CN113097259B - 一种显示面板、显示面板制程方法及显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种显示面板、显示面板制程方法及显示装置。该显示面板中的像素定义层具有第一部分和第二部分，且第一部分和第二部分形成了台阶。第一部分和第二部分的像素定义层形成的开口大小不同，能够提升像素定义层开口的容纳能力，从而改善发光功能层中红色发光功能层和绿色发光功能层膜层较厚容易溢出发生混色的问题。此外，第二部分的开口较大，增大了像素的开口率，提升了显示效果，降低了制程成本。

Description

一种显示面板、显示面板制程方法及显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板、显示面板制程方法及显示装置。

背景技术

喷墨印刷有机发光二极管(Ink-Jet Printing OrganicLight-Emitting Diode，IJP OLED)是一种新型显示技术，其拥有液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)技术无法比拟的物理优势。IJP OLED具有主动发光、色彩真实、无限对比度、零延迟、透明显示、柔性显示、显示形态自由等特性，是可以替代液晶显示技术的下一代显示技术。IJP OLED显示技术由于不需要背光的支持，结构较LCD更为简单，显示产品可以做到更轻薄。而且，它的工作条件具备驱动电压低、能耗低、可与太阳能电池、集成电路等相匹配的一系列优点。此外，由于IJP OLED器件是全固态、非真空器件，具有抗震荡、耐低温等特性，因此应用范围十分广泛。

在对现有技术的研究和实践过程中，本申请的发明人发现，在大尺寸面板方向，为应对高分辨率8K显示的需求，IJP OLED结构也从底发射结构向顶发射结构转变，但目前发展的顶发射IJP OLED结构仍存在不少的问题。其中之一为打印的墨水浓度较低，需要打印较多的墨水才能达成有机层目标膜厚。但较多墨水通常容易与非目标光色的墨水发生桥连，导致显示面板混色。对此，通常的做法是增加像素定义层间距，但是这种方式会导致开口率降低，有效发光面积较小，对薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)和OLED器件性能要求随之提升。

发明内容

本申请提供一种显示面板、显示面板制程方法及显示装置，可以提升像素定义层储存发光功能层材料的能力，避免发光功能层材料溢流，降低喷墨打印混色风险。

本申请提供一种显示面板，包括：

阵列基板，所述阵列基板包括相对设置的第一面和第二面；

像素电极，所述像素电极设置在所述第一面上，所述像素电极包括红色子像素电极、绿色子像素电极以及蓝色子像素电极，所述红色子像素电极、所述绿色子像素电极以及所述蓝色子像素电极之间均具有间隙；

像素定义层，所述像素定义层对应设置在所述间隙中，所述像素定义层上设有开口，所述开口包括红色子像素开口、绿色子像素开口以及蓝色子像素开口，所述红色子像素开口、所述绿色子像素开口以及所述蓝色子像素开口对应所述红色子像素电极、所述绿色子像素电极以及所述蓝色子像素电极设置，形成所述红色子像素开口和所述绿色子像素开口的所述像素定义层具有第一部分和第二部分，所述第一部分与所述第二部分形成台阶，所述第二部分设置在所述第一部分远离所述第一面的一侧，所述第一部分的开口宽度小于所述第二部分的开口宽度；以及

发光功能层，所述发光功能层设置在所述像素定义层远离所述第一面的一侧，且位于所述开口中，所述发光功能层包括红色发光功能层、绿色发光功能层以及蓝色发光功能层，所述红色发光功能层、所述绿色发光功能层与所述蓝色发光功能层对应设置在所述红色子像素开口、所述绿色子像素开口以及所述蓝色子像素开口中。

可选的，在本申请的一些实施例中，形成所述蓝色子像素开口的所述像素定义层具有第一部分和第二部分，所述第一部分与所述第二部分形成台阶，所述第二部分设置在所述第一部分远离所述第一面的一侧，所述第一部分的开口宽度小于所述第二部分的开口宽度。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述像素定义层靠近所述第一面的一侧具有亲液性，所述像素定义层远离所述第一面的一侧具有疏液性。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一部分具有亲液性，所述第二部分具有疏液性。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一部分的高度为0.2μm至2μm，所述第二部分的高度为1μm至5μm。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第二部分在所述第一面的正投影面积为0.5μm²至5μm²。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一部分的侧壁与所述像素电极平行于与所述第一面平行的表面形成的夹角为45°至90°，所述第一部分的侧壁与所述像素电极平行于与所述第一面平行的表面形成的夹角为45°至90°。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第二部分的侧壁与所述像素电极平行于所述第一面的表面形成的夹角大于所述第一部分的侧壁与所述像素电极平行于所述第一面的表面形成的夹角。

相应的，本申请实施例还提供一种显示面板制程方法，包括：

提供一阵列基板，所述阵列基板包括相对设置的第一面和第二面；

在所述第一面上设置像素电极材料；

采用第一掩模板对所述像素电极材料进行光刻处理以得到红色子像素电极、绿色子像素电极以及蓝色子像素电极，所述红色子像素电极、所述绿色子像素电极以及所述蓝色子像素电极之间具有间隙；

在所述像素电极远离所述第一面的一侧与所述间隙中设置像素定义层材料；

采用第二掩模板对所述像素定义层材料进行半色调掩模处理，对应所述像素电极形成开口，所述开口包括红色子像素开口、绿色子像素开口以及蓝色子像素开口，所述红色子像素开口、所述绿色子像素开口以及所述蓝色子像素开口分别对应所述红色子像素电极、所述绿色子像素电极以及所述蓝色子像素电极设置，以形成像素定义层；其中，至少形成所述红色子像素开口和所述绿色子像素开口的所述像素定义层具有第一部分和第二部分，所述第一部分与所述第二部分形成台阶，所述第二部分设置在所述第一部分远离所述第一面的一侧，所述第一部分的开口宽度小于所述第二部分的开口宽度；

在所述像素定义层远离所述第一面的一侧设置发光功能层，所述发光功能层位于所述开口中，所述发光功能层包括红色发光功能层、绿色发光功能层以及蓝色发光功能层，所述红色发光功能层、所述绿色发光功能层以及所述蓝色发光功能层分别对应设置在所述红色子像素开口、所述绿色子像素开口以及所述蓝色子像素开口中。

相应的，本申请实施例还提供一种显示装置，包括一种显示面板，所述显示面板为以上所述的显示面板。

本申请采用了台阶型的像素定义层定义红色子像素开口和绿色子像素开口，该像素定义层具有第一部分和第二部分，第一部分与第二部分形成台阶。一方面，台阶型的像素定义层开口较大，能够减小红色发光功能层和绿色发光功能层的膜厚，改善发光层材料溢出发生混色的问题。另一方面，第二部分的开口较大，从而能够增加开口率，降低制程成本。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请提供的显示面板的第一种结构示意图；

图2是本申请提供的像素定义层开口的一种局部结构示意图；

图3是本申请提供的显示面板的第二种结构示意图；

图4是本申请提供的显示面板制程方法的第一种流程示意图；

图5A和图5B是本申请提供的对形成红色子像素开口和绿色子像素开口的像素定义层半色调掩模处理的步骤示意图；

图6A和图6B是本申请提供的对形成红色子像素开口、绿色子像素开口和蓝色子像素开口的像素定义层半色调掩模处理的步骤示意图；

图7是本申请提供的显示面板制程方法的第二种流程示意图；

图8是本申请提供的显示装置的一种结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。

本申请实施例提供一种显示面板、显示面板制程方法及显示装置。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。

本申请实施例提供一种显示面板。请参阅图1，图1是本申请提供的显示面板100的第一种结构示意图。该显示面板100包括阵列基板101、像素电极102、像素定义层103以及发光功能层104。阵列基板101包括相对设置的第一面101a和第二面101b。像素电极102设置在第一面101a上，像素电极102包括红色子像素电极1021、绿色子像素电极1022以及蓝色子像素电极1023，红色子像素电极1021、绿色子像素电极1022以及蓝色子像素电极1023之间均具有间隙102a。

像素定义层103对应设置在间隙102a中，像素定义层103上设有开口1033。开口1033包括红色子像素开口1033a、绿色子像素开口1033b以及蓝色子像素开口1033c。红色子像素开口1033a、绿色子像素开口1033b以及蓝色子像素开口1033c分别对应红色子像素电极1021、绿色子像素电极1022以及蓝色子像素电极1023设置。

请参阅图2，图2是本申请提供的像素定义层开口1033的一种局部结构示意图。形成红色子像素开口1033a和绿色子像素开口1033b的像素定义层103具有第一部分1031和第二部分1032，第一部分1031与第二部分1032形成台阶103a，第二部分1032设置在第一部分1031远离第一面101a的一侧，第一部分1031的开口1031a宽度D1小于第二部分1032的开口1032a宽度D2。

发光功能层104设置在像素定义层103远离第一面101a的一侧，且位于开口1033中。发光功能层104包括红色发光功能层1041、绿色发光功能层1042以及蓝色发光功能层1043。红色发光功能层1041、绿色发光功能层1042以及蓝色发光功能层1043分别对应设置在红色子像素开口1033a、绿色子像素开口1033b以及蓝色子像素开口1033c中。

需要说明的是，第一面101a可以为阵列基板101的上表面，第二面101b可以为阵列基板101的下表面。当然，第一面101a也可以为阵列基板101的下表面，第二面101b可以为阵列基板101的上表面。本申请中不做特殊说明的情况下，默认为第一面101a为阵列基板101的上表面，第二面101b为阵列基板101的下表面。

有机发光二极管显示面板中的发光功能层104可采用喷墨印刷(Ink-JetPrinting,IJP)的工艺进行制作。喷墨打印的发光功能层材料浓度较低，需要打印较多的发光功能层材料才能达成发光功能层目标膜厚，但较多发光功能层材料通常容易在打印时溢出开口，并与其他颜色的发光功能层材料发生桥连导致混色。因此一种方法是增加像素定义层103间距来避免发光功能层材料溢出。但这种方法会导致开口率降低，有效发光面积较小。

本申请提供的显示面板100包括阵列基板101、像素电极102、像素定义层103以及发光功能层104。该显示面板100的红色发光功能层1041和绿色发光功能层1042对应的像素定义层103进行了双层(double-bank)设计。Double-bank也就是像素定义层103具有第一部分1031和第二部分1032，第一部分1031与第二部分1032形成台阶103a。这种像素定义层103结构一方面能够改善红色发光功能层1041和绿色发光功能层1042膜层较厚容易溢出发生混色的问题。另一方面，第二部分1032的开口1032a较大，能够增加开口率。并且，本申请中的第一部分1031和第二部分1032为一体结构，通过半色调掩模的方法一步制成，无需另外增加光罩制程，能够降低制程成本。

另外，本申请中红色发光功能层1041和绿色发光功能层1042对应的像素定义层103开口1033的宽度可以不同，这样便于对不同颜色发光功能层104的膜厚进行调节，以满足显示面板100的特定需求。例如，在显示面板100中，红色发光功能层1041的膜厚较厚，可将红色发光功能层1041对应的第二部分1032的开口1032a宽度设置为大于绿色发光功能层1042对应的第二部分1032的开口1032b宽度。

其中，阵列基板101包括基板，设置于基板上的遮光层，设置在基板上并覆盖遮光层的缓冲层，从下到上依次层叠于缓冲层上的有源层、栅极绝缘层和栅极层，位于缓冲层上方并覆盖有源层、栅极绝缘层和栅极的层间介质层。有源层包括沟道区以及位于沟道区两侧的源极区和漏极区，位于层间介质层上的源极和漏极，源极与漏极分别和源极区和漏极区电性连接。源极和漏极上还覆盖有平坦化层。阵列基板101的具体膜层设置在附图中未示出，阵列基板101还可以包括其他结构，阵列基板101的结构及其具体设置是本领域常用的技术手段，在此不再赘述。

需要说明的是，本申请中不限制阵列基板101中形成的薄膜晶体管的结构，薄膜晶体管可以为顶栅型薄膜晶体管，也可以为底栅型薄膜晶体管，可以为双栅极型薄膜晶体管，也可以为单栅极型薄膜晶体管。对于薄膜晶体管的具体结构在本申请中不再赘述。

其中，像素电极102的为透明金属氧化物或金属与透明金属氧化物的叠层。透明金属氧化物采用的材料包括铟镓锌氧化物(IGZO)、铟锌锡氧化物(IZTO)、铟镓锌锡氧化物(IGZTO)、铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、铟铝锌氧化物(IAZO)、铟镓锡氧化物(IGTO)或锑锡氧化物(ATO)中的任一种。以上材料具有很好的导电性和透明性，并且厚度较小，不会影响显示面板100的整体厚度。同时，还可以减少对人体有害的电子辐射及紫外、红外光。金属层采用的材料为银(Ag)、铝(Al)或铜(Cu)中的任一种。银、铝、铜等金属的导电性好，成本较低，在保证阳极的导电性的同时可以降低生产成本。

其中，像素定义层103的材料选自聚酰亚胺(Polyimide,PI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(Polyethylene naphthalate two formic acid glycol ester,PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene glycol terephthalate,PET)、聚碳酸酯(Polycarbonate,PC)、聚醚酰亚胺(Polyetherimide,PEI)和聚醚砜(Polyether sulfone,PES)中的一种或多种。

其中，发光功能层104包括向远离第一面101a方向层叠设置的空穴注入层(HoleInjection Layer,HIL)、空穴传输层(Hole Transport Layer,HTL)、发光层(Emissionlayer,EL)、电子传输层(Electron Transport Layer,ETL)及电子注入层(ElectronInjection Layer,EIL)。在一些实施例中，发光功能层还包括空穴阻挡层(Hole BlockLayer,HBL)和电子阻挡层(Electron Block Layer,EBL)。发光功能层104的具体膜层设置在附图中未示出，发光功能层104还可以包括其他结构，发光功能层104的结构及其具体设置是本领域常用的技术手段，在此不再赘述。

请参阅图2和图3，图3是本申请提供的显示面板100的第二种结构示意图。图3所示的显示面板100与图1所示的显示面板100的区别在于，形成蓝色子像素开口1033c的像素定义层103具有第一部分1031和第二部分1032，第一部分1031与第二部分1032形成台阶103a，第二部分1032设置在第一部分1031远离第一面101a的一侧，第一部分1031的开口1031a宽度D1小于第二部分1032的开口1032a宽度D2。

需要说明的是，在图1和图3中标注的第一部分1031和第二部分1032是用于示意，并不表示仅有标注的部分为第一部分1031和第二部分1032，在本申请中，第一部分1031和第二部分1032是用于说明形成台阶状像素定义层103的两个部分。

由于红色发光材料、绿色发光材料和蓝色发光材料的发光效率是不同的，人眼对不同颜色光的敏感度也是不同的。通常红色发光功能层1041的厚度会大于绿色发光功能层1042的厚度，绿色发光功能层1042的厚度会大于蓝色发光功能层1043的厚度。因此，在本申请的实施例中，可以选择性的将红色发光功能层1041、绿色发光功能层1042和蓝色发光功能层1043对应的像素定义层103设置为台阶型像素定义层。将蓝色发光功能层1043对应的像素定义层103设置为具有第一部分1031和第二部分1032的台阶状，也能够使蓝色发光功能层1043铺展得更均匀，还能增大蓝色发光功能层1043的铺设面积，也就是增大了蓝色子像素的开口率。

需要说明的是，在实际生产需求中，可以将台阶状的像素定义层103用于定义红色子像素、绿色子像素或蓝色子像素中的一种或任两种的组合。或者，将台阶状的像素定义层103用于定义红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。本申请提供的像素定义层103可以增大像素开口率和防止混色发生，本申请对像素定义层103具体定义的像素颜色不做限制。

其中，因为蓝色发光功能层1043的膜层较薄，蓝色发光功能层1043干燥后成膜形貌比较容易达成好的均一性，所以蓝色发光功能层1043对应的像素定义层103不做成台阶状可以满足设计和制程需求。但蓝色发光功能层1043对应的像素定义层103做成台阶103a还可以在一定程度上改善成膜后像素内均一性，同时有利于显示面板100寿命、效率、光色等的性能提升。

其中，红色发光功能层1041对应的像素定义层103、绿色发光功能层1042对应的像素定义层103和蓝色发光功能层1043对应的像素定义层103中的任两种或三种对应的开口1033宽度不相同。不同颜色的发光功能层104对应的像素定义层103具有不同的开口1033宽度，有利于不同厚度的发光功能层104在相同的干燥条件下获得较好的形貌，从而改善显示面板100的显示效果。

可选的，在本申请的一些实施例中，像素定义层103靠近第一面101a的一侧具有亲液性，像素定义层103远离第一面101a的一侧具有疏液性。具体的，在一种实施方式中，第一部分1031具有亲液性，第二部分1032具有疏液性。

亲液性是指材料表面易被液体介质润湿或溶化。疏液性(也可称为憎液性)与亲液性相反，疏液性是指材料表面不易被液体介质润湿或溶化。材料表面的亲液和憎液性质主要由其表面结构或官能团的性质所决定。本申请中可以通过调节制程工艺参数对像素定义层103的亲疏液性进行改变和调整，例如显影工艺和固化工艺的参数。对像素定义层103的亲疏液性进行改变和调整，可以适配不同打印工艺、墨水的种类以及膜层的厚度，使像素定义层103更容易适应不同显示面板的要求。

具体地，像素定义层103材料的厚度会影响材料的亲疏液性，例如，当疏液材料很薄的情况下，则不具有疏液性。另外，对材料进行氧气(O₂)或氮气(N₂)等离子体处理可以使疏液性变为亲液性，对材料进行氟气(F)等离子体处理可以使亲液性变为疏液性。

可选的，在本申请的一些实施例中，第一部分1031的高度为0.2μm至2μm，第二部分1032的高度为1μm至5μm。具体地，第一部分1031的高度为0.2μm、0.5μm、1μm、1.2μm、1.5μm、1.7μm或2μm，第二部分1032的高度为1μm、1.5μm、2μm、2.5μm、3μm、3.5μm、4μm、4.5μm或5μm。

可选的，在本申请的一些实施例中，第二部分1032在第一面101a的正投影面积为0.5μm²至5μm²。具体地，第二部分1032在第一面101a的正投影面积为0.5μm²、1μm²、1.5μm²、2μm²、2.5μm²、3μm²、3.5μm²、4μm²、4.5μm²或5μm²。采用此参数范围是为了改善发光功能层104的膜面与像素定义层103的接触点的形貌。另外，由于本申请提供的像素定义层103为一体结构，需要采用半色调掩模的方法一步制成。考虑到制程工艺的条件限制和成型的像素定义层103的承载效果，将第二部分1032与第一部分1031的重叠面积设置为0.5μm²至5μm²，也就是第二部分1032在第一面101a的正投影面积为0.5μm²至5μm²。

其中，第二部分1032在第一面101a的正投影面积为0.5μm²至5μm²，也就是第二部分1032与第一面101a平行的截面积为0.5μm²至5μm²。这样设置能够使像素定义层103获得最好的抑制混色能力。

可选的，在本申请的一些实施例中，第一部分1031的侧壁与像素电极102平行于与第一面101a平行的表面形成的夹角为45°至90°，第二部分1032的侧壁与像素电极102平行于与第一面101a平行的表面形成的夹角为45°至90°。具体地，第一部分1031的侧壁与像素电极102平行于与第一面101a平行的表面形成的夹角为45°、50°、55°、60°、65°、70°、75°、80°、85°或90°。第一部分1031的侧壁与像素电极102平行于与第一面101a平行的表面形成的夹角为45°、50°、55°、60°、65°、70°、75°、80°、85°或90°。其中，第一部分1031或第二部分1032的侧壁与像素电极102平行于与第一面101a平行的表面形成的夹角可称为坡度角(tape角)，第一部分1031的tape角与第二部分1032的tape角可以相同或不同。

其中，当第一部分1031的tape角与第二部分1032的tape角相同时，制程工艺较简单，也能够使像素定义层103对发光功能层104的膜面优化更易实现。

其中，第二部分的1032的侧壁与像素电极102平行于第一面101a的表面形成的夹角大于第一部分1031的侧壁与像素电极102平行于第一面101a的表面形成的夹角。也就是说，第二部分1032的tape角大于第一部分1031的tape角。因为第一部分1031在靠近像素电极102的一侧，tape角较小能够保证像素定义层103的一个稳定结构。第二部分1032的tape角较大，能够保证开口1033的大小，这样能够在开口1033内铺展更多的发光功能层104。

相应的，本申请实施例还提供一种显示面板制程方法。具体地，请参阅图4，图4是本申请提供的显示面板制程方法的第一种流程示意图。该显示面板制程方法具体包括如下步骤：

B101、提供一阵列基板，阵列基板包括相对设置的第一面和第二面。

其中，如上所述，阵列基板包括基板、遮光层、缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极层、层间介质层、源极、漏极以及平坦化层。

其中，基板可以为玻璃、功能玻璃(sensor glass)或柔性衬底，以便于显示面板制成刚性或柔性产品。其中，功能玻璃是在超薄玻璃上溅射透明金属氧化物导电薄膜镀层，并经过高温退火处理得到的。

在一种实施例中，在基板上依次沉积钼钛化合物和铜的复合层(MoTi/Cu)，再依次经由曝光、显影、刻蚀等工艺对金属层进行图案化，形成薄膜晶体管(Thin FilmTransistor,TFT)的遮光层(light-shielding Layer,LS)。在LS层依次沉积硅氮化合物和硅氧化合物的复合层(SiN_X/SiO_X)作为缓冲(Buffer)层。在Buffer层上沉积透明金属氧化物层，再经由曝光、显影、刻蚀等工艺对金属层进行图案化，形成TFT的栅极(Gate)层。在Gate层上沉积SiO_X层作为Gate电极的绝缘层(Insulator Gate)，也就是栅极绝缘层，栅极绝缘层未覆盖的栅极层形成沟道(Channel)层。在Channel层之上沉积硅氧化合物(SiO_X)层，再经由曝光、显影、刻蚀、Stripe等工艺对SiO_X层进行图案化，形成TFT的层间绝缘层，以对Gate层进行保护。在层间绝缘层上依次沉积MoTi/Cu金属层，再经由曝光、显影、刻蚀、Stripe等工艺对金属层进行图案化，形成TFT的漏极(Drain)和源极(Source)。在Drain和Source电极层上涂布树脂层，再经由曝光、显影等工艺对树脂层进行图案化，形成钝化(Resin)层，以对现有各层起到钝化保护作用。

B102、在第一面上设置像素电极材料。

在一种实施例中，采用沉积工艺在树脂层上设置像素电极材料层，像素电极材料可以采用透明金属氧化物或金属与透明金属氧化物的叠层。

透明金属氧化物层采用的材料包括铟镓锌氧化物、铟锌锡氧化物、铟镓锌锡氧化物、铟锡氧化物、铟锌氧化物、铟铝锌氧化物、铟镓锡氧化物或锑锡氧化物中的任一种。以上材料具有很好的导电性和透明性，并且厚度较小，不会影响显示面板的整体厚度。同时，还可以减少对人体有害的电子辐射及紫外、红外光。

金属层采用的材料为银、铝、镍(Ni)、铬(Cr)、钼(Mo)、铜、钨(W)或钛(Ti)中的任一种。金属的导电性好，成本较低，在保证阳极的导电性的同时可以降低生产成本。

在一种实施例中，像素电极沉积为ITO/Ag/ITO叠层。

具体地，在等离子体或电场的作用下，对像素电极材料进行轰击，把电像素极材料的分子、原子、离子及电子等溅射出来，被溅射出来的像素电极材料带有一定的动能，沿一定的方向射向第一面，从而在第一面上形成像素电极材料。采用沉积的方法，速度快，膜层致密，附着性好，很适合于大批量，高效率工业生产。

B103、采用第一掩模板对像素电极材料进行光刻处理以得到红色子像素电极、绿色子像素电极以及蓝色子像素电极，红色子像素电极、绿色子像素电极以及蓝色子像素电极之间均具有间隙。

具体地，经由曝光、显影、刻蚀、Stripe等工艺对像素电极材料进行图案化，形成红色子像素电极、绿色子像素电极以及蓝色子像素电极。并且，红色子像素电极、绿色子像素电极以及蓝色子像素电极具有高反射特性。其中，Stripe工艺是指通过一道黄光制程去除光阻的工艺。

B104、在像素电极远离第一面的一侧与间隙中设置像素定义层材料。

在第一电极层上涂布一层像素定义层材料。像素定义层材料为有机光阻，本申请中可以采用正性光阻或负性光阻材料，对此不做限制。

具体地，采用涂布的方法在像素电极远离第一面的一侧与间隙中设置像素定义层材料。具体地，先将像素定义层材料涂布至像素电极远离第一面的一侧与间隙中，然后对像素定义层材料进行平坦化处理并热固化。涂布的方法制程过程可控。涂布后不仅有利于像素定义层结构的稳定，又能防止像素定义层结构在后续制程损坏，也降低了生产成本，提高了生产效率。

B105、采用第二掩模板对像素定义层材料进行半色调掩模处理，对应像素电极形成开口，开口包括红色子像素开口、绿色子像素开口以及蓝色子像素开口，红色子像素开口、绿色子像素开口以及蓝色子像素开口分别对应红色子像素电极、绿色子像素电极以及蓝色子像素电极设置，形成像素定义层。其中，至少形成红色子像素开口和绿色子像素开口的像素定义层具有第一部分和第二部分，第一部分与第二部分形成台阶，第一部分靠近像素电极设置在间隙中，第二部分设置在第一部分远离第一面的一侧，第一部分的开口宽度小于第二部分的开口宽度。

具体地，请参阅图5A、图5B、图6A和图6B，图5A和图5B是本申请提供的对形成红色子像素开口1033a和绿色子像素开口1033b的像素定义层103半色调掩模处理的步骤示意图，图6A和图6B是本申请提供的对形成红色子像素开口1033a、绿色子像素开口1033b和蓝色子像素开口1033c的像素定义层103半色调掩模处理的步骤示意图。其中，图5A和图6A是进行曝光时的示意图，图5B和图6B是图案化和倒角化后形成像素定义层103的示意图。采用第二掩模板100a遮盖像素定义层材料，经由半色调掩模工艺进行曝光、显影等对有机光阻进行图案化和倒角化，形成像素定义层103，以定义红色子像素开口1033a、绿色子像素开口1033b以及蓝色子像素开口1033c。其中，倒角化是指形成像素定义层103的tape角。

半色调掩模(Half-tone Mask)工艺是利用光栅的部分透光性，将光阻进行不完全曝光，半透光部分按照膜层刻蚀所需要的高度差来决定光线的透过率。半色调掩模工艺将两道曝光工艺合并为一个。能够节省一道曝光工序，缩短生产周期，提高了生产效率，降低了生产成本。

B106、在像素定义层远离第一面的一侧设置发光功能层，发光功能层位于开口中，发光功能层包括红色发光功能层、绿色发光功能层以及蓝色发光功能层，红色发光功能层、绿色发光功能层以及蓝色发光功能层分别对应设置在红色子像素开口、绿色子像素开口以及蓝色子像素开口中。

发光功能层可以包括向远离第一面方向层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层及电子注入层。

具体地，采用喷墨印刷的方法在第一面上依次形成空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层及电子注入层。具体地，在第一面上喷墨印刷有机材料，对有机发光材料进行平坦化处理并干燥，对有机材料进行烘烤以得到发光功能层。喷墨印刷的方法可以精确控制成膜区域，能够节约材料，降低成本，提高产品良率。

其中，请参阅图7，图7是本申请提供的显示面板制程方法的第二种流程示意图。与图4所述的显示面板的制程方法的不同之处在于，在形成发光功能层之后，还包括如下步骤：

B107、在发光功能层远离第一面的一侧形成蒸镀公共电极。

公共电极采用的材料是金属。具体地，可以是镁(Mg)、银(Ag)中的任一种或两者的组合，公共电极的厚度为5nm至30nm。公共电极在可见光区具有良好的透过性。具体地，公共电极的厚度可以为5nm、10nm、15nm、20nm、25nm或30nm。

B108、将阵列基板和盖板进行贴合并封装，形成显示面板。

本申请提供的显示面板制程方法，采用了半色调掩模的方法设置像素定义层。该像素定义层具有第一部分和第二部分，第一部分与第二部分形成台阶。半色调掩模工艺可以采用一道掩模板光刻形成台阶型的像素定义层，掩模板完全透光的部分经显影形成用于定义像素的开口并暴露出像素电极，半透光的部分经显影形成像素定义层的第一部分。采用这种显示面板制程方法无需增加掩模板，不增加生产成本。另外，能够制作出双层像素定义层，该像素定义层一方面，能够改善红色发光功能层和绿色发光功能层膜层较厚容易溢出发生混色的问题。另一方面，第二部分的开口较大，从而能够增加开口率，降低制程成本。并且，可以对半色调掩模板的图案和透光率进行调整，用以形成具有不同高度、宽度的双层像素定义层结构。

本申请提供一种显示装置1000，请参阅图8，图8是本申请提供的显示装置1000的一种结构示意图。该显示装置1000包括显示面板100和封装结构200，显示面板100为以上的显示面板100，显示装置1000还可以包括其他装置，封装结构200和其他装置及其装配为本领域技术人员熟知的技术手段，在此不再赘述。

本申请提供的显示装置1000包括一种显示面板100，该显示面板中的像素定义层具有第一部分和第二部分，且第一部分和第二部分形成了台阶。第一部分和第二部分的像素定义层形成的开口大小不同，能够提升像素定义层开口的容纳能力，从而改善发光功能层中红发光功能层和绿色发光功能层膜层较厚容易溢出发生混色的问题。并且第二部分的开口较大，增大了像素的开口率，提升显示效果，降低制程成本。

本申请提供的显示装置100可以用于电子设备中，电子设备可以为智能手机(smartphone)、平板电脑(tablet personal computer)、移动电话(mobile phone)、视频电话机、电子书阅读器(e-book reader)、台式计算机(desktop PC)、手提电脑(laptop PC)、上网本(netbook computer)、工作站(workstation)、服务器、个人数字助理(personaldigital assistant)、便携式媒体播放器(portable multimedia player)、MP3播放器、移动医疗机器、照相机、游戏机、数码相机、车载导航仪、电子广告牌、自动取款机或可穿戴设备(wearable device)中的至少一个。

以上对本申请实施例所提供的一种显示面板、显示面板制程方法及显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (8)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

阵列基板，所述阵列基板包括相对设置的第一面和第二面；

像素电极，所述像素电极设置在所述第一面上，所述像素电极包括红色子像素电极、绿色子像素电极以及蓝色子像素电极，所述红色子像素电极、所述绿色子像素电极以及所述蓝色子像素电极之间均具有间隙；

像素定义层，所述像素定义层对应设置在所述间隙中，所述像素定义层上设有开口，所述开口包括红色子像素开口、绿色子像素开口以及蓝色子像素开口，所述红色子像素开口、所述绿色子像素开口以及所述蓝色子像素开口分别对应所述红色子像素电极、所述绿色子像素电极以及所述蓝色子像素电极设置，形成所述红色子像素开口和所述绿色子像素开口的所述像素定义层具有第一部分和第二部分，所述第一部分与所述第二部分形成台阶，所述第二部分设置在所述第一部分远离所述第一面的一侧，所述第一部分的开口宽度小于所述第二部分的开口宽度，其中，形成所述台阶的所述像素定义层用于定义红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素中的红色子像素和绿色子像素，所述第二部分在所述第一面的正投影面积为0.5 μm²至5 μm²；以及

发光功能层，所述发光功能层设置在所述像素定义层远离所述第一面的一侧，且位于所述开口中，所述发光功能层包括红色发光功能层、绿色发光功能层以及蓝色发光功能层，所述红色发光功能层、所述绿色发光功能层以及所述蓝色发光功能层分别对应设置在所述红色子像素开口、所述绿色子像素开口以及所述蓝色子像素开口中。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素定义层靠近所述第一面的一侧具有亲液性，所述像素定义层远离所述第一面的一侧具有疏液性。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一部分具有亲液性，所述第二部分具有疏液性。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一部分的高度为0.2 μm至2 μm，所述第二部分的高度为1 μm至5 μm。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一部分的侧壁与所述像素电极平行于所述第一面的表面形成的夹角为45°至90°，所述第二部分的侧壁与所述像素电极平行于与所述第一面平行的表面形成的夹角为45°至90°。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述第二部分的侧壁与所述像素电极平行于所述第一面的表面形成的夹角大于所述第一部分的侧壁与所述像素电极平行于所述第一面的表面形成的夹角。

7.一种显示面板制程方法，其特征在于，包括：

提供一阵列基板，所述阵列基板包括相对设置的第一面和第二面；

在所述第一面上设置像素电极材料；

采用第一掩模板对所述像素电极材料进行光刻处理以得到红色子像素电极、绿色子像素电极以及蓝色子像素电极，所述红色子像素电极、所述绿色子像素电极以及所述蓝色子像素电极之间均具有间隙；

在所述像素电极远离所述第一面的一侧与所述间隙中设置像素定义层材料；

采用第二掩模板对所述像素定义层材料进行半色调掩模处理，对应所述像素电极形成开口，所述开口包括红色子像素开口、绿色子像素开口以及蓝色子像素开口，所述红色子像素开口、所述绿色子像素开口以及所述蓝色子像素开口分别对应所述红色子像素电极、所述绿色子像素电极以及所述蓝色子像素电极设置，以形成像素定义层；其中，形成所述红色子像素开口和所述绿色子像素开口的所述像素定义层具有第一部分和第二部分，所述第一部分与所述第二部分形成台阶，所述第二部分设置在所述第一部分远离所述第一面的一侧，所述第一部分的开口宽度小于所述第二部分的开口宽度，形成所述台阶的所述像素定义层用于定义红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素中的红色子像素和绿色子像素，所述第二部分在所述第一面的正投影面积为0.5 μm²至5 μm²；

在所述像素定义层远离所述第一面的一侧设置发光功能层，所述发光功能层位于所述开口中，所述发光功能层包括红色发光功能层、绿色发光功能层以及蓝色发光功能层，所述红色发光功能层、所述绿色发光功能层以及所述蓝色发光功能层分别对应设置在所述红色子像素开口、所述绿色子像素开口以及所述蓝色子像素开口中。

8.一种显示装置，其特征在于，包括一种显示面板，所述显示面板为权利要求1至6任一项所述的显示面板。

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