
根据本公开的一个或多个方面，其进一步包括：用所述流体流的连续稳态隔离屏障的所述流体流的流体边缘密封所述其他预定区段，以防排气气体在所述预定的出入位置处从所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛逸出。
根据本公开的一个或多个方面，所述压差相对于气氛是正压力。
根据本公开的一个或多个方面，所述流体质量流相对于在所述预定的出入位置处来自所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛的逸出气体的压力具有正压力。
根据本公开的一个或多个方面，所述流体质量流相对于气氛具有负压力。
根据本公开的一个或多个方面，所述流体质量流相对于在所述预定的出入位置处来自所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛的逸出气体的压力具有负压力。
根据本公开的一个或多个方面，所述预定的连续稳态流体质量流增压室区域至少在一侧上由所述盒支撑件的表面界定，所述表面至少部分地限定所述预定的连续稳态流体质量流增压室区域。
根据本公开的一个或多个方面，所述表面是用于所述预定的连续稳态流体质量流增压室区域的所述流体质量流的引导表面。
根据本公开的一个或多个方面，产生所述连续稳态流体质量流增压室区域的所述流体流的连续稳态隔离屏障，以提供从所述盒支撑件的通过所述流体流的连续稳态隔离屏障被隔离的所述其他预定区段的预定偏移，并且所述预定偏移由所述连续稳态流体质量流增压室区域的所述流体质量流设定。
根据本公开的一个或多个方面，其进一步包括：取决于所述至少一个衬底盒容器的构型，用控制器来控制所述预定的连续稳态压差增压室区域。
应理解，前述描述仅仅图示本公开的各方面。在不脱离本公开的各方面的情况下，本领域技术人员可以设计各种替代方案和修改。因此，本公开的各方面旨在涵盖落入任何所附权利要求的范围内的所有这种替代方案、修改以及变化。进一步地，在互相不同的从属或者独立权利要求中叙述了不同的特征，这一不争的事实并不指示不能够有利地使用这些特征的组合，这种组合仍在本公开的各方面的范围内。

Claims (33)

1.一种衬底装载装置，其包括：
框架，其适于将所述衬底装载装置连接到衬底处理设备，所述框架具有运输开口，所述衬底通过所述运输开口在所述衬底装载装置和处理设备之间运输；
盒支撑件，其连接到所述框架以用于将至少一个衬底盒容器保持靠近所述运输开口，所述盒支撑件被构造成使得所述至少一个衬底盒容器的密封的内部气氛在所述至少一个衬底盒容器的预定的出入位置处从所述盒支撑件出入；并且
所述盒支撑件具有设置在所述盒支撑件上的预定的连续稳态压差增压室区域，所述预定的连续稳态压差增压室区域至少部分地由产生压差的流体流的边界确定，使得所述预定的连续稳态压差增压室区域限定连续稳态流体流隔离屏障，所述连续稳态流体流隔离屏障在所述至少一个衬底盒容器的所述预定的出入位置和所述盒支撑件的将其他预定区段与所述预定的出入位置隔离的另一个预定区段之间设置在所述载体支撑件上。
2.根据权利要求1所述的衬底装载装置，其中，所述连续稳态流体流隔离屏障的所述流体流的流体边缘将所述其他预定区段密封而与所述预定的出入位置隔绝。
3.根据权利要求1所述的衬底装载装置，其中，所述连续稳态流体流隔离屏障的所述流体流的流体边缘密封所述其他预定区段，以防排气气体在所述预定的出入位置处从所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛逸出。
4.根据权利要求1所述的衬底装载装置，其中，所述压差相对于气氛是正压力。
5.根据权利要求1所述的衬底装载装置，其中，所述压差相对于在所述预定的出入位置处来自所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛的逸出气体的压力是正压力。
6.根据权利要求1所述的衬底装载装置，其中，所述压差相对于气氛是负压力。
7.根据权利要求1所述的衬底装载装置，其中，所述压差相对于在所述预定的出入位置处来自所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛的逸出气体的压力是负压力。
8.根据权利要求1所述的衬底装载装置，其中，所述预定的连续稳态压差增压室区域至少在一侧上由所述盒支撑件的表面界定，所述表面至少部分地限定所述预定的连续稳态压差增压室区域。
9.根据权利要求8所述的衬底装载装置，其中，所述表面是用于所述预定的连续稳态压差增压室区域的产生所述压差的所述流体流的引导表面。
10.根据权利要求1所述的衬底装载装置，其中，产生所述连续稳态压差增压室区域的所述连续稳态流体流隔离屏障，以提供从所述盒支撑件的通过所述连续稳态流体流隔离屏障被隔离的所述其他预定区段的预定偏移，并且所述预定偏移由所述连续稳态压差增压室区域的产生所述压差的所述流体流设定。
11.根据权利要求1所述的衬底装载装置，其中，所述衬底装载装置包括控制器，所述控制器取决于所述至少一个衬底盒容器的构型来控制所述预定的连续稳态压差增压室区域。
12.一种衬底装载装置，其包括：
框架，其适于将所述装置连接到衬底处理设备，所述框架具有运输开口，衬底通过所述运输开口在所述装置和处理设备之间运输；
盒支撑件，其连接到所述框架以用于将至少一个衬底盒容器保持靠近所述运输开口，所述支撑件被构造成使得所述容器的密封的内部气氛在所述容器的预定的出入位置处从所述支撑件出入；并且
所述盒支撑件具有设置在所述支撑件上的预定的连续稳态流体质量流增压室区域，所述预定的连续稳态流体质量流增压室区域至少部分地由流体质量流的边界确定，使得所述连续稳态流体质量流增压室区域限定流体流的连续稳态隔离屏障，所述流体流的连续稳态隔离屏障在所述容器的所述预定的出入位置和所述盒支撑件的将其他预定区段与所述预定的出入位置隔离的另一个预定区段之间设置在所述支撑件上。
13.根据权利要求12所述的衬底装载装置，其中，所述流体流的连续稳态隔离屏障的流体流的流体边缘将所述其他预定区段密封而与所述预定的出入位置隔绝。
14.根据权利要求12所述的衬底装载装置，其中，所述流体流的连续稳态隔离屏障的所述流体流的流体边缘密封所述其他预定区段，以防排气气体在所述预定的出入位置处从所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛逸出。
15.根据权利要求12所述的衬底装载装置，其中，所述压差相对于气氛是正压力。
16.根据权利要求12所述的衬底装载装置，其中，所述流体质量流相对于在所述预定的出入位置处来自所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛的逸出气体的压力具有正压力。
17.根据权利要求12所述的衬底装载装置，其中，所述流体质量流相对于气氛具有负压力。
18.根据权利要求12所述的衬底装载装置，其中，所述流体质量流相对于在所述预定的出入位置处来自所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛的逸出气体的压力具有负压力。
19.根据权利要求12所述的衬底装载装置，其中，所述预定的连续稳态流体质量流增压室区域至少在一侧上由所述盒支撑件的表面界定，所述表面至少部分地限定所述预定的连续稳态流体质量流增压室区域。
20.根据权利要求19所述的衬底装载装置，其中，所述表面是用于所述预定的连续稳态流体质量流增压室区域的所述流体质量流的引导表面。
21.根据权利要求12所述的衬底装载装置，其中，产生所述连续稳态流体质量流增压室区域的所述流体流的连续稳态隔离屏障，以提供从所述盒支撑件的通过所述流体流的连续稳态隔离屏障被隔离的所述其他预定区段的预定偏移，并且所述预定偏移由所述连续稳态流体质量流增压室区域的所述流体质量流设定。
22.根据权利要求12所述的衬底装载装置，其中，所述衬底装载装置包括控制器，所述控制器取决于所述至少一个衬底盒容器的构型来控制所述预定的连续稳态压差增压室区域。
23.一种方法，其包括：
提供衬底装载装置的框架，所述框架适于将所述衬底装载装置连接到衬底处理设备，所述框架具有运输开口，衬底通过所述运输开口在所述衬底装载装置和处理设备之间运输；
提供盒支撑件，所述盒支撑件连接到所述框架以用于将至少一个衬底盒容器保持靠近所述运输开口，所述盒支撑件被构造成使得所述至少一个衬底盒容器的密封的内部气氛在所述至少一个衬底盒容器的预定的出入位置处从所述盒支撑件出入；以及
用预定的连续稳态压差增压室区域限定连续稳态流体流隔离屏障，所述续稳态流体流隔离屏障在所述至少一个衬底盒容器的所述预定的出入位置和所述盒支撑件的将其他预定区段与所述预定的出入位置隔离的另一个预定区段之间设置在所述载体支撑件上，其中所述盒支撑件具有设置在所述盒支撑件上的所述预定的连续稳态压差增压室区域，并且所述预定的连续稳态压差增压室区域至少部分地由产生压差的流体流的边界确定。
24.根据权利要求23所述的方法，其进一步包括：用所述连续稳态流体流隔离屏障的所述流体流的流体边缘将所述其他预定区段密封而与所述预定的出入位置隔绝。
25.根据权利要求23所述的方法，其进一步包括：用所述连续稳态流体流隔离屏障的所述流体流的流体边缘密封所述其他预定区段，以防排气气体在所述预定的出入位置处从所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛逸出。
26.根据权利要求23所述的方法，其中，所述压差相对于气氛是正压力。
27.根据权利要求23所述的方法，其中，所述压差相对于在所述预定的出入位置处来自所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛的逸出气体的压力是正压力。
28.根据权利要求23所述的方法，其中，所述压差相对于气氛是负压力。
29.根据权利要求23所述的方法，其中，所述压差相对于在所述预定的出入位置处来自所述至少一个衬底盒容器的所述密封的内部气氛的逸出气体的压力是负压力。
30.根据权利要求23所述的方法，其中，所述预定的连续稳态压差增压室区域至少在一侧上由所述盒支撑件的表面界定，所述表面至少部分地限定所述预定的连续稳态压差增压室区域。
31.根据权利要求30所述的方法，其中，所述表面是用于所述预定的连续稳态压差增压室区域的产生所述压差的所述流体流的引导表面。
32.根据权利要求23所述的方法，其中，产生所述连续稳态压差增压室区域的所述连续稳态流体流隔离屏障，以提供从所述盒支撑件的通过所述连续稳态流体流隔离屏障被隔离的所述其他预定区段的预定偏移，并且所述预定偏移由所述连续稳态压差增压室区域的产生所述压差的所述流体流设定。
33.根据权利要求23所述的方法，其进一步包括：取决于所述至少一个衬底盒容器的构型，用控制器来控制所述预定的连续稳态压差增压室区域。
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