CN113097409A - 显示面板、显示装置及显示面板的制作方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法，其中，显示面板包括依次设置的衬底基板、薄膜晶体管层、钝化层、平坦层和阳极层；其中薄膜晶体管层包括辅助电极，钝化层对应辅助电极处开设有第一开口，平坦层对应第一开口处开设有第二开口，阳极层包括位于第二开口内的隔断部，隔断部包括沿远离钝化层依次设置的第一支撑层和第一电极层，第一支撑层硬度大于第一电极层硬度，隔断部具有凸设于第二开口内侧面的凸出部，凸出部与辅助电极间有间隙，凸出部在薄膜晶体管层上的正投影与辅助电极部分重叠。本申请通过在阳极层中设置支撑层，在不增加光罩制程的情况下，阳极层凸设于第二开口内侧面的凸出部不会出现坍塌，保证阳极层的稳定性。

Description

显示面板、显示装置及显示面板的制作方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法。

背景技术

随着显示面板的快速发展，对大尺寸显示面板的需求也越来越大，但大尺寸显示面板(尤其是顶发光面板)工作时显示中心与中心以外、四周边缘会有内阻压降的问题，因此需额外在背板上制作辅助电极，给压降较大的区域额外施加辅助，使整个面板工作时画面显示均一稳定。

目前大尺寸显示面板主要是通过在背板上制作底切结构，配合有机发光材料和阴极蒸镀角不同，使阴极与辅助电极搭接，实现压降改善，但背板的底切结构需要支撑层。但是在现有技术中，为了保证支撑层具有较高硬度，以防止底切结构的坍塌，需要单独增加光罩制程进行支撑层的制作，从而导致显示面板制程工艺的增加。

发明内容

本申请实施例提供一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法，以解决现有技术中需单独增加光罩制程制作支撑层，从而导致显示面板制程工艺增加的问题。

本申请实施例提供一种显示面板，包括：

衬底基板；

薄膜晶体管层，设置于所述衬底基板上，所述薄膜晶体管层包括辅助电极；

钝化层，设置于所述薄膜晶体管层上，所述钝化层对应所述辅助电极的位置开设有第一开口；

平坦层，设置于所述钝化层上，所述平坦层对应所述第一开口的位置开设有第二开口；

阳极层，设置于所述平坦层上，所述阳极层包括位于所述第二开口内的隔断部，所述隔断部包括沿远离所述钝化层依次设置的第一支撑层和第一电极层，所述第一支撑层硬度值大于所述第一电极层硬度值；所述隔断部具有凸设于所述第二开口内侧面的凸出部，所述凸出部与所述辅助电极间有间隙，所述凸出部在所述薄膜晶体管层上的正投影与所述辅助电极部分重叠。

在一些实施例中，所述第一支撑层的硬度值大于255。

在一些实施例中，所述第一支撑层由钼、钛或钼钛合金中的一种或多种制成。

在一些实施例中，所述第一电极层由银、氧化铟锡或其他导电氧化物中的一种或多种制成。

在一些实施例中，所述第一支撑层的厚度大于或等于300埃且小于或等于2000埃。

在一些实施例中，所述凸出部凸出所述钝化层的长度大于或等于0.5微米且小于或等于1.5微米。

在一些实施例中，所述阳极层包括位于所述平坦层上的阳极，所述阳极包括沿远离所述平坦层依次设置的第二支撑层和第二电极层，所述薄膜晶体管层包括源漏极层，所述第二支撑层与所述源漏极层电连接。

在一些实施例中，所述显示面板还包括：

像素定义层，设置于所述平坦层上；

发光层，设置于所述像素定义层和所述阳极层上，所述发光层部分覆盖所述辅助电极；

阴极层，设置于所述发光层上，所述阴极层覆盖所述发光层并与所述辅助电极电连接。

本申请实施例还提供一种显示装置，所述显示装置包括上述任一项所述的显示面板。

本申请实施例还提供一种显示面板的制作方法，所述方法包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层中设置有辅助电极；

在所述薄膜晶体管层上形成钝化层；

在所述钝化层上形成平坦层，所述平坦层对应所述辅助电极的位置开设有第二开口；

在所述平坦层上依次形成第三支撑层和第三电极层，所述第三支撑层硬度值大于所述第三电极层硬度值，所述第三支撑层和所述第三电极层构成阳极层；

对所述阳极层进行蚀刻，形成位于所述第二开口内的隔断部和位于所述平坦层上的阳极，所述隔断部具有凸设于所述第二开口内侧面的凸出部，所述凸出部在所述薄膜晶体管层上的正投影与所述辅助电极部分重叠；

在所述钝化层上对应所述辅助电极的位置形成第一开口，所述凸出部与所述辅助电极间有间隙。

在一些实施例中，所述对所述阳极层进行蚀刻，包括：

采用湿刻工艺对所述第三支撑层和所述第三电极层进行蚀刻；或者，

采用湿刻工艺对所述第三电极层进行蚀刻之后，再采用干刻工艺对所述第三支撑层进行蚀刻。

本申请实施例提供的显示面板，通过在阳极层中靠近平坦层的一侧设置支撑层，在不增加光罩制程的情况下，使得在钝化层形成第一开口时，阳极层凸设于第二开口侧面的凸出部不会出现坍塌，从而保证阳极层的稳定性，同时阳极层还包括有电极层，可以保证显示面板的显示效果和使用寿命。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图2为本申请实施例提供的一种显示面板制作方法的流程图；

图3为本申请实施例提供的显示面板制作方法的步骤S50的示意图；

图4为本申请实施例提供的显示面板制作方法的步骤S60的示意图；

图5为本申请实施例提供的显示面板制作方法的步骤S70的示意图。

图中所用标记如下：

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

本申请实施例提供一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法，以下分别进行详细说明。

首先，本申请实施例提供一种显示面板，包括衬底基板，薄膜晶体管层、钝化层、平坦层和阳极层；其中，薄膜晶体管层设置于衬底基板上，薄膜晶体管层包括辅助电极；钝化层设置于薄膜晶体管层上，钝化层对应辅助电极的位置开设有第一开口；平坦层设置于钝化层上，钝化层对应第一开口的位置开设有第二开口；阳极层设置于平坦层上，阳极层包括位于第二开口内的隔断部，隔断部包括沿远离钝化层依次设置的支撑层和电极层，且支撑层硬度值大于电极层硬度值，隔断部具有凸设于第二开口内侧面的凸出部，凸出部与辅助电极间有间隙，且凸出部在薄膜晶体管层上的正投影与辅助电极部分重叠。

图1为本申请实施例提出的一种显示面板100的结构示意图，如图1所示，衬底基板110上设置有薄膜晶体管层120，薄膜晶体管层120包括有辅助电极121，辅助电极121可以用于给显示面板100中压降较大的区域额外施加辅助，从而使整个显示面板100工作时画面显示均一稳定。

钝化层130设置于薄膜晶体管层120上，钝化层130可以对辅助电极121形成保护，防止在其他膜层形成过程中的蚀刻液等对辅助电极121产生影响。本申请实施例中钝化层130对应辅助电极121的位置开设有第一开口131，第一开口131漏出辅助电极121，用于与其他相关膜层进行连接。

平坦层140设置于钝化层130上，且平坦层140对应第一开口131的位置开设有第二开口141，第二开口141与第一开口131连通，漏出辅助电极121。

可选的，第一开口131靠近第二开口141的一端具有第一面积，第二开口141靠近第一开口131的一端具有第二面积，且第一面积小于第二面积，即平坦层140上的第二开口141与钝化层130上的第一开口131之间可以形成有台阶结构，避免开口整体过长，有助于后续膜层的制作。

阳极层150设置于平坦层140上，且阳极层150具有位于第二开口141内的隔断部151，隔断部151包括沿远离钝化层130依次设置的第一支撑层1511和第一电极层1512，其中，第一支撑层1511的硬度值大于第一电极层1512的硬度值，第一支撑层1511用于支撑隔断部151，避免隔断部151出现坍塌或软化，保证隔断部151的稳定性。

需要说明的是，隔断部151具有凸设于第二开口141内侧面的凸出部1513，凸出部1513与辅助电极121之间存在间隙，即凸出部1513悬设于辅助电极121上方，且凸出部1513在薄膜晶体管层120上的正投影与辅助电极121部分重叠。在后续膜层制作过程中，通过凸出部1513的设置，再结合蒸镀角的改变，可以实现不同膜层在辅助电极121上覆盖范围的控制。

可选的，根据实际制作及应用的需求，第一支撑层1511可以由硬度值大于255的各种金属或金属合金中的一种或多种制成，例如：钼、钛、铜、锌或钼钛合金、铜锌合金等；其中，第一支撑层1511可以是单层金属或合金膜层，也可以是由多层金属层或合金层复合而成，只需其硬度值可以满足阳极层150隔断部151的稳定性需求，且在制程或使用过程中不会出现坍塌或软化即可。

可选的，本申请实施例中第一电极层1512需要具有较高的反射率，以避免影响显示面板100的显示效果和使用寿命，第一电极层1512可以由银、氧化铟锡或者其他导电氧化物中的一种或多种制成。其中，银对于波长在400～750nm范围内光的反射率大于或等于90％，在实际生产过程中，常采用银或者银和氧化铟锡复合层作为第一电极层1512，以保证显示面板100的显示效果和使用寿命。

需要说明的是，在实际应用过程中，为减少制程工艺，第一支撑层1511可以优先选择钼、钛或者钼钛合金，这是因为钼、钛和银的蚀刻液体系相同，在对阳极层150的隔断部151进行蚀刻时，可以只进行一次蚀刻工艺，即可同时完成第一电极层1512和第一支撑层1511的蚀刻，从而简化制程工艺。

可选的，本申请实施例中第一支撑层1511的厚度可以是大于或等于300埃且小于或等于2000埃，例如：第一支撑层1511厚度可以是300埃、500埃、800埃、1000埃、1500埃或者2000埃等。在生产制作过程中，若第一支撑层1511厚度太厚或者太薄，都会存在导致隔断部151坍塌的风险，且第一支撑层1511过厚还会导致整个显示面板100厚度的增加，降低显示面板100的性能。

可选的，本申请实施例中阳极层150隔断部151上的凸出部1513凸出钝化层130的长度可以大于或等于0.5微米且小于或等于1.5微米，例如：凸出部1513凸出钝化层130的长度可以为0.5微米、0.8微米、1.0微米、1.2微米或者1.5微米等。凸出部1513凸出越短，对辅助电极121的遮挡越少，越难通过调节蒸镀角度控制其他膜层在辅助电极121上的覆盖面积；凸出部1513凸出越长，越容易导致隔断部151的坍塌或软化，不利于显示面板100结构的稳定。

可选的，阳极层150还包括有位于平坦层140上的阳极152，阳极152包括沿远离平坦层140依次设置的第二支撑层1521和第二电极层1522，其中，第二支撑层1521可以与第一支撑层1511同层一次制成，第二电极层1522可以与第一电极层1512同层一次制成，且第二支撑层1521与第一支撑层1511、以及第二电极层1522与第一电极层1512所用材料相同。采用此种方法可以减少光罩制程，简化制作工艺。

可选的，本申请实施例中薄膜晶体管层120还包括源漏极层122，源漏极层122包括有源极和漏极，其中，第二支撑层1521与漏极或源极电连接，其连接方式与薄膜晶体管层120中薄膜晶体管的类型有关，在此不再一一赘述。

需要说明的是，阳极152也可以只包括第二电极层1522，在一次制成第一支撑层1511和第二支撑层1521后，可以通过蚀刻除去第二支撑层1521，阳极152直接通过第二电极层1522与漏极或源极进行电连接。

可选的，本申请实施例中的辅助电极121可以与源漏极层122同层设置，即在钝化层130上开设第一开口131漏出辅助电极121时，只需对辅助电极121上的钝化层130进行开口设计，其开口深度为2000A至4500A之间，采用此种设置方式可以简化制程工艺，提高制程良品率。当然，辅助电极121也可以设置在薄膜晶体管层120中的其他膜层，此时，在对钝化层130进行开口设计漏出辅助电极121时，需要加深开口深度到2000A至9000A之间。

本申请实施例中的显示面板100还包括有像素定义层160、发光层170和阴极层180，其中，像素定义层160设置于平坦层140上，发光层170设置于像素定义层160和阳极层150上，阴极层180设置于发光层170上。需要说明的是，发光层170采用蒸镀的方式延伸至第一开口131，且部分覆盖辅助电极121，利用阳极层150隔断部151的凸出部1513作为掩膜，通过调节蒸镀角度可以控制发光层170覆盖辅助电极121的范围。阴极层180覆盖于发光层170表面，通过调节蒸镀角度延伸至凸出部1513下方，并与辅助电极121电连接。通过阴极层180与辅助电极121的连接，可以降低显示面板100中离显示中心较远区域的内阻压降，从而改善显示面板100的整体显示效果。

可选的，像素定义层160上对应第二开口141的位置开设有第三开口，其中，第二开口141靠近第三开口的一端具有第三面积，第三开口靠近第二开口141的一端具有第四面积，且第三面积小于第四面积，即平坦层140上的第二开口141与像素定义层160上的第三开口之间可以形成有台阶结构，避免开口整体过长，有助于后续发光层170和阴极层180的制作。

其次，本申请实施例还提出一种显示装置，该显示装置包括显示面板，该显示面板的具体结构参照上述实施例，由于本显示面板采用了上述所有实施例的全部技术方案，因此至少具有上述实施例的技术方案所带来的所有有益效果，在此不再一一赘述。

需要说明的是，本申请实施例中的显示装置应用范围十分广泛，包括电视机、电脑、移动电话、可折叠以及可卷曲OLED等柔性OLED显示及照明，以及可穿戴设备如智能手环、智能手表、VR(Virtual Reality，即虚拟现实)等，均在本申请实施例中的显示装置所属应用领域范围内。

最后，本申请实施例还提出一种显示面板100的制作方法，如图2所述，显示面板100的制作方法包括：

S10、提供一衬底基板110。其中，所用衬底基板110可以是玻璃基板，用于支撑显示面板100中各膜层结构。

S20、在衬底基板110上形成薄膜晶体管层120，薄膜晶体管层120中设置有辅助电极121。其中，辅助电极121用于给显示面板100中压降较大的区域额外施加辅助，从而使整个显示面板100工作时画面显示均一稳定。

S30、在薄膜晶体管层120上形成钝化层130。其中，钝化层130可以对辅助电极121形成保护，防止各膜层形成过程中的蚀刻液等对辅助电极121产生影响。

S40、在钝化层130上形成平坦层140，平坦层140对应辅助电极121的位置开设有第二开口141。

S50、在平坦层140上依次形成第三支撑层153和第三电极层154，第三支撑层153硬度值大于第三电极层154硬度值，第三支撑层153和第三电极层154构成阳极层150。

需要说明的是，如图3所示，本申请实施例中阳极层150中的第三支撑层153包含隔断部151中的第一支撑层1511和阳极152中的第二支撑层1521，阳极层150中的第三电极层154包含隔断部151中的第一电极层1512和阳极152中的第二电极层1522。在此步骤中，第一支撑层1511和第二支撑层1521，以及第一电极层1512和第二电极层1522分别采用蒸镀或沉积的方式一次成型。

可选的，第三支撑层153可以由硬度值大于255的各种金属或金属合金中的一种或多种制成，例如：钼、钛、铜、锌或钼钛合金等；第三支撑层153可以是单层金属或合金膜层，也可以是由多层金属层或合金层复合而成。第三电极层154可以由银、氧化铟锡或者其他导电氧化物中的一种或多种制成。其中，银对于波长在400～750nm范围内光的反射率大于或等于90％，在实际生产过程中，常采用银或者银和氧化铟锡复合层作为第三电极层154，以保证显示面板100的显示效果和使用寿命。

S60、对阳极层150进行蚀刻，形成位于第二开口141内的隔断部151和位于平坦层140上的阳极152，隔断部151具有凸设于第二开口141内侧面的凸出部1513，凸出部1513在薄膜晶体管层120上的正投影与辅助电极121部分重叠。

需要说明的是，第三支撑层153的厚度可以是大于或等于300埃且小于或等于2000埃，例如：第三支撑层153厚度可以是300埃、500埃、800埃、1000埃、1500埃或者2000埃等。在生产制作过程中，若第三支撑层153厚度太厚或者太薄，都会存在导致隔断部151坍塌的风险，且第三支撑层153过厚还会导致整个显示面板100厚度的增加，降低显示面板100的性能。

可选的，如图4所示，阳极层150隔断部151上的凸出部1513凸出钝化层130的长度可以大于或等于0.5微米且小于或等于1.5微米，例如：凸出部1513凸出钝化层130的长度可以为0.5微米、0.8微米、1.0微米、1.2微米或者1.5微米等。凸出部1513凸出越短，对辅助电极121的遮挡越少，越难通过调节蒸镀角度控制其他膜层在辅助电极121上的覆盖面积；凸出部1513凸出越长，越容易导致隔断部151的坍塌或软化，不利于显示面板100结构的稳定。

可选的，步骤S60中，在对阳极层150进行蚀刻时，若第三电极层154和第三支撑层153可以采用相同的蚀刻液体系，例如当第三电极层154为银层或者银和氧化铟锡复合层，第三支撑层153为钼层时，由于银和钼的蚀刻液体系相同，则第三电极层154和第三支撑层153可以采用湿刻工艺一次进行蚀刻；当然，也可以采用湿刻工艺先对第三电极层154进行蚀刻，再采用干刻工艺对第三支撑层153进行蚀刻。若第三支撑层153为其他高硬度的金属或金属合金，如铜或锌等，由于第三支撑层153和第三电极层154的蚀刻液体系不同，则必须采用湿刻与干刻相结合的方法进行分步蚀刻。

S70、在钝化层130上对应辅助电极121的位置形成第一开口131，凸出部1513与辅助电极121间有间隙。其中，第一开口131漏出辅助电极121，便于辅助电极121与其他膜层的连接。

需要说明的是，如图5所示，在钝化层130上形成第一开口131后，凸出部1513、钝化层130与辅助电极121之间构成底切结构，该底切结构可以是通过在钝化层130上形成光刻胶，采用黄光工艺在光刻胶对应待形成底切结构的区域形成缺口，采用湿法蚀刻工艺对钝化层130进行蚀刻，通过调整蚀刻时长，可以控制底切结构向凸出部1513延伸的深度，即凸出部1513凸出钝化层130的长度。

可选的，本申请实施例中在步骤S70之后，还包括在远离平坦层140方向依次设置像素定义层160、发光层170和阴极层180。其中，像素定义层160对应第二开口141的位置设置有第三开口，在蒸镀发光层170时，以凸出部1513为掩膜，通过调节蒸镀角的范围，可以控制发光层170在辅助电极121上的覆盖范围，同样的，可以采用相同的制作方法，改变蒸镀角的范围，使得阴极层180可以覆盖发光层170，并向凸出部1513下侧延伸，与辅助电极121进行电连接。通过阴极层180与辅助电极121的连接，可以降低显示面板100中离显示中心较远区域的内阻压降，从而改善显示面板100的整体显示效果。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例所提供的一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (11)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

衬底基板；

薄膜晶体管层，设置于所述衬底基板上，所述薄膜晶体管层包括辅助电极；

钝化层，设置于所述薄膜晶体管层上，所述钝化层对应所述辅助电极的位置开设有第一开口；

平坦层，设置于所述钝化层上，所述平坦层对应所述第一开口的位置开设有第二开口；

阳极层，设置于所述平坦层上，所述阳极层包括位于所述第二开口内的隔断部，所述隔断部包括沿远离所述钝化层依次设置的第一支撑层和第一电极层，所述第一支撑层硬度值大于所述第一电极层硬度值；所述隔断部具有凸设于所述第二开口内侧面的凸出部，所述凸出部与所述辅助电极间有间隙，所述凸出部在所述薄膜晶体管层上的正投影与所述辅助电极部分重叠。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一支撑层的硬度值大于255。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一支撑层由钼、钛或钼钛合金中的一种或多种制成。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一电极层由银、氧化铟锡或其他导电氧化物中的一种或多种制成。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的显示面板，其特征在于，所述第一支撑层的厚度大于或等于300埃且小于或等于2000埃。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的显示面板，其特征在于，所述凸出部凸出所述钝化层的长度大于或等于0.5微米且小于或等于1.5微米。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阳极层包括位于所述平坦层上的阳极，所述阳极包括沿远离所述平坦层依次设置的第二支撑层和第二电极层，所述薄膜晶体管层包括源漏极层，所述第二支撑层与所述源漏极层电连接。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：

像素定义层，设置于所述平坦层上；

发光层，设置于所述像素定义层和所述阳极层上，所述发光层部分覆盖所述辅助电极；

阴极层，设置于所述发光层上，所述阴极层覆盖所述发光层并与所述辅助电极电连接。

9.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求1至8任一项所述的显示面板。

10.一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层中设置有辅助电极；

在所述薄膜晶体管层上形成钝化层；

在所述钝化层上形成平坦层，所述平坦层对应所述辅助电极的位置开设有第二开口；

在所述平坦层上依次形成第三支撑层和第三电极层，所述第三支撑层硬度值大于所述第三电极层硬度值，所述第三支撑层和所述第三电极层构成阳极层；

对所述阳极层进行蚀刻，形成位于所述第二开口内的隔断部和位于所述平坦层上的阳极，所述隔断部具有凸设于所述第二开口内侧面的凸出部，所述凸出部在所述薄膜晶体管层上的正投影与所述辅助电极部分重叠；

在所述钝化层上对应所述辅助电极的位置形成第一开口，所述凸出部与所述辅助电极间有间隙。

11.根据权利要求10所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述对所述阳极层进行蚀刻，包括：

采用湿刻工艺对所述第三支撑层和所述第三电极层进行蚀刻；或者，

采用湿刻工艺对所述第三电极层进行蚀刻之后，再采用干刻工艺对所述第三支撑层进行蚀刻。

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