CN113168066A - 减少驱动多通道声光调制器的调制器之间串扰的影响 - Google Patents

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Abstract

此公开的技术教导了一种减少驱动声光调制器的换能器之间串扰的影响的方法。该方法包括用施加到相邻的换能器的不同的频率来操作机械耦合到声光调制器介质的换能器,并产生在从该相邻的换能器发出的空间相邻调制通道上的载波之间的时变相位关系,该相邻通道上的载波之间的频率间隔为400千赫至20兆赫。此公开的技术还包括操作机械耦合到该声光调制器晶体的5到32个调制器,并以锯齿图案改变施加到该调制器的不同频率,在一个范围内改变不同频率,然后在该范围内重复变化。还包括以逐渐施加到该空间相邻换能器的上升或下降图案改变施加到该调制器的频率。

Description

减少驱动多通道声光调制器的调制器之间串扰的影响
技术领域
此公开的发明一般涉及图案生成、直写光刻和光敏表面上的图案的光学写入。此公开尤其涉及光掩模、晶片、印刷电路板(PCB)、细间距互连基板、具有或不具有有源元件(晶体管)的柔性基板和/或用于显示器、光伏和照明的面板的图案化。线宽为0.03微米至10微米的其他图案也可以使用此公开的技术。该技术尤其涉及使用声光调制的高精度图案生成器和直接写入器。
背景技术
在这一节中讨论的主题不应该仅仅由于在这一节中提及而被认为是现有技术。类似地,在本节中提到的或与作为背景的主题相关联的问题不应被认为是先前已在现有技术中所公认的。本节中的主题仅代表不同的方法,这些方法本身也可以对应于已受到保护的技术的实现。
智能手机和平板电脑的流视频需要高分辨率显示器,这只能使用先进的制造工具才能实现,包括用于光掩模生产的激光掩模刻录机。显示器掩模写入器实际上用于全球所有高分辨率薄膜晶体管(TFT)、液晶显示器(LCD)和有源矩阵有机发光二极管(AMOLED)显示器的工业生产中。
图案生成器用于将显微图像写入光掩模,然后用作显示器、集成电路和电子封装的大规模生产的模板。这种被称为微光刻的制造过程类似于用底片再现照片的方式。微光刻激光写入器使用激光束在感光表面(例如掩模上的抗蚀剂)上形成潜像的图案,该潜像又被用来形成晶片或大面积显示器的图案。在光掩模制造业中,对临界尺寸(criticaldimention,CD)有严格的要求。
声光调制通常用于激光扫描仪,其在成本、速度和效率之间提供了合理的折衷。使用声光调制器(AOM)的该激光扫描仪可以具有单束或多束光束,并且在该光束的调制之后,可以通过电光或机械手段对其进行扫描。现有技术以多边形扫描器和声光的形式存在,其都采用声光多光束调制。
图案线宽测量是临界尺寸(CD),也称为边缘粗糙度,其随着激光剂量的信号的变化而变化,并且可以使用声光调制来控制。出现了改善线宽的稳定性的机会,从而改善用于图案生成、直写光刻和光敏表面上的图案的光学写入的临界尺寸。
发明内容
作为本发明的第一方面,提供了一种减少驱动声光调制器、缩写为AOM的换能器之间串扰的影响的方法,包括:
操用施加到相邻的换能器的不同的频率,来操作耦合到声光介质的所述换能器,单独的调制通道并产生在从所述相邻换能器发出的空间相邻调制通道上的载波之间的时变相位关系。
该方法可以用于减少驱动微光刻激光写入器中的AOM的换能器之间的串扰的影响。
该AOM可以包括多个换能器。该换能器可以被配置为用于在该声光介质中产生声波。该换能器可以是例如压电换能器。
在实施例中,该方法还包括用相邻换能器对之间的差为至少100千赫且最大差为20兆赫的频率来操作所述换能器。例如,相邻换能器对之间的频率差可以在400千赫至10兆赫的范围内。再例如,相邻换能器对之间的频率差可以小于5兆赫,例如小于2兆赫,例如小于1兆赫,例如小于500千赫。例如,相邻换能器对之间的频率差可以在400千赫和1兆赫之间。
在实施例中,该方法包括操作5至32个该换能器,以在该声光介质中产生5至32个调制通道。
在实施例中,该空间相邻调制通道之间的不同频率以锯齿图案排列。
在实施例中,该空间相邻调制通道之间的不同频率以逐渐施加到该相邻换能器的上升或下降图案排列。
在实施例中,该不同的频率在相邻换能器对之间的变化量在施加到该换能器的平均频率的正或负3%的范围内。
作为本发明的第二方面,提供了一种声光调制器,缩写为AOM,其减少了作为该AOM一部分的换能器之间的串扰的影响,包括:
声光介质;
多个换能器,其物理耦合到该声光介质,并且间隔开以驱动该声光介质内的独立调制通道;和
耦合到该换能器的信号合成器,其以不同的频率驱动该换能器,以在空间相邻调制通道之间产生时变相位关系。
该AOM还可以包括吸声器,其用于防止该换能器生成的波反射回并穿过该声光介质。
该声光介质例如可以是二氧化硅、石英或玻璃。
该AOM可以具有光束入射表面和光束出射表面。每个换能器可以被正或负成在特定调制区内调制激光束,该特定调制区横穿该光束入射表面和该光束出射表面之间的激光束路径。
该信号合成器可以被适应成生成射频信号(RF信号),并且该多个换能器可以被适应成将来自该信号合成器的RF信号转换成横穿该AOM的声波。
在第二方面的实施例中,该AOM还包括用相邻换能器对之间的差为至少100千赫且最大差为20兆赫的频率来操作所述换能器。因此,该信号合成器可以被配置为用相邻换能器对之间的差为至少100千赫且最大差为20兆赫的频率来操作所述换能器。
在第二方面的实施例中,相邻换能器对之间的频率差在400千赫至10兆赫的范围内。该信号合成器可以被配置为用在400千赫至10兆赫范围内的相邻换能器对之间的频率差来操作换能器。
空间相邻调制通道之间的该相位关系可以在2/3π和4/3π之间。
在第二方面的实施例中,该AOM包括操作5至32个该换能器,以在该声光介质中产生5至32个调制通道。该信号合成器可以被配置为在5至32个该换能器之间操作,以在该声光介质中产生5至32个调制通道。
在第二方面的实施例中,该空间相邻调制通道之间的不同频率以锯齿图案排列。
在第二方面的实施例中,该空间相邻调制通道之间的不同频率以逐渐施加到该相邻换能器的上升或下降图案排列。
在第二方面的实施例中,不同的频率在相邻换能器对之间的变化量在施加到该换能器的平均频率的正或负5%范围内。
作为本发明的第三方面,提供了一种微光刻激光写入器,其包括根据上述第二方面的AOM。
作为本发明的第三方面,提供了一种微光刻激光写入器,其被配置为执行根据上述第一方面的方法。
附图说明
在附图中,在不同的视图中,相同的附图标记通常指代相同的部件。此外,附图不一定按比例绘制,而是通常把重点放在说明所公开的技术的原理上。在以下描述中,参考以下附图描述了所公开的技术的各种实施方式。
图1A示出了现有技术中已知的多光束激光扫描仪;
图1B详细示出了现有技术中已知的图1A中的射频(RF)驱动器;
图2A示出了多通道AOM的示例空间维度图,该多通道AOM具有在220兆赫的载波频率下操作的与单个声光晶体集成的15个换能器通道的阵列。
图2B示出了从相邻AOM通道泄漏的声波的三维图案。
图3A示出了使用三种不同颜色表示的三种不同图案化运行的每单位时间的测量的线宽临界尺寸(CD)的曲线图。
图3B示出了在第二测试图案下每单位时间的测量的线宽临界尺寸(CD)结果的曲线图,在第二测试图案中换能器光束组同时开启。
图4示出了对于两个测试的扩展载波频率方法的结果,在两个测试中,每个由独立的电子设备供电的15个换能器通道被分配了唯一的载波频率。在该第一次测试中,在任何给定的时刻,只有一束曝光光束被开启。对于该第二个测试,所有的曝光光束同时开启。
图5示出了在所有该换能器同时开启的情况下、突出显示的段的测量临界尺寸的扩展载波频率方法结果。
图6示出了影响中心换能器的来自邻近换能器的干扰的模拟。
图7显示了来自两个邻近通道信号的将被印在激光束上的能量分布中的平均能量扰动的模拟。
图8显示了对于三种不同的相位关系、将被印在激光束上的能量分布中的平均能量扰动的模拟。
图9示出了具有15个换能器通道的AOM中的通道频率的锯齿分布示例。
图10示出了具有15个换能器通道的AOM中的通道频率的示例性阶跃分布。
图11描绘了根据此公开的技术的一种实施方式的用于生成用于驱动AOM通道的调制后的RF信号的示例性系统的框图。
具体实施方式
下面参照附图进行详细描述。描述示例实施方式是为了说明此公开的技术,而不是限制由权利要求限定的范围。本领域普通技术人员将认识到以下描述的各种等同变化。
现有技术中已知的多光束激光扫描仪如图1A所示。图1A的该扫描仪可以例如是微光刻激光写入器,用于在光掩模上写入图案,或者用于在诸如印刷电路板的基板上直写(direct write)图案。激光器100发射光束113,该光束113被分束器114分成多个光束116。每个光束由多光束声光调制器(AOM)112调制,并由偏转器110(也可以是多边形、镜式检流计等)偏转,使得其在工件表面上扫描108。该光学器件象征性地示出为单个透镜116。该多光束声光调制器112接收在该RF驱动器128中生成的每个光束的调制后的RF信号130,该RF驱动器128在RF载波上调制视频126。该RF通常用该载波进行幅度调制。该输入图案储存在存储器120中,并由光栅化器124转换成由该RF驱动器使用的该视频。
图1B更详细地示出了该RF驱动器。该输入为数字信号126,其包含每个像素的灰度值。该灰度值由数模转换器(DAC)150转换成模拟电压156。通常在0到1伏的范围内的该模拟电压调制来自本地振荡器的载波160,以产生低电平调制后的RF 158,然后在RF放大器中将其放大到适合该声光调制器的功率电平,该功率电平通常为每通道1瓦-5瓦。
声光调制器(AOM)使用晶体中的声波来产生衍射光栅。随着所施加的RF信号的功率变化,衍射光的量成比例地变化。声光多通道调制器允许通过将换能器阵列与单个声光晶体集成来独立调制多个光束。图2A示出了多通道AOM的示例性空间维度图,该多通道AOM具有在220兆赫的载波频率242下操作的、与单个声光晶体集成的15个换能器通道的阵列。多通道AOM以与典型的AOM相同的原理操作,并且使用该换能器基板上的电极阵列制造多通道AOM,从而可以同时控制平行的光束阵列。该AOM通常在所有通道上都以相同的载波频率操作。不同的声波独立衍射每个输入光束,以调制其强度。随着加入单个设备中的通道数量增加,各种调制通道之间的串扰也会增加。
如本文所用,“串扰”可以指声学串扰和/或电串扰。该电串扰可以是电容性的(静电的)和/或电感性的(电磁的)。
在声学串扰条件下,从相邻AOM通道泄漏的声波将相互作用,并在该AOM晶体内产生例如图2B所示的三维图案,该三维图案由相长干涉和相消干涉的体积组成。这种图案在时间上是静止的,并且会在由该AOM调制的激光束上留下幅度失真的印记。这反过来对该曝光的图案的线宽控制有负面影响。对总传输光能的总体影响很小,通常小于1%,这在以前的测试中得到证实。该串扰调制高斯(Gaussian)激光束的形状,对曝光的图案结构的测量的线宽产生相对较大的影响。此公开的技术减少了驱动多通道AOM的换能器之间的串扰的影响。
接下来描述导致此公开技术的实验结果。遇到需要诊断的意料之外的CD变化。为研究这个问题而编写的测试图案显示了,跨越在图案化运行之间变化的光束、在CD准确度方面的周期性变化。该周期性导致了对AOM性能的研究,并发现了驱动该AOM的调制通道的邻近换能器之间的串扰引起的问题。仔细的研究和模拟促进了对影响CD准确度的该AOM晶体内的相干效应的理解,并得到了解决所公开的相干效应的公开的方法。
计算该多光束扫描中单个光束的信号振幅,以给出相同的曝光剂量,并导致通过不同的光束写入的相同的线宽。通过控制该曝光剂量,预计该扫描仪将测量通过不同光束写入的相同线宽。
研究人员使用两种测试图案来评估不同曝光光束中的相对剂量。对于该测试图案,该曝光剂量的测量是由不同光束曝光的结构的宽度。研究人员使用倾斜图案A并测量线宽,在任何给定的时刻只有一束曝光光束打开。图3A示出了在使用三种不同颜色表示的三种不同图案化运行312上曝光的每单位时间的测量的线宽临界尺寸(CD)的图案A的结果的曲线图。该三种不同的曝光图案的结果非常相似,且CD的相同范围在+10纳米和-10纳米之间。静态串扰的测量导致功率调制小于1%。
作为图案B的第二次测试,研究人员使用稳定和可重复的换能器输入信号并测量线宽,且同时曝光(开启)所有光束。对于不同的作业,暴露剂量没有变化。对于多通道声光调制器,当将声能送入晶体时,预计会出现某种串扰。在这个实验中,15个换能器被安装在一个方糖块大小的单块石英晶体上,间距为0.9纳米,且由独立的电子设备供电。图3B示出了图案B的结果。该结果对于在图中用三种不同的颜色表示的三种不同的图案化运行、随着作业的不同而产生很大变化。对于所描述的输入,由该不同光束曝光的结构的宽度的每单位时间的临界尺寸(CD)384覆盖了大约-20纳米274和+30纳米354之间的范围。当所有15个换能器光束同时曝光时,一个已完全发展的串扰情况随之而来。对于这种曝光模式,线宽的CD和剂量之间的典型关系是4纳米/%,这意味着在该图案的连续曝光之间,曝光剂量的扩散高达12%。12%对应于线宽可变性中的48纳米,这是无法接受的。如果解释为实际剂量,图案B指示10%-15%的剂量可变性。
该两种测试图案的结果显示了非常不同的光束剂量特征(signature)。串扰驱动的曝光剂量变化在静态情况下不可见,在静态情况下,单个信号在任何给定时间都是活跃的。串扰取决于多通道输入信号的相位。如果该相位在不同作业中是随机的,那么该CD在不同作业中也是随机的。
声光调制器(AOM)通道之间的相位相关串扰会影响该CD:当邻近换能器通道之间的相位关系改变时,对显性光束剂量的影响也会改变。在该研究示例中,该220MHz载波信号在每个作业的不同换能器光束之间引入了随机相位关系,这是作业之间可变性的原因。该相位关系在一个作业期间保持不变,但在多个作业之间会发生变化。也就是说,多通道AOM中的调制器之间的通道间串扰可能对临界尺寸(CD)产生不利影响。当这个问题被发现并解决后,该光束剂量在整个作业过程中保持不变,减少了该多通道AOM中的调制器之间的串扰的影响,从而提高了用于图案生成和直写光刻的临界尺寸、以及在光敏表面上的图案的光学写入的临界尺寸。
仔细的研究和模拟促进了对该AOM晶体中影响CD准确度的相干效应的理解。该扩展频率方法将影响CD均匀性的静态CD差转换为沿该图案写入器的扫描方向周期性变化的CD。实验已经表明,该AOM中的串扰的性质极其依赖于在不同通道中的220兆赫载波信号的相对相位。通过在不同的AOM通道中施加不同的频率,该相位关系不断变化。这反过来随着时间的推移调制该串扰特征,并使得对曝光结构的影响变得模糊(smear)。
当在不同的AOM通道上使用不同的载波频率时,该干扰图案将不再是静态的。该干扰图案将以相邻AOM通道之间的频率差给出的速度穿过该晶体。该激光束上的振幅印记将随着时间而变化,对该曝光结果的影响也将变化。如果这些变化发生得足够快,与在所有通道上具有相同频率的默认配置相比,对该曝光结果的总体影响将有所改善。
图4示出了扩展载波频率方法,其中15个换能器通道455中的每一个被分配了以220兆赫的频率442为中心并且由独立的电子设备供电的、范围为216.5兆赫至223.5兆赫的唯一载波频率。图4图案A422示出了测试的结果,其中在任何给定时刻15个换能器通道455之一的单个曝光光束开启。该图示出了在任何给定时刻只有一个曝光光束开启的情况下测量的线宽。该图示出了在该图中使用三种不同颜色表示的三种不同曝光图案中的重复曝光的每单位时间的测量的线宽临界尺寸(CD)。该三种不同曝光的结果非常相似。图4还示出了测试图案B 438的结果,其中对于15个换能器中的每一个,再次使用差异非常小的载波频率,所有的该曝光光束都同时开启,因此该图案类型在该光束剂量上几乎一致。对于所描述的输入,在任何给定时刻,该不同光束所曝光的结构的宽度的每单位时间的临界尺寸(CD)覆盖了小于10纳米的范围。也就是说,在该扩展频率方法中,该线宽的调制对应于两个相邻AOM通道之间的频率差。
多通道AOM中的通道间串扰会导致邻近通道之间的相位关系对该光束剂量产生影响。该串扰可以是电串扰和/或声串扰。在声串扰期间,每个光束都受到从该AOM晶体中的至少最近的换能器通道传播而来的声能生成的干扰波图案的影响。随着载波频率的相位的变化,该驻波图案将移动,且对该光束的影响将发生变化。随着该通道上的载波频率的不同,该驻波图案将随着时间的推移而移动,并使得该效应变得模糊。
图5示出了作为以纳米为单位的该曝光线宽522的函数的、以微米为单位的扫描位置。在图5中,图中最上面的一行对应于光束1,从顶部算起的第二行对应于光束2,以此类推。这示出了当该15个换能器同时开启时、对于其中15个换能器光束各自被给予了范围为216.5兆赫至223.5兆赫的唯一的载波频率的测试、对于测量出的临界尺寸的扩展载波频率方法结果。线宽的调制对应于两个相邻AOM通道之间的频率差。
AOM带宽影响曝光结果,这将受益于通过增加相邻AOM通道之间的载波频率差而实现的该AOM晶体中更快移动的干扰图案。该载波频率能够从在所描述的示例中使用的所设计的220兆赫偏离多少是有限制的。通过考虑该AOM的带宽和该AOM中的电子设备的阻抗匹配的效果,可以理解这种限制。将该载波频率从最有效的频率偏移很远会衰减光传输,从而导致更低的可用写入功率。这个结果可以通过增加该激光功率来补偿。然而,这种方法的可行性是有限的。传统上,根据经典的要求,AOM被设计为窄带宽。请注意,AOM的设计可以改变,以增加带宽,从而使载波频率有更大的扩展。
模拟使得对该AOM晶体中影响CD准确度的相干效应有了更深的理解。当许多换能器安装在单块石英晶体上时,该邻近换能器信号的旁瓣相互作用,以产生复杂的声波干扰图案,即使当该换能器由独立的电子设备供电时。该邻近通道串扰影响该光束剂量。该模拟示出了相近的换能器信号的旁瓣效应,其中由在该多通道AOM中的邻近通道之间的串扰的相位关系引起了相干效应。
图6示出了影响中心换能器642的来自邻近换能器622、662的干扰的模拟。两个邻近换能器信号的旁瓣效应在对比度增强的图像中变得可见,其中由换能器一622引起了旁瓣干扰628,且由换能器三662引起了旁瓣干扰668。
图7显示了来自两个邻近通道信号的平均能量扰动的模拟,该平均能量扰动将被印记在激光束上的能量分布中。该模拟计算了从晶体722中的平均声能减去未受干扰的单个换能器通道信号724的能量的效果,其中通过在该220兆赫信号的周期上进行积分来计算该平均声能。该减法产生来自该两个邻近通道726的平均能量扰动。图案746将被印记在激光束上的能量分布中。色标762、765、768显示在每个颜色能量图的右侧。
对该AOM晶体内的相干效应的相位关系的另一个模拟也得到了用于解决所发现的相干效应的公开的方法。继续基于相位的模拟,当该邻近通道之一的相位变化时,该干扰图案的几何形状发生改变。图8显示了对于三种不同的相位关系、该平均能量扰动的模拟,该平均能量扰动将被印记在该激光束上的能量分布中。图8示出了当没有导致能量扰动872的相位变化822时的平均能量扰动。图8还示出了当存在2/3pi的相位关系825、从而导致能量扰动875时的效果、以及当存在4/3pi的相位关系828、从而导致能量扰动878时的效果。该模拟揭示了换能器信号的载波频率相位变化对该CD的影响。该模拟解释了曝光的结构随载波频率相位变化对该线宽的影响。
图9示出了通道分布的锯齿配置,其利用串扰在空间上受限并且随着与该AOM中的换能器的距离增加而减弱的概念。这解决了如上所述、在导致较低的光传输之前、限制多少载波频率可以穿过该AOM的问题。在该AOM晶体中的最相近的大载波频率偏移减轻了串扰的影响。一个距离远的邻近AOM由于该大距离可能在频率上很接近。来自这个距离远的邻近AOM的影响弱到由于其巨大的空间间隔而不会成为问题。
图10示出了AOM中的通道频率分布的示例性阶梯配置。x轴在空间维度上显示15个不同的AOM通道,y轴显示以220兆赫载波频率为中心的、每个该通道的AOM载波频率。在这种具有频率阶梯分布的布置中,在空间维度上仅被一个通道分开的重复的通道对(pair)利用相同的载波频率,因此这些对将是设计中最弱的环节。
接下来,将描述一种计算机系统,其可用于生成驱动该AOM通道的调制的RF信号130。
计算机系统
图11是根据所公开的技术的一种实施方式的计算机系统1100的简化框图,该计算机系统1100可用于生成驱动该AOM通道的调制的RF信号。
计算机系统1100包括至少一个中央处理单元(CPU)1172,其通过总线子系统1155与多个外围设备通信。这些外围设备可以包括储存子系统1110,该储存子系统1110包括例如存储器设备和文件储存子系统1136、用户接口输入设备1138、用户接口输出设备1176和网络接口子系统1174。该输入和输出设备允许用户与计算机系统1100交互。网络接口子系统1174提供到外部网络的接口,包括到其他计算机系统中相应接口设备的接口。
用户接口输出设备1176可以包括显示子系统或非视觉显示器,例如音频输出设备。该显示子系统可以包括LED显示器、诸如液晶显示器(LCD)的平板设备、投影设备、阴极射线管(CRT)或用于创建可视图像的其他一些机制。该显示子系统还可以提供非视觉显示器,例如音频输出设备。通常,术语“输出设备”的使用旨在包括从计算机系统1100向用户或另一机器或计算机系统输出信息的所有可能类型的设备和方式。
储存子系统1110中使用的存储器子系统1122可以包括多个存储器,该存储器包括用于在程序执行期间储存指令和数据的主随机存取存储器(RAM)1132和储存固定指令的只读存储器(ROM)1134。文件储存子系统1136可以为程序和数据文件提供永久储存,并且可以包括硬盘驱动器、软盘驱动器以及相关联的可移动介质、CD-ROM驱动器、光驱或可移动介质盒。实现某些实施方式的功能的模块可以由文件储存子系统1136储存在储存子系统1110中,或者储存在该处理器可访问的其他机器中。
总线子系统1155提供了一种机制,用于让计算机系统1100的各种组件和子系统按照预期相互通信。尽管总线子系统1155被示意性地示出为单个总线,但是该总线子系统的替代实现可以使用多个总线。
计算机系统1100本身可以有各种类型,包括个人计算机、便携式计算机、作业站、计算机终端、网络计算机、电视、大型机、服务器群、广泛分布的一组松散联网的计算机、或任何其他数据处理系统或用户设备。由于计算机和网络不断变化的性质,图11中描述的计算机系统1100的描述仅仅是为了说明本发明的优选实施例而作为一个特定的例子。计算机系统1100的许多其他配置可能具有比图11所示的计算机系统更多或更少的组件。该计算机系统可用于控制微光刻激光写入器,例如用于大面积掩模或较小半导体掩模的激光写入器。该微光刻写入器可以是多光束写入器。
前面的描述是为了能够制造和使用所公开的技术。对所公开的实施方式的各种修改将显而易见,并且在不脱离所公开的技术的精神和范围的情况下,这里定义的一般原理可以应用于其他实施方式和应用。因此,所公开的技术不旨在限于所示的实施方式,而是符合与这里公开的原理和特征一致的最大的范围。所公开的技术的范围由所附权利要求限定。
一些特定实施方式
在下面的讨论中描述了一些特定的实施方式和特征。
在一个实施方式中,所公开的减少驱动声光调制器(AOM)的换能器之间的串扰的影响的方法包括用施加到相邻的换能器的不同的频率来操作耦合到声光介质的换能器,并产生在从该相邻换能器发出的空间相邻调制通道上的载波之间的时变相位关系。
在所公开技术的本部分和其他部分中描述的方法可以包括一个或多个以下特征和/或结合所公开的附加方法来描述的特征。为了简明起见,在本申请中公开的特征的组合没有单独列举,也没有重复每个基本特征集合。读者将理解在该方法中识别的特征如何与被识别为实施方式的基本特征集合容易地结合。
所公开的方法还包括用相邻换能器对之间的差为至少100千赫且最大差为20兆赫的频率来操作所述换能器。对于所公开方法的一些实施方式,相邻换能器对之间的频率差在400千赫至10兆赫的范围内。
所公开技术的一些实施方式包括操作5至32个该换能器,以在该声光介质中产生5至32个调制通道。
在所公开方法的一个实施方式中,该空间相邻调制通道之间的不同频率以锯齿图案排列。
在所公开的方法的另一种实施方式中,该空间相邻调制通道之间的不同频率以逐渐施加到该相邻换能器的上升或下降图案排列。
对于所公开的方法的一些实施方式,该不同频率在相邻换能器对之间的变化量在施加到该换能器的平均频率的正或负3%的范围内。
对于所公开技术的一种实施方式,一种声光调制器(AOM),其减少了作为该AOM的一部分的换能器之间的串扰的影响,该AOM包括声光介质,物理耦合到该声光介质的多个换能器,间隔开以驱动该声光介质内的单独调制通道,以及耦合到该换能器的信号合成器,该信号合成器以不同频率驱动该换能器,以产生在空间相邻调制通道之间的时变相位关系。
在一种情况下,所公开的AOM可以包括用相邻换能器对之间的差为至少100千赫且最大差为20兆赫的频率来操作所述换能器。在另一种实施方式中,所公开的AOM包括在400千赫至10兆赫范围内的相邻换能器对之间的频率差。
所公开的AOM的一种实施方式包括操作5到32个换能器,以在该声光介质中产生5到32个调制通道。对于一些实施方式,该空间相邻调制通道之间的不同频率以锯齿图案排列。在所公开的AOM的其他实施方式中,该空间相邻调制通道之间的不同频率以逐渐施加到该相邻换能器的上升或下降图案排列。在所公开的AOM的一些实施方式中,该不同频率在相邻换能器对之间的变化量在施加到该换能器的平均频率的正或负5%的范围内。
所公开的技术可以作为系统、方法或制造品来实施。实施方式的一个或多个特征可以与基础实施方式相结合。不互斥的实施方式可以组合在一起。一个实施方式的一个或多个特征可以与其他实施方式相结合。
虽然所公开的技术是通过参考上面详细描述的优选实施例和例子来公开的,但是应该理解,这些例子是说明性的,而不是限制性的。可以设想,本领域技术人员将很容易就能想到修改和组合,这些修改和组合将在本发明的精神和所附权利要求的范围内。
权利要求如上。

Claims (16)

1.一种减少驱动声光调制器、缩写为AOM的换能器之间的串扰的影响的方法,包括:
用施加到相邻的换能器的不同的频率,来操作耦合到声光介质的所述换能器,并产生在从所述相邻换能器发出的空间相邻调制通道上的载波之间的时变相位关系。
2.根据权利要求1所述的方法,还包括用相邻换能器对之间的差为至少100千赫且最大差为20兆赫的频率来操作所述换能器。
3.根据权利要求2所述的方法,其中相邻换能器对之间的频率差在400千赫至10兆赫的范围内。
4.根据权利要求1所述的方法,还包括操作5至32个所述换能器,以在所述声光介质中产生5至32个调制通道。
5.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中所述空间相邻调制通道之间的不同频率以锯齿图案排列。
6.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,所述空间相邻调制通道之间的不同频率以逐渐施加到相邻换能器的上升或下降图案排列。
7.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,所述不同频率在相邻换能器对之间的变化量在施加到所述换能器的平均频率的正或负3%的范围内。
8.一种声光调制器,缩写为AOM,其减少了作为所述AOM的一部分的换能器之间的串扰的影响,包括:
声光介质;
多个换能器,其物理耦合到所述声光介质,间隔开以驱动在所述声光介质内的单独的调制通道;和
耦合到所述换能器的信号合成器,其以不同的频率驱动所述换能器,以产生在空间相邻调制通道之间的时变相位关系。
9.根据权利要求8所述的AOM,还包括用相邻换能器对之间的差为至少100千赫且最大差为20兆赫的频率来操作所述换能器。
10.根据权利要求9所述的AOM,其中相邻换能器对之间的频率差在400千赫至10兆赫的范围内。
11.根据权利要求8所述的AOM,还包括操作5至32个所述换能器,以在所述声光介质中产生5至32个调制通道。
12.根据权利要求8-10中任一项所述的AOM,其中,所述空间相邻调制通道之间的不同频率以锯齿图案排列。
13.根据权利要求8-10中任一项所述的AOM,其中,所述空间相邻调制通道之间的不同频率以逐渐施加到所述相邻换能器的上升或下降图案排列。
14.根据权利要求8-10中任一项所述的AOM,其中,所述不同频率在相邻换能器对之间的变化量在施加到所述换能器的平均频率的正或负5%的范围内。
15.一种微光刻激光写入器,包括权利要求8-14中任一项的AOM。
16.一种微光刻激光写入器,被配置为执行权利要求1-7中任一项的方法。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP4180871A1 (en) * 2021-11-16 2023-05-17 Mycronic Ab Multi head scanning lithographic laser writer
EP4300178A1 (en) 2022-06-30 2024-01-03 Mycronic Ab Electrical crosstalk cancellation in acoustooptical modulators

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3935566A (en) * 1973-10-26 1976-01-27 Zenith Radio Corporation Multiple-channel information translation system and method
US4371964A (en) * 1979-04-18 1983-02-01 Magyar Tudomanyos Akademia Szamitastechnikai Es Automatizalasi Kutato Intezete Circuit arrangement for controlling a multi-beam acousto-optical cell in which Bragg diffraction is used for the generation of a plurality of outgoing laser beams
WO1999003016A1 (en) * 1997-07-08 1999-01-21 Etec Systems, Inc. Acousto-optic modulator array with reduced rf crosstalk
US20040151422A1 (en) * 2003-02-05 2004-08-05 Shah Manhar L. Fiber-optic matrix switch using phased array acousto-optic device
CN1959470A (zh) * 2005-11-01 2007-05-09 安捷伦科技有限公司 用各向异性声光调制器产生光束的系统和方法
US20150338718A1 (en) * 2014-05-22 2015-11-26 Intel Corporation Acousto-optic deflector with multiple transducers for optical beam steering
CN107111205A (zh) * 2014-11-12 2017-08-29 奥宝科技股份有限公司 具有多个输出光束的声光偏光器

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102016102286A1 (de) * 2016-02-10 2017-08-10 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Multispot-Scanning-Mikroskopie
US9958710B1 (en) * 2016-11-03 2018-05-01 Harris Corporation Multi-channel laser system including an acousto-optic modulator (AOM) and related methods

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3935566A (en) * 1973-10-26 1976-01-27 Zenith Radio Corporation Multiple-channel information translation system and method
US4371964A (en) * 1979-04-18 1983-02-01 Magyar Tudomanyos Akademia Szamitastechnikai Es Automatizalasi Kutato Intezete Circuit arrangement for controlling a multi-beam acousto-optical cell in which Bragg diffraction is used for the generation of a plurality of outgoing laser beams
WO1999003016A1 (en) * 1997-07-08 1999-01-21 Etec Systems, Inc. Acousto-optic modulator array with reduced rf crosstalk
US20040151422A1 (en) * 2003-02-05 2004-08-05 Shah Manhar L. Fiber-optic matrix switch using phased array acousto-optic device
CN1959470A (zh) * 2005-11-01 2007-05-09 安捷伦科技有限公司 用各向异性声光调制器产生光束的系统和方法
US20150338718A1 (en) * 2014-05-22 2015-11-26 Intel Corporation Acousto-optic deflector with multiple transducers for optical beam steering
CN107111205A (zh) * 2014-11-12 2017-08-29 奥宝科技股份有限公司 具有多个输出光束的声光偏光器

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