CN211125603U - 一种旋转清洗烘干硅片设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种旋转清洗烘干硅片设备，包括壳体，壳体的下侧壁固定安装有支撑架，壳体的内腔下侧壁固定安装有集液装置，集液装置的中心处固定安装有第一储液腔，第一储液腔的上侧壁固定安装有旋转吸附装置和背部清洗装置。左侧伸缩支架内装配有烘干装置和去静电装置，右侧伸缩支架内装配有安装架。相比于传统的超声波清洗机，本实用新型设备清洗后的硅片洁净度更高，清洗完成后在烘干装置进行烘干的过程中，由于旋转吸附装置带动硅片的旋转，可以使硅片表面残留的液体由于离心力的作用被甩出，提高烘干效率。

Description

一种旋转清洗烘干硅片设备

技术领域

本实用新型涉及硅片清洗技术领域，具体为一种旋转清洗烘干硅片设备。

背景技术

目前市场上的硅片在加工后需要对硅片表面的附着物和杂质进行清洗。在抛光过程中，由于硅片与研磨浆料的化学反应以及抛光垫与硅片的摩擦，会生成研磨残余物和抛光垫渣滓残余物。现有的硅片清洗大多通过超声波清洗机进行清洗。由于水在超声波清洗机内处于微振状态下，水的流动性差，难以充分的将硅片上的杂质带走，清洗后的硅片依然会有水中的杂质再吸附，造成清洗不彻底的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种旋转清洗烘干硅片设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种旋转清洗烘干硅片设备，包括壳体，所述壳体的下侧壁固定安装有支撑架，所述壳体的内腔下侧壁固定安装有集液装置，所述集液装置的中心处固定安装有第一储液腔，所述第一储液腔的上侧壁固定安装有旋转吸附装置和背部清洗装置，所述旋转吸附装置的顶部吸附有硅片，所述壳体的内腔下侧壁固定安装有第二储液腔和第三储液腔，所述第二储液腔和第三储液腔的顶部均固定安装有清洗装置，所述壳体的内腔上侧壁对称固定安装有伸缩支架，左侧所述伸缩支架内装配有烘干装置和去静电装置，右侧所述伸缩支架内装配有安装架，所述安装架套接在清洗装置的外侧壁，所述壳体的内腔上侧壁固定安装有空气净化装置。

优选的，所述集液装置包括固定安装在壳体内腔下侧壁的环形集液腔，所述环形集液腔的上表面固定安装有集液内架和集液外架，所述环形集液腔的上表面开设有集液槽。

优选的，所述旋转吸附装置包括固定安装在第一储液腔上表面的电机，所述电机的输出端固定连接有转动盘，所述转动盘的上表面中心处通过连接轴装配有硅片吸盘，所述转动盘的上表面固定安装有真空泵，所述硅片吸盘内开设有气槽，所述气槽的上表面开设有贯穿硅片吸盘的气孔，所述真空泵的输出端通过连接管与气槽相连通。

优选的，所述背部清洗装置包括对称固定装配在第一储液腔上表面的第一离心泵，所述第一离心泵的输出端固定安装有贯穿集液内架的第一冲洗管，所述第一冲洗管的输出端固定安装有背部冲洗喷头。

优选的，所述清洗装置包括固定安装在第二储液腔上表面的第二离心泵，所述第二离心泵的输出端通过连接软管固定连接第二冲洗管的外侧端，所述第二冲洗管的内侧端固定安装有冲洗喷头，所述第二冲洗管装配于安装架内。

优选的，所述伸缩支架包括第一电动伸缩杆，所述第一电动伸缩杆的输出端固定安装有安装块，所述安装块的下侧壁开设有装配槽，所述装配槽的侧壁固定安装有第二电动伸缩杆。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本装置通过设置旋转吸附装置与清洗装置，通过旋转吸附装置对硅片进行吸附带动硅片进行转动，在清洗的过程中，在清洗时，一边旋转一边清洗，可以同时对硅片的表面与背面进行清洗，清洗后的废液可以通过集液装置进行收集，相比于传统的超声波清洗机，本实用新型设备清洗后的硅片洁净度更高，清洗完成后在烘干装置进行烘干的过程中，由于旋转吸附装置带动硅片的旋转，可以使硅片表面残留的液体由于离心力的作用被甩出，提高烘干效率，同时设置有去静电装置，在完成烘干后，通过去静电装置对硅片去除静电，避免因静电吸附空气中的污染物造成静电污染。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为图1中的a处细节图。

图中：1、壳体，2、支撑架，3、集液装置，31、环形集液腔，32、集液内架，33、集液外架，34、集液槽，4、第一储液腔，5、旋转吸附装置，51、电机，52、转动盘，53、连接轴，54、硅片吸盘，55、真空泵，56、气槽，57、气孔，6、背部清洗装置，61、第一离心泵，62、第一冲洗管，63、背部冲洗喷头，7、硅片，8、第二储液腔，9、第三储液腔，10、清洗装置，101、第二离心泵，102、第二冲洗管，103、冲洗喷头，11、伸缩支架，111、第一电动伸缩杆，112、安装块，113、装配槽，114、第二电动伸缩杆，12、烘干装置，13、去静电装置，14、安装架，15、空气净化装置。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1和图2，本实用新型提供一种技术方案：一种旋转清洗烘干硅片设备，包括壳体1，壳体1的下侧壁固定安装有支撑架2，壳体1的内腔下侧壁固定安装有集液装置3，集液装置3包括固定安装在壳体1内腔下侧壁的环形集液腔31，环形集液腔31的上表面固定安装有集液内架32和集液外架33，环形集液腔31的上表面开设有集液槽34，在清洗的过程中，通过集液槽34将废液收集到环形集液腔31内，通过集液内架32和集液外架33保证在清洗的过程中废液不会飞溅，环形集液腔31的下侧壁固定安装有排液管，排液管内设置有开关阀，通过排液管可以将环形集液腔31内的废液进行排放。

集液装置3的中心处固定安装有第一储液腔4，第一储液腔4的上侧壁固定安装有旋转吸附装置5和背部清洗装置6，旋转吸附装置5的顶部吸附有硅片7，背部清洗装置6包括对称固定装配在第一储液腔4上表面的第一离心泵61，第一离心泵61的输出端固定安装有贯穿集液内架32的第一冲洗管62，第一冲洗管62的输出端固定安装有背部冲洗喷头63，第一储液腔4内储存有清洗液，第一储液腔4的下侧壁固定连接有贯穿壳体1的供液管，供液管内设置有开关阀，通过供液管可以向第一储液腔4内续加清洗液，第一离心泵61连接有外部电源，当第一离心泵61开启后将第一储液腔4内的清洗液通过背部冲洗喷头63向硅片7的背部喷射，对硅片7的背部进行清洗，背部冲洗喷头63位于硅片7的下方。

旋转吸附装置5包括固定安装在第一储液腔4上表面的电机51，电机51的输出端固定连接有转动盘52，转动盘52的上表面中心处通过连接轴53装配有硅片吸盘54，转动盘52的上表面固定安装有真空泵55，硅片吸盘54内开设有气槽56，气槽56的上表面开设有贯穿硅片吸盘54的气孔57，真空泵55的输出端通过连接管与气槽56相连通，电机51和真空泵55连接有外部电源，电机51开启后通过转动盘52和连接轴53带动硅片吸盘54进行转动，真空泵55通过气槽56与气孔57的连通使硅片吸盘54产生吸附力对硅片7进行吸附固定。

壳体1的内腔下侧壁固定安装有第二储液腔8和第三储液腔9，第二储液腔8和第三储液腔9的顶部均固定安装有清洗装置10，清洗装置10包括固定安装在第二储液腔8上表面的第二离心泵101，第二离心泵101连接有外部电源，第二离心泵101的输出端通过连接软管固定连接第二冲洗管102的外侧端，第二冲洗管102的内侧端固定安装有冲洗喷头103，第二冲洗管102装配于安装架14内，第二储液腔8内储存清洗液，第三储液腔9内储存等离子水，第二储液腔8和第三储液腔9的下侧壁均固定连接有贯穿壳体1的供液管，供液管内设置有开关阀，通过供液管可以向第二储液腔8和第三储液腔9内续加液体，清洗装置10的第二离心泵101分别依次将第二储液腔8和第三储液腔9内的清洗液和等离子水通过冲洗喷头103喷射在硅片7的表面，对硅片7的表面进行清洗。

壳体1的内腔上侧壁对称固定安装有伸缩支架11，伸缩支架11包括第一电动伸缩杆111，第一电动伸缩杆111的输出端固定安装有安装块112，安装块112的下侧壁开设有装配槽113，装配槽113的侧壁固定安装有第二电动伸缩杆114，第一电动伸缩杆111和第二电动伸缩杆114分别连接有外部控制器，通过控制器进行供电和控制，第一电动伸缩杆111控制安装块112的上下移动，第二电动伸缩杆114控制烘干装置12和安装架14的左右移动，左侧伸缩支架11的装配槽113内通过滑动架装配有烘干装置12和去静电装置13，烘干装置12由鼓风机、加热器和控制电路组成，鼓风机和加热器分别通过控制电路连接外部电源进行供电，通过鼓风机和加热器使热空气对硅片7的表面进行烘干，去静电装置13为去离子风扇，去离子风扇连接有外部电源，当硅片7烘干完毕后通过去离子风扇去除硅片表面的静电，防止硅片7表面由于静电吸附空气中的微粒，从而造成静电污染，右侧伸缩支架11的装配槽113内装配有安装架14，安装架14可以在装配槽113内进行滑动，安装架14套接在清洗装置10的外侧壁，壳体1的内腔上侧壁固定安装有空气净化装置15，空气净化装置15包括进气孔、过滤网和风机，风机连接外部电源，风机通电开启后将空气通过进气孔吸入，经过过滤网的过滤后排出，保证壳体1内空气中的污染物较少，保证对本装置硅片7的清洗效果。

工作原理：在对硅片7进行清洗的过程中，将硅片7装配于硅片吸盘54的表面，电机51开启后通过转动盘52和连接轴53带动硅片吸盘54进行转动，控制右侧伸缩支架11内的第一电动伸缩杆111和第二电动伸缩杆114，使两个清洗装置10的冲洗喷头103位于硅片7的上方，然后开启第二离心泵101，使冲洗喷头103分别喷射出清洗液和等离子水对硅片7进行清洗，喷射的顺序为先喷射清洗液清洗完成后再喷射等离子水进行漂洗，保证对硅片7的清洗效果，同时通过第一离心泵61将第一储液腔4内的清洗液通过背部冲洗喷头63向硅片7的背部喷射，对硅片7的背部进行清洗，清洗的废液通过集液装置3进行收集，清洗完成后控制清洗装置10复原，然后通过控制左侧伸缩支架11内的第一电动伸缩杆111和第二电动伸缩杆114，使烘干装置12和去静电装置13移动到硅片7的上方，通过鼓风机和加热器使热空气对硅片7的表面进行烘干，当硅片7控干完毕后通过去离子风扇去除硅片表面的静电，防止由于硅片7表面由于静电吸附空气中的微粒，从而造成静电污染。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (6)

1.一种旋转清洗烘干硅片设备，包括壳体(1)，其特征在于：所述壳体(1)的下侧壁固定安装有支撑架(2)，所述壳体(1)的内腔下侧壁固定安装有集液装置(3)，所述集液装置(3)的中心处固定安装有第一储液腔(4)，所述第一储液腔(4)的上侧壁固定安装有旋转吸附装置(5)和背部清洗装置(6)，所述旋转吸附装置(5)的顶部吸附有硅片(7)，所述壳体(1)的内腔下侧壁固定安装有第二储液腔(8)和第三储液腔(9)，所述第二储液腔(8)和第三储液腔(9)的顶部均固定安装有清洗装置(10)，所述壳体(1)的内腔上侧壁对称固定安装有伸缩支架(11)，左侧所述伸缩支架(11)内装配有烘干装置(12)和去静电装置(13)，右侧所述伸缩支架(11)内装配有安装架(14)，所述安装架(14)套接在清洗装置(10)的外侧壁，所述壳体(1)的内腔上侧壁固定安装有空气净化装置(15)。

2.根据权利要求1所述的一种旋转清洗烘干硅片设备，其特征在于：所述集液装置(3)包括固定安装在壳体(1)内腔下侧壁的环形集液腔(31)，所述环形集液腔(31)的上表面固定安装有集液内架(32)和集液外架(33)，所述环形集液腔(31)的上表面开设有集液槽(34)。

3.根据权利要求1所述的一种旋转清洗烘干硅片设备，其特征在于：所述旋转吸附装置(5)包括固定安装在第一储液腔(4)上表面的电机(51)，所述电机(51)的输出端固定连接有转动盘(52)，所述转动盘(52)的上表面中心处通过连接轴(53)装配有硅片吸盘(54)，所述转动盘(52)的上表面固定安装有真空泵(55)，所述硅片吸盘(54)内开设有气槽(56)，所述气槽(56)的上表面开设有贯穿硅片吸盘(54)的气孔(57)，所述真空泵(55)的输出端通过连接管与气槽(56)相连通。

4.根据权利要求1所述的一种旋转清洗烘干硅片设备，其特征在于：所述背部清洗装置(6)包括对称固定装配在第一储液腔(4)上表面的第一离心泵(61)，所述第一离心泵(61)的输出端固定安装有贯穿集液内架(32)的第一冲洗管(62)，所述第一冲洗管(62)的输出端固定安装有背部冲洗喷头(63)。

5.根据权利要求1所述的一种旋转清洗烘干硅片设备，其特征在于：所述清洗装置(10)包括固定安装在第二储液腔(8)上表面的第二离心泵(101)，所述第二离心泵(101)的输出端通过连接软管固定连接第二冲洗管(102)的外侧端，所述第二冲洗管(102)的内侧端固定安装有冲洗喷头(103)，所述第二冲洗管(102)装配于安装架(14)内。

6.根据权利要求1所述的一种旋转清洗烘干硅片设备，其特征在于：所述伸缩支架(11)包括第一电动伸缩杆(111)，所述第一电动伸缩杆(111)的输出端固定安装有安装块(112)，所述安装块(112)的下侧壁开设有装配槽(113)，所述装配槽(113)的侧壁固定安装有第二电动伸缩杆(114)。

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