TWI837228B - 基材裝載裝置和方法 - Google Patents

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拉迪克 蘇加托夫
羅伯特 卡爾森
寇拉克 麥克
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美商布魯克斯自動機械美國公司
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Abstract

一種基材裝載裝置包括一被設計來連接至基材處理設備的框架，該框架具有一運送開口，基材經由該運送開口被運送至該處理設備、一匣盒支撐件，其被連接至該框架，用來固持至少一基材匣盒容器緊鄰該運送開口，該支撐件被建構成使得該容器的一被密封的內部氛圍在該容器的預定的進出位置從該支撐件進出(accessed)，且該匣盒支撐件具有一預定的連續穩態差壓充氣部區域，其至少部分地由產生差壓的流體流的邊界來決定，使得該預定的連續穩態差壓充氣部區域界定一設置在該支撐件上的連續穩態流體流隔離阻障物，其介於該容器的該等預定的進出位置和該支撐件的另一預定的區段之間，用來將該另一預定的區段與該等預定的進出位置隔離開。

Description

基材裝載裝置和方法 [相關申請案]
此非暫時申請案主張2018年11月28日提申之美國暫時申請案第62/772,376號的利益，該暫時申請案的揭露內容藉此參照被併於本文中。
本揭露內容的諸態樣一般性地係關於基材處理設備，更明確地係關於一種用於基材處理設備的改良式裝載埠模組。
在半導體製造(亦被稱為“fab”)環境中，在一些半導體製程期間，裝載埠會遭遇腐蝕性氣體(如，譬如溴化氫氣體、鹽酸氣體等等)，其會對裝載埠的外露構件造成不利的影響。裝載埠的這些外露的構件典型地會塗覆防腐蝕塗層以減輕對腐蝕性氣體的曝露。
提供氣體腐蝕性氣體減輕措施被證明是困難的且昂貴的，因為例如氣體流(譬如，來自裝載埠的清洗 通風口或其它氣體源)因為的不可預測性，例如：裝載埠所固持之前開口統一式儲存盒(Front Opening Unified Pods)(亦被稱為FOUPS)的不同的形狀；不同的FOUP之間在該FOUP內的構件的去氣(out-gassing)量上會不一樣、不同的FOUP之間在FOUP所固持的晶圓或基材的數量會不一樣等等。在會遭遇或不會遭遇腐蝕性氣體的裝載埠構件上提供塗層會增加裝載埠的成本。此外，修改裝載埠以容納塗層及/或重新引導腐蝕性氣體亦會增加成本、增加裝載埠的複雜度、及增加裝載埠的製造前置時間(lead time)。
依據本揭露內容的一或多個態樣，一種基材裝載裝置被提供。該基材裝載裝置包含：框架，用來將該基材裝載裝置連接至基材處理設備，該框架具有運送開口，基材經由該運送開口被運送於該基材裝載裝置和該基材處理設備之間；匣盒支撐件，其被連接至該框架，用來固持至少一基材匣盒容器緊鄰該運送開口，該匣盒支撐件被建構成使得該至少一匣盒容器的被密封的內部氛圍係在該至少一基材匣盒容器的預定的進出位置從該匣盒支撐件進出(accessed)；以及該匣盒支撐件具有一被設置在該匣盒支撐件上的預定的連續的穩態差壓充氣部區域，其至少部分地由產生差壓的流體流的邊界所界定，使得該預定的連續的穩態差壓充氣部區域界定一連續的穩態流體流隔離阻障物，其被設置在該容器支撐件上介於該至少一基材匣 盒容器的該等預定的進出位置和該匣盒支撐件的另一預定的區段之間，用來將該另一預定的區段與該等預定的進出位置隔離開。
10:基材處理設備或工具
12:前區段
14:後區段
16:殼體
T:容器
14L:負載鎖定室
24:裝載埠(裝載埠模組)
30P:可關閉的埠口(或存取埠、裝載埠模組進出埠、運送
開口、裝載埠開口)
800A:清洗埠噴嘴位置
800B:清洗埠噴嘴位置
801A:清洗埠噴嘴位置
801B:清洗埠噴嘴位置
802A:清洗埠噴嘴位置
802B:清洗埠噴嘴位置
803A:清洗埠噴嘴位置
803B:清洗埠噴嘴位置
804A:清洗埠噴嘴位置
804B:清洗埠噴嘴位置
74:印刷電路板(PCB)
283:線性軸承
53:電動馬達
2010:直線基材處理系統
2012:界面區段
3018:轉送室模組
3018A:轉送室模組
3018I:轉送室模組
3018J:轉送室模組
2050:界面
2060:界面
2070:界面
2080:基材運送器
410:基材處理設備或工具
416:直線轉送室
412:工件入口/出口站
18B:轉送室模組
18i:轉送室模組
56A:負載鎖定室模組(或負載鎖定室)
56B:負載鎖定室模組(或負載鎖定室)
26B:運送設備(或運送手臂)
26i:運送設備(或運送手臂)
30i:工件站
56:負載鎖定室
56S:工件支撐件/架
56S1:工件支撐件/架
56S2:工件支撐件/架
30S1:工件支撐件/架
30S2:工件支撐件/架
15:運送手臂
26B:運送手臂
26i:手臂
29:裝載埠框架
28:運送容器固持區域(或固持區域、裝載埠模組固持區
域、匣盒支撐件、支撐區域)
25:室/空間
36:第一站(或主要站、固持站、支撐件、上站、上支撐站)
34:次要站(或固持站、下站、下支撐站)
12F:正面
38:延伸區
34L:相對的支撐構件
T2:外殼
T4:外殼蓋或門
T6:上表面
T8:夾具
T10:座面
34F:凸緣
296:支撐結構
29:裝載埠框架
50:梭車支撐件(或梭車底座支撐件、梭車架子)
52:梭車
54:(梭車)驅動系統
M:箭頭
30D:門
400:控制器
T3:底部
T12:容器感測墊
T14:線的前端資訊墊
T16:線的後端資訊墊
T18:容器容量資訊墊
T20:盒子或匣盒資訊墊
T22:槽道
61:容器夾持系統
T24:第一凹部
T26:第二保持特徵
T30:圓形的凹部
T32:外孔
T34:修平的邊緣
T36:嚙合唇
55:底盤/骨架
56:罩殼
58:定位特徵
60:耦合特徵
62:偵測系統
296H:頂板
296E:側板
64:嚙合件
56U:上表面
64C:凸輪表面
66:定位柱(運動耦合銷)
66T:末端(或尖端、頂端、圓錐形頂端)
68:開關
68O:感測器部分
68I:作動部分
68E:跡線
72:線束
56W:罩殼周壁
56H:穿孔
66C:軸環
70:指件/耳片
70E:尖端
68F:遮斷旗標部分
54:梭車驅動系統
53:電動馬達
57:導螺桿
91:適當的電路
58E:馬達編碼器
92:電流感測器
90:捏縮保護電路
53E:馬達編碼器
402:自動倒車程式
110:運送容器前進偵測系統
L1:位置
112:光源
114:感光部分
B:光束
d:距離
401:程式模組
T40:閂扣系統
T42:閂扣系統
T44:可樞轉的中心轂
T46:閂扣耳片
T50:閂扣鍵進出孔
T52:定位銷孔
120:定位器銷
122:閂扣鍵
1002:基材處理設備或工具
1004:EFEM
1006:處理區段
31000:控制器
31010:流體控制閥
31020:流體控制閥
31030:釋壓或止回閥
31040:壓力感測器
31041:污染物感測器
31042:溫度感測器
31050:氣體或空氣流
31060:散熱器
1004R:機器人
1010V:真空源
776:埠口(或孔口、預定的進出位置)
940:門密封件
1010G:氣體源/給送器
5000:作動器
601:清洗埠
602:清洗埠
603:清洗埠
604:清洗埠
10000:清洗/通氣埠耦合件
10001:清洗/通氣埠耦合件
10002:清洗/通氣埠耦合件
10003:清洗/通氣埠耦合件
10004:清洗/通氣埠耦合件
10005:清洗/通氣埠耦合件
910:腐蝕性氣體外逃流
920:腐蝕性氣體外逃流
930:腐蝕性氣體外逃流
983:容器/門界面
999:開口/狹縫
960:連續的穩態差壓充氣部區域
961:(連續的穩態)差壓充氣部區域
962:(連續的穩態)差壓充氣部區域
963:(連續的穩態)差壓充氣部區域
966:(連續的穩態)差壓充氣部區域
967:(連續的穩態)差壓充氣部區域
960B:邊界
961B:邊界
962B:邊界
963B:邊界
964:邊界
965:邊界
966B:邊界
967B:邊界
968:連續的穩態流體流隔離阻障物
10099:孔洞
10010:充氣埠
10011:充氣埠
10012:充氣埠
10013:充氣埠
10014:充氣埠
10015:充氣埠
970:連續的穩態差壓充氣部區域
971:連續的穩態差壓充氣部區域
970B:邊界
971B:邊界
10016:充氣埠
10017:充氣埠
10018:充氣埠
52S:表面
52V:葉片
770:門存放區
276:裝載埠門/框架界面
1300:乾淨乾燥空氣源
ΔP:差壓
12010:管道
12001:真空/抽吸源
13012:流體引導途徑
1400:方法
1500:方法
900:運送搬運車
M:箭頭
I:箭號
本揭露內容的前述態樣及其它特徵在參考附圖下於下面的描述中被說明，其中：[圖1A]是依據本揭露內容的態樣的基材處理設備的示意立體圖；[圖1B]是依據本揭露內容的態樣的基材處理設備的示意圖；[圖1C]是依據本揭露內容的態樣的基材處理設備的示意圖；[圖2]是依據本揭露內容的態樣的圖1A-1C的基材處理設備的任何一者的裝載埠模組的示意圖；[圖3]是依據本揭露內容的態樣的圖2的裝載埠模組的示意圖；[圖4A-4D]是依據本揭露內容的態樣的圖2的裝載埠模組的一部分的示意圖；[圖5]是依據本揭露內容的態樣的圖2的裝載埠模組的一部分的示意圖；[圖6A及6B]是基材運送容器的示意圖；[圖7A及7B]是依據本揭露內容的態樣的圖1A-1C的任何一者的基材處理設備的一部分的示意圖； [圖8A]是用來將容器耦合至依據本揭露內容的態樣的基材處理設備的流程圖；[圖8B]是用來將容器耦合至依據本揭露內容的態樣的基材處理設備的流程圖；[圖9]是依據本揭露內容的態樣的圖2的裝載埠模組的一部分的示範性平面圖；[圖10A]是依據本揭露內容的態樣的圖2的裝載埠模組的一部分的示意圖；[圖10B]是依據本揭露內容的態樣的圖2的裝載埠模組的一部分的示意圖；[圖11]是依據本揭露內容的態樣的圖2的裝載埠模組的一部分的示意圖；[圖12]是依據本揭露內容的態樣的圖2的裝載埠模組的一部分的示意圖；[圖13]是依據本揭露內容的態樣的圖2的裝載埠模組的一部分的示意圖；[圖14]是依據本揭露內容的態樣的示範性流程圖；及[圖15]是依據本揭露內容的態樣的示範性流程圖。
參考圖1A，其顯示一包含本揭露內容的特徵的基材處理設備或工具10的立體圖。雖人本揭露內容將參 考圖式中所示的態樣來描述，但應理解的是，本揭露內容可被體現為許多其它態樣的形式。此外，任何適合的原件尺寸、形狀、種類或材料亦可被使用。
在圖1A所示的態樣中，該基材處理設備或工具10已為了舉例的目的被顯示為具有一般性的基材批次處理設備或工具組態。在其它實施例中，該基材處理設備或工具可具有任何其它適當的組態，其和本揭露內容一樣將於下文中詳細描述且同樣適用在任何基材處理設備或工具組態，其包括用於個別基材處理的工具及/或直線工具站，譬如示於圖1B及1C中且被描述在2006年5月26日提申，名稱為“Linearly Distributed Semiconductor Workpiece Processing Tool”的美國專利申請案第11/442,511號中者，該申請案的揭露內容藉此參照被併於本文中。該基材處理設備或工具10能夠搬送並處理任何所想要的平板或基材類型，譬如200mm或300mm半導體晶圓、半導體封裝基材(如，高密度互連線)、半導體製程成像板(如，光罩或標線板)、及用於平板顯示器的基材。該基材處理設備或工具10一般可包含前區段12和後區段14。前區段12(‘前’這一用詞在此處是為了方便而被用來指出一示範性的參考座標，且在其它的實施例中，設備的前方可被建立在該設備的任何所想要的一側)。該前區段12具有一系統(這將於下文中詳細描述)，其提供一界面，允許基材從晶圓廠送入到該基材處理設備或工具10的內部的運送。前區段12一般亦具有殼體16和位在該殼體內的自動化構件，其用來將基材搬 送於該後區段14和前區段界面之間以及搬運至外界。該後區段14被連接至峐研區段的殼體16。該設備的後區段14可具有一被控制的氛圍(如，真空、鈍氣)、且通常包含一用來處理基材的處理統。例如，該後區段大致上可包括一具有基材運送裝置的中央運送室、及週邊處理模組，用來對該設備內的基材實施所想要的製造處理(如，蝕刻、材料沉積、清潔、烘烤、檢查等等)。基材可在容器T(亦被稱為載具(carrier))內在該晶圓廠(fab)中被運送至該基材處理設備或工具10。容器T可被設置在該前區段界面上或鄰近該前區段界面。基材可使用在該前區段內的自動化構件從容器被攜帶通過界面(譬如，BOLTS(Box Opener/Loader to Tool Standard)界面)進入到該前區段12內。基材然後可透過負載鎖定室(load locks)被運送至該氛圍被控制的後區段，用以在該等處理模組中的一者或多者內進行處理。經過處理的基材然後可用實質顛倒的方式被回送至前區段12，然後送至運送容器T以移走。
前區段12(其亦可被稱為環境前端模組或EFEM)可具有外殼或罩殼，其界定出受保護的環境或迷你環境，基材可在該迷你環境中以介於該等運送容器T(其被用來在該晶圓廠內運送基材)與負載鎖定室14L(其提供進入該後區段14的該被控制的氛圍的入口)之間有最小的潛在污染的方式被存取及搬送。裝載埠或裝載埠模組24(數量是一個或多個的例子將於於下文中被進一步描述)被設置在該前區段的一側或多側上以提供前區段與晶圓廠之間 的界面。該等裝載埠模組可實質類似於描述在2014年9月2日授予名稱為“Load Port Module”的美國專利第8,821,099號中的裝載埠模組，該專利的內容藉此參照被併於本文中。該等裝載埠模組24可具有可封閉的埠口(存取埠、裝載埠模組進出埠、運送開口、或裝載埠開口)30P，其在該EFEM的內部與外部之間形成一可封閉的界面，譬如BOLTS界面。如圖1A中所見，該等裝載埠模組可具有一用於運送容器T的支撐區域。一次要固持區域亦可被提供在該支撐區域底下，該等運送容器可被暫時停置於此。該運送容器支撐區域可允許被支撐於其上的運送容器T被自動化運動至最終的或泊靠的(docked)位置。該裝載埠模組的埠門在位於該泊靠位置時可嚙合該運送容器，用以打開該運送容器，同時亦打開在該裝載埠框架內的存取埠30P，用以提供對於該運送容器內的基材的存取途徑以及用於運送基材於該容器和EFEM內部之間的存取途徑。該埠門和運送容器之間的嚙合可用美國專利第8,821,099號中描述的可獨立地操作的鍵(key)來實施。依據本揭露內容的態樣，描述於本文中的裝載埠模組24包括一在該裝載埠24的梭車52上或鄰近裝載埠的梭車的差壓充氣部(differential pressure plenum)空間或區域。如將於本文中討論地，該差壓充氣部實質抑制及/或排空任何會從設置在該梭車上且與該裝載埠24界接的基材運送容器T經由容器門密封件及/或在該基材運送容器T被該裝載埠24實質開始(及/或實質結束)清洗/排氣時逃逸出的腐蝕性氣體(如，被排出的氣 體。該差壓充氣部亦可實質抑制及/或排空在該基材運送容器T被該裝載埠24打開時逃逸出的腐蝕性氣體。該差壓充氣部可實質地防止腐蝕性氣體接觸例如該裝載埠24的任何適合的構件，包括但不侷限於印刷電路板(PCB)74(圖5)、線性軸承283(圖3)、馬達(如參見電動馬達53(圖4D))、感測器(參見感測器T12-T20(圖4B))、感測器68O(圖5)、開關68(圖5)、感測器92(圖4C)、線束72(圖4D)、運送容器前進偵測系統110(圖2)、及/或與設置在該裝載埠24上的容器T鄰近之裝載埠24的其它適合的構件。
現參考圖1B，一種直線式基材處理系統2010的示意平面圖被示出，其中工具界面區段2012被安裝至一轉送室模組3018，使得該界面區段2012大致面向該轉送室3018(如，朝內)但偏離該轉送室3018的縱長軸線X。如上文中藉由參照而被併於本文中的美國專利申請案第11/442,511號中所描述地，該轉送室模組3018可藉由將其它轉送室模組3018A，3018I，3018J附加至界面2050，2060，2070而被擴延於任何適合的方向上。每一轉送室模組3018，3019A，3018I，3018J都包括一基材運送器2080，用來將基材運送於整個處理系統2010內並例如進/出處理模組PM。可被理解的是，每一室模組能夠維持一被隔離的、被控制的或被密封的氛圍(如，N2、潔淨空氣、真空)。
參考圖1C，其顯示一示範性基材處理設備或工具410的示意平面圖，譬如沿著該直線式轉送室416的縱 長軸線X所取的圖式。在如圖1C所示的一態樣中，工具界面區段2012可被代表性地連接至該轉送室416。在此態樣中，界面區段2012可界定該工具轉送室416的一端。如圖1C中所見，該轉送室416可具有另一工件入口/出口站412，例如，位在與該界面區段2012相反的一端。在其它態樣中，用來將工件送入該轉送室/移出該轉送室的其它入口/出口站可被設置在例如該工具轉送室416的諸端之間。在本揭露內容的一態樣中，界面區段2012和入口/出口站412可允許工件載入及移出該工具。在其它態樣中，工件可從一端載入到該工具中且從另一端移出該工具。在一態樣中，該轉送室416可具有一或多個轉送室模組18B，18i。每一室模組可保持一被隔離的、被控制的或被密封的氛圍(如，N2、潔淨空氣、真空)。如前面提到的，形成圖1C中所示的轉送室416的轉送室模組18B，18i、負載鎖定室模組或負載鎖定室56A，56B和工件站的組態/構造只是示範性的，且在其它態樣中，該轉送室可具有以任何所想要的模組組態被設置之更多或更少的模組。在一態樣中，站412可以是一負載鎖定室(load lock)。在其它態樣中，一負載鎖定室模組可被設置在該端入口/出口站(類似於站412)之間或該毗鄰的轉送室模組(類似於模組18i)可被建構成如同一負載鎖定室般地操作。如上文中亦被提及地，轉送室模組18B，18i內設置有一或多個相應的運送設備或運送手臂26B，26i。個別轉送室模組18B，18i的運送設備26B，26i可合作用以在該轉送室內提供直線配送式工 件運送系統420。在其它態樣中，該等轉送室模組18B可被建構成允許任何適合的運送搬運車(未示出)沿著該直線轉送室416的長度的至少一部分移動於轉送室模組18B之間。可被理解的是，運送搬運車900可包括任何適合的運送設備安裝於其上且實質地類似於描述於本文中的運送設備。如圖1C所示，在一態樣中，運送設備26B的手臂可安排來提供被稱為快速交換組態的配置，用以允許該運送能夠從一揀取/放置地點快速地交換晶圓，這將於下文中更詳細地描述。運送設備26B可具有適當的驅動區段，用以由一相較於傳統的驅動系統而言簡化的驅動系統提供每一手臂三(3)個自由度(如，以Z軸運動繞著肩關節及肘關節獨立地轉動。在其它態樣中，該驅動區段可提供手臂比三個自由度還多或還少的自由度。如圖1C中所見，在一態樣中，模組56A，56，30i可被間隙地設置在轉送室模組18B，18i之間且可界定適當的處理模組、負載鎖定室、暫存站、度量站(metrology station)或任何其它所想要的站。例如，該等間隙模組(interstitial module)，譬如負載鎖定室56A，56B及工件站30i，每一者都可具有固定不動工件支撐件/架56S1，56S2，30S1，30S2，它們可和該等運送手臂合作以實施運送或將工件沿著該轉送室的直線軸線X移動經過該轉送室的長度。舉例而言，工件可被界面區段2012載入該轉送室416。工件可被放置在界面區段的運送手臂15放置在負載鎖定室模組56A的支撐件上。在負載鎖定室模組56A內的工件可被模組18B內的運送設備26B移動於負載鎖 定室模組56A和負載鎖定室模組56B之間，且以一類似且連續的方式被(模組18i內的)運送設備26i移動於負載鎖定室56B和工件站30i之間且被模組18i內的運送設備26i移動於站30i和站412之間。此處理可全部或部分地被反向，用以將工件移動於相反方向上。因此，在一態樣中，工件可被移動於沿著軸線X的任何方向上且可被移動至沿著該轉送室的任何位置且可被裝載至與該轉送室連通的任何所想要的模組(處理模組或其它模組)並從該模組移出。在其它態樣中，具有靜態工件支撐件或支撐架的該等間隙轉送室模組可以不被設置在轉送室模組18B，18i之間。在本揭露內容的這些態樣中，毗鄰的轉送室模組的運送手臂可從末端執行器或一運送手臂將工件直接(或透過使用暫存站)送出至另一運送手臂的末端執行器，用以將工件移動通過該轉送室。該等處理站模組可經由各式沉積、蝕刻、或其它處理類型來在基材上操作，用以在基材上形成電路或其它所想要的結構。該等處理站模組被連接至該等轉送室模組以允許基材從該轉送室被送至處理站，反之亦可。一具有和圖1C所示的處理設備或工具大致類似的特徵的處理設備或工具的適當例子被描述在之前藉由參照而被併於本文中的美國專利申請案第11/442,511號中。
參考圖1A及2(它是依據本揭露內容的此示範性態樣的處理設備或工具的裝載埠模組24的立體圖)，該裝載埠模組24具有一裝載埠框架29，其可大致(如之前提到地)界定一運送容器固持區域、固持區域、裝載埠模組 固持區域、匣盒支撐件、或支撐區域28及一可封閉的埠口30P，基材經由該埠口被運送進/出在該前區段殼體16內部的迷你環境。該裝載埠模組24可實質地類似於描述在2014年9月2日授予之名稱為“Load Port Module”的美國專利第8,821,099號中的裝載埠模組，該專利的內容藉此參照被併於本文中。將於下文中被進一步描述的是，該EFEM的殼體16和裝載埠模組24被連接以形成一室或空間25，其從外面被實質地封閉，且如之前提到的，其提供一被控制的或迷你環境於該前區段12(其亦被稱為EFEM)內。例如，該前區段可包括一控制的空氣流動系統(未示出)(譬如通風口、羽板通風口(louver)、層流系統)以以避免顆粒污染物進入到該前區段12的該迷你環境中。如圖1A及2中所見，該裝載埠模組24的該運送容器固持區域28可具有主要站或第一站(固持站、支撐件、上站、或上支撐站)36和次要站(固持站、下站、或下支撐站)34。在此態樣中，該固持區域28的每一站36，34能夠固持一運送容器T，但在其它實施例中，該運送容器固持區域可具有更多或更少的固持站，且每一固持站可支撐任何所想要數量的基材運送容器。座落在固持站36，34上的運送容器T(圖1A)為了舉例的目的而被顯示為開口統一式儲存盒(FOUPs)式容器，但在其它實施例中，該裝載埠固持區域的固持站可支撐任何所想要的運送容器類型，譬如SMIF容器。
在圖1A所示的態樣中，該前區段12為了舉例的目的而具有被設置在該前區段12的正面12F上的裝載埠 模組24。在此位置，該裝載埠模組24可被設置來方便用任何適合的自動化材料搬運系統(AMHS)(未示出)來將運送容器T放置在該裝載埠模組固持區域28的至少一固持站36，34上以及從該處移走。如圖1A-2中所見，該裝載埠模組固持區域28從該前區段的該正面12F突伸出，並且用AMHS來實施的該運送容器T在該固持區域28上的移走/放置的存取可從上方或前方來進行。在替代實施例中，該裝載埠模組可如所想要地被設置在該前區段的其它側。在另外的其它實施例中，裝載埠模組可被設置在該前區段12的兩個或更多側上。如圖2中所見，在此示範性態樣中的裝載埠模組24可具有一延伸區38，其由該裝載埠模組24的基板向外突伸出。
再次參考圖1A-3，該裝載埠模組24的該運送容器固持區域28可具有上支撐站36及下支撐站34這兩者，每一支撐站36，34可如圖1A所示地固持或支撐一運送容器T。在此態樣中，該下支撐站34被大致設置在該上支撐站36底下。該下支撐站34可包含可保形地(conformally)嚙合該運送容器T的結構之相對的支撐構件34L(只有一者在圖3中被示出)，使得當該運送容器被放置在該下支撐站34內時，該運送容器係從該相對的支撐構件34L被支撐。圖6A-6B分別是一示範性基材運送容器T的前視和底視立體圖。 在圖6A-6B中的運送容器T被顯示為具有FOUP型式的構造。在其它實施例中，該基材容器可具有任何其它所想要的構造，如圖6A中所見，運送容器T大致上具有一外殼T2 和外殼蓋或門T4，其被可拆除地連接至該外殼。該外殼T2具有一上表面T6，有一夾具T8從該上表面突伸出。該夾具T8可包括側凸緣或向外突伸出的座面T10，其偏離該外殼的該上表面T6一距離。座面T10可以是依循SEMI；E47.1-1001的固持凸緣的一部分。座面T10可用來嚙合一自動化材料搬運系統的容器運送器的耦合部分並藉以從該運送器支撐該容器。再次參考圖2-3，在該裝載埠模組固持區域28上的該下支撐站34的相對的支撐構件34L在此態樣中被顯示為具有一角度或呈大致L型的構造。相對的支撐構件34L如圖所示地具有朝內突伸的凸緣34F。在其它實施例中，相對的支撐構件34L可具有任何其它適合的形狀。相對的支撐構件34L例如可以是金屬、塑膠或任何其它適合的材料，且可如圖3所示地被連接至該裝載埠框架29的支撐結構296。朝突伸的凸緣34F的大小被作成可被接納於該運送容器上的座面T10(圖6A)和該容器的該上表面T6之間。相對的支撐構件34L的凸緣34F被充分地分開以允許容器T的支撐夾具T8插入到凸緣之間，朝外突伸出的座面T10(至少部分地)懸在相應的凸緣34F上方。因此，當運送容器T被載入到該下支撐站34內時，該運送容器T被位在該等凸緣34F上的座面T10支撐。
在此態樣中，該運送容器T可被操作者藉由(在圖2中箭號I所示的方向上插入該容器)而被彼此放置在該下支撐站34上，使得夾具T8被移入至凸緣34F之間。在其它實施例中，該下支撐站的該等支撐構件可具有任何其 它所想要的方位以允許該運送容器從任何其它所想要的方向被放置。運送容器T從該下支撐站34移走可以一實質反向的方式由使用者手動地將該容器在與安裝相反的方向上撤出來達成。該下支撐站34提供該裝載埠模組另一容器存放位置，在該上支撐站36被另一運送容器佔據的時候或在不能放置該運送容器T於該上支撐站的一些情形(如，檢測)中，使用者可將運送容器T放置在該存放位置處。如上文中提到的，在其它實施例中，該裝載埠模組可以沒有在該運送容器固持區域28內的下支撐站。
現再次參考圖2，在該裝載埠模組24上的該運送容器固持區域28的該上支撐站36大致上包含一梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50及一可活動地安裝在該梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50上的台車(carriage)或梭車(shuttle)52。一梭車驅動系統54將該梭車52可操作地連接至該梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50且能夠將該梭車52移動於該梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50上。該梭車驅動系統54將該梭車移動於(圖2中的箭頭M所標示的方向上的)第一位置和第二位置之間。如將於下文中進一步描述地，該梭車52被建構成允許一運送容器T放置於其上。該第一梭車位置可被設置成使得該運送容器T可被自動化的材料搬運系統(未示出)自動地放置在該搬運車上(或從搬運車被揀取)。該梭車52可被移動到的該第二位置被設置成使得在該梭車上的該運送容器T可泊靠到門30D(參見圖1A)處，這將於下文中進一步 描述。當梭車在此第二位置時，其上的運送容器T被放置的位置為了方便的目的將被稱為泊靠位置。控制器400被連通地連接至該梭車上的感測器及該驅動系統，這將於下文中進一步描述。
如在圖1A中所見，該運送容器T被放置在該梭車52上，該容器的底面放在該梭車上。如將於下文中進一步描述地，該梭車52因而被建構來保形地嚙合該運送容器T的底部。圖6B是一底視圖，其顯示該示範性基材運送容器T的底部T3的特徵。在此態樣中，該運送容器的底部T3大致上依循SEMI E47.1的規格。在其它實施例中，該基材運送容器的底部可具有任何其它所想要的特徵。在此例子中，該底部T3大致上包括容器感測墊T12、一個線的前端(FEOL)資訊墊T14、一個線的後端(BEOL)資訊墊T16、一容器容量(即，基材固持位置的數量)資訊墊T18和一盒子或匣盒資訊墊T20。該容器的底部T3可進一步包括槽道T22，用於該梭車52上的定位/運動耦合銷66嚙合之用。一進到該底面內的第一凹部T24被設置作為第一保持特徵。該容器的底部亦具有一形成於其內的第二保持特徵T26。該第二保持特徵大致上包含一形成在該底部內的大致圓形的凹部T30，其具有一外孔T32，其帶有被實質修平的(squared off)邊緣T34(其形成嚙合唇T36)。
圖4A-4D分別是梭車52及該支撐架結構之其上設有該梭車的部分(該梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50只有在圖4C-4D中看得到)的示意立體圖、上視 平面圖、前視圖及側視圖。梭車52大致上包含一底盤或骨架55和一位在該底盤上的罩殼56。該梭車52亦可大致上具有定位特徵58，用來幫助將該容器T適當地定位於該梭車上、耦合特徵60，用來將該容器T正耦合(positive coupling)至該梭車、及偵測系統62，用來偵測該容器T在該梭車52上的存在及正確放置。現在亦參考圖5，其顯示該梭車52的部分切開圖，底盤55可具有任何適合的形狀，且可用任何適合的材料製造、能夠支撐和該運送容器T放置及移走相關的靜態和動態負荷以及該容器及該梭車在該第一和第二位置之間的運動。該底盤55可具有一運動系統(未示出)(譬如，滾輪或滑板)，其允許該梭車52(在圖2的箭頭M所示的方向上)相對於該裝載埠模組框架的梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50自由運動。部分地示於圖5中的梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50(亦參見圖2)可由裝載埠框架29(參見圖3)的支撐結構296形成。 該梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50可包括形成在框架結構296上或依賴該框架結構296的軌道或軌條(例如，頂板296H或側板296E)，該底盤55的運動系統跨騎於其上。該等容器定位特徵58、耦合特徵60、偵測系統62和罩殼56被安裝在該底盤55上。
如圖4A-4B中所見，在此態樣中，在該梭車52上的該等容器定位特徵58可包括一突出的嚙合件64。在此態樣中，該嚙合件64可具有一大致截頭金字塔的形狀，其大致與位在該容器的底部T3的該等定位凹部T24(參見圖 6B)的形狀一致。該嚙合件64可被固定至底盤55、且在該容器T座落在該梭車52上時突伸穿過該罩殼56上的一適合的開口到達該罩殼56的上表面56U之上夠高的上方用以嚙合在該容器內的該定位凹部T24。該嚙合件64可具有凸輪表面64C，用來與該容器定位特徵的邊緣合作，用以協助該容器T在該梭車上的適當自動定位。在其它實施例中，該梭車可以不具有像嚙合件64一樣的嚙合件。在此態樣中，該梭車52可具有定位柱(亦被稱為運動耦合銷)66。柱66可用作為定位特徵，用來協助該容器T在該梭車52上的正確定位、以及提供一將該容器T正耦合(即，運動耦合)至該梭車52的手段這兩者。從圖4B和6B可瞭解到的是，柱66被設置在該梭車52上，用以和在該容器底部T3上的槽道T22配合。可用任何適合的材料(譬如，金屬或塑膠)製成的柱66可如圖5中所示地被直接固定至該梭車的底盤55。柱66可(在該罩殼56上適當的孔)突伸穿過該罩殼56用以在該等槽道T22(參見圖6B)嚙合該容器的底部。在此態樣中，柱66可界定該梭車上用於該運送容器T的支撐平面。柱66的末端或尖端(頂端或圓錐形頂端)66T如圖4D及5中所見地可具有一大致圓錐或圓的形狀。這提供所想要的在該梭車52和該容器的底部之間的三個接觸點，用來在精確且可重復地在該梭車上界定出用於該容器的支撐平面。 可被理解的是，柱66支撐該容器T的重量，因此具有一如圖5中所示之徑向凸緣的構造，用以將該容器重量分散至該底盤。柱66的圓錐形頂端66T亦可如抵靠在該容器的底 部的槽道T22的斜的側邊的凸輪表面般地操作，用以機械地引導該容器沿著該支撐表面，直到該容器在該梭車上的該所想要的位置(這是由槽道T22和柱66的頂端66T的幾何形狀來實施)被建立為止。
該梭車52的該偵測系統62大致上包含數個分佈在該梭車的區域上的開關68。開關68可被設置在該梭車52上用以和該等容器感測墊T12、線的前端資訊墊T14、線的後端資訊墊T16、該容器的底部上的容器容量及匣盒資訊墊T18，T20合作。圖4B例示在該容器T的底部上的墊T12-T20的位置，其被疊置在該罩殼56和梭車52的開關68上。在此態樣中，開關68大致上是相同種類且彼此類似並且將於下文中參考代表性開關被描述。在其它實施例中，不同種類的開關可被用在該梭車上的不同位置，其對應至能夠被該容器T的不同資訊墊T16-T20中繼到被給定的開關的不同類型的資訊。該代表性開關68的架構見於圖5中。 在此態樣中，開關68可以是光電開關，其大致包含一底座或感測器部分68O和作動部分68I。作動部分68I受彈簧力(這將於下文中被進一步描述)且藉由與該容器的底部上的一相對應的墊接觸而被作動。該感測器部分68O偵測該作動部分的作動並送出一訊號至控制系統。如圖5中所見，感測器部分68O可被安裝在一設置在該梭車的該底盤55上的PCB74上。PCB74可具有用於電力及訊號這傳輸這兩者的跡線68E形成於其內。跡線68E可被終止在適當的表面接點(未示出)，電子構件的接觸端子可如所需地被連接至該 等表面接點(藉由使用包括平頭波峰焊接(flush wave soldering)在內之用來將電子構件安裝至PCB上的任何適合的手段)。該感測器部分68O的接觸端子(電力及訊號者兩者)可用類似的方式被連接至在PCB74內的跡線68E。安裝電子構件(譬如，將開關68的感測器部分68O安裝至具有整合的跡線的PCB(譬如，PCB74))係用來消除個別的導體以及它們裝到底盤的昂貴且耗時的安裝，這些導體被用來將電子構件連接至電源供應器及控制系統。在PCB中的該等跡線68E可延伸至端子連接器(未示出)，例如一可撓曲的線束72(亦參見圖4D)的一連接器化的末端可被配接至該端子連接器。可被理解的是，該線束可將PCB74內的跡線68E以及電子構件(譬如，偵測器開關68的感測器部分)連接至控制系統400(參見圖2)及電源供應器(未示出)。該感測器部分68O可例如具有一適當的光源(譬如，LED)和一光偵測器(譬如，光電管(photo cell))。在該開關的未激活(unactivated)的狀態中，該光源例如照明該光電管，這造成該感測器部分68O(透過跡線68E)送出一訊號至控制系統400，該訊號被該控制系統解讀為該開關68的未活化的狀態。當遮擋了該光源時(譬如被該開關的作動部分68I的一些部分遮擋)，來自該光電管的訊號會改變，其被該控制系統解讀為該開關係在是處在被作動的狀態。在替代實施例中，該感測器部分68O可被建構成使得該光源是在該開關68處在未活化的狀態時被遮擋，且在該被作動的狀態時照明該光偵測器。
如圖5中所見，該開關68的作動部分68I被整合至該梭車52的罩殼56內。偏動該作動部分68I的彈簧在此態樣中是由該罩殼56的一部分形成。該梭車52的罩殼56例如可用塑膠、或金屬板或任何其它適合的材料製成。在此態樣中，罩殼56可以是單件式構件(即，單一構造)。在該罩殼56是塑膠的例子中，它例如可藉由射出模製或任何其它適合的加工處理來製造。如在圖4A-4D中所見，該罩殼56在此態樣中可具有大致六邊形的形狀，其具有一上表面56U和從該上表面突伸出的周壁56W。在其它實施例中，該梭車罩殼可具有任何其它適合的形狀。如在圖2中所見，當被安裝到該底盤55上時，該罩殼56用來將該底盤實質地包覆於其內，在該罩殼周壁56W的下緣與該梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50之間有一很小的間隙，用以在將灰塵或其它污染顆粒進入到該梭車系統最小化的前提下提供相對於該梭車的自由運動。該罩殼的上表面56U如圖4A所示地具有形成於其內的穿孔56H。穿孔56H允許柱66如圖5中所示地延伸穿過該罩殼56。亦如圖5所示，穿孔56H在此態樣中亦用來讓該罩殼56定位於該梭車的底盤55上(介於孔緣和相應的柱66之間的間隙夠小，使得柱66提供該罩殼56相對於底盤55的精確定位。此外，在此態樣中，穿孔56H的邊緣如圖5中所示地係座落在柱66的軸環66C上，藉以從該等柱支撐該罩殼56。在其它實施例中，該罩殼可具有任何其它所想要的安裝系統來附裝該罩殼和該底盤。如圖4A-4B中所見，該罩殼的上表面56U具 有數個可彈性地撓曲的耳片或指件70形成於其內。該等耳片70可用任何適合的手段來形成，譬如切割該罩殼56的上表面56U。耳片70的數量與該偵測系統62的開關68的數量一致。在此態樣中，有8個耳片70被形成在該罩殼的上表面中。在其它實施例中，該罩殼可具有任何其它所想要數量的可撓曲耳片被形成於其內。在另外其它的實施例，該等可撓曲的耳片可被形成在該罩殼的任何其它所想要的表面中。在圖4A-4B中所示的態樣中，該等耳片70彼此實質地類似，因此耳片70可具有類似的彈性撓曲特性。在其它實施例中，不同耳片的形狀(即，長度、截面)可不相同，用以提供具有不同的撓曲特性的不同耳片。在此態樣中，耳片70的尖端70E係位在罩殼上，使得當該罩殼被安裝至該底盤時，每一尖端70E被實質地設置在相應的開關68(參見圖5)的感測器部分68O上方。在其它實施例中，耳片可被放置成使得耳片的任何任何其它所想要的位置(即，耳片中間區段)被設置在相應的開關的感測器部分上方。耳片在該罩殼的上表面56U上的方位(orientation)可如所需地被不同地選擇，用以提供耳片一不受限制的懸臂樑撓曲性。圖4A-4B所示的耳片70的方位指示舉例而已，耳片可具有任何其它所想要的方位。
如圖5中所見，在此態樣中，該開關68的作動部分68I被安裝或設置在相應耳片70的尖端70E上。該作動部分68I可以是和該耳片70一體的構造(例如，在該罩殼上表面的模製期間被形成)或者可用適合的黏合手段(譬 如，黏劑)而被安裝至該耳片70上。該作動部分68I從該罩殼的該上表面56U充分地突伸出，用以與置於柱66上的容器的相對應的墊T12-T20接觸，並藉此接觸來造成耳片70的足夠的偏折，用以將該作動部分的遮斷旗標部分68F移動(如，遮斷該光源並)造成該開關68的激活(activation)。 當該容器T從梭車52上被移走時，該可撓曲的耳片70彈回到未被偏折的位置，將該開關回復至該未被激活的狀態。 可被理解的是，如果該容器T未被適當地放置在該梭車內的話，則在該容器的墊T12-T20與開關68的至少一些作動部分68I之間有一些未對準，使得至少一些開關沒有激活。一些被激活的開關以及其它未被動的開關的訊號的組合可被該控制系統400解讀為該容器T未適當地放置在該梭車上的指示。控制系統程式然後可防止該梭車52移動並給出修正動作指令，用以修正該容器的放置或從該梭車移出該容器。
如之前提到的，梭車52可具有耦合特徵60，用來將該運送容器T正耦合至該梭車。亦如之前提到的，柱66在梭車運動期間係用作為該梭車和該容器期間的運動耦合手段。在此態樣中，該梭車耦合特徵60亦可包括容器夾持系統61，其實質類似於描述在之前藉由參照而被併於本文中的美國專利第8,821,099號專利中的容器夾持系統。
現再次參考圖2及4A-4D，梭車52(在圖2的箭頭M所示的方向上)可被梭車驅動系統54移動於該梭車的第一或裝載位置和泊靠位置之間。如圖4C-4D中所見，該梭 車驅動系統54在此態樣中大致上包含電動馬達53，其驅動一導螺桿57。在其它實施例中，該梭車可具有任何其它適合的驅動細統類型，譬如氣動式或液壓式驅動系統。該電動馬達53在此態樣中可以是任何適合的馬達種類，譬如直流或交流馬達、步進馬達或伺服馬達。電動馬達53可被固定不動地安裝至梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50。該導螺桿57被連接至該馬達的輸出軸。該馬達可將該導螺桿轉動於順時鐘方向和逆時鐘方向這兩個方向上。導螺桿57亦驅動式地嚙合至該梭車52的底盤55(其跨騎在線性軸承283上(圖3)。導螺桿和底盤之間的嚙合可用任何適合的手段來提供，譬如例如一螺紋式軸套，其被固定至該底盤且與該導螺桿螺紋地嚙合。導螺桿57被電動馬達53轉動會造成該軸套在該導螺桿上的軸向運動，並因而造成該底盤和梭車52相對於該梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50(該電動馬達53係被固定於其上)運動。如圖4C中所見，電動馬達53被適當的電路91可溝通地連接至控制器400。控制器400可透過適當的電路91提供指令訊號和電力(從適當的電源供應器)這兩者給電動馬達53。電動馬達53可包括馬達編碼器58E(參見圖4D)用來送出位置指示數據給控制器。控制器400可處理該馬達編碼器數據以辨認梭車在該裝載埠上的位置。在其它實施例中，一線性編碼器可被安裝在該梭車和該支撐架之間用以在運動期間辨認梭車位置。如在圖4C中所見，在此態樣中，適當的電路91亦可包括能夠偵測梭車運動障礙物的捏縮保護電路(pinch protection circuit)90。該捏縮保護電路可包括能夠測量馬達53的電流改變之任何類型以及任何所想要的靈敏度的電流感測器92。該電流感測器92可容所需地被建構，用以監視經由適當的電路91被供應至電動馬達53的電流。來自感測器92的測量訊號被捏縮保護電路90傳送至控制器400。 該捏縮保護電路90可如所需地是閉式迴路或開放迴路系統。可被理解的是，當該梭車被電動馬達53向前驅動且遭遇到一障礙物時，(經由適當的電路91)被供應至馬達53的電流成比例地增加至該障礙物對該梭車運動產生的阻力的水準。該“過多的”電流被感測器92偵測到且該資訊經由捏縮保護電路90被轉送至控制器400。感測器92能夠將原始的或未經處理的感測器數據送至控制器400。控制器可被程式設定(programmed)(譬如，一適當的演算法)來處理來自感測器的數據，用以從雜訊中辨認出足夠程度以及足夠持續時間的過多的電流是何時被供應至電動馬達53。控制器400具有一自動倒車程式402(參見圖1A)，其中，當辨認出過多電流(及梭車運動的障礙)時，該控制器送出指令訊號至電動馬達53以停止之前的操作指令並將馬達方向反轉。實施梭車52的運動的該導螺桿57的轉動因而亦被反轉，藉以造成該梭車的運動被倒車而遠離該障礙物。該梭車可被倒退一段由該編碼器53E的資訊所建立的預定的距離。在其它實施例中，該電流感測器92是可程式的，用以選擇用於偵測該過多電流之所想要的設定點。在此例子中，該電流感測器可在偵測到一具有超過被程式化的設定 點的程度及持續時間的過多電流時送出一適當的訊號至該控制器。當接收到來自電流感測器的該訊號時，該控制器取得在該控制器記憶體內的該自動倒車程式402。這可在一比使用可撓曲的(即，捏縮)桿的傳統系統更低的成本下提供絕佳的障礙物偵測及回復系統。
現再次參考圖2，在被示出的態樣中的該裝載埠模組可具有運送容器前進偵測系統110(其被示意地示於圖2中)。該運送容器前進偵測系統110是非接觸式系統，用來偵測一被安裝至該梭車52且被梭車推進的容器T的特徵及用來實施梭車的停止，使得當該容器位在該泊靠位置時，不論不同的容器之間的公差變化為何，該容器的正面都是處在一所想要的可重復的位置。所想要的是，停止該裝載部梭車的前進運動，使得在該容器和該裝載埠框架29之間有一最小的間距且它們之間沒有實際接觸。因為容器尺寸將會不同(尤其是在製造商之間)，所以在傳統的系統中，梭車運動通常是為了“最糟情況”來作調整，因而在多數情形中都允許了一過大的間距。該裝載埠模組24的運送容器前進偵測系統110克服了傳統系統的這些問題並允許不同的容器在其正面位在可提供最小間隙的位置L1時被停止。該運送容器前進偵測系統110在此態樣中具有“光束(thru beam)”感測器構造，其具有照射能量的發射器或來源以及一用來偵測來自該發射器的照射能量的偵測器。 例如，在此態樣中，該運送容器前進偵測系統110可具有一位在光纖(其連接至一適合的遠端光源)的末端上的光源 112，譬如LED或雷射二極體。該運送容器前進偵測系統110亦可具有一適合的感光部分114(譬如，光電管)，用來偵測來自該光源112的光線。如圖2中所見，該光源112和該感測器114被設置在該梭車52的相反側上且位在所想要的高度，使得被安裝至該梭車52且為其所運送的該容器T將會遮斷該光源112所射出並至少照射到該感測器114的感測部分的光束B。雖未於圖2中示出，但該光源112和感測器114為了接觸以及顆粒保護而可被容納在適合的罩殼內並防止光束被除了該梭車52所運送的該容器以外的物體意外地遮斷。如圖2中所見，感測器112，114被設置在該梭車行進方向(圖2中箭頭M所標示的方向)上的一偏離位置處，使得當容器T被梭車帶至該泊靠位置時，光束B與該容器T的正面的位置L1相距一所想要的距離d。可被理解的是，被該梭車往前進送的該容器T的正面在離該泊靠位置L1一距離d時就會遮斷光束B。控制器400被程式設定了該距離d。該控制器400亦被程式設定有一演算法(圖1A中的程式模組401)，其使用梭車運動資訊(譬如，馬達編碼器53E(亦參見圖4D)提供給該控制器的資訊)以及該距離d來判斷梭車前進運動何時要被停止，使得在該梭車上的該容器T的正面是位在位置L1。因此，當該前進中的容器T的正面遮斷光束B時，感測器114送出一適當的訊號至控制器400，通知控制器偵測到該容器的正面。控制器400然後可如之前提到地判斷何時要命令停止梭車前進、並在正確的時間點將該命令送至該梭車驅動系統54。以此方式，被該 梭車運送的每一容器T都被適當地放置在其泊靠位置，用以不論容器之間的尺寸變化都能夠讓該容器的正面位在位置L1。
當容器T位在如圖1A所示的該泊靠位置時，該容器的門T4可與該裝載埠模組進出埠30P的門30D嚙合。在該容器T的正面上的門T4被示意地例示於圖6A中。 門T4可包括閂扣系統T40，T42，它們在被嚙合時會將門T4保持在容器盒內。用於容器門的該等閂扣系統的例子被描述在1998年6月30日授予的美國專利第5,772,386號中，該專利案的全部內容藉此參照被併於本文中。該門的閂扣系統T40，T42可包括可樞轉的中心轂T44，閂扣耳片T46可被鉸接式地鏈結至該中心轂。該中心轂T44的轉動造成該等閂扣耳片T46的作動，用以嚙合或脫離容器殼體。該閂扣中心轂T44可經由在該門T4上的閂扣鍵進出孔T50來接近它。容器門T4亦可如圖6A所示地具有定位銷孔T52。 再次參考圖2，該裝載埠模組的該進出埠門30D具有定位銷120和閂扣鍵122，其組態與該容器的門T4上的定位銷孔T52和閂扣鍵進出孔T50相互補或相匹配。在埠門30D上的定位銷120和閂扣鍵122可類似於(之前藉由參照而被併於本文中的)美國專利第5,772,386號中的定位銷和閂扣鍵。 該埠門30D的該等定位銷120和閂扣鍵122與該容器門上的鍵進出孔T50和該閂扣系統的中心轂T44上的鍵孔的形狀一致。當該埠門30D嚙合該容器門T4時，在進出門30D上的閂扣鍵122經由鍵進出孔T50進入到形成在該容器的中心轂 T44上的鍵孔中。該等閂扣鍵122的轉動造成中心轂T44的轉動以及閂扣系統的作動以嚙合/脫離該等閂扣耳片，藉以將該容器門T4鎖定至該容器或從該容器被解開。該等閂扣鍵122被可轉動地安裝在該進出門結構中且以實質類似於描述在美國專利第8,821,099號中(該專利的全部揭露內容已在之前藉由參照而被併於本文內)的方式被操作。
現參考圖7A及7B，其顯示依據另一示範相實施例的基材處理設備或工具1002和連接至該基材處理設備的容器T的示意平面圖。在圖7A中所示的示範性實施例中，該基材處理設備或工具1002大致上類似於圖1A，1B及1C所示的基材處理工具。基材處理設備或工具1002可大致上具有一處理區段1006和EFEM1004(只為了說明的目的，繼續參考的慣例，晶圓可被視為將從正面被載入該工具內)。在該示範性實施例中，該處理區段1006和EFEM1004可共用一共同的被控制的環境或氛圍(如，鈍氣(N2)、(Ar)、或非常乾淨的乾燥空氣)。該處理區段1006被示意地示出且可包括一或多個被連接至該EFEM1004的處理區段或模組(示於圖7A中的安排只是舉例性的，而且在其它實施例中，該EFEM和處理區段模組可用任何所想要的組態彼此連接)。處理區段或模組1006可例如用以可關閉的開口(如，閘閥)來與該EFEM1004隔離開。因此，處理區段亦可被提供一不同於EFEM氛圍的處理氛圍。在其它實施例中，該處理區段1006可包括一負載鎖定室，其允許具有不同的氛圍或具有真空的處理模組被連接至 EFEM，這將於下文中進一步說明。
在圖7A中所示的示範性實施例中，該EFEM1004可類似於描述上文中所描述者，除非被作出不一樣地指明。該EFEM1004可包括適合的環境控制器，用以在基材被運送來回於該處理區段1006時保持所想要的環境或氛圍於EFEM中。例如，該EFEM1004可包括控制器31000(它可以實質地類似於上面描述的控制器400)、一或多個流體控制閥31010，31020、釋壓或止回閥31030及感測器，譬如例如壓力感測器31040、污染物感測器31041及溫度感測器31042。該控制器可被建構來調整或調節諸如該EFEM(及處理區段1006)內的被控制的環境的溫度、壓力及氣體或空氣流31050的流率等屬性(attributes)。例如，控制器31000可接受來自壓力感測器31040、溫度感測器31042和環境污染物感測器31041的訊號。根據在這些訊號中的環境資訊，該控制器可藉由作動適當的閥31010，31030來釋放或提高在EFEM內的壓力、提高或降低在該EFEM內的氣體或空氣流31050。該控制器31000亦可被建構來根據該溫度感測器31042所提供的溫度讀數來(例如，藉由調整流經散熱器31060的冷卻劑流)來提高或降低該EFEM內的溫度。可被理解的是，雖然控制器31000和相關的閥及感測器已參考圖7A及7B被描述，但控制器31000可被用來控制描述於本文中的其它實施例的環境。
該EFEM1004可包括能夠固持並運送基材的基材運送設備或機器人1004R(可被理解的是，該機器人可 以是任何所想要的類型)。類似於上文中描述的，該EFEM1004可包括(描述於上文中的)該裝載埠24，用來將一或多個容器T與基材處理設備或工具1002界接，並允許基材被裝載至該基材處理設備或工具1002以及從該基材處理設備或工具1002被卸載。該EFEM1004的該裝載埠24和(本文中描述的)該容器T的相對應的互補界面部分可被建構成能夠在不減損該EFEM1004以及處理區段1006的該被控制的環境下將基材裝載及卸載於該容器與EFEM之間。 該EFEM的裝載埠24和該容器T的互補的界面部分(其可被統稱為容器對EFEM界面)可被安排成使得被界接至該EFEM的容器T被整合到該工具中。舉例而言，透過該裝載埠24被如此地整合的該容器T可界定一室，其共用與該EFEM一樣的被控制的氛圍，因而能夠將基材固持在和EFEM一樣的被控制的氛圍中，使得基材可被EFEM運送機器人1004R直接從容器T運送至處理區段或處理模組。與前面被描述的本揭露內容的態樣相類似地，在圖7A中所示的該示範性實施例中的該容器對EFEM界面界定出從前被稱為無塵通道(clean tunnel)的通道(其具有和整個EFEM及處理區段的無塵度(cleanliness)相同的無塵度)，其由該容器室內部開始，穿過該界面進入該EFEM，以及經過整個處理區段。該無塵通道可被關閉(譬如，在該容器從該裝載埠被移走時)，且被自由地打開而不會減損(degradation)該無塵通道。在圖7A所示的態樣中，該容器對EFEM界面亦可被安排成能夠以一種實質類似於描述在2015年8月11 日授予之名稱為“Side Opening Unified Pod”的美國專利第9,105,673號中的方式將該容器T與(實質地如上所描述的)該工具直接整合在一起(不論界接之前的容器環境如何)，該專利的揭露內容藉由此參照而被併於本文中。因此，在圖7A中所示的態樣中，容器T可與具有不同或不相似的環境(如，乾淨空氣對鈍氣環境、或乾淨空氣對真空)的處理工具界接且與之直接整合，然後直接運送於具有不同的或不相似的環境的工具之間，然後如將於下文中進一步描述地再次與該等工具界接及整合。因此，在一具有被控制的環境的工具中的基材可被該EFEM機器人1004R直接從處理區段(類似於處理區段1006)運送經過該無塵通道進入容器T、該容器T被直接運送且被界接至可能具有一不相似/不同的被控制的環境的另一工具的EFEM(類似於EFEM1004)、且被EFEM機器人直接運送通過該無塵通道的基材現在被限定(defined)在該另一工具對該處理區段內，而不會減損在該另一處理工具內的被控制的環境。實際上，該容器對EFEM界面結合該容器之後可被視為界定出一外部的負載鎖定室(load lock)或容器負載鎖定室。
仍然參考圖7A，在圖7A所示的態樣中，該裝載埠24為了舉例的目的而被顯示成與一容器T界接，但在其它實施例中，該裝載埠可被安排成與任何所想要數量的容器界接。例如，在其它態樣中，該裝載埠可具有一大致堆疊式的構造，其能夠與類似於描述在美國專利第9,105,673號中的方式疊成一堆疊的數個容器界接，該專利 的揭露內容藉由此參照而被併於本文中。依據本揭露內容，該裝載埠24可具有真空源1010V，它能夠被可連通地連接至被該裝載埠固持的該容器T，用以在該容器位在該裝載埠上時將該容器抽空用以例如將分子污染物從該容器內部及從基材上清除掉。相反地，該容器可用任何適合的方式來安排，用以在該裝載埠與該真空源1010V可連通地界接並在該容器被抽空至真空時承受在該容器殼罩內的大氣壓力，譬如像是在美國專利第9,105,673號中所描述的。
該容器T可具有適當的出入口和孔口或埠口(或預定的進出位置)776(其可為真空埠口、清洗氣體埠口、或真空和清洗氣體源這兩者共用的埠口)，使得當連接或耦合該容器和該裝載埠24時，該裝載埠的該真空源1010V被自動地耦合至該容器外殼並與容器內部連通。如本文中描述地，當被耦合至該容器T時，容器T對真空源1010V的耦合及/或該真空源1010V的作動可形成來自該容器T的腐蝕性氣體外逃流(corrosive gas egress)910，920，930(圖9)，譬如在該耦合件及/或經由該容器T的門密封件。示於圖7A中的埠口776的位置只是舉例，且在其它實施例中，真空埠可如所需要地被設置。可被理解的是，容器密封件(參見圖9中的門密封件940)具有所想要的完整性以承受在橫跨該密封件的真空。
如圖7A中所見，在被示出的示範性實施例中，容器T亦可被建構成被可連通地連接至氣體給送器，譬如通風源或清洗氣體的來源。在圖7A中所示的該示範性 實施例中，當容器T座落在該裝載埠24的容器支撐件上時，該容器T被可連通地連接至氣體源/給送器1010G。可被理解的是，容器T可具有一適當的入口埠776(以及連接至該容器內部的適當的氣體通道)用以，譬如在該容器被放置在裝載埠支撐表面上時(例如自動地)耦合至該氣體給送器1010G的噴嘴。當描述於本文中時，容器T耦合至氣體源1010G及/或氣體源1010G被耦合至容器T時氣體源的作動會造成來自容器T的腐蝕氣體外逃流910，920，930，譬如在耦合處及/或經由容器T的門密封處。介於圖7A所示的裝載埠和容器之間的氣體源界面的組態只是舉例性的且在其它實施例中，介於容器和裝載埠之間的氣體源界面可具有任何所想要的位置和構造。如之前提到的，該氣體源1010G能夠例如提供清洗氣體及/或通氣氣體(vent gas)至座落在或位在該裝載埠24的容器內。舉例而言，當容器T(譬如，從一頭頂上的運送器)被適當地放置在裝載埠24且氣體給送噴嘴被連接至該容器用以將氣體給送至該容器殼體內時，如果想要的話(這取決於當該容器被放置在該裝載埠時該容器的內部氛圍、以及被保持在該EFEM內的環境)，清洗氣體(如，N2)可被給送至該容器內。因此，當將該容器放置在該裝載埠時，如果該容器例如包含一些處理氛圍(譬如，來自前一個工具的界面)，且該EFEM1004可被保持有鈍氣氛圍或極潔淨的空氣氛圍(它可以不同於容器氛圍)的話，則所想要的清洗氣體可被給送至該容器內(譬如，透過氣體給送器1010G)來清洗該容器氛圍，使得 該容器可與該裝載埠開口界接且如之前所描述地被整合至該基材處理設備或工具1002。此外，當將該容器放置在該裝載埠時(但例如在開通該容器內部與該EFEM環境之前)，在該容器氛圍被認為與EFEM環境不相容或可能會產生該EFEM環境不想要的污染物的情形中，該容器內部可被真空源1010V抽空至足夠的真空且被灌入類似於EFEM中的環境的鈍氣(如，N2、極潔淨的空氣)，用以將潛在的污染物從該容器T中清除掉，並允許該容器T如之前所描述地被整合至該工具。可被理解的是，一或多個埠口776可被耦接至該真空源1010V且一或多個其它的埠口776可被耦接至該清洗氣體源1010G以實施該容器T的清洗。
如上面提到的，額外地或者取代該真空源1010V地，該清洗氣體給送器1010G以一種實質類似於上文中描述的方式來操作該作動器5000。關於容器氛圍的資訊可被記錄在RFID(無線射頻辨別)標籤上，或其它適合的資料儲存裝置上，其能夠被位在該容器被裝載的裝載埠24處或鄰近裝載埠24的適當讀取器讀取(或以其它方式取得)。因此，關於容器內部的適當資訊可被控制器獲得、用所想要的準則(protocol)加以審視、且如果想要的話該容器可如之前所描述地在被放置在裝載埠24時被抽吸(pumped)及通氣(vented)。關於容器氛圍的資訊例如可在該容器被泊靠至該裝載埠時或在任何其它適當的時間被記錄至容器所承載的儲存裝置內。如果想要的話，此資訊亦可用全FAB範圍(FAB wide)的控制器來追蹤。可被理解的 是，該容器T亦可與不具有真空及氣體給送連接器的EFEM界接。在其它實施例中，該容器可包括一內部的或內建的清洗氣體源(譬如描述在美國專利第9,105,673號中者)，用以在被放置在裝載埠時清洗該容器。可被理解的是，在其它態樣中，界接該容器的該裝載埠界面可被提供真空連接器且沒有氣體給送器，氣體係例如從內建於該容器上的氣體源被提供。因此，可被理解的是，該容器現在可作為該工具的基材清潔室，其將基材存放在該工具處使得基材接受清潔。可被理解的是，該容器的真空/通氣亦可在容器T從該裝載埠24被移走之前實施，譬如在將該容器T重新放置到另一工具的時候。
如之前提到的，圖7A中所示的該裝載埠和該容器對工具界面的安排只是舉例性的，在其它態樣中，該界面可具有任何其它所想要的組態。例如，該氣體給送器可如所想要地被放置，用以在該容器已被抽空之後將空氣從該EFEM環境通氣至該容器內。
參考圖9-11，如上所述，該容器T在裝載埠24上的放置(或容器T從裝載埠24移走)可例如在清洗/通氣埠耦合件10000-10005處從容器T造成腐蝕性氣體外逃流910，920，清洗/通氣埠耦合件10000-10005被實質地耦合至容器T上的埠口776(如，預定的進出位置，亦應指出的是，容器門30D對接容器T的界面983亦可被視為一預定的進出位置)。腐蝕性氣體外逃流930亦可在/從門密封件940(圖9)發生，譬如該門密封件940被磨損或該容器T的內 部被過度加壓時。例如，在該梭車52和該梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50之間會有一狹縫或小開口999，它可允許流體到達例如印刷電路板(PCB)74(圖5)、線性軸承283(圖3)、馬達(如參見電動馬達53(圖4D))、感測器(參見感測器T12-T20(圖4B)、感測器68O(圖5)、開關68(圖5)、感測器92(圖4C)、線束72(圖4D)、運送容器前進偵測系統110(圖2)、及/或該裝載埠24的其它適合的構件。依據本揭露內容的態樣，且如本文中所述，至少一連續的穩態差壓充氣部區域960-963(亦被稱為連續問態的流體質量流充氣部區域)可實質地防止經由該狹縫999的腐蝕性氣體外逃流並實質地防止腐蝕性氣體接觸例如該裝載埠24的適當構件，其包括但不侷限於印刷電路板(PCB)74(圖5)、線性軸承283(圖3)、電動馬達(如參見馬達53(圖4D))、感測器(參見感測器T12-T20(圖4B)、感測器68O(圖5)、開關68(圖5)、感測器92(圖4C))、線束72(圖4D)、運送容器前進偵測系統110(圖2)、及/或鄰近設置在該裝載埠24上的容器T的該裝載埠24的其它適合的構件。亦於上文中指出的是，該至少一連續的穩態差壓充氣部區域960-963會提高與施加至該等裝載埠構件的塗層有關的成本、修改、製造複雜度及製造前置時間。在一態樣中，控制器400被建構成依據該裝載埠24所固持的容器T的組態來控制該至少一連續的穩態差壓充氣部區域960-963的流體質量流。例如，控制器400可用任何適合的方式來調整該流體質量流以擴大或縮減被該至少一連續的穩態差壓充氣部區 域960-963所覆蓋的區域(如，改變流體流邊界的位置)，使得被覆蓋的區域圍繞被耦合至該裝載埠24的該載具T的一清洗埠601-604(圖6B)組態(如，不同的容器之間及/或不同的容器製造商之間的該清洗埠組態會不同)。
如上文所描述的，該裝載埠模組24包括該裝載埠框架29，其被設計來將該裝載埠模組24連接至該基材處理設備或工具(譬如描述於上文中者)。該運送容器固持區域28被連接至該裝載埠框架29用來將至少一基材匣盒容器T固持成鄰近該裝載埠模組24的進出埠/運送開口30P。 該運送容器固持區域28被建構成使得該至少一基材匣盒容器T的一被密封的內部氛圍977在該至少一基材匣盒容器T的預定的進出位置(如，埠口776)從該運送容器固持區域28進出。該運送容器固持區域28具有被設置在該運送容器固持區域28上之預定的連續的穩態差壓充氣部區域(參見圖9，10A，及10B中不同的差壓充氣部區域960，961，962，963，966，967，以及在圖9，10B及11中的連續的穩態差壓充氣部區域963)，其位在EFEM的外部且在該裝載埠開口30P的外面(如，在該裝載埠模組24和該EFEM12之間的BOLTS界面外面)。
該預定的連續的穩態差壓充氣部區域至少部分地是由產生差壓的流體流的邊界960B，961B，962B，963B，964，965，966B，967B所決定，使得該預定的連續的穩態差壓充氣部區域界定一連續的穩態流體流隔離阻障物968，其被設置在運送容器固持區域28上介於該至少 一基材匣盒容器T的該等預定的進出位置(如，埠口776)和運送容器固持區域28的該至少一基材匣盒容器T的另一預定的區段(如，譬如該裝載埠模組24會遭遇到腐蝕的區段/部分)之間，用來將該另一預定的區段與該等預定的進出位置隔離開來。在一態樣中，該連續的穩態差壓充氣部區域的該連續的穩態流體流隔離阻障物968被產生來提供該匣盒支撐件(如，支撐件36)或被該連續的穩態流體流隔離阻障物968隔離開的該裝載埠24一預定的偏移量(offset)，且該預定的偏移量是由產生該連續的穩態差壓充氣部區域的差壓的流體流來設定。例如，亦參考圖10B，該連續的穩態流體流隔離阻障物968包括連續的穩態差壓充氣部區域962，967，其具有各自的邊界967B，962B。該匣盒支撐件或梭車52的該另一預定的區段在此例子中可以是用於將該容器T正耦合至該梭車的耦合特徵60的孔洞10099。將受保護而免於接觸腐蝕氣體的馬達、印刷電路板等等可被設置在該孔洞10099下方且經由孔洞10099進出。個別的連續的穩態差壓充氣部區域962，967的流體質量流可被控制，使得阻障物967B，962B被偏離該孔洞10099一段距離10098，用以實質地防止腐蝕氣體外逃流進入到孔洞10099中。在一態樣中，該連續的穩態流體流隔離阻障物968的流體流的流體邊緣(如，譬如邊界960B，961B，962B，963B，964，965，966B，967B)將該另一預定的區段與該等預定的進出位置密封隔開。在一態樣中，該連續的穩態流體流隔離阻障物的流體流的流體邊緣將該另一預定的區 段與該等預定的進出位置來自該至少一基材匣盒容器T的該被密封的內部氛圍的該通氣氣體(如，腐蝕性氣體逃出流910，920，930)密封隔開。
參考圖9-11，依據本揭露內容的態樣，該裝載埠模組24包括一或多個充氣埠10010-10016，其被建構來產生或以其它方式創造該流體流，其至少部分地界定該連續的穩態差壓充氣部區域的邊界960B，961B，962B，963B，964，965，966B，967B。該一或多個充氣埠10010-10016與裝載埠模組24的容器T清洗/通氣埠耦合件10000-10005是分開的且是有區別的。雖然一或多個充氣埠10010-10016被顯示為大致圓形的孔洞或實質矩形的孔洞，但在其它態樣中，該一或多個充氣埠可以是細長形的狹縫，其包圍或以其它方式被設置成緊鄰該裝載埠24的預定的特徵(譬如，描述於上文中的特徵)，用以產生流體壁，其實現描述於本文中的邊界960B，961B，962B，963B，964，965，966B，967B。該一或多個充氣埠10010-10016被設置成鄰近該裝載埠模組24外部鄰近一裝載埠模組24特徵(如，譬如描述於上文中的特徵)的預定的區段/區域，該裝載埠模組特徵具有讓該特徵易受(來自該腐蝕性氣體外逃流的)腐蝕的預定的特徵，用以實質地防止該腐蝕性氣體外逃流和該裝載埠模組24特徵界接或以其它方式與該裝載埠模組24特徵接觸。在其它態樣中，亦參考圖12及13，一或多個充氣埠10017，10018(其實質類似於充氣埠10010-10016)可被設置在該梭車52和該梭車支撐 件、梭車底座支撐件或梭車架子50之間，使得一或多個連續的穩態差壓充氣部區域970，971(其實質類似於描述於本文中的其它連續的穩態差壓充氣部區域)被至少部分地設置在該梭車52和該梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50之間，使得該連續的穩態差壓充氣部區域970，971的邊界970B，971B實質地防止該腐蝕性氣體外逃流到達任何適合的構件(如，本文中所描述的馬達、印刷電路板等等)。在另外其它態樣中，該等充氣埠可被設置在該裝載埠的任何適合的位置，用以產生任何適合數量的連續的穩態差壓充氣部區域，用以用一相應的穩態流體流隔離阻障物實質地保護裝載埠構件免於腐蝕性氣體外逃流。取決於該一或多個充氣埠10010-10018是正壓埠或是負壓(如，真空)埠，該一或多個充氣埠10010-10018可被設置在將被提供該連續的穩態差壓充氣部區域的該裝載埠特徵的上方或下方。
該一或多個充氣埠10010-10018建構來產生該等邊界960B，961B，962B，963B，966B，967B，970B，971B中的一者或多者，而其它邊界964，965可被該裝載埠24的結構(譬如，該梭車52的表面52S(圖10A))及/或該基材匣盒容器T的結構產生，該連續的穩態差壓充氣部區域的至少一側在該結構處至少部分地被該裝載埠24的匣盒支撐結構的一界定該連續的穩態差壓充氣部區域的表面黏結。在一態樣中，該表面52S可引導產生該連續的穩態差壓充氣部區域的差壓的流體流。在一態樣中，該表面 52S可包括用於引導產生該連續的穩態差壓充氣部區域的差壓的流體流的葉片52V(圖10A)或其它流體流控制特徵。 在一態樣中，每一充氣埠10010-10018被建構來產生一個別的預定的連續的穩態差壓充氣部區域，其圍繞或以其它方式包圍該個別的充氣埠10010-10018以及一相關的預定的進出位置(如，個別的清洗/通氣埠耦合件10000-10005及容器/門界面983)。
如可在圖9及10A看到地(應指出的是容器T為了清楚起見並未於圖10A中示出)，充氣埠10010，10013被建構來產生個別的預定的差壓充氣部966，961，其具有個別的邊界966B，961B。充氣埠10002，10012被建構來產生個別的預定的差壓充氣部967，962，其具有個別的邊界967B，962B。可被理解的是，該容器T的底面和該梭車52的外表面亦可形成該等個別的差壓充氣部966，961，967，962的邊界964，965。該等差壓充氣部可實質地遏制來自一實質地耦合至該裝載埠模組24的一個別的清洗/通氣埠耦合件10000-10005的容器T的一相關連的真空/清洗埠776的腐蝕性氣體外逃流。
如可從圖9，10B及11中看到地，該等充氣埠10014-10018的一者或多者被建構來產生個別的差壓充氣部963，其具有個別的邊界963B。可被理解的是，該邊界963B的至少一部分可被該梭車52及/或該容器T的外表面形成。該差壓充氣部的大小可被作成實質地遏制來自該容器/門界面983以及一裝載埠門30D/裝載埠框架29裝載埠門/框 架界面276(參見圖2)的一者或多者的腐蝕性氣體外逃流。 該差壓充氣埠10014可被設置在該裝載埠模組24的梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50上，而差壓充氣埠10015，10016可被設置在該梭車52向該裝載埠開口30P的一側上，使得該差壓充氣部963從該裝載埠門30D/裝載埠框架29裝載埠門/框架界面276延伸到該容器/門界面983；而在其它態樣中，在該梭車52上的差壓充氣埠10015，10016以及在該梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50上的差壓充氣埠10014可提供分開的且不同的差壓充氣部(如，當梭車52被設置在容器T裝載位置時)，該等分開的且不同的差壓充氣部在該梭車被設置在容器T泊靠位置(如，容器基材通道開口(基材經由該開口進入及離開該容器)與該裝載埠開口30P相配接)時合併在一起。在此態樣中，至少一些差壓充氣埠相對於該梭車52的參考框架而言是固定不動的(如，該等差壓充氣埠被安裝至梭車)，而其它差壓充氣埠相對於裝載埠模組24裝載埠框架29是固定不動的或是被固定(如，梭車及/或一將被保護而免於腐蝕性氣體的部件相對於該裝載埠框架29移動)。
在一態樣中，個別的差壓充氣部區域966，961，967，962，963，970，971的可藉由調整進入(如，真空/抽吸壓力充氣部)或離開(如，正壓力充氣部)個別的充氣埠10010-10018的流體的質量流率而被增加或減小。 參考圖9，個別的差壓充氣部區域966，961，967，962，963的大小可以讓該等個別的差壓充氣部區域的一者或多 者與該等差壓充氣部區域的另一者合併。例如，如圖9中所示，差壓充氣部區域961，966，962，967可合併以形成結合的差壓充氣部區域960，其延伸在實質整個容器T底部。在另外其它的態樣中，差壓充氣部區域963亦可和差壓充氣部區域960合併，使得該差壓充氣部區域亦延伸覆蓋該容器門30D/容器T界面983(及/或該裝載埠門/框架界面276，圖2)。在其它態樣中，差壓充氣部區域966，961，967，962，963的大小可被作成使得任何數量的差壓充氣部區域都可被合併成一共同的差壓充氣部區域。
仍然參考圖9-11，如上所述，由預定的連續的穩態差壓充氣部區域960，961，962，963，966，967所形成的該連續的穩態流體流隔離阻障物968可以是一正壓的連續的穩態流體流隔離阻障物。例如，該差壓ΔP(參見圖9)相對於大氣(如，包圍該容器T和裝載埠模組24的外部區域)是一正壓力。在其它態樣中，該差壓ΔP相對於來自該至少一基材匣盒容器T的被密封的內部氛圍在預定的進出位置(如，埠口776)的逃逸氣體(如，腐蝕性氣體外逃流910，920，930)的壓力是一正壓力。亦參考圖13，由該等預定的連續的穩態差壓充氣部區域960，961，962，963，966，967所形成的該連續的穩態流體流隔離阻障物968是正壓的連續的穩態流體流隔離阻障物，來自任何適當的乾淨的乾燥空氣源13000的乾淨的乾燥空氣以任何適合的方式(如，譬如經由適當的管道13010)被提供至該等差壓充氣埠10010-10018的一者或多者。任何適合的壓力感測器 可被設置在該裝載埠模組24上，用來監測從該等差壓充氣埠10010-10018的一者或多者排出的乾淨的乾燥空氣。該乾淨的乾燥空氣可實質連續地被提供(如，在容器與梭車52的對接時、在容器T耦接至該裝載埠開口30P時、在容器T與該裝載埠開口30P脫離時、在容器與梭車52的脫離時)，使得該正壓的連續的穩態流體流隔離阻障物實質地防止來自至少該容器T的腐蝕性氣體進入到該裝載埠模組24上設置有該連續的穩態流體流隔離阻障物968的區域周圍。
仍參考圖9-11，如上所述，由該等預定的連續的穩態差壓充氣部區域960，961，962，963，966，967所形成的該連續的穩態流體流隔離阻障物968可以是負壓連續的穩態流體流隔離阻障物。例如，該差壓ΔP(參見圖9)相對於大氣(如，包圍該容器T和裝載埠模組24的外部區域)是一負壓力。在其它態樣中，該差壓ΔP相對於來自該至少一基材匣盒容器T的被密封的內部氛圍在預定的進出位置(如，埠口776)的逃逸氣體(如，腐蝕性氣體外逃流910，920，930)的壓力是一負壓力。該負壓連續的穩態流體流隔離阻障物可配合該正壓連續的穩態流體流隔離阻障物來使用或取代該正壓連續的穩態流體流隔離阻障物。類似地，該正壓連續的穩態流體流隔離阻障物可在沒有該負壓連續的穩態流體流隔離阻障物下被使用。
在一態樣中，亦參考圖12，由該等預定的連續的穩態差壓充氣部區域960，961，962，963，966，967 所形成的該連續的穩態流體流隔離阻障物968是負壓連續的穩態流體流隔離阻障物，以任何適合的方式(如，譬如經由適當的管道12010)來自任何適當的遠端的(如，位在遠離該裝載埠梭車52及梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50處)真空/抽吸源12000(如，譬如幫浦、風扇、真空等等)的抽真空/抽空被提供給該等差壓充氣埠10010-10016的一者或多者。在另一態樣中，亦參考圖13，由該等預定的連續的穩態差壓充氣部區域960，961，962，963，966，967所形成的該連續的穩態流體流隔離阻障物968是負壓連續的穩態流體流隔離阻障物，以任何適合的方式(如，譬如經由適當的管道12010)來自任何適當的本地的(如，設置在該梭車52及/或梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50上的)真空/抽吸源12000(如，譬如幫浦(聲波空氣幫浦(acoustic air pump)、壓電幫浦(piezo pump)、隔膜幫浦(diaphragm pump)等等)、風扇等等)的抽真空/抽空被提供給該等差壓充氣埠10010-10018的一者或多者。雖然本地的真空/抽吸源12000被顯示為被耦合至該梭車52，用以和梭車52一起移動；但應被理解的是，該真空/抽吸源12001可用類似的方式(譬如，例如提供抽吸至該差壓充氣埠10014))被耦合至該梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50，用以相對於該梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50固定不動。被該等負壓的預定的連續的穩態差壓充氣部區域960，961，962，963，966，967所排空的被抽吸的腐蝕性氣體可在任何適當的地點被排出 該裝載埠模組24。當該真空/抽吸源12001是在梭車52及/或梭車支撐件、梭車底座支撐件或梭車架子50本地時，任何適合的流體引導途徑13012(如，通道、水管、管子、通道等等)都可被形成在該梭車52及/或梭車支撐件內或通過該梭車52及/或梭車支撐件，用以輸出/排出任何從該容器T的該被密封的環境逃逸出來的腐蝕性氣體外逃流910，920，930。
參考圖7A，8A，9及10A，容器T和裝載埠24之間的一示範性泊靠處理(docking process)將被描述。例如，容器T被運送至裝載埠24(圖8A，方塊800)且被非必要地夾到該裝載埠上(圖8A，方塊805)，譬如用上文描述的該容器夾持系統61。在容器T到達時，該等預定的連續的穩態差壓充氣部區域960，961，962，963，966，967被激活，使得該連續的穩態流體流隔離阻障物968在將該容器T耦合至梭車52時被形成。在此態樣中，裝載埠24的該等清洗/通氣埠耦合件10000-10005可與容器T的埠口776自動地耦合。如上文所述，容器T與氣體源1010G及/或真空源1010V的耦合(及/或當它們被耦合至容器T時的激活)可譬如在該等清洗/通氣埠耦合件10000-10005與埠口776之間的耦合處及/或容器T的門密封件940處造成來自該容器T的腐蝕性氣體外逃流910，920，930(參見圖9)。該腐蝕性氣體外逃流910，920，930可在該差壓充氣空間部或區域被啟動(或激活)下被實質地遏制/侷限及/或排空。例如，如上文所述，該連續的穩態流體流隔離阻障物968可實質地 遏制(如，在真空阻障物的例子中)或實質地防止(如，在正壓阻障物的例子中)在該等清洗/通氣埠耦合件10000-10005與埠口776耦合時所發生之腐蝕性氣體外逃流910，920，930從該容器T的該被密封的氛圍逃到被流體隔離阻障物968保護免於腐蝕性氣體的該裝載埠的區域(譬如，上文中提到的區域)的外逃。
裝載埠24梭車52將容器T往前送至該容器/裝載埠界面750，該容器/裝載埠界面750是BOLTS界面(圖8A，方塊810)。在容器T到該容器/裝載埠界面750的往前送之前或期間，該容器T可容上所述地被通氣及/或清洗。 在一態樣中，該裝載埠門亦可包括一真空，其可在該容器T的前進期間被激活，使得在容器T的表面上的任何顆粒物質可在容器T和裝載埠24的界接期間被去除掉。
裝載埠24梭車52將容器T壓抵住裝載埠門/框架界面276(圖2)，用以將容器T耦合至裝載埠24(圖8A，方塊815)。容器門T4(圖6A)如本文中所描述地被夾到裝載埠門30D上(圖8A，方塊820)。該等預定的連續的穩態差壓充氣部區域960，961，962，963，966，967可保持有作用，使得該連續的穩態流體流隔離阻障物968存在一至少部分地被該容器門T4對埠門30D的界面所佔據或以其它方市被設置在該界面底下。容器門T4開始退縮(圖8A，方塊835)。當容器門T4退縮時，容器T和容器門T4之間的密封會鬆弛且來自容器T內部的腐蝕性氣體會從容器逃出。該等預定的連續的穩態差壓充氣部區域960，961，962， 963，966，967(譬如，差壓充器部區域963)可實質地遏制(如，在真空阻障物的例子中)或實質地防止(在正壓阻障物的例子中)在容器門T4從容器T退縮時發生的從該容器T的被密封的氛圍外逃的任何腐蝕性氣體外逃流910，920，930。將容器門T4與容器T分開(圖8A，方塊845)且容器門T4被降低進入到裝載埠24的門存放區770(圖7A)(圖8A，方塊850)。在其它態樣中，容器T可以任何適合的方式被對接/泊靠至裝載埠24。
參考圖7A，8B，9及10A，容器T和裝載埠24之間的一示範性解泊靠處理將被描述。該容器門T4從該門存放區770被升起(圖8B，方塊855)且被朝向容器T往前送(圖8A，方塊860)。容器門T4開始將容器密封(圖8B，方塊865)且將容器門T4進一步往前送用以讓容器門T4將容器T密封(圖8B，方塊870)。當容器門開始密封並將容器T密封時，來自容器T的內部的氣體會經由門密封件940(圖9)及/或經由容器T的埠口776與裝載埠24的清洗/通氣埠耦合件10000-10005被排出該容器外。該等預定的連續的穩態差壓充氣部區域960，961，962，963，966，967可實質地遏制(如，在真空阻障物的例子中)或實質地防止(在正壓阻障物的例子中)在容器門T4密封該容器T時發生的從該容器T外逃的任何腐蝕性氣體外逃流910，920，930。
該容器門T4從例如該裝載埠門30D被鬆開夾持(圖8B，方塊875)且該容器T從該容器對裝載埠門/框架界面276被鬆開(圖2)。容器T經由該梭車52的運動而從該 裝載埠門/框架界面276退縮(圖8A，方塊885)。在一些態樣中，該容器T從該裝載埠24的梭車52被鬆開夾持(圖8B，方塊890)。該容器T以任何適當的方式(譬如，經由自動化搬運裝置或手動地)與該裝載埠24分開(圖8B，方塊985)。 容器T與該氣體源1010G及/或真空源1010V的脫離可造成腐蝕性氣體外逃流910，920，930在譬如清洗/通氣埠耦合件10000-10005之間的耦合處從該容器T外逃(參見圖9)。該等腐蝕性氣體外逃流910，920，930可在該差壓充氣部空間或區域啟動(或有作用)下被實質地遏制/侷限及/或被排空。例如，如上所述，該連續的穩態流體流隔離阻障物968可實質地遏制(如，在真空阻障物的例子中)或實質地防止(如，在正壓阻障物的例子中)在該等清洗/通氣埠耦合件10000-10005與埠口776脫離時所發生之腐蝕性氣體外逃流910，920，930從該容器T的該被密封的氛圍逃到被流體隔離阻障物968保護免於腐蝕性氣體的該裝載埠的區域(譬如，上文中提到的區域)的外逃。在其它態樣中，容器T可用任何適合的方式從裝載埠24解開/鬆脫。
參考圖7A，8B，9，10A及14，一種示範性方法1400將被描述。該方法1400包括提供一基材裝載裝置的框架29(圖14，方塊1401)。該裝載埠框架29被用來將該基材裝載裝置連接至基材處理設備或工具10，該裝載埠框架29具有一運送開口30P，基材經由該運送開口被運送於該基材裝載裝置和該基材處理設備或工具10之間。一匣盒支撐件28被提供(圖14，方塊1402)且被連接至該裝載埠框 架29，用來固持至少一基材匣盒容器T緊鄰該運送開口30P，該匣盒支撐件28被建構成使得該至少一基材匣盒容器T的被密封的內部氛圍977是從該匣盒支撐件28在該至少一基材匣盒容器T的預定的進出位置776進出。該方法亦包括用預定的連續的穩態差壓充氣部區域960-963來界定一被設置在該匣盒支撐件28上的連續的穩態流體流隔離阻障物968(圖14，方塊1403)，其介於該至少一基材匣盒容器T的該預定的進出位置776和該匣盒支撐件28的另一預定的區段之間，用來將該另一預定的區段與該預定的進出位置776隔離開，該匣盒支撐件28具有被設置在該匣盒支撐件28上的預定的連續的穩態差壓充氣部區域960-963且該預定的連續的穩態差壓充氣部區域960-963至少部分地由產生差壓的流體流的邊界960B，961B，962B，963B，964，965，966B，967B決定。
參考圖7A，8B，9，10A及15，一種示範性方法1500將被描述。該方法1500包括提供一基材裝載裝置的裝載埠框架29(圖15，方塊1501)，其被用來將該基材裝載裝置連接至基材處理設備或工具10，該裝載埠框架29具有一運送開口30P，基材經由該運送開口被運送於該基材裝載裝置和該處理設備之間。一匣盒支撐件28被提供(圖15，方塊1502)且被連接至該裝載埠框架29，用來固持至少一基材匣盒容器T緊鄰該運送開口30P，該匣盒支撐件28被建構成使得該容器T的被密封的內部氛圍977是從該匣盒支撐件28在該容器T的預定的進出位置776進出。該方法亦 包括用連續的穩態流體質量流充氣部區域來界定一被設置在該匣盒支撐件28上的連續的穩態隔離阻障物968(圖15，方塊1503)，其介於該容器T的該預定的進出位置776和該匣盒支撐件28的另一預定的區段之間，用來將該另一預定的區段與該預定的進出位置776隔離開，該匣盒支撐件28具有被設置在該匣盒支撐件28上的預定的連續的穩態流體質量流充氣部區域且該預定的連續的穩態流體質量流充氣部區域至少部分地由流體質量流的邊界960B，961B，962B，963B，964，965，966B，967B決定。
依據本揭露內容的一或多個態樣，一種基材裝載裝置被提供。該基材裝載裝置包含：框架，用來將該基材裝載裝置連接至基材處理設備或工具，該框架具有運送開口，基材經由該運送開口被運送於該基材裝載裝置和該基材處理設備或工具之間；匣盒支撐件，其被連接至該框架，用來固持至少一基材匣盒容器緊鄰該運送開口，該匣盒支撐件被建構成使得該至少一匣盒容器的被密封的內部氛圍係在該至少一基材匣盒容器的預定的進出位置從該匣盒支撐件進出(accessed)；以及該匣盒支撐件具有一被設置在該匣盒支撐件上的預定的連續的穩態差壓充氣部區域，其至少部分地由產生差壓的流體流的邊界所界定，使得該預定的連續的穩態差壓充氣部區域界定一連續的穩態流體流隔離阻障物，其被設置在該容器支撐件上介於該至少一基材匣盒容器的該等預定的進出位置和該匣盒支撐件的另一預定的區段之間，用來將該另一預定的區段與該等 預定的進出位置隔離開。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該連續的穩態流體流隔離阻障物的流體流的流體邊緣將該另一預定的區段與該等預定的進出位置密封隔開。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該連續的穩態流體流隔離阻障物的流體流的流體邊緣將該另一預定的區段與在該等預定的進出位置從該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍逃出的通氣氣體(venting gas)密封隔開。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該差壓相對於大氣壓是正壓。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該差壓相對於在該等預定的進出位置來自該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍的逃出氣體的壓力是正壓。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該差壓相對於大氣壓是負壓。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該差壓相對於在該等預定的進出位置來自該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍的逃出氣體的壓力是負壓。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該預定的連續的穩態差壓充氣部區域至少在一側是被該匣盒支撐件的一至少部分地界定該預定的連續的穩態差壓充氣部區域的表面黏結。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該表面是 一用於產生該預定的連續的穩態差壓充氣部區域的差壓的該流體流的引導表面。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該預定的連續的穩態差壓充氣部區域的該連續的穩態流體流隔離阻障物被產生來提供一偏離被該連續的穩態流體流隔離阻障物隔離的該匣盒支撐件的該另一預定的區段的預定偏移量，且該預定偏移量是由產生該連續的穩態差壓充氣部區域的差壓的流體流來設定。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該基材裝載裝置包括控制器，其依據該至少一基材匣盒容器的組態來控制該預定的連續的穩態差壓充氣部區域。
依據本揭露內容的一或多個態樣，一種基材裝載裝置包括框架，用來將該基材裝載裝置連接至基材處理設備或工具，該框架具有運送開口，基材經由該運送開口被運送於該基材裝載裝置和該基材處理設備或工具之間；匣盒支撐件，其被連接至該框架，用來固持至少一基材匣盒容器緊鄰該運送開口，該匣盒支撐件被建構成使得該容器的被密封的內部氛圍係在該容器的預定的進出位置從該支撐件進出(accessed)；以及該匣盒支撐件具有一被設置在該支撐件上的預定的連續的穩態流體質量流充氣部區域，其至少部分地由流體質量流的邊界所界定，使得該預定的連續的穩態流體質量流充氣部區域界定一連續的穩態流體流隔離阻障物，其被設置在該支撐件上介於該容器的該等預定的進出位置和該匣盒支撐件的另一預定的區段 之間，用來將該另一預定的區段與該等預定的進出位置隔離開。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該連續的穩態流體流隔離阻障物的流體流的流體邊緣將該另一預定的區段與該等預定的進出位置密封隔開。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該連續的穩態流體流隔離阻障物的流體流的流體邊緣將該另一預定的區段與在該等預定的進出位置從該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍逃出的通氣氣體(venting gas)密封隔開。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該差壓相對於大氣壓是正壓。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該流體質量流相對於在該等預定的進出位置來自該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍的逃出氣體的壓力具有正壓。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該流體質量流相對於大氣壓具有負壓。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該流體質量流相對於在該等預定的進出位置來自該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍的逃出氣體的壓力具有負壓。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該預定的連續的穩態流體質量流充氣部區域至少在一側是被該匣盒支撐件的一至少部分地界定該預定的連續的穩態流體質量流充氣部區域的表面黏結。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該表面是一用於產生該預定的連續的穩態流體質量流充氣部區域的差壓的該流體流的引導表面。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該預定的連續的穩態流體質量流充氣部區域的該連續的穩態流體流隔離阻障物被產生來提供一偏離被該連續的穩態流體流隔離阻障物隔離的該匣盒支撐件的該另一預定的區段的預定偏移量，且該預定偏移量是由產生該連續的穩態流體質量流充氣部區域的流體質量流來設定。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該基材裝載裝置包括控制器，其依據該至少一基材匣盒容器的組態來控制該預定的連續的穩態流體質量流充氣部區域。
依據本揭露內容的一或多個態樣，一種方法被提供。該方法包括提供基材裝載裝置的框架，該框架被用來將該基材裝載裝置連接至基材處理設備或工具，該框架具有運送開口，基材經由該運送開口被運送於該基材裝載裝置和該基材處理設備或工具之間、提供匣盒支撐件，其被連接至該框架，用來固持至少一基材匣盒容器緊鄰該運送開口，該匣盒支撐件被建構成使得該至少一匣盒容器的被密封的內部氛圍係在該至少一基材匣盒容器的預定的進出位置從該匣盒支撐件進出(accessed)、以及用預定的連續的穩態差壓充氣部區域來界定一連續的穩態流體流隔離阻障物，其被設置在該容器支撐件上介於該至少一基材匣盒容器的該等預定的進出位置和該匣盒支撐件的另一預 定的區段之間，用來將該另一預定的區段與該等預定的進出位置隔離開，其中該匣盒支撐件具有被設置在該匣盒支撐件上的該預定的連續的穩態差壓充氣部區域且該預定的連續的穩態差壓充氣部區域至少部分地由產生差壓的流體流的邊界來界定。
依據本揭露內容的一或多個態樣，進一步包括用該連續的穩態流體流隔離阻障物的流體流的流體邊緣將該另一預定的區段與該等預定的進出位置密封隔開。
依據本揭露內容的一或多個態樣，進一步包括用該連續的穩態流體流隔離阻障物的流體流的流體邊緣來將該另一預定的區段與在該等預定的進出位置從該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍逃出的通氣氣體(venting gas)密封隔開。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該差壓相對於大氣壓是正壓。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該差壓相對於在該等預定的進出位置來自該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍的逃出氣體的壓力是正壓。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該差壓相對於大氣壓是負壓。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該差壓相對於在該等預定的進出位置來自該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍的逃出氣體的壓力是負壓。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該預定的 連續的穩態差壓充氣部區域至少在一側是被該匣盒支撐件的一至少部分地界定該預定的連續的穩態差壓充氣部區域的表面黏結。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該表面是一用於產生該預定的連續的穩態差壓充氣部區域的差壓的該流體流的引導表面。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該預定的連續的穩態差壓充氣部區域的該連續的穩態流體流隔離阻障物被產生來提供一偏離被該連續的穩態流體流隔離阻障物隔離的該匣盒支撐件的該另一預定的區段的預定偏移量，且該預定偏移量是由產生該連續的穩態差壓充氣部區域的流體流來設定。
依據本揭露內容的一或多個態樣，進一步包括依據該至少一基材匣盒容器的組態用控制器來控制該預定的連續的穩態差壓充氣部區域。
依據本揭露內容的一或多個態樣，一種方法被提供。該方法包括提供基材裝載裝置的框架，該框架被用來將該基材裝載裝置連接至基材處理設備或工具，該框架具有運送開口，基材經由該運送開口被運送於該基材裝載裝置和該基材處理設備或工具之間、提供匣盒支撐件，其被連接至該框架，用來固持至少一基材匣盒容器緊鄰該運送開口，該匣盒支撐件被建構成使得該容器的被密封的內部氛圍係在該容器的預定的進出位置從該支撐件進出(accessed)、以及用該預定的連續的穩態流體質量流充氣 部區域來界定一連續的穩態流體流隔離阻障物，其被設置在該支撐件上介於該容器的該等預定的進出位置和該匣盒支撐件的另一預定的區段之間，用來將該另一預定的區段與該等預定的進出位置隔離開，其中該匣盒支撐件具有被設置在該支撐件上的該預定的連續的穩態流體質量流充氣部區域，且該預定的連續的穩態流體質量流充氣部區域至少部分地由流體質量流的邊界來界定。
依據本揭露內容的一或多個態樣，進一步包括用該連續的穩態流體流隔離阻障物的流體流的流體邊緣來將該另一預定的區段與該等預定的進出位置密封隔開。
依據本揭露內容的一或多個態樣，進一步包括用該連續的穩態流體流隔離阻障物的流體流的流體邊緣來將該另一預定的區段與在該等預定的進出位置從該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍逃出的通氣氣體(venting gas)密封隔開。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該差壓相對於大氣壓是正壓。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該流體質量流相對於在該等預定的進出位置來自該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍的逃出氣體的壓力具有正壓。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該流體質量流相對於大氣壓具有負壓。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該流體質量流相對於在該等預定的進出位置來自該至少一基材匣盒 容器的該被密封的內部氛圍的逃出氣體的壓力具有負壓。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該預定的連續的穩態流體質量流充氣部區域至少在一側是被該匣盒支撐件的一至少部分地界定該預定的連續的穩態流體質量流充氣部區域的表面黏結。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該表面是一用於產生該預定的連續的穩態流體質量流充氣部區域的流體質量流的引導表面。
依據本揭露內容的一或多個態樣，該預定的連續的穩態流體質量流充氣部區域的該連續的穩態流體流隔離阻障物被產生來提供一偏離被該連續的穩態流體流隔離阻障物隔離的該匣盒支撐件的該另一預定的區段的預定偏移量，且該預定偏移量是由產生該連續的穩態流體質量流充氣部區域的流體質量流來設定。
依據本揭露內容的一或多個態樣，進一步包括依據該至少一基材匣盒容器的組態用控制器來控制該預定的連續的穩態差壓充氣部區域。
應理解的是，前面的描述只是本揭露內容的態樣的示例。各種替代物及修改可在不偏離本揭露內容的態樣之下被熟習此技藝者作出來。因此，本揭露內容的態樣是要涵蓋落入到本案的任一申請專利範圍請求項的範圍內的所有這些替代物、修改及變異。此外，不同的特徵被描述在可能被附在本申請案中之彼此不同的依附請求項或獨立請求項中的此基本事實並不表示這些特徵不能被有利 地使用，此一組合仍是在本揭露內容的態樣的範圍內。
d:距離
M:箭頭
B:光束
L1:位置
14:後區段
24:裝載埠(裝載埠模組)
28:運送容器固持區域(或固持區域、裝載埠模組固持區
域、匣盒支撐件、支撐區域)
29:裝載埠框架
30D:門
34:次要站(或固持站、下站、下支撐站)
34F:凸緣
34L:支撐件
36:第一站(或主要站、固持站、支撐件、上站、上支撐站)
38:延伸區
50:梭車支撐件(或梭車底座支撐件、梭車架子)
52:梭車
54:(梭車)驅動系統
110:運送容器前進偵測系統
112:光源
114:感光部分
120:定位器銷
122:閂扣鍵
276:裝載埠門/框架界面
400:控制器

Claims (33)

  1. 一種基材裝載裝置，包含：框架，用來將該基材裝載裝置連接至基材處理設備，該框架具有運送開口，基材經由該運送開口被運送於該基材裝載裝置和該基材處理設備之間；匣盒支撐件，其被連接至該框架，用來固持至少一基材匣盒容器緊鄰該運送開口，該匣盒支撐件被建構成使得該至少一基材匣盒容器的被密封的內部氛圍係在該至少一基材匣盒容器的預定的進出位置從該匣盒支撐件進出(accessed)；以及該匣盒支撐件具有一被設置在該匣盒支撐件上的預定的連續的穩態差壓充氣部區域，其至少部分地由產生差壓的流體流的邊界所界定，使得該預定的連續的穩態差壓充氣部區域界定一連續的穩態流體流隔離阻障物，其被設置在該容器支撐件上介於該至少一基材匣盒容器的該等預定的進出位置和該匣盒支撐件的另一預定的區段之間，用來將該另一預定的區段與該等預定的進出位置隔離開。
  2. 如申請專利範圍第1項之基材裝載裝置，其中該連續的穩態流體流隔離阻障物的流體流的流體邊緣將該另一預定的區段與該等預定的進出位置密封隔開。
  3. 如申請專利範圍第1項之基材裝載裝置，其中該連續 的穩態流體流隔離阻障物的流體流的流體邊緣將該另一預定的區段與在該等預定的進出位置從該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍逃出的通氣氣體(venting gas)密封隔開。
  4. 如申請專利範圍第1項之基材裝載裝置，其中該差壓相對於大氣壓是正壓。
  5. 如申請專利範圍第1項之基材裝載裝置，其中該差壓相對於在該等預定的進出位置來自該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍的逃出氣體的壓力是正壓。
  6. 如申請專利範圍第1項之基材裝載裝置，其中該差壓相對於大氣壓是負壓。
  7. 如申請專利範圍第1項之基材裝載裝置，其中該差壓相對於在該等預定的進出位置來自該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍的逃出氣體的壓力是負壓。
  8. 如申請專利範圍第1項之基材裝載裝置，其中該預定的連續的穩態差壓充氣部區域至少在一側是被該匣盒支撐件的一至少部分地界定該預定的連續的穩態差壓充氣部區域的表面黏結。
  9. 如申請專利範圍第8項之基材裝載裝置，其中該表面是一用於產生該預定的連續的穩態差壓充氣部區域的差壓的該流體流的引導表面。
  10. 如申請專利範圍第1項之基材裝載裝置，其中該預定的連續的穩態差壓充氣部區域的該連續的穩態流體流隔離阻障物被產生來提供一偏離被該連續的穩態流體流隔離阻障物隔離的該匣盒支撐件的該另一預定的區段的預定偏移量，且該預定偏移量是由產生該連續的穩態差壓充氣部區域的流體流來設定。
  11. 如申請專利範圍第1項之基材裝載裝置，其中該基材裝載裝置包括控制器，其依據該至少一基材匣盒容器的組態來控制該預定的連續的穩態差壓充氣部區域。
  12. 一種基材裝載裝置，包含：框架，用來將該基材裝載裝置連接至基材處理設備，該框架具有運送開口，基材經由該運送開口被運送於該基材裝載裝置和該基材處理設備之間；匣盒支撐件，其被連接至該框架，用來固持至少一基材匣盒容器緊鄰該運送開口，該匣盒支撐件被建構成使得該容器的被密封的內部氛圍係在該容器的預定的進出位置從該支撐件進出(accessed)；以及該匣盒支撐件具有一被設置在該支撐件上的預定的連 續的穩態流體質量流充氣部區域，其至少部分地由流體質量流的邊界來界定，使得該連續的穩態流體質量流充氣部區域界定一連續的穩態流體流隔離阻障物，其被設置在該支撐件上介於該容器的該等預定的進出位置和該匣盒支撐件的另一預定的區段之間，用來將該另一預定的區段與該等預定的進出位置隔離開。
  13. 如申請專利範圍第12項之基材裝載裝置，其中該連續的穩態流體流隔離阻障物的流體流的流體邊緣將該另一預定的區段與該等預定的進出位置密封隔開。
  14. 如申請專利範圍第12項之基材裝載裝置，其中該連續的穩態流體流隔離阻障物的流體流的流體邊緣將該另一預定的區段與在該等預定的進出位置從該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍逃出的通氣氣體密封隔開。
  15. 如申請專利範圍第12項之基材裝載裝置，其中該差壓相對於大氣壓是正壓。
  16. 如申請專利範圍第12項之基材裝載裝置，其中該流體質量流相對於在該等預定的進出位置來自該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍的逃出氣體的壓力具有正壓。
  17. 如申請專利範圍第12項之基材裝載裝置，其中該流體質量流相對於大氣壓具有負壓。
  18. 如申請專利範圍第12項之基材裝載裝置，其中該流體質量流相對於在該等預定的進出位置來自該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍的逃出氣體的壓力具有負壓。
  19. 如申請專利範圍第12項之基材裝載裝置，其中該預定的連續的穩態流體質量流充氣部區域至少在一側是被該匣盒支撐件的一至少部分地界定該預定的連續的穩態流體質量流充氣部區域的表面黏結。
  20. 如申請專利範圍第19項之基材裝載裝置，其中該表面是一用於該預定的連續的穩態流體質量流充氣部區域的該流體質量流的引導表面。
  21. 如申請專利範圍第12項之基材裝載裝置，其中該連續的穩態流體質量流充氣部區域的該連續的穩態流體流隔離阻障物被產生來提供一偏離被該連續的穩態流體流隔離阻障物隔離的該匣盒支撐件的該另一預定的區段的預定偏移量，且該預定偏移量是由該連續的穩態流體質量流充氣部區域的流體質量流來設定。
  22. 如申請專利範圍第12項之基材裝載裝置，其中該基材裝載裝置包括控制器，其依據該至少一基材匣盒容器的組態來控制該預定的連續的穩態差壓充氣部區域。
  23. 一種基材裝載方法，包含：提供基材裝載裝置的框架，該框架被用來將該基材裝載裝置連接至基材處理設備，該框架具有運送開口，基材經由該運送開口被運送於該基材裝載裝置和該基材處理設備之間；提供匣盒支撐件，其被連接至該框架，用來固持至少一基材匣盒容器緊鄰該運送開口，該匣盒支撐件被建構成使得該至少一基材匣盒容器的被密封的內部氛圍係在該至少一基材匣盒容器的預定的進出位置從該匣盒支撐件進出(accessed)；以及用預定的連續的穩態差壓充氣部區域來界定一連續的穩態流體流隔離阻障物，其被設置在該容器支撐件上介於該至少一基材匣盒容器的該等預定的進出位置和該匣盒支撐件的另一預定的區段之間，用來將該另一預定的區段與該等預定的進出位置隔離開，其中該匣盒支撐件具有被設置在該匣盒支撐件上的該預定的連續的穩態差壓充氣部區域且該預定的連續的穩態差壓充氣部區域至少部分地由產生差壓的流體流的邊界來界定。
  24. 如申請專利範圍第23項之方法，進一步包含用該連續 的穩態流體流隔離阻障物的流體流的流體邊緣將該另一預定的區段與該等預定的進出位置密封隔開。
  25. 如申請專利範圍第23項之方法，進一步包含用該連續的穩態流體流隔離阻障物的流體流的流體邊緣來將該另一預定的區段與在該等預定的進出位置從該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍逃出的通氣氣體密封隔開。
  26. 如申請專利範圍第23項之方法，其中該差壓相對於大氣壓是正壓。
  27. 如申請專利範圍第23項之方法，其中該差壓相對於在該等預定的進出位置來自該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍的逃出氣體的壓力是正壓。
  28. 如申請專利範圍第23項之方法，其中該差壓相對於大氣壓是負壓。
  29. 如申請專利範圍第23項之方法，其中該差壓相對於在該等預定的進出位置來自該至少一基材匣盒容器的該被密封的內部氛圍的逃出氣體的壓力是負壓。
  30. 如申請專利範圍第23項之方法，其中該預定的連續的穩態差壓充氣部區域至少在一側是被該匣盒支撐件的一至 少部分地界定該預定的連續的穩態差壓充氣部區域的表面黏結。
  31. 如申請專利範圍第30項之方法，其中該表面是一用於產生該預定的連續的穩態差壓充氣部區域的差壓的該流體流的引導表面。
  32. 如申請專利範圍第23項之方法，其中該連續穩態差壓充氣部區域的連續穩態流體流隔離阻障物被產生來提供一偏離被該連續的穩態流體流隔離阻障物隔離的該匣盒支撐件的該另一預定的區段的預定偏移量，且該預定偏移量是由產生該連續的穩態差壓充氣部區域之差壓的流體流來設定。
  33. 如申請專利範圍第23項之方法，進一步包含依據該至少一基材匣盒容器的組態用控制器來控制該預定的連續的穩態差壓充氣部區域。
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