CN113314685A - 显示面板、显示基板及其制备方法 - Google Patents
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- CN113314685A CN113314685A CN202110704349.3A CN202110704349A CN113314685A CN 113314685 A CN113314685 A CN 113314685A CN 202110704349 A CN202110704349 A CN 202110704349A CN 113314685 A CN113314685 A CN 113314685A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 165
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 7
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 106
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 27
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 22
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims description 11
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 7
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 96
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 4
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- OFIYHXOOOISSDN-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegallium Chemical compound [Te]=[Ga] OFIYHXOOOISSDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- -1 Polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000009194 climbing Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000016776 visual perception Effects 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/1201—Manufacture or treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
- H10K71/13—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
- H10K71/135—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing
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Abstract
本公开提供了一种显示面板、显示基板及其制备方法。该显示基板包括:衬底基板,包括第一区域,所述第一区域对应于所述显示基板的显示区,所述第一区域的至少一侧设有疏液区;像素界定层,设于所述衬底基板上,且至少部分位于所述第一区域,所述像素界定层包括多个沿着第一方向延伸的第一像素界定条以及多个沿着第二方向延伸的第二像素界定条,所述第一方向与所述第二方向相交;所述第一像素界定条背向所述衬底基板的表面位于所述第二像素界定条背向所述衬底基板的表面远离所述衬底基板的一侧。本公开能够提高器件的使用寿命。
Description
技术领域
本公开涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板、显示基板及其制备方法。
背景技术
OLED(Organic Light Emitting Diode,有机电致发光二极管)显示装置由于具有全固态结构、自发光、响应速度快、亮度高、全视角、可柔性显示等一系列优点,因而成为目前极具竞争力和良好发展前景的一类显示装置。为了进一步满足人们对于视觉感受的要求,圆形屏、刘海屏等异形OLED显示屏引发了越来越多的关注。然而,现有的异形显示屏容易发生水氧侵蚀,降低了器件的使用寿命。
发明内容
本公开的目的在于提供一种显示面板、显示基板及其制备方法,能够提高器件的使用寿命。
根据本公开的一个方面,提供一种显示基板,包括:
衬底基板,包括第一区域,所述第一区域对应于所述显示基板的显示区,所述第一区域的至少一侧设有疏液区;
像素界定层,设于所述衬底基板上,且至少部分位于所述第一区域,所述像素界定层包括多个沿着第一方向延伸的第一像素界定条以及多个沿着第二方向延伸的第二像素界定条,所述第一方向与所述第二方向相交;所述第一像素界定条背向所述衬底基板的表面位于所述第二像素界定条背向所述衬底基板的表面远离所述衬底基板的一侧。
进一步地,所述疏液区至少包括第一疏液区,所述第一疏液区的内边界与所述第一区域的外边界重合,且所述第一疏液区与所述第一区域的交界处设有所述第二像素界定条。
进一步地,所述疏液区的数量为多个,多个所述疏液区间隔设置。
进一步地,所述衬底基板还包括多个亲液区,所述亲液区与所述疏液区交错排列。
进一步地,所述衬底基板还包括与所述第一区域间隔设置的亲液区。
进一步地,所述亲液区的数量为多个,多个所述亲液区中存在多个所述亲液区沿着远离所述第一区域的方向间隔分布。
进一步地,所述显示基板还包括:
相对设置的两个隔离墙,设于所述衬底基板上,并位于所述第一区域以外;
阻挡结构,设于所述衬底基板上,并位于所述第一区域以外,且位于相邻的两个所述隔离墙之间。
进一步地,所述隔离墙自所述第一像素界定条一体延伸。
进一步地,所述隔离墙与所述第一方向平行,所述阻挡结构包括多个阻挡条,多个所述阻挡条包括:
多个第一阻挡条,平行且间隔设置,且沿着所述第一方向分布,所述第一阻挡条的延伸方向与所述第一方向相交;
多个第二阻挡条,平行且间隔设置,且沿着所述第一方向分布,所述第二阻挡条的延伸方向与所述第一方向相交,所述第一阻挡条与所述第二阻挡条交错排列,任一所述第一阻挡条与任一所述第二阻挡条间隔设置。
进一步地,所述阻挡条与所述第一区域间隔设置,所述疏液区的数量为多个,所述衬底基板还包括多个亲液区;在相邻的两个所述隔离墙之间,所述疏液区与所述亲液区沿着所述第一方向交错排列,且相邻的所述疏液区与所述亲液区的交界处设有一所述阻挡条。
进一步地,所述阻挡条包括层叠设置的第一阻挡层和第二阻挡层,所述第一阻挡层设于所述衬底基板的一侧,所述第二阻挡层位于所述第一阻挡层远离所述衬底基板的一侧,所述第一阻挡层的宽度小于第二阻挡层的宽度,所述第一阻挡层在所述衬底基板上的正投影位于所述第二阻挡层在所述衬底基板上的正投影区域内。
进一步地,所述阻挡条还包括第三阻挡层,所述第三阻挡层设于所述衬底基板的一侧,所述第一阻挡层位于所述第三阻挡层远离所述衬底基板的一侧,所述第一阻挡层的宽度小于第三阻挡层的宽度,所述第一阻挡层在所述衬底基板上的正投影位于所述第三阻挡层在所述衬底基板上的正投影区域内。
进一步地,所述显示基板还包括:
裂纹隔离结构,设于所述衬底基板,且位于所述阻挡结构远离所述第一区域的一侧,所述裂纹隔离结构为隔离柱或隔离槽。
根据本公开的一个方面,提供一种显示基板的制备方法,所述制备方法用于制备上述的显示基板,所述制备方法包括:
通过喷墨打印工艺形成有机发光材料层;
沿预设轨迹进行切割以形成具有预设形状的显示基板,所述预设轨迹位于所述疏液区的内边界远离所述第一区域的一侧。
根据本公开的一个方面,提供一种显示面板,所述显示面板包括上述的显示基板。
本公开的显示面板、显示基板及其制备方法,对本公开的显示基板进行喷墨打印的过程中,包含有机发光材料的油墨会从第一区域流动至第一区域以外,由于第一区域的至少一侧设有疏液区,使油墨不易在疏液区聚集,从而使疏液区难以形成有机发光材料层,进而使形成于第一区域以外的有机发光材料层与形成于第一区域的有机发光材料层在疏液区断开;对喷墨打印后的显示基板进行切割,使切割轨迹位于疏液区的内边界外侧,由于形成于第一区域以外的有机发光材料层与形成于第一区域的有机发光材料层在疏液区断开,从而使水和氧气难以从切割断面侵入到第一区域的有机发光材料层,降低了水氧侵蚀,提高了器件的使用寿命和良率,同时提高了异形封装产品的封装特性。
附图说明
图1是本公开实施方式的显示基板的示意图。
图2是本公开实施方式的衬底基板的示意图。
图3是本公开实施方式的显示基板的局部示意图。
图4是本公开实施方式的显示基板的另一局部示意图。
图5是本公开实施方式的显示基板的又一局部示意图。
图6是图5所示结构中线S1的示意图。
图7是图3所示结构中阻挡条的AA截面示意图。
附图标记说明:1、衬底基板;101、第一区域;102、疏液区;103、亲液区;2、像素界定层;201、第一像素界定条;202、第二像素界定条;3、阻挡条;301、第一阻挡条;302、第二阻挡条;4、第一阻挡层;5、第二阻挡层;6、第三阻挡层;7、隔离墙;8、子像素区。
具体实施方式
这里将详细地对示例性实施方式进行说明,其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时,除非另有表示,不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施方式中所描述的实施方式并不代表与本公开相一致的所有实施方式。相反,它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本公开的一些方面相一致的装置的例子。
在本公开使用的术语是仅仅出于描述特定实施方式的目的,而非旨在限制本公开。除非另作定义,本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开说明书以及权利要求书中使用的“第一”“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。同样,“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制,而是表示存在至少一个。“多个”或者“若干”表示两个及两个以上。除非另行指出,“前部”、“后部”、“下部”和/或“上部”等类似词语只是为了便于说明,而并非限于一个位置或者一种空间定向。“包括”或者“包含”等类似词语意指出现在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的元件或者物件及其等同,并不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而且可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。在本公开说明书和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式,除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解,本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。
相关技术中,异形OLED显示基板是一种独特的显示基板,其显示区为圆形、曲线形等非矩形区域。但是目前产线采用喷墨打印技术制备的异形屏,均为矩形成膜工艺,也就是说显示基板正面都会打印,包括显示基板对应于显示基板的显示区的区域以及显示基板对应于显示基板的非显示区的区域。在形成异形屏时,需要通过切割经过喷墨打印后的显示基板,才能形成异形屏。异形屏的切割断面通常有有机发光材料层外露,水汽和氧气会从这些有机发光材料层侵入,延伸至显示区,造成显示区有机发光材料受到侵蚀而出现不良。
本公开实施方式提供一种显示基板。该显示基板可以包括显示区以及围绕显示区的非显示区。该显示区可以为矩形、正方形,当然,该显示区还可以为圆形、梯形、心形等异形形状。如图1和图2所示,该显示基板可以包括衬底基板1以及像素界定层2,其中:
该衬底基板1包括第一区域101,第一区域101对应于显示基板的显示区,第一区域101的至少一侧设有疏液区102。该像素界定层2设于衬底基板1上,像素界定层2的至少部分区域位于第一区域101。该像素界定层2包括多个沿着第一方向延伸的第一像素界定条201以及多个沿着第二方向延伸的第二像素界定条202。该第一方向与第二方向相交。该第一像素界定条201背向衬底基板1的表面位于第二像素界定条202背向衬底基板1的表面远离衬底基板1的一侧。
本公开实施方式的显示基板,在喷墨打印过程中,包含有机发光材料的油墨会从第一区域101流动至第一区域101以外,由于第一区域101的至少一侧设有疏液区102,使油墨不易在疏液区102聚集,从而使疏液区102难以形成有机发光材料层,进而使形成于第一区域101以外的有机发光材料层与形成于第一区域101的有机发光材料层在疏液区102断开;对喷墨打印后的显示基板进行切割,使切割轨迹位于疏液区102的内边界外侧,由于形成于第一区域101以外的有机发光材料层与形成于第一区域101的有机发光材料层在疏液区102断开,从而使水和氧气难以从切割断面侵入到第一区域101的有机发光材料层,提高了器件的使用寿命和良率,同时提高了异形封装产品的封装特性。
下面对本公开实施方式的显示基板的各部分进行详细说明:
该衬底基板1可以包括衬底和驱动电路层。该衬底可以为刚性衬底。其中,该刚性衬底可以为玻璃衬底或PMMA(Polymethyl methacrylate,聚甲基丙烯酸甲酯)衬底等。当然,该衬底还可以为柔性衬底。其中,该柔性衬底可以为PET(Polyethyleneterephthalate,聚对苯二甲酸乙二醇酯)衬底、PEN(Polyethylene naphthalate twoformic acid glycol ester,聚萘二甲酸乙二醇酯)衬底或PI(Polyimide,聚酰亚胺)衬底。该驱动电路层可以设于衬底上。该驱动电路层可以包括多个驱动晶体管。该驱动晶体管可以为薄膜晶体管,但本公开实施方式不限于此。该薄膜晶体管可以为顶栅型薄膜晶体管,当然,该薄膜晶体管还可以为底栅型薄膜晶体管。以薄膜晶体管为顶栅型薄膜晶体管为例,该驱动电路层可以包括有源层、栅绝缘层、栅电极、层间绝缘层、源极以及漏极。该有源层可以设于衬底上。该栅绝缘层可以设于衬底上,并覆盖有源层。该栅电极可以设于栅绝缘层远离衬底的一侧。该层间绝缘层可以设在栅绝缘层上,并覆盖栅电极。该源极和漏极可以设在层间绝缘层上,并经由穿过层间绝缘层和栅绝缘层的过孔连接至有源层。此外,该衬底基板1还可以包括平坦化层。该平坦化层可以设于驱动电路层背向衬底的表面,且覆盖上述驱动晶体管的源极和漏极。
如图2所示,该衬底基板1包括第一区域101。该第一区域101与显示基板的显示区对应,也就是说,第一区域101可以为矩形、正方形,也可以为圆形、梯形、心形等异形形状。该衬底基板1还包括疏液区102。该疏液区102可以位于衬底基板1对应于显示基板的非显示区的区域。该疏液区102可以呈环形,且围绕第一区域101。该疏液区102至少包括第一疏液区,该第一疏液区的内边界可以与第一区域101的外边界重合。该疏液区102的数量可以为一个或多个。以疏液区102的数量为一个为例,即疏液区102仅包括第一疏液区,该疏液区102的内边界可以与第一区域101的外边界重合,从而使显示基板的切割轨迹可以更加靠近第一区域101的边界,进而实现了窄边框的效果。以疏液区102的数量为多个为例,多个所述疏液区102间隔设置,以使多个疏液区102依次环绕第一区域101,且多个疏液区102中位于内侧的疏液区102的内边界与第一区域101的外边界重合,也就是说,多个疏液区102中位于内侧的疏液区102即为上述的第一疏液区。其中,多个疏液区102中位于内侧的疏液区102指的是多个疏液区102中与第一区域101的距离最小的疏液区102。其中,该疏液区102与第一区域101的交界处可以设有上述的第二像素界定条202。
如图2所示,该衬底基板1还可以包括亲液区103。该亲液区103可以与第一区域101间隔设置,即亲液区103也位于衬底基板1对应于显示基板的非显示区的区域,如此设置,可以使喷墨打印过程中溢流到第一区域101外的油墨从疏液区102流动到亲液区103,以在亲液区103发生聚集。该亲液区103的数量可以为一个或多个。该亲液区103的形状可以呈环形,且围绕第一区域101。当然,该亲液区103也可以呈块状等其它形状。以亲液区103的数量为多个为例,多个亲液区103可以沿着远离第一区域101的方向间隔分布。其中,多个亲液区103中相邻的两个亲液区103可以由疏液区102隔开。在本公开一实施方式中,该亲液区103和疏液区102的数量均为一个,且均呈环形,该亲液区103围绕第一区域101,并位于疏液区102远离第一区域101的一侧,即亲液区103围绕疏液区102。在本公开另一实施方式中,该亲液区103和疏液区102的数量均为多个,且均呈环形,多个亲液区103均围绕第一区域101,该亲液区103和疏液区102交错排列。
本公开的衬底基板1可以包括设于平坦化层上的改性层。其中,该改性层可以位于衬底基板1对应于显示基板的非显示区的区域。该改性层包括亲液部分和疏液部分,以构成上述的亲液区103和疏液区102。该改性层的亲液部分的材料为聚酰亚胺,该改性层的疏液部分的材料为含氟聚酰亚胺。在本公开其它实施方式,本公开也可以对上述的平坦化层进行掺杂改性,以使平坦化层形成上述的疏液区102和亲液区103。
在图3和图4中,第一区域101呈矩形,线S1代表第一区域101在第一方向上的一个边界,线S2代表衬底基板1的边界,线S1和线S2之间的区域为衬底基板1位于第一区域101以外的区域。在图5和图6中,第一区域101呈图2中所示的圆形,线S1代表图2中第一区域101的左侧边界;图5和图6中的线S1呈台阶状,这是因为图5仅示出了六列像素,其尺寸极小。该像素界定层2包括第一像素界定条201和第二像素界定条202。该第一像素界定条201的数量为多个,且沿着第一方向延伸,并沿着第二方向间隔分布,也就是说,多个第一像素界定条201平行设置,其中,任意相邻的两个第一像素界定条201之间的区域形成一像素区。该像素区可以包括红色像素区、绿色像素区以及蓝色像素区。该第一方向为X方向,该第二方向为Y方向。该第一方向与第二方向相交,进一步地,该第一方向可以与第二方向垂直。该第二像素界定条202的数量为多个,且沿着第二方向延伸,并沿着第一方向间隔分布,也就是说,多个第二像素界定条202平行设置。任一第一像素界定条201均与多个第二像素界定条202相交,从而使相邻的两个第一像素界定条201之间的像素区被第二像素界定条202分为多个子像素区,该多个子像素区所形成的子像素的颜色相同。此外,该第一像素界定条201背向衬底基板1的表面位于第二像素界定条202背向衬底基板1的表面远离衬底基板1的一侧,即第一像素界定条201在垂直于衬底基板1的方向上的尺寸大于第二像素界定条202在垂直于衬底基板1的方向上的尺寸。在喷墨打印工艺中,包含有机发光材料的油墨会在像素区内流动,以在各子像素区中均形成有机发光材料层,尺寸较大的第一像素界定条201可以防止油墨从一个像素区攀爬至另一个像素区。
如图3、图4以及图5所示,本公开的显示基板还可以包括阻挡结构和隔离墙7。该该隔离墙7可以设于衬底基板1上,并位于第一区域101以外。该隔离墙7可以呈条状结构,且与第一方向平行。该隔离墙7的数量可以为两个,且两个隔离墙7相对设置,当然,该隔离墙7的数量也可以为三个、四个或更多个,且多个隔离墙7间隔分布,且平行设置。该阻挡结构可以设于衬底基板1上,并位于第一区域101以外,且位于相邻的两个隔离墙7之间,以对流动至第一区域101以外的油墨进行阻挡。该阻挡结构的数量可以为多个,且任意相邻的两个隔离墙7之间均可以设有阻挡结构。其中,该隔离墙7可以自第一像素界定条201一体延伸,即第一像素界定条201伸出第一区域101,并延伸至上述的亲液区103和疏液区102。该第二像素界定条202的部分区域也可以位于第一区域101以外,当然,该衬底基板1位于第一区域101以外的区域也可以不设置第二像素界定条202。
如图3、图4以及图5所示,各阻挡结构可以包括多个阻挡条3。该阻挡条3的延伸方向可以与衬底基板1平行。各阻挡条3均与衬底基板1的第一区域101间隔设置。多个阻挡条3可以包括多个第一阻挡条301和多个第二阻挡条302。多个第一阻挡条301可以平行且间隔设置,且沿着第一方向分布,该第一阻挡条301的延伸方向与第一方向相交。多个第二阻挡条302可以平行且间隔设置,且沿着第一方向分布,该第二阻挡条302的延伸方向可以与第一方向相交。该第一阻挡条301可以与第二阻挡条302交错排列,且任一第一阻挡条301与任一第二阻挡条302间隔设置。以本公开的疏液区102和亲液区103的数量均为多个为例,在相邻的两个隔离墙7之间,疏液区102与亲液区103沿着第一方向交错排列,且任意相邻的疏液区102与亲液区103的交界处均设有一阻挡条3。如图2和图5所示,在第一区域101呈圆形时,位于第一区域101的最左侧的子像素区8的上侧和/或下侧设有疏液区102和亲液区103,本公开对该子像素区8的左侧的亲疏液性能不做限定。
如图3、图4以及图5所示,对于相邻的两个隔离墙7,第一阻挡条301的第一端与一个隔离墙7接触,第一阻挡条301的第二端与另一个隔离墙7间隔设置,第一阻挡条301的第一端位于第一阻挡条301的第二端与第一区域101之间;与第一阻挡条301的第二端间隔设置的隔离墙7与第二阻挡条302的第一端接触,与第一阻挡条301的第一端接触的隔离墙7与第二阻挡条302的第二端间隔设置,第二阻挡条302的第一端位于第二阻挡条302的第二端与第一区域101之间。
此外,如图7所示,上述的阻挡条3可以包括层叠设置的第一阻挡层4和第二阻挡层5。该第一阻挡层4可以设于衬底基板1上,该第二阻挡层5可以位于第一阻挡层4远离衬底基板1的一侧。该第一阻挡层4的宽度小于第二阻挡层5的宽度,第一阻挡层4在衬底基板1上的正投影位于第二阻挡层5在衬底基板1上的正投影区域内。可知,具有第一阻挡层4和第二阻挡层5的阻挡条3的横截面可以呈“T”字型结构。进一步地,该阻挡条3还可以包括第三阻挡层6。该第三阻挡层6可以设于衬底基板1上,该第一阻挡层4可以位于第三阻挡层6远离衬底基板1的一侧。该第一阻挡层4的宽度小于第三阻挡层6的宽度,第一阻挡层4在衬底基板1上的正投影位于第三阻挡层6在衬底基板1上的正投影区域内。可知,具有第一阻挡层4、第二阻挡层5以及第三阻挡层6的阻挡条3的横截面可以呈“工”字型结构。此外,本公开的显示基板还可以包括裂纹隔离结构。该裂纹隔离结构可以设于衬底基板上,且位于阻挡结构远离第一区域的一侧。该裂纹隔离结构可以为隔离柱或隔离槽,以防止裂纹跨过裂纹隔离结构进行延伸。本公开的显示基板还可以包括挡墙。在对显示基板进行薄膜封装(TFE)的过程中,该挡墙能够对封装层中的有机材料进行阻挡。该挡墙可以位于上述的裂纹隔离结构与阻挡结构之间。
本公开实施方式还提供一种显示基板的制备方法,用于制备上述任一实施方式所述的显示基板。该显示基板的制备方法可以包括:通过喷墨打印工艺形成有机发光材料层;沿预设轨迹进行切割以形成具有预设形状的显示基板,该预设轨迹位于疏液区的内边界远离第一区域的一侧。
本公开实施方式还提供一种显示面板。该显示面板包括上述任一实施方式所述的显示基板。该显示面板可以为OLED显示面板,其可以用于手机、平板电脑、电视等。
本公开实施方式提供的显示面板、显示基板的制备方法以及显示基板属于同一发明构思,相关细节及有益效果的描述可互相参见,不再进行赘述。
以上所述仅是本公开的较佳实施方式而已,并非对本公开做任何形式上的限制,虽然本公开已以较佳实施方式揭露如上,然而并非用以限定本公开,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本公开技术方案的范围内,当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施方式,但凡是未脱离本公开技术方案的内容,依据本公开的技术实质对以上实施方式所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本公开技术方案的范围内。
Claims (15)
1.一种显示基板,其特征在于,包括:
衬底基板,包括第一区域,所述第一区域对应于所述显示基板的显示区,所述第一区域的至少一侧设有疏液区;
像素界定层,设于所述衬底基板上,且至少部分位于所述第一区域,所述像素界定层包括多个沿着第一方向延伸的第一像素界定条以及多个沿着第二方向延伸的第二像素界定条,所述第一方向与所述第二方向相交;所述第一像素界定条背向所述衬底基板的表面位于所述第二像素界定条背向所述衬底基板的表面远离所述衬底基板的一侧。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述疏液区至少包括第一疏液区,所述第一疏液区的内边界与所述第一区域的外边界重合,且所述第一疏液区与所述第一区域的交界处设有所述第二像素界定条。
3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述疏液区的数量为多个,多个所述疏液区间隔设置。
4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述衬底基板还包括多个亲液区,所述亲液区与所述疏液区交错排列。
5.根据权利要求1或2所述的显示基板,其特征在于,所述衬底基板还包括与所述第一区域间隔设置的亲液区。
6.根据权利要求5所述的显示基板,其特征在于,所述亲液区的数量为多个,多个所述亲液区中存在多个所述亲液区沿着远离所述第一区域的方向间隔分布。
7.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括:
相对设置的两个隔离墙,设于所述衬底基板上,并位于所述第一区域以外;
阻挡结构,设于所述衬底基板上,并位于所述第一区域以外,且位于相邻的两个所述隔离墙之间。
8.根据权利要求7所述的显示基板,其特征在于,所述隔离墙自所述第一像素界定条一体延伸。
9.根据权利要求7所述的显示基板,其特征在于,所述隔离墙与所述第一方向平行,所述阻挡结构包括多个阻挡条,多个所述阻挡条包括:
多个第一阻挡条,平行且间隔设置,且沿着所述第一方向分布,所述第一阻挡条的延伸方向与所述第一方向相交;
多个第二阻挡条,平行且间隔设置,且沿着所述第一方向分布,所述第二阻挡条的延伸方向与所述第一方向相交,所述第一阻挡条与所述第二阻挡条交错排列,任一所述第一阻挡条与任一所述第二阻挡条间隔设置。
10.根据权利要求9所述的显示基板,其特征在于,所述阻挡条与所述第一区域间隔设置,所述疏液区的数量为多个,所述衬底基板还包括多个亲液区;在相邻的两个所述隔离墙之间,所述疏液区与所述亲液区沿着所述第一方向交错排列,且相邻的所述疏液区与所述亲液区的交界处设有一所述阻挡条。
11.根据权利要求9所述的显示基板,其特征在于,所述阻挡条包括层叠设置的第一阻挡层和第二阻挡层,所述第一阻挡层设于所述衬底基板的一侧,所述第二阻挡层位于所述第一阻挡层远离所述衬底基板的一侧,所述第一阻挡层的宽度小于第二阻挡层的宽度,所述第一阻挡层在所述衬底基板上的正投影位于所述第二阻挡层在所述衬底基板上的正投影区域内。
12.根据权利要求11所述的显示基板,其特征在于,所述阻挡条还包括第三阻挡层,所述第三阻挡层设于所述衬底基板的一侧,所述第一阻挡层位于所述第三阻挡层远离所述衬底基板的一侧,所述第一阻挡层的宽度小于第三阻挡层的宽度,所述第一阻挡层在所述衬底基板上的正投影位于所述第三阻挡层在所述衬底基板上的正投影区域内。
13.根据权利要求7所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括:
裂纹隔离结构,设于所述衬底基板,且位于所述阻挡结构远离所述第一区域的一侧,所述裂纹隔离结构为隔离柱或隔离槽。
14.一种显示基板的制备方法,其特征在于,所述制备方法用于制备权利要求1-13任一项所述的显示基板,所述制备方法包括:
通过喷墨打印工艺形成有机发光材料层;
沿预设轨迹进行切割以形成具有预设形状的显示基板,所述预设轨迹位于所述疏液区的内边界远离所述第一区域的一侧。
15.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括权利要求1-13任一项所述的显示基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110704349.3A CN113314685A (zh) | 2021-06-24 | 2021-06-24 | 显示面板、显示基板及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN202110704349.3A CN113314685A (zh) | 2021-06-24 | 2021-06-24 | 显示面板、显示基板及其制备方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113314685A true CN113314685A (zh) | 2021-08-27 |
Family
ID=77380322
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110704349.3A Pending CN113314685A (zh) | 2021-06-24 | 2021-06-24 | 显示面板、显示基板及其制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113314685A (zh) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20160284776A1 (en) * | 2015-03-24 | 2016-09-29 | Samsung Display Co., Ltd. | Light-emitting display device and method of manufacturing the same |
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-
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- 2021-06-24 CN CN202110704349.3A patent/CN113314685A/zh active Pending
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