JP2001198824A

JP2001198824A - 研磨装置の洗浄方法及び研磨装置

Info

Publication number: JP2001198824A
Application number: JP2000007199A
Authority: JP
Inventors: Akira Fukui; 彰福井; Katsuya Taniguchi; 克哉谷口; Wataru Takahashi; 渉高橋
Original assignee: Sumitomo Metal Industries Ltd
Current assignee: Nippon Steel Corp
Priority date: 2000-01-14
Filing date: 2000-01-14
Publication date: 2001-07-24

Abstract

(57)【要約】【課題】吸着保持面に固着したゲル状の研磨粒子を良
好に柔化させることができるとともに、この柔化したゲ
ル状の研磨粒子を擦り落すことができ、吸着保持面のゲ
ル状の研磨粒子を効率的に除去することができるように
する。【解決手段】負圧によって試料Ｗを吸着保持する吸着
保持面１１にアルカリ性溶液を供給してゲル状の研磨粒
子を柔化させるとともに、吸着保持面１１に洗浄治具４
を接触させ、これら洗浄治具４及び前記試料保持台１を
相対移動させることによって前記ゲル状の研磨粒子を擦
り落すようにした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板、液晶
基板、光学用レンズ、半導体用フォトマスク等の試料を
研磨する研磨装置の洗浄方法及び研磨装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図７は半導体基板を研磨する従来の研磨
装置を示す模式的縦断面図、図８は試料保持台の吸着保
持面を示す底面図である。図７において１００は鉛直線
の回りを回転が可能であり、その上面に研磨布が貼着さ
れた平面視円形の研磨定盤である。

【０００３】この研磨定盤１００の上側には研磨定盤１
００の半径寸法よりも小径寸法であり、鉛直線の回りを
回転が可能な平面視円形の試料保持台１０１が昇降可能
に配されている。この試料保持台１０１は、負圧によっ
て平板状の試料Ｗを吸着保持する吸着保持面１０２が前
記研磨定盤１００の上面と向き合うように設けられてい
る。この吸着保持面１０２は、テフロン等の合成樹脂又
はアルミニウム等の比較的柔らかい金属材料によって形
成されている。また、この吸着保持面１０２には、その
中心から周縁近くにまで螺旋状の吸引溝１０３が設けら
れており、該吸引溝１０３の中心側端が試料保持台１０
１の回転軸１０４を貫通している排気路１０５の一端と
連通している。そして、排気路１０５の他端は図示しな
い排気装置に連通しており、排気装置の駆動によって排
気路１０５を通して吸引溝１０３の空気を排気すること
により該吸引溝１０３を負圧とし、前記試料Ｗが吸着保
持面１０２に吸着保持される。

【０００４】試料保持台１０１の上側には該試料保持台
１０１を昇降させるための流体圧シリンダ（図示せず）
が配されており、該流体圧シリンダによって試料保持台
１０１を下降させ、試料Ｗを研磨定盤１００の上面に接
触させるとともに該試料Ｗに適宜の研磨圧を加えるよう
になしてある。

【０００５】研磨定盤１００の回転中心部の上側には管
状の研磨液供給部１０６が配してあり、この研磨液供給
部１０６から研磨定盤１００の上面へ研磨液を供給する
ようになっている。尚、図７において１０７は研磨液の
受け皿である。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】以上の如く構成された
従来の研磨装置において、吸着保持面１０２に吸着保持
された試料Ｗを適宜の研磨圧で研磨定盤１００に接触さ
せ、研磨液供給部１０６から研磨定盤１００の上面へ研
磨液を供給しつつ研磨定盤１００及び試料保持台１０１
を同一方向へ回転させることにより、研磨液が試料Ｗ及
び研磨定盤１００の間に浸入して試料Ｗの研磨が進行す
る。

【０００７】この試料Ｗの研磨を行う場合、吸着保持面
１０２に設けられ、試料Ｗを吸着保持する吸引溝１０３
が負圧になっているため、試料Ｗ及び吸着保持面１０２
の間の僅かの隙間から研磨定盤１００の上面の研磨液の
一部が吸引され、この吸引された研磨液が吸着保持面１
０２及び吸引溝１０３に付着することになる。このと
き、吸着保持面１０２及び吸引溝１０３の圧力は大気圧
よりも低いため、吸着保持面１０２及び吸引溝１０３に
付着した研磨液中の液分が蒸発し、研磨液に含有される
シリカ等の研磨粒子が急激にゲル化し、このゲル状の研
磨粒子が吸着保持面１０２及び吸引溝１０３に固着す
る。

【０００８】このように固着したゲル状の研磨粒子は、
研磨処理を重ねるに従って吸着保持面１０２及び吸引溝
１０３に堆積し、試料Ｗ及び吸着保持面１０２の間の隙
間寸法を大きくし、そして皿に加速度的にゲル状の研磨
粒子の堆積が進むことになる。そして、このような状態
で試料Ｗの研磨を行うと、ゲル状の研磨粒子が付着した
部分の試料Ｗの面が盛り上がり、この盛り上がり部分の
研磨量が増加して、研磨量の試料面内でのばらつきが大
きくなり、研磨後の試料平面度の均一性が悪化する。

【０００９】また、吸引溝１０３に固着したゲル状の研
磨粒子は吸引の妨げになり、試料の吸着性能を落して十
分に試料を吸着することができなくなる可能性がある。

【００１０】そして、吸着保持面及び吸引溝に固着した
ゲル状の研磨粒子は、純水及びブラシを使用した洗浄に
よっては容易に取り除くことができず、吸着保持面及び
吸引溝の洗浄時間を増加させ、研磨装置のスループット
の低下を招いていた。

【００１１】本発明は斯かる事情に鑑みてなされたもの
であり、負圧によって試料を吸着保持する吸着保持面に
アルカリ性溶液を供給してゲル状の研磨粒子を柔化させ
るとともに、吸着保持面に洗浄治具を接触させ、これら
洗浄治具及び前記試料保持台を相対移動させることによ
り、吸着保持面に固着したゲル状の研磨粒子を効率的に
除去することができる研磨装置の洗浄方法及び研磨装置
を提供することにある。

【００１２】また、ｐＨが１１以上のアルカリ性溶液を
用いたり、洗浄治具が前記吸着保持面に面接触すること
が可能な接触面を有する構成としたり、洗浄治具が前記
吸着保持面に接触するブラシを有する構成としたりする
ことにより、ゲル状の研磨粒子の除去効果をより一層向
上することができる研磨装置の洗浄方法及び研磨装置を
提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】第１発明に係る研磨装置
の洗浄方法は、負圧により試料を吸着保持する吸着保持
面を有する試料保持台の前記吸着保持面に吸着保持され
た試料を、研磨液により研磨する研磨装置の前記吸着保
持面を洗浄する洗浄方法において、前記吸着保持面にア
ルカリ性溶液を供給するとともに、前記吸着保持面に洗
浄治具を接触させ、該洗浄治具及び前記試料保持台を相
対移動させることにより前記吸着保持面を洗浄すること
を特徴とする。

【００１４】第２発明に係る研磨装置の洗浄方法は、前
記研磨液はシリカの粒子を含有することを特徴とする。

【００１５】第６発明に係る研磨装置は、負圧により試
料を吸着保持することが可能な吸着保持面を有する試料
保持台と、前記吸着保持面と向き合うように配置される
研磨定盤と、該研磨定盤に研磨液を供給する研磨液供給
部とを備えた研磨装置において、前記吸着保持面に接触
することが可能な洗浄治具と、前記吸着保持面に洗浄液
を供給する洗浄液供給部とを備えていることを特徴とす
る。

【００１６】第１発明、第２発明及び第６発明にあって
は、吸着保持面に固着したゲル状の研磨粒子が、吸着保
持面に供給するアルカリ性溶液によって柔化する。この
柔化したゲル状の研磨粒子に洗浄治具が接触し、該洗浄
治具及び試料保持台の相対移動によって洗浄治具がゲル
状の研磨粒子を擦り落すことになり、吸着保持面のゲル
状の研磨粒子を効率的に除去することができる。

【００１７】第３発明に係る研磨装置の洗浄方法は、前
記アルカリ性溶液はｐＨが１１以上であることを特徴と
する。

【００１８】第３発明にあっては、ｐＨ１１以上のアル
カリ性溶液によりゲル状の研磨粒子の柔化が著しくな
り、研磨粒子の除去効果が一層向上する。尚、アルカリ
性溶液がｐＨ１１よりも小さくなるに従ってゲル状の研
磨粒子の柔化に時間がかかることになり、研磨粒子の除
去効果は低下する。

【００１９】第４発明に係る研磨装置の洗浄方法は、前
記洗浄治具は前記吸着保持面に面接触する接触面を有し
ていることを特徴とする。

【００２０】第７発明に係る研磨装置は、前記洗浄治具
は前記吸着保持面に面接触する接触面を有していること
を特徴とする。

【００２１】第４発明及び第７発明にあっては、洗浄治
具の接触面がアルカリ性溶液により柔化したゲル状の研
磨粒子に接触し、該研磨粒子を吸着保持面に沿って擦り
落すとともに、吸着保持面に残留することなくすくい取
ることになり、研磨粒子の除去効果がより一層向上す
る。

【００２２】第５発明に係る研磨装置の洗浄方法は、前
記洗浄治具は前記吸着保持面に接触するブラシを有して
いることを特徴とする。

【００２３】第８発明に係る研磨装置は、前記洗浄治具
は前記吸着保持面に接触するブラシを有していることを
特徴とする。

【００２４】第５発明及び第８発明にあっては、洗浄治
具のブラシが吸着保持面に固着したゲル状の研磨粒子と
接触し、吸着保持面に供給されたアルカリ性溶液を前記
ブラシにより前記研磨粒子の全体に触れさせるととも
に、ゲル状部の内部にもアルカリ性溶液を十分に行き渡
らせることになり、研磨粒子の柔化の効率を上げること
ができる。この柔化した研磨粒子の全体が前記ブラシに
より効率的に取り除かれる。また、吸着保持面に吸引溝
が設けられている場合においても、アルカリ性溶液によ
り柔化した吸引溝の研磨粒子はブラシにより吸引溝から
良好に取り除かれる。また、洗浄治具が前記接触面及び
ブラシを備えることにより、吸着保持面及び吸引溝に固
着した研磨粒子の除去効果がより一層向上する。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下本発明をその実施の形態を示
す図面に基づいて詳述する。図１は本発明に係る研磨装
置を示す模式的縦断面図である。この研磨装置は、負圧
によって平板状の試料Ｗを吸着保持することが可能な吸
着保持面１１を有し、鉛直線の回りを回転が可能な平面
視円形の試料保持台１と、該試料保持台１の下側に前記
吸着保持面１１と向き合うように配され、鉛直線の回り
を回転が可能な平面視円形の研磨定盤２と、該研磨定盤
２の上面に研磨液を供給する管状の研磨液供給部３と、
前記研磨定盤２の一側位置に配され、前記吸着保持面１
１と接触することが可能な洗浄部４０を有する平面視円
形の洗浄治具４と、前記吸着保持面１１にアルカリ性溶
液（洗浄液）を供給する洗浄液供給部５とを備える。

【００２６】研磨定盤２は、その上面に研磨布２ａが貼
着されており、その下面の回転中心部に回転手段によっ
て回転される回転軸２１が設けられている。また、研磨
定盤２の回転中心部の上側には前記研磨液供給部３が配
されている。この研磨液供給部３は、シリカの粒子等の
研磨粒子が含有された研磨液を研磨定盤２の上面へ供給
する。

【００２７】試料保持台１は研磨定盤２の半径寸法より
も小径寸法であり、前記回転中心からずれた位置に鉛直
線の長手方向への昇降及び鉛直線と直交する方向への横
移動が可能に配されており、該試料保持台１の下降によ
り前記試料Ｗを研磨定盤２に接触させるとともに該試料
Ｗに適宜の研磨圧を加え、また試料保持台１の横移動及
び昇降により吸着保持面１１を前記洗浄治具４と接触さ
せることができるようにしてある。また、試料保持台１
には図示しない排気装置に連通する排気路１２を有する
回転軸１３が結合されている。

【００２８】図２は試料保持台の吸着保持面を示す底面
図である。試料保持台１の吸着保持面１１部分は、テフ
ロン、ポリウレタン、ナイロン等の合成樹脂又はアルミ
ニウム等の比較的柔らかい金属材料によって形成されて
いる。また、吸着保持面１１には、その中心から周縁近
くにまで螺旋状の吸引溝１４が設けられており、該吸引
溝１４の中心側端が前記排気路１２と連通している。そ
して、前記排気装置の駆動によって排気路１２を通して
吸引溝１４の空気を排気することにより該吸引溝１４を
負圧とし、前記試料Ｗが吸着保持面１１に吸着保持され
る。

【００２９】洗浄治具４は前記試料保持台１とほぼ等径
の円形に形成され、前記洗浄部４０と、該洗浄部４０の
下面に結合され、その中心部に洗浄液供給部５を有する
支軸４１とを備えており、前記洗浄液供給部５が前記洗
浄部４０に開口し、該洗浄部４０から前記吸着保持面１
１にアルカリ性溶液が供給できるようにしてある。

【００３０】図３は洗浄部を示す拡大断面図、図４は洗
浄部を示す拡大平面図である。洗浄部４０は、周方向の
半分を前記吸着保持面１１とほぼ平行な接触面４０ａと
し、残り半分を接触面４０ａに沿った位置よりも若干高
位となる位置に先端が配されるブラシ４０ｂとし、吸着
保持面１１が接触面４０ａと接触したとき、ブラシ４０
ｂを弾性変形させ、その弾性復元力によってブラシ４０
ｂを吸着保持面１１に押し付けることができるようにし
てある。

【００３１】このブラシ４０ｂはナイロン、ポリビニル
アルコール等の合成樹脂繊維を用いてなる毛体の複数本
を植設することにより構成されている。

【００３２】接触面４０ａの部分は、前記吸着保持面１
１の材質及び前記研磨液の種類等によって材料が選定さ
れる。例えば吸着保持面１１及び接触面４０ａの部分を
アルミナ、ＡＩＮ等の耐摩耗性の高いセラミックスとす
ることにより、シリカ等の固い粒子を含む研磨液を使用
して研磨する場合においても、前記接触面４０ａを吸着
保持面１１に接触させて該吸着保持面１１を洗浄すると
きの接触面４０ａの摩耗度を小さくすることができる。

【００３３】また、試料Ｗの吸着保持性を高めるために
吸着保持面１１を合成樹脂材料で構成した場合、吸着保
持面１１の摩耗を減らすとともに吸着保持面１１にゲル
状の研磨粒子が残らないように、接触面４０ａの部分を
合成樹脂材料又はゴム材料等の比較的柔らかい材料で構
成することもできる。なお、ゲル状の研磨粒子の除去性
能及び接触面４０ａの摩耗度を考慮して接触面４０ａの
表面の粗度を適宜選択することができる。

【００３４】図５及び図６は洗浄部の別の形態を示す拡
大平面図である。洗浄部４０は図４に示す如く周方向に
接触面４０ａ及びブラシ４０ｂを２等分して配置した構
成とし、洗浄治具４の１回転で接触面４０ａ及びブラシ
４０ｂが吸着保持面１１に夫々１回接触するように構成
する他、例えば図５に示す如く周方向に接触面４０ａ及
びブラシ４０ｂを交互に４等分して配置した構成、又
は、図６に示す如く周方向に接触面４０ａ及びブラシ４
０ｂを交互に４等分して配置するとともに、これら接触
面４０ａ及びブラシ４０ｂの境界部に低位の非接触面４
０ｃを設けた構成とし、洗浄治具４の１回転で接触面４
０ａ及びブラシ４０ｂが吸着保持面１１に夫々２回接触
するように構成してもよい。また、吸着保持面１１の中
央部には殆どゲル状の研磨粒子が付着しないような場合
には、図４、図５、図６に示した洗浄部４０の中央部を
ブラシ４０ｂのみとし、洗浄治具４の１回転で吸着保持
面１１の中央部にはブラシ４０ｂのみが接触する如く構
成することにより吸着保持面１１の摩耗を良好に減らす
ことも可能である。

【００３５】このように、洗浄部４０における接触面４
０ａ及びブラシ４０ｂの配置は適宜決めることが可能で
あり、必要によっては洗浄部４０を接触面４０ａのみ、
又はブラシ４０ｂのみで構成してもよい。しかし、洗浄
部４０に接触面４０ａとブラシ４０ｂとの両方を設ける
ことにより、接触面４０ａの擦り落とし作用とブラシ４
０ｂの柔化作用が相乗し、洗浄作用を著しく向上させる
ことができるので、より好ましい。尚、図１において６
は研磨液の受け皿、７は洗浄液の受け皿である。

【００３６】以上の如く構成された研磨装置を使用して
試料Ｗの研磨を行う研磨方法は次の通りである。試料保
持台１を研磨定盤２の側方位置に配された試料搬送装置
（図示せず）の位置へ移動させ、該試料搬送装置に搬送
されている試料Ｗに試料保持台１の吸着保持面１１を接
触させる。次に排気路１２を通じて吸引溝１４の空気を
排気することにより該吸引溝１４を負圧とし、前記試料
Ｗを吸着保持面１１に吸着保持した後、試料保持台１を
研磨定盤２の上側の研磨位置へ移動させ、前記試料Ｗを
研磨定盤２の上面に接触させるとともに該試料Ｗに適宜
の研磨圧を加える。そして、研磨液供給部３から研磨定
盤２の上面へ研磨液を供給しつつ研磨定盤２及び試料保
持台１を同一方向へ回転させることにより、研磨液が試
料Ｗ及び研磨定盤２の間に浸入して試料Ｗの研磨が進行
する。

【００３７】また、試料Ｗを吸着保持するための負圧に
より試料Ｗ及び吸着保持面１１の間の僅かの隙間から研
磨定盤２上の研磨液の一部が吸引され、この吸引された
研磨液が吸着保持面１１及び吸引溝１４に付着すること
になり、この付着した研磨液中の液分が蒸発し、研磨液
に含まれているシリカ等の研磨粒子がゲル化する。

【００３８】試料Ｗの研磨が終了した後、試料保持台１
を試料搬送位置へ移動させ、吸引溝１４の空気の排気を
停止することにより、試料Ｗは吸着保持面１１に吸着さ
れなくなり、該試料Ｗは図示しない試料搬送部に渡され
る。

【００３９】次に試料保持台１は洗浄治具４の洗浄部４
０と向き合う洗浄位置へ移動し、吸着保持面１１が洗浄
部４０の接触面４０ａ及びブラシ４０ｂと接触するよう
に下降し、ブラシ４０ｂは適宜の力で吸着保持面１１に
押し付けられる。

【００４０】次に洗浄液供給部５より吸着保持面１１に
ＮａＯＨ水溶液、ＫＯＨ水溶液、アンモニア水溶液等の
アルカリ性溶液を供給し、試料保持台１を回転させる。
尚、アルカリ性溶液は必要に応じて界面活性剤等を添加
してもよい。

【００４１】このアルカリ性溶液により、吸着保持面１
１及び吸引溝１４に固着したゲル状の研磨粒子は柔化
し、さらに、アルカリ性溶液に直接触れないゲル状の研
磨粒子の部分にもブラシ４０ｂによりアルカリ性溶液が
浸透し、ゲル状の研磨粒子の全体が柔化する。そして、
吸引溝１４のゲル状の研磨粒子はブラシ４０ｂによって
吸引溝１４より取り除かれ、さらに接触面４０ａによ
り、吸着保持面１１のゲル状の研磨粒子は吸着保持面１
１から完全に取り除かれる。

【００４２】因に、研磨剤としてシリカ及びＮａＯＨを
含有するｐＨ１０．５のアルカリ性研磨液を用いて表面
がＳｉＯ２で被覆されているシリコンウエハの試料Ｗを
上記研磨装置を用いて研磨し、この研磨後にｐＨが９，
１０，１１，１２，１３のＫＯＨ水溶液を洗浄液として
吸着保持面１１を洗浄したところ、ｐＨが１１，１２，
１３のＫＯＨ水溶液を供給しつつ吸着保持面１１の洗浄
を行った場合には、吸着保持面１１及び吸引溝１４に固
着していたゲル状の研磨粒子は完全に除去することがで
きた。一方、ｐＨが９，１０のＫＯＨ水溶液を供給しな
がら吸着保持面１１の洗浄を行った場合は、吸着保持面
１１及び吸引溝１４に固着していたゲル状の研磨粒子は
その一部分を除去することができたものの、大部分は除
去することができなかった。

【００４３】また、ｐＨが１３のＮａＯＨ水溶液及びｐ
Ｈが１３のＮＨ３水溶液を供給しつつ洗浄治具４によっ
て洗浄を行った場合でも、吸着保持面１１及び吸引溝１
４に固着していたゲル状の研磨粒子は完全に除去するこ
とができた。

【００４４】以上の如く吸着保持面１１を洗浄した後、
アルカリ性溶液の代わりに洗浄液供給部５より吸着保持
面１１に純水を供給し、アルカリ性溶液を洗い流す。そ
して、次の試料Ｗの研磨を開始する。

【００４５】以上の洗浄治具４による洗浄は、試料Ｗを
１枚研磨するつど行ってもよいし、予め決めておいた複
数枚を研磨するつど行ってもよい。また、研磨した試料
Ｗの研磨量を測定器を用いて測定し、その測定値に基づ
いて計算される研磨量の不均一性が所定の値を超えた場
合等、吸着保持面１１に固着したゲル状の研磨粒子の堆
積量を研磨済み試料の測定値に基づいて推定し、その堆
積量が所定の量を超えた場合に吸着保持面１１の洗浄を
行ってもよい。さらに、試料Ｗを吸着しているときの排
気路１２の真空度が所定の範囲を外れた場合等、試料Ｗ
の吸着力が所定値よりも低下した場合に吸着保持面１１
の洗浄を行ってもよい。

【００４６】尚、以上説明した実施の形態では、アルカ
リ性溶液は洗浄液供給部５を有する洗浄治具４から洗浄
部４０を経て吸着保持面１１に供給しているが、その
他、例えば試料保持台１の排気路１２を通じて吸着保持
面１１に供給してもよいし、また、洗浄治具４及び排気
路１２の両方からアルカリ性溶液を吸着保持面１１に供
給してもよいし、また、洗浄治具４の近傍に管状の洗浄
液供給部５を配して吸着保持面１１に供給してもよい。

【００４７】また、試料保持台１を回転して吸着保持面
１１の洗浄を行うようにしているが、試料保持台１を回
転させる代わりに洗浄治具４を回転して吸着保持面１１
の洗浄を行うようにしてもよいし、試料保持台１及び洗
浄治具４の両方を回転して吸着保持面１１の洗浄を行う
ようにしてもよい。また、試料保持台１及び洗浄治具４
を相対的に回転する他、これら試料保持台１及び洗浄治
具４の一方又は両方を往復運動、螺旋運動等、吸着保持
面１１の洗浄に最適な運動を行うようにしてもよい。

【００４８】

【発明の効果】以上詳述した如く第１発明、第２発明及
び第６発明によれば、吸着保持面に供給するアルカリ性
溶液によってゲル状の研磨粒子を良好に柔化させること
ができ、しかも、柔化したゲル状の研磨粒子を洗浄治具
により擦り落すことができるため、吸着保持面のゲル状
の研磨粒子を効率的に除去することができる。

【００４９】第３発明によれば、ｐＨ１１以上のアルカ
リ性溶液によりゲル状の研磨粒子の柔化が著しくなり、
研磨粒子の除去効果を一層向上することができる。

【００５０】第４発明及び第７発明によれば、アルカリ
性溶液により柔化したゲル状の研磨粒子に洗浄治具の接
触面が接触し、該接触面が前記研磨粒子を吸着保持面に
沿って擦り落すとともに、吸着保持面に残留することな
くすくい取ることができ、研磨粒子の除去効果をより一
層向上することができる。

【００５１】第５発明及び第８発明によれば、吸着保持
面に供給されたアルカリ性溶液をブラシにより研磨粒子
の全体に触れさせ、ゲル状部の内部にもアルカリ性溶液
を十分に行き渡らせることが可能であり、研磨粒子の柔
化の効率を上げることができるとともに、この柔化した
研磨粒子の全体をブラシにより効率的に取り除くことが
でき、研磨粒子の除去効果をより一層向上することがで
きる。しかも、吸着保持面に吸引溝が設けられている場
合においても、アルカリ性溶液により柔化した吸引溝の
研磨粒子を良好に取り除くことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る研磨装置を示す模式的縦断面図で
ある。

【図２】本発明に係る研磨装置の試料保持台の吸着保持
面を示す底面図である。

【図３】本発明に係る研磨装置の洗浄部を示す拡大断面
図である。

【図４】本発明に係る研磨装置の洗浄部を示す拡大平面
図である。

【図５】本発明に係る研磨装置の洗浄部の別の形態を示
す拡大平面図である。

【図６】本発明に係る研磨装置の洗浄部の別の形態を示
す拡大平面図である。

【図７】従来の研磨装置を示す模式的縦断面図である。

【図８】従来の研磨装置の試料保持台の吸着保持面を示
す底面図である。

【符号の説明】

１試料保持台１１吸着保持面２研磨定盤３研磨液供給部４洗浄治具４０洗浄部４０ａ接触面４０ブラシ５洗浄液供給部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者高橋渉兵庫県尼崎市扶桑町１番８号住友金属工業株式会社エレクトロニクス技術研究所内Ｆターム(参考） 3B116 AA47 AB51 BA02 BA13 BB03 CD23 3C043 BA07 BA16 3C047 FF08 FF19

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】負圧により試料を吸着保持する吸着保持
面を有する試料保持台の前記吸着保持面に吸着保持され
た試料を、研磨液により研磨する研磨装置の前記吸着保
持面を洗浄する洗浄方法において、前記吸着保持面にア
ルカリ性溶液を供給するとともに、前記吸着保持面に洗
浄治具を接触させ、該洗浄治具及び前記試料保持台を相
対移動させることにより前記吸着保持面を洗浄すること
を特徴とする研磨装置の洗浄方法。
【請求項２】前記研磨液はシリカの粒子を含有する請
求項１記載の研磨装置の洗浄方法。
【請求項３】前記アルカリ性溶液はｐＨが１１以上で
ある請求項１又は請求項２記載の研磨装置の洗浄方法。
【請求項４】前記洗浄治具は前記吸着保持面に面接触
することが可能な接触面を有している請求項１乃至請求
項３記載の研磨装置の洗浄方法。
【請求項５】前記洗浄治具は前記吸着保持面に接触す
るブラシを有している請求項１乃至請求項４記載の研磨
装置の洗浄方法。
【請求項６】負圧により試料を吸着保持することが可
能な吸着保持面を有する試料保持台と、前記吸着保持面
と向き合うように配置される研磨定盤と、該研磨定盤に
研磨液を供給する研磨液供給部とを備えた研磨装置にお
いて、前記吸着保持面に接触することが可能な洗浄治具
と、前記吸着保持面に洗浄液を供給する洗浄液供給部と
を備えていることを特徴とする研磨装置。
【請求項７】前記洗浄治具は前記吸着保持面に面接触
する接触面を有している請求項６記載の研磨装置。
【請求項８】前記洗浄治具は前記吸着保持面に接触す
るブラシを有している請求項６又は請求項７記載の研磨
装置。