CN113156551B - 一种稳定自清洁复眼透镜的制造方法 - Google Patents
一种稳定自清洁复眼透镜的制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113156551B CN113156551B CN202110438418.0A CN202110438418A CN113156551B CN 113156551 B CN113156551 B CN 113156551B CN 202110438418 A CN202110438418 A CN 202110438418A CN 113156551 B CN113156551 B CN 113156551B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- sample wafer
- micro
- sample
- cleaning
- drying
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 43
- ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N zinc nitrate Chemical compound [Zn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 19
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims abstract description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims abstract description 10
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 9
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000003292 glue Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000000233 ultraviolet lithography Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 22
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 22
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 8
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 claims description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N octamethyltrisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000004987 plasma desorption mass spectroscopy Methods 0.000 claims description 8
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 150000002222 fluorine compounds Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000010008 shearing Methods 0.000 claims description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 abstract description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 2
- 230000007306 turnover Effects 0.000 abstract 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- 241000238631 Hexapoda Species 0.000 description 1
- 241000255588 Tephritidae Species 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011664 nicotinic acid Substances 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0012—Arrays characterised by the manufacturing method
- G02B3/0031—Replication or moulding, e.g. hot embossing, UV-casting, injection moulding
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0012—Arrays characterised by the manufacturing method
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Eyeglasses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
一种稳定自清洁复眼透镜的制备，先将光刻胶旋涂在玻璃片上获得样片一；将掩膜板与样片一压紧，紫外光刻后不完全显影，清洗吹干得样片二；然后经过两次翻模后得到样片三；将NOA紫外固化胶浇灌在样片三上，覆盖玻璃片压紧后，紫外曝光得到样片四；再在样片四表面溅射氧化锌种子层，等离子体气相沉积氟化物，利用阵列式高精度喷印系统在微锥间隙滴落微液滴，烘干得到微透镜和微锥阵列复合结构的样片五；然后将六甲基四胺溶液倒入硝酸锌溶液中得到混合溶液，将样片五放入混合溶液中，水浴得到样片六；最后清洗样片六，烘干后得稳定自清洁复眼透镜；本发明纳米结构定位制备在锥形阵列侧面，对样片整体光透性影响较小，可以提高结构表面疏水稳定性。
Description
技术领域
本发明属于微纳制造加工技术领域，特别涉及一种稳定自清洁复眼透镜的制造方法。
背景技术
自然界果蝇复眼是由数百个紧密排列的小眼组成的，在每个成像单元的间隙存在很多高径比很大的柔性结构，可防止外界液滴对复眼的黏连，使昆虫在潮湿环境中保持良好的视觉。受此启发，可制备类似的仿生复眼透镜，提高现有视觉系统的环境适应性。然而，受限于目前材料强度，很难制备大高径比的柱结构，此外，单一柱结构表面疏水稳定性较差，需要实现纳米结构复合以提高表面疏水稳定性。
中国专利(申请号：2020100585701，一种多级复眼透镜的制造方法)，提出一种在微柱顶部复合纳米结构的复眼透镜制备方法，该方法存在的缺点是：由于纳米结构的机械稳定性不高，这种排布方式使得样片表面受到液滴撞击或是摩擦时，纳米结构很容易遭到破坏，使样片失去自清洁功能；同时，由于纳米结构的分布范围较大，会很大程度上降低整个样片的透光性。
发明内容
为了克服上述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种稳定自清洁复眼透镜的制造方法，纳米结构定位制备在锥形阵列侧面，对样片整体光透性影响较小，可以提高结构表面疏水稳定性，可很大程度上提高样片机械稳定性。
为了实现上述目的，本发明采用的技术方案为：
一种稳定自清洁复眼透镜的制备，包括以下步骤：
1)玻璃片依次用丙酮、酒精、去离子水清洗后，氮气吹干，将光刻胶AZ4620旋涂在玻璃片上，转速1000-2000r/min旋涂40-50s，95-100℃烘5-10min；重复旋涂过程，获得光刻胶薄膜，即样片一；
将圆孔间距40-100μm、直径5-20μm的掩膜板与样片一紧密压紧贴合，充分紫外光刻后不完全显影，流动去离子水充分清洗，氮气吹干，得样片二；
2)将PDMS本体和固化剂质量比为10:1的液态聚合物PDMS用于样片二的翻模，经过两次翻模后，得到凹微锥阵列模具，即样片三；
将NOA紫外固化胶浇灌在样片三上，覆盖玻璃片压紧后，充分紫外曝光，得到微锥阵列，即样片四；
3)在样片四表面溅射厚度为20-60nm的氧化锌种子层，等离子体气相沉积氟化物20-60s，利用阵列式高精度喷印系统在微锥间隙滴落1-14次微液滴，样片90-95℃前烘10-20min，紫外曝光80-120s，95-100℃后烘25-35min，得到微透镜和微锥阵列复合结构，即样片五；
4)将5-10g六甲基四胺和11-21g硝酸锌分别溶于300-1000mL的去离子水中，搅拌均匀，然后将六甲基四胺溶液倒入硝酸锌溶液中，搅拌均匀得到混合溶液，将样片五放入混合溶液中，放入90-95℃水浴锅中水浴50-100min，得到样片六；
5)用流动去离子水充分清洗样片六，烘干后得稳定自清洁复眼透镜。
本发明的有益效果为：本发明通过控制光刻过程，制备微锥阵列；利用喷印方法实现微透镜在微椎阵列间隙的复合；利用水浴方法实现纳米结构的定位生长。此过程，通过喷印微透镜和气相沉积氟化物的方法，实现纳米种子层在微椎阵列侧壁的定位裸露，通过后续水浴，可在微椎侧壁定位生长纳米结构。这种纳米结构的分布方式对整个样片的光透性影响较小；可有效减小液滴对样片的粘附，并提高疏水稳定性；同时，在样片受到液滴撞击或是摩擦产生的剪切力或法向应力时，可避免纳米结构的破坏，提高样片的自清洁稳定性。
附图说明
图1为实施例1制备的稳定自清洁复眼透镜的电镜图。
图2为图1中P1部位的结构形貌图。
图3为图1中P2部位的结构形貌图。
图4为实施例1制备的稳定自清洁复眼透镜的聚焦性阵列图。
图5为实施例1液滴在稳定自清洁复眼透镜表面状态图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
实施例1，一种稳定自清洁复眼透镜的制造方法，包括以下步骤：
1)玻璃片依次用丙酮、酒精、去离子水清洗后，氮气吹干，将光刻胶AZ4620旋涂在玻璃片上，转速1500r/min旋涂45s，95℃烘5min；重复旋涂过程，可获得光刻胶薄膜，即样片一；
将圆孔间距80μm、直径10μm的掩膜板与样片一紧密压紧贴合，充分紫外光刻后不完全显影，流动去离子水充分清洗，氮气吹干，得样片二；
2)将PDMS本体和固化剂质量比为10:1的液态聚合物PDMS用于样片二的翻模，经过两次翻模后，得到凹微锥阵列模具，即样片三；
将NOA紫外固化胶浇灌在样片三上，覆盖玻璃片压紧后，充分紫外曝光，得到微锥阵列，即样片四；
3)在样片四表面溅射厚度约为50nm的氧化锌种子层，等离子体气相沉积氟化物40s，利用阵列式高精度喷印系统在微锥间隙滴落1次微液滴，样片90℃前烘15min，紫外曝光100s，100℃后烘30min，可得微透镜和微锥阵列复合结构，即样片五；
4)将7g六甲基四胺和15g硝酸锌分别溶于500mL的去离子水中，搅拌均匀，然后将六甲基四胺溶液倒入硝酸锌溶液中，搅拌均匀得到混合溶液，将样片五放入混合溶液中，放入90℃水浴锅中水浴80min，得到样片六；
5)用流动去离子水充分清洗样片六，烘干后得稳定自清洁复眼透镜。
参照图1、图2、图3，本实施例得到的新型复眼透镜是由纳米结构+微锥+微透镜组成的复合结构，纳米结构定位存在于微锥阵列侧壁，在提高表面疏水性的同时，具有较高的机械稳定性。此外，纳米结构在微透镜表面并无分布，对微透镜光学性能无影响，如图4所示；纳米结构在基底的稀疏离散分布，不会对整个样片的光透性产生明显影响；制备的复眼透镜具有良好的疏水特性，如图5所示。这种结构对于提高现有复眼视觉系统的环境适应性具有重要意义。
实施例2：将实施例1步骤1)改为转速1000r/min旋涂50s，95℃烘10min；圆孔间距40μm，直径5μm；将实施例1步骤3改为氧化锌种子层溅射厚度20nm，等离子体气相沉积氟化物60s，喷印1次微液滴，90℃前烘20min，紫外曝光80s，95℃后烘25min；将实施例1步骤4)改为将5g六甲基四胺和11g硝酸锌分别溶于300mL的去离子水中，放入95℃水浴锅中水浴50min。实施例2得到稳定自清洁复眼透镜与图2结构类似。
实施例3：将实施例1步骤1)改为转速1000r/min旋涂50s，95℃烘10min；圆孔间距100μm，直径20μm；将实施例1步骤3)改为氧化锌种子层溅射厚度30nm，等离子体气相沉积氟化物50s，喷印14次微液滴，90℃前烘20min，紫外曝光120s，95℃后烘25min；将实施例1步骤4)改为将10g六甲基四胺和21g硝酸锌分别溶于1000mL的去离子水中，放入90℃水浴锅中水浴100min。实施例3得到稳定自清洁复眼透镜与图2结构类似。
实施例4：将实施例1步骤1)改为转速1000r/min旋涂50s，95℃烘10min；圆孔间距60μm，直径10μm；将实施例1步骤3)改为氧化锌种子层溅射厚度40nm，等离子体气相沉积氟化物40s，喷印4次微液滴，90℃前烘20min，紫外曝光90s，95℃后烘25min；将实施例1步骤4)改为将6g六甲基四胺和13g硝酸锌分别溶于400mL的去离子水中，放入93℃水浴锅中水浴90min。实施例4得到稳定自清洁复眼透镜与图2结构类似。
实施例5：将实施例1步骤1)改为转速1000r/min旋涂50s，95℃烘10min；圆孔间距50μm，直径10μm；将实施例1步骤3)改为氧化锌种子层溅射厚度20nm，等离子体气相沉积氟化物30s，喷印6次微液滴，90℃前烘20min，紫外曝光110s，95℃后烘25min；将实施例1步骤4)改为将8g六甲基四胺和17g硝酸锌分别溶于600mL的去离子水中，放入92℃水浴锅中水浴70min。实施例5得到稳定自清洁复眼透镜与图2结构类似。
实施例6：将实施例1步骤1)改为转速2000r/min旋涂40s，100℃烘5min；圆孔间距80μm，直径15μm；将实施例1步骤3)改为氧化锌种子层溅射厚度60nm，等离子体气相沉积氟化物20s，喷印12次微液滴，95℃前烘10min，紫外曝光100s，98℃后烘35min；将实施例1步骤4)改为将9g六甲基四胺和19g硝酸锌分别溶于800mL的去离子水中，放入91℃水浴锅中水浴60min。实施例6得到稳定自清洁复眼透镜与图2结构类似。
Claims (2)
1.一种稳定自清洁复眼透镜的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
1)玻璃片依次用丙酮、酒精、去离子水清洗后，氮气吹干，将光刻胶AZ4620旋涂在玻璃片上，转速1000-2000r/min旋涂40-50s，95-100℃烘5-10min；重复旋涂过程，获得光刻胶薄膜，即样片一；
将圆孔间距40-100μm、直径5-20μm的掩膜板与样片一紧密压紧贴合，充分紫外光刻后不完全显影，流动去离子水充分清洗，氮气吹干，得样片二；
2)将PDMS本体和固化剂质量比为10:1的液态聚合物PDMS用于样片二的翻模，经过两次翻模后，得到凹微锥阵列模具，即样片三；
将NOA紫外固化胶浇灌在样片三上，覆盖玻璃片压紧后，充分紫外曝光，得到微锥阵列，即样片四；
3)在样片四表面溅射厚度为20-60nm的氧化锌种子层，等离子体气相沉积氟化物20-60s，利用阵列式高精度喷印系统在微锥间隙滴落1-14次微液滴，样片90-95℃前烘10-20min，紫外曝光80-120s，95-100℃后烘25-35min，得到微透镜和微锥阵列复合结构，即样片五；
4)将5-10g六甲基四胺和11-21g硝酸锌分别溶于300-1000mL的去离子水中，搅拌均匀，然后将六甲基四胺溶液倒入硝酸锌溶液中，搅拌均匀得到混合溶液，将样片五放入混合溶液中，放入90-95℃水浴锅中水浴50-100min，得到样片六；
5)用流动去离子水充分清洗样片六，烘干后得稳定自清洁复眼透镜；
通过喷印微透镜和气相沉积氟化物的方法，实现纳米种子层在微椎阵列侧壁的定位裸露，通过后续水浴，在微椎侧壁定位生长纳米结构，这种纳米结构的分布方式对整个样片的光透性影响小，减小液滴对样片的粘附，并提高疏水稳定性；同时，在样片受到液滴撞击或是摩擦产生的剪切力或法向应力时，避免纳米结构的破坏，提高样片的自清洁稳定性。
2.根据权利要求1所述的一种稳定自清洁复眼透镜的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
1)玻璃片依次用丙酮、酒精、去离子水清洗后，氮气吹干，将光刻胶AZ4620旋涂在玻璃片上，转速1500r/min旋涂45s，95℃烘5min；重复旋涂过程，可获得光刻胶薄膜，即样片一；
将圆孔间距80μm、直径10μm的掩膜板与样片一紧密压紧贴合，充分紫外光刻后不完全显影，流动去离子水充分清洗，氮气吹干，得样片二；
2)将PDMS本体和固化剂质量比为10:1的液态聚合物PDMS用于样片二的翻模，经过两次翻模后，得到凹微锥阵列模具，即样片三；
将NOA紫外固化胶浇灌在样片三上，覆盖玻璃片压紧后，充分紫外曝光，得到微锥阵列，即样片四；
3)在样片四表面溅射厚度为50nm的氧化锌种子层，等离子体气相沉积氟化物40s，利用阵列式高精度喷印系统在微锥间隙滴落1次微液滴，样片90℃前烘15min，紫外曝光100s，100℃后烘30min，可得微透镜和微锥阵列复合结构，即样片五；
4)将7g六甲基四胺和15g硝酸锌分别溶于500mL的去离子水中，搅拌均匀，然后将六甲基四胺溶液倒入硝酸锌溶液中，搅拌均匀得到混合溶液，将样片五放入混合溶液中，放入90℃水浴锅中水浴80min，得到样片六；
5)用流动去离子水充分清洗样片六，烘干后得稳定自清洁复眼透镜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110438418.0A CN113156551B (zh) | 2021-04-22 | 2021-04-22 | 一种稳定自清洁复眼透镜的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110438418.0A CN113156551B (zh) | 2021-04-22 | 2021-04-22 | 一种稳定自清洁复眼透镜的制造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN113156551A CN113156551A (zh) | 2021-07-23 |
| CN113156551B true CN113156551B (zh) | 2022-10-18 |
Family
ID=76869558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202110438418.0A Expired - Fee Related CN113156551B (zh) | 2021-04-22 | 2021-04-22 | 一种稳定自清洁复眼透镜的制造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN113156551B (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115390167A (zh) * | 2022-09-02 | 2022-11-25 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 一种柔性微透镜阵列及其制备方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101497429B (zh) * | 2009-03-06 | 2010-09-15 | 吉林大学 | 硅中空纳米锥阵列的制备方法 |
| CN103253870B (zh) * | 2013-05-14 | 2016-03-02 | 青岛博纳光电装备有限公司 | 一种抗反射和自清洁玻璃及其制造方法 |
| US10006085B2 (en) * | 2013-11-04 | 2018-06-26 | The Regents Of The University Of California | Nanostructured arrays on flexible polymer films |
| CN111060997B (zh) * | 2020-01-19 | 2021-05-07 | 西安交通大学 | 一种多级复眼透镜的制造方法 |
-
2021
- 2021-04-22 CN CN202110438418.0A patent/CN113156551B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN113156551A (zh) | 2021-07-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2021143148A1 (zh) | 一种多级复眼透镜的制造方法 | |
| CN113514907A (zh) | 一种高透稳定超疏水复眼透镜的制造方法 | |
| CN113156551B (zh) | 一种稳定自清洁复眼透镜的制造方法 | |
| KR102052100B1 (ko) | 초발액성 표면 및 이의 제조방법 | |
| CN101303522A (zh) | 一种带间隔物的彩色滤光片、液晶显示器及其制作方法 | |
| CN109748238B (zh) | 一种大面积、均匀的纳米二聚体阵列的制备方法 | |
| WO2019019236A1 (zh) | Oled背板的制作方法与oled面板的制作方法 | |
| CN108486616B (zh) | 金属荫罩及其制备方法 | |
| US20220131076A1 (en) | Production of Precision Micro-Mask and the AMOLED Display Manufactured Therefrom | |
| CN105807557B (zh) | 一种用于光学曝光的高分辨率柔性复合掩模板及其制备方法 | |
| CN105676342A (zh) | 一种玻璃导光板及其制作方法 | |
| CN112650026A (zh) | 基于单种光刻胶的多层胶膜、其图形化方法及其剥离方法 | |
| CN112645276A (zh) | 铟柱及其制备方法 | |
| CN112349869B (zh) | 一种纳米压印制备oled阳极的方法 | |
| JPH1079594A (ja) | 透光性電磁波シールド材料とその製造方法 | |
| CN110456555B (zh) | 彩色滤光片及其制备方法 | |
| JP4138130B2 (ja) | カラーフィルターの製造方法および液晶表示装置の製造方法 | |
| CN105070685B (zh) | 梯形像素Bank结构和OLED器件的制备方法 | |
| CN110034247B (zh) | 一种阴极隔离柱的制备方法 | |
| CN114843036B (zh) | 一种基于溶液蒸发的裂纹模板制备方法及金属网格导电薄膜制备方法 | |
| CN213635991U (zh) | 一种硅基oled微显示屏 | |
| CN115196585A (zh) | 一种磁控微纳机器人及其制作方法、用途 | |
| CN110928142B (zh) | 一种光刻厚胶与金属基底结合力的改善方法 | |
| CN111965884A (zh) | 液晶面板用黑色矩阵和液晶面板 | |
| CN111224020A (zh) | 一种基于喷墨融合的薄膜电极材料沉积方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20221018 |