CN113097102A - 一种半导体集成电路器件晶圆智能加工装置 - Google Patents

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Abstract

一种半导体集成电路器件晶圆智能加工装置,涉及集成电路技术领域;包括外壳,外壳内设有可上下移动的支撑框,外壳上端一侧对应支撑框设有缺口,支撑框内部下端中心固定有支撑柱,支撑柱外侧套设有套环,且套环内设有中心槽,套环外侧固定有L型杆,L型杆上端设有可转动的打磨盘,夹持组件之间夹持有晶圆,且晶圆外侧与打磨盘相接,支撑柱内设有套环旋转驱动的清洗机构。现有技术中对晶圆打磨时容易对晶圆造成损伤,其次,不能够在打磨的同时进行有效的清洗,打磨的毛刺爆溅容易损伤晶圆,通过设置有清洁辊以及支撑柱内部设有吸水腔,对晶圆表面进行清洁,设置有夹持组件对晶圆夹持稳固,磨盘设置有打磨槽,打磨更彻底。

Description

一种半导体集成电路器件晶圆智能加工装置
技术领域
本发明涉及集成电路技术领域,更具体的说,本发明涉及一种半导体集成电路器件晶圆智能加工装置。
背景技术
集成电路对社会科技的发展有着巨大贡献,各领域中都使用到了集成电路,集成电路使电子元件向微小型化、低功耗、智能化和高可靠性方面迈进了一大步,在制成的集成电路过程中需要用到硅晶片,也就是晶圆,在晶圆的加工中,需要将晶棒切片,切片后外侧形成毛刺,需要对毛刺进行去除,去除的同时需要对晶圆进行清洗,而现有技术中对晶圆打磨时容易对晶圆造成损伤,其次,不能够在打磨的同时进行有效的清洗,打磨的毛刺爆溅容易损伤晶圆。
实用内容
本发明旨在于解决现有技术中对晶圆打磨时容易对晶圆造成损伤,其次,不能够在打磨的同时进行有效的清洗,打磨的毛刺爆溅容易损伤晶圆的技术问题。
本发明的目的与功效,由以下具体技术手段所达成:
一种半导体集成电路器件晶圆智能加工装置,包括外壳,外壳内设有可上下移动的支撑框,外壳上端一侧对应支撑框设有缺口,支撑框内部下端中心固定有支撑柱,支撑柱外侧套设有套环,且套环内设有中心槽,套环外侧固定有L型杆,L型杆上端设有可转动的打磨盘,支撑框内部上端安装有带动L型杆绕支撑柱做圆周运动的旋转设备,支撑柱的上端以及旋转设备的下端均设有夹持组件,夹持组件之间夹持有晶圆,且晶圆外侧与打磨盘相接,支撑柱内设有套环旋转驱动的清洗机构;能够稳定进行打磨;
清洗机构包括吸水腔,支撑柱底部中心设有向内延伸的吸水腔,且支撑框底部对应吸水腔处为镂空状,吸水腔外侧四周设有延伸至支撑柱顶部的喷水孔,支撑柱内位于吸水腔上端设有安装腔,安装腔内设有与吸水腔一体成型的吸水气囊,支撑柱外侧设有贯穿至安装腔内的顶杆,且顶杆一端与吸水气囊相接,顶杆另一端与中心槽内侧相接;对晶圆清洗更为彻底。
优选的,外壳外侧下端设有进出口,便于更换清洗液。
优选的,L型杆设有两组,且L型杆对称设置,L型杆上端与旋转设备固定连接,L型杆对称设置旋转更为稳定。
优选的,打磨盘外侧设有环形状的打磨槽,打磨盘位于打磨槽上下端均转动设置有延伸至晶圆中心的清洁辊;设置打磨槽使得晶圆外侧以及上下端面部分毛刺都能够打磨彻底,清洁辊能够对毛刺以及晶圆表面进行清洁。
优选的,顶杆外侧呈T状,且顶杆位于支撑柱外侧套设有弹簧。
优选的,夹持组件包括有吸筒,吸筒内侧固定有磁铁,吸筒外侧固定有一体成型的伸缩轴,伸缩轴上端套设有T型轴,T型轴内部固定有复位弹簧,磁铁与伸缩轴之间设置有延伸至T型轴内部的贯穿孔,吸筒使晶圆安装稳定。
优选的,吸筒呈喇叭状,且吸筒为橡胶材质,位于晶圆上下端的磁铁相吸,磁铁相互吸引进行夹持,同时橡胶材质的吸筒夹持晶圆不易对晶圆造成损伤。
优选的,旋转设备为电机,电机的输出轴下端固定有套筒,套筒内部与T型轴转动连接。
优选的,电机的输出轴末端设有与T型轴内部连通的排气孔,排气孔另一端延伸至电机的输出轴外侧,排气孔内安装有单向出气阀。
优选的,支撑柱顶部设有连通T型轴内部以及安装槽内部的进气孔,进气孔内安装有单向出气阀。
有益效果:
1、这种半导体集成电路器件晶圆智能加工装置设置有清洁辊,电机启动后,L型杆跟随电机旋转,磨盘则在晶圆外侧进行滚动打磨毛刺,同时清洁辊与晶圆上下端面摩擦进行转动清洁。
2、这种半导体集成电路器件晶圆智能加工装置设置有吸筒,通过上下拨动吸筒可以将伸缩轴收入T型轴内部,便于晶圆安装,通过磁铁的相互吸引以及复位弹簧作用使得吸筒夹持晶圆,磁铁相互吸引则能够将吸筒挤压从而将空气挤出形成内部真空,晶圆安装更为稳定。
3、这种半导体集成电路器件晶圆智能加工装置设置有支撑柱,通过L型杆转动进而带动套环转动,通过套环内部中心槽的作用则循环顶动顶杆,顶杆则顶动吸水气囊,吸水气囊挤压后,使得吸水腔的水形成往外冲击的力,使吸水腔的水从喷孔中向上喷出,对晶圆下端面进行清洁,通过水冲刷也可防止毛刺打磨爆溅对晶圆表面损失的问题,在吸水气囊与弹簧的作用下,顶杆可复位,复位过程中吸水气囊扩张将外壳内的水引入吸水腔,便于下一次作业。
附图说明:
图1为本发明的一种半导体集成电路器件晶圆智能加工装置正面示意图。
图2为本发明的支撑框内部示意图。
图3为本发明的支撑框内部结构立体示意图。
图4为本发明的支撑柱主视剖面示意图。
图5为本发明的打磨盘示意图。
图6为本发明的套环俯视示意图。
图7为本发明的图2中A处放大示意图。
图1-7中:外壳1、缺口101、电动伸缩杆2、支撑框3、旋转设备4、排气孔41、套筒42、L型杆5、打磨盘6、支撑柱7、吸水腔71、喷水孔72、安装腔73、吸水气囊74、进气孔75、挤压杆76、夹持组件8、吸筒81、磁铁82、伸缩轴83、T型轴84、贯穿孔85、复位弹簧86、套环9、吸水设备10、导管11、清洁辊12、中心槽13、晶圆14。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。
参照图1-7,一种半导体集成电路器件晶圆智能加工装置,包括外壳1,外壳1内顶部固定安装有电动伸缩杆2,电动伸缩杆2下端与支撑框3顶部固定设置,支撑框3跟随电动伸缩杆2伸缩在外壳1内部上下移动,外壳1上端一侧对应支撑框3设有缺口101,支撑框3内部下端中心固定有支撑柱7,支撑柱7外侧套设有套环9,且套环9内设有椭圆状的中心槽13,套环9外侧固定有两组对称设置的L型杆5,L型杆5上端转动连接有打磨盘6,支撑框3内部上端安装有旋转设备4,旋转设备4与L型杆5上端固定,并带动L型杆5绕支撑柱7做圆周运动,旋转设备4为电机,电机包含有向下延伸的输出轴,支撑柱7的上端固定有一组夹持组件8,电机的输出轴下端转动连接有另一组夹持组件8,夹持组件8相对设置,夹持组件8之间夹持有晶圆14,且晶圆14外侧与打磨盘6相接,外壳1内部下端有清洗液,支撑柱7内设有套环9旋转驱动的清洗机构;当电机带动L型杆5转动过程中,打磨盘6对晶圆14外侧进行打磨;
清洗机构包括吸水腔71,支撑柱7底部中心设有向内延伸的吸水腔71,且支撑框3底部对应吸水腔71处为镂空状,吸水腔71外侧四周设有延伸至支撑柱7顶部的喷水孔72,支撑柱7内位于吸水腔71上端设有安装腔73,安装腔73内设有与吸水腔71一体成型的吸水气囊74,支撑柱7外侧设有贯穿至安装腔73内的顶杆76,且顶杆76一端与吸水气囊74相接,顶杆76另一端呈T状,且顶杆76位于支撑柱7外侧套设有弹簧,顶杆76外侧与中心槽13内侧相接;通过电动伸缩杆2带动支撑框3往下移动后,支撑框3下部分进入清洗液内,L型杆5在旋转过程中带动套环9一起旋转,套环9内部椭圆的中心槽13作用,循环推动顶杆76挤压吸水气囊74,通过吸水气囊74以及弹簧的作用顶杆76能够复位,吸水气囊74挤压,气压往吸水腔71内冲击,进而使吸水腔71的清洗液从喷水孔72朝晶圆14下端喷出,达到边打磨边清洗的作用,通过清洗液喷淋作用,打磨时产生的毛刺不易对晶圆造成影响。
其中:外壳1外侧下端设有进液口和出液口,通过进液口与出液口更换外壳1内的清洗液,支撑框3内部两侧还安装有吸水设备10,吸水设备10为吸水泵,吸水泵延支撑框3内侧向上延伸连接有导管11,导管11对应晶圆14上端喷淋。
其中:打磨盘6外侧设有环形状的打磨槽,打磨盘6位于打磨槽上下端均转动设置有延伸至晶圆14中心的清洁辊12;打磨盘6转动过程中带动清洁辊12转动,清洁辊12对晶圆14上下端面进行清洁,清洗更为彻底。
其中:夹持组件8包括有吸筒81,吸筒81内侧固定有磁铁82,吸筒81外侧固定有一体成型的伸缩轴83,伸缩轴83上端套设有T型轴84,T型轴84内部固定有复位弹簧86,磁铁82与伸缩轴83之间设置有延伸至T型轴84内部的贯穿孔85,吸筒81呈喇叭状,且吸筒81为橡胶材质,位于晶圆14上下端的磁铁82相吸,电机的输出轴末端设有与T型轴84内部连通的排气孔41,排气孔41另一端延伸至电机的输出轴外侧,支撑柱7顶部设有连通T型轴84内部以及安装槽73内部的进气孔75;晶圆14安装的过程中首先推动上下的吸筒81,使伸缩轴83进入T型轴84内部,放开后吸筒81吸附住晶圆14上下端,同时吸筒81内的空气通过贯穿孔85排出至T型轴84内,然后通过电机的输出轴上端设置的排气孔41以及进气孔75排出至外界,排气孔41与进气孔75均设置有向外出气的单向出气阀,使吸筒81内形成真空,进而使吸筒81稳稳吸附固定住晶圆14,便于晶圆14去除毛刺时不易晃动。
其中:旋转设备4为电机,电机的输出轴下端固定有套筒42,套筒42内部与T型轴84转动连接;电机的输出轴转动过程中不影响夹持组件8进行夹持。
工作原理:
首先将吸筒81拨开,将晶圆14两侧对应打磨盘6的打磨槽推入,然后将吸筒81放下,放开后吸筒81吸附住晶圆14上下端,同时吸筒81内的空气通过贯穿孔85排出至T型轴84内,然后通过电机的输出轴上端设置的排气孔41以及进气孔75排出至外界,排气孔41与进气孔75均设置有向外出气的单向出气阀,使吸筒81内形成真空,进而使吸筒81稳稳吸附固定住晶圆14,启动电动伸缩杆2带动支撑框3往下移动,使支撑框3底部与外壳1底部接触,清洗液进入吸水腔71,启动电机带动L型杆5转动,打磨盘6则对晶圆14外侧进行打磨,同时清洁辊12对晶圆14上下端面进行清洁,开启抽水泵,使得导管10喷水至晶圆14上端面,L型杆5在旋转过程中带动套环9一起旋转,套环9内部椭圆的中心槽13作用,循环推动顶杆76挤压吸水气囊74,通过吸水气囊74以及弹簧的作用顶杆76能够复位,吸水气囊74挤压,气压往吸水腔71内冲击,进而使吸水腔71的清洗液从喷水孔72朝晶圆14下端喷出,达到边打磨边清洗的作用,通过清洗液喷淋作用,打磨时产生的毛刺不易对晶圆14造成影响。

Claims (10)

1.一种半导体集成电路器件晶圆智能加工装置,包括外壳(1),其特征在于,所述外壳(1)内设有可上下移动的支撑框(3),所述外壳(1)上端一侧对应支撑框(3)设有缺口(101),所述支撑框(3)内部下端中心固定有支撑柱(7),所述支撑柱(7)外侧套设有套环(9),且套环(9)内设有中心槽(13),所述套环(9)外侧固定有L型杆(5),所述L型杆(5)上端设有可转动的打磨盘(6),所述支撑框(3)内部上端安装有带动L型杆(5)绕支撑柱(7)做圆周运动的旋转设备(4),所述支撑柱(7)的上端以及旋转设备的下端均设有夹持组件(8),所述夹持组件(8)之间夹持有晶圆(14),且晶圆(14)外侧与打磨盘(6)相接,所述支撑柱(7)内设有套环(9)旋转驱动的清洗机构;
所述清洗机构包括吸水腔(71),所述支撑柱(7)底部中心设有向内延伸的吸水腔(71),且支撑框(3)底部对应吸水腔(71)处为镂空状,所述吸水腔(71)外侧四周设有延伸至支撑柱(7)顶部的喷水孔(72),所述支撑柱(7)内位于吸水腔(71)上端设有安装腔(73),所述安装腔(73)内设有与吸水腔(71)一体成型的吸水气囊(74),所述支撑柱(7)外侧设有贯穿至安装腔(73)内的顶杆(76),且顶杆(76)一端与吸水气囊(74)相接,顶杆(76)另一端与中心槽(13)内侧相接。
2.如权利要求1所述的半导体集成电路器件晶圆智能加工装置,其特征在于,所述外壳(1)外侧下端设有进出口。
3.如权利要求1所述的半导体集成电路器件晶圆智能加工装置,其特征在于,所述L型杆(5)设有两组,且L型杆(5)对称设置,所述L型杆(5)上端与旋转设备固定连接。
4.如权利要求1所述的半导体集成电路器件晶圆智能加工装置,其特征在于,所述打磨盘(6)外侧设有环形状的打磨槽,所述打磨盘(6)位于打磨槽上下端均转动设置有延伸至晶圆(14)中心的清洁辊(12)。
5.如权利要求1所述的半导体集成电路器件晶圆智能加工装置,其特征在于,所述顶杆(76)外侧呈T状,且顶杆(76)位于支撑柱(7)外侧套设有弹簧。
6.如权利要求1所述的半导体集成电路器件晶圆智能加工装置,其特征在于,所述夹持组件(8)包括有吸筒(81),所述吸筒(81)内侧固定有磁铁(82),所述吸筒(81)外侧固定有一体成型的伸缩轴(83),所述伸缩轴(83)上端套设有T型轴(84),所述T型轴(84)内部固定有复位弹簧(86),所述磁铁(82)与伸缩轴(83)之间设置有延伸至T型轴(84)内部的贯穿孔(85)。
7.如权利要求6所述的半导体集成电路器件晶圆智能加工装置,其特征在于,所述吸筒(81)呈喇叭状,且吸筒(81)为橡胶材质,位于所述晶圆(14)上下端的磁铁(82)相吸。
8.如权利要求1所述的半导体集成电路器件晶圆智能加工装置,其特征在于,所述旋转设备(4)为电机,所述电机的输出轴下端固定有套筒(42),所述套筒(42)内部与T型轴(84)转动连接。
9.如权利要求8所述的半导体集成电路器件晶圆智能加工装置,其特征在于,所述电机的输出轴末端设有与T型轴(84)内部连通的排气孔(41),排气孔(41)另一端延伸至电机的输出轴外侧,排气孔(41)内设置有向外排气的单向出气阀。
10.如权利要求1所述的半导体集成电路器件晶圆智能加工装置,其特征在于,所述支撑柱(7)顶部设有连通T型轴(84)内部以及安装槽(73)内部的进气孔(75),进气孔(75)内设置有向外排气的单向出气阀。
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