CN220575550U - 一种硅片加工用抛光装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种硅片加工用抛光装置。所述硅片加工用抛光装置包括：箱体，所述箱体一侧的表面铰接有两个第一箱门，两个所述第一箱门的表面均开设有观察窗，所述箱体的一侧的表面铰接有两个第二箱门。通过抛光机构与夹持机构，可以固定不同尺寸的硅片，且吸盘对硅片伤害小，便于对硅片进行加工，启动液压伸缩杆，使硅片接触到抛光垫的表面，达到对硅片抛光的效果，通过清洁机构，使凸形清洁板刷，移动到抛光盘的上方，从而达到清洁的效果，通过回收机构，清洁剂与碎屑会通过导流板、通孔和第二水管流入第二水箱之中，使其经过过滤进入到第一水箱里面，从而实现净化和回收的作用，避免浪费的硅片加工用抛光装置。

Description

一种硅片加工用抛光装置

技术领域

本实用新型属于硅片加工技术领域，尤其涉及一种硅片加工用抛光装置。

背景技术

硅片抛光是一种重要的制造工艺，用于加工和平整硅片的表面。这种工艺通常用于半导体行业，制造各种微电子元件；硅片抛光的目的是去除表面不规则性和杂质，以获得平坦光滑的表面；这可以提高硅片的性能、可靠性和寿命。

现有技术在对硅片加工成单晶硅片时，需要对硅片夹持固定，由于硅片易碎，通过夹持机构夹持硅片时容易损坏硅片，不利于硅片的加工，同时现有的抛光装置在对硅片抛光完成后，其抛光台的内部会产生一定量的污水，因此需要使用者手动对其进行清洗，均给使用者的使用带来不便，故有待提高。

因此，有必要提供一种新的硅片加工用抛光装置解决上述技术问题。

实用新型内容

本实用新型解决的技术问题是提供一种通过抛光机构与夹持机构，可以固定不同尺寸的硅片，且吸盘对硅片伤害小，便于对硅片进行加工，启动液压伸缩杆，使硅片接触到抛光垫的表面，达到对硅片抛光的效果，通过清洁机构，使凸形清洁板刷，移动到抛光盘的上方，从而达到清洁的效果，通过回收机构，清洁剂与碎屑会通过导流板、通孔和第二水管流入第二水箱之中，使其经过过滤进入到第一水箱里面，从而实现净化和回收的作用，避免浪费的硅片加工用抛光装置。

为解决上述技术问题，本实用新型提供的硅片加工用抛光装置包括：箱体，所述箱体一侧的表面铰接有两个第一箱门，两个所述第一箱门的表面均开设有观察窗，所述箱体的一侧的表面铰接有两个第二箱门，两个所述第二箱门的表面均设置有把手，所述箱体内设置有隔板，所述隔板与两个第一箱门和两个第二箱门相适配，所述隔板的顶部设置有导流板，所述箱体内设置有抛光机构，所述箱体内壁的顶侧固定安装有液压伸缩杆，所述液压伸缩杆的输出轴设置有夹持机构，所述箱体内设置有清洁机构，所述箱体内设置有回收机构，所述箱体的底部固定安装有四个万向轮；所述抛光机构包括有第一防护壳、抛光电机、抛光盘和抛光垫，所述第一防护壳与隔板的底部固定连接，所述第一防护壳内固定安装有抛光电机，所述抛光电机的输出轴穿过隔板与抛光盘的底部固定连接，所述抛光盘的顶部与抛光垫固定连接。

作为本实用新型的进一步方案，所述夹持机构包括有固定圆板、四个电动伸缩杆、四个连接管、四个吸盘、真空泵和四个伸缩软管，所述固定圆板的顶部与液压伸缩杆的输出轴固定连接，所述固定圆板的表面与四个电动伸缩杆的一端固定连接，四个所述电动伸缩杆的输出轴分别与对应的连接管一侧的表面固定连接，四个所述连接管的底部分别与对应的吸盘固定连接，所述真空泵与固定圆板的内部固定连接，所述真空泵的吸气口分别与对应的伸缩软管的一端相连通，四个所述伸缩软管另一端分别穿过对应的连接管与对应的吸盘相连通。

作为本实用新型的进一步方案，所述清洁机构包括有第二防护壳、正反电机、支撑柱，和凸型清洁板刷，所述第二防护壳与箱体的一侧内壁固定连接，所述第二防护壳内固定安装有正反电机，所述支撑柱与隔板和导流板转动连接，所述支撑柱的一端与正反电机的输出轴固定连接，所述支撑柱的一端与凸型清洁板刷的底部固定连接。

作为本实用新型的进一步方案，所述回收机构包括有凹槽、分流管、喷头和出水管，所述凹槽开设在凸型清洁板刷的底部，分流管与凹槽的表面固定连接，所述分流管的表面与喷头相连接，所述出水管的一端与分流管相连通。

作为本实用新型的进一步方案，所述回收机构还包括有水泵、进水管、第一水箱、第一水管、第二水箱和过滤板，所述水泵的底部与箱体的底侧内壁固定连接，所述水泵的出水口与出水管的另一端相连通，所述水泵的进水口与进水管一端相连通，所述进水管的另一端延伸至第一水箱内，所述第一水箱的一侧的表面与第一水管的一端相连通、所述第一水管的另一端与第二水箱一侧的表面相连通，所述第二水箱内设置有过滤板。

作为本实用新型的进一步方案，所述回收机构还包括有通孔和第二水管，多个所述通孔开设在隔板的表面，多个所述通孔分别与对应的第二水管相连通，多个所述第二水管均与第二水箱的顶部相连通。

与相关技术相比较，本实用新型提供的硅片加工用抛光装置具有如下有益效果：

1、本实用新型通过抛光机构与夹持机构的相互作用，通过电动伸缩杆，调节吸盘的位置，使其可以固定不同尺寸的硅片，启动真空泵，通过伸缩软管将吸盘内的空气抽出，使得吸盘内为真空，从而将吸盘和硅片吸附在一起，达到夹持硅片的效果，且吸盘对硅片伤害小，便于对硅片进行加工，启动抛光电机，带动抛光盘与抛光垫转动，再通过启动液压伸缩杆，使硅片接触到抛光盘上固定的抛光垫表面，从而达到对硅片抛光的效果；

2、本实用新型通过清洁机构，启动正反电机，使凸型清洁板刷，移动到抛光盘的上方，再通过启动水泵，使清洁剂通过出水管喷洒到抛光盘上，再启动抛光电机，带动抛光盘转动，从而达到清洁的效果；

3、本实用新型通过回收机构，使用过的清洁剂与对硅片抛光后产生的碎屑会通过导流板、通孔和第二水管流入第二水箱之中，使其经过过滤板的过滤进入到第一水箱里面，从而实现净化和回收的作用，避免浪费。

附图说明

为了便于本领域技术人员理解，下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。

图1为本实用新型硅片加工用抛光装置的正视结构示意图；

图2为本实用新型硅片加工用抛光装置中立体剖视的结构连接示意图；

图3为本实用新型硅片加工用抛光装置中正视剖视的结构连接示意图；

图4为本实用新型硅片加工用抛光装置中夹持机构立体的结构连接示意图；

图5为本实用新型硅片加工用抛光装置中夹持机构正视的结构连接示意图；

图6为本实用新型硅片加工用抛光装置中清洁机构工作的结构连接示意图；

图7为本实用新型硅片加工用抛光装置中清洁机构正视剖视的结构连接示意图。

图中：1、箱体；2、第一箱门；3、观察窗；4、第二箱门；5、把手；6、隔板；7、导流板；8、抛光机构；801、第一防护壳；802、抛光电机；803、抛光盘；804、抛光垫；9、液压伸缩杆；10、夹持机构；1001、固定圆板；1002、电动伸缩杆；1003、连接管；1004、吸盘；1005、真空泵；1006、伸缩软管；11、清洁机构；1101、第二防护壳；1102、正反电机；1103、支撑柱；1104、凸型清洁板刷；12、回收机构；1201、凹槽；1202、分流管；1203、喷头；1204、出水管；1205、水泵；1206、进水管；1207、第一水箱；1208、第一水管；1209、第二水箱；1210、过滤板；1211、通孔；1212、第二水管；13、万向轮。

具体实施方式

请结合参阅图1、图2、图3、图4、图5、图6和图7，其中，图1为本实用新型硅片加工用抛光装置的正视结构示意图；图2为本实用新型硅片加工用抛光装置中立体剖视的结构连接示意图；图3为本实用新型硅片加工用抛光装置中正视剖视的结构连接示意图；图4为本实用新型硅片加工用抛光装置中夹持机构立体的结构连接示意图；图5为本实用新型硅片加工用抛光装置中夹持机构正视的结构连接示意图；图6为本实用新型硅片加工用抛光装置中清洁机构工作的结构连接示意图；图7为本实用新型硅片加工用抛光装置中清洁机构正视剖视的结构连接示意图。硅片加工用抛光装置包括：箱体1，所述箱体1一侧的表面铰接有两个第一箱门2，两个所述第一箱门2的表面均开设有观察窗3，所述箱体1的一侧的表面铰接有两个第二箱门4，两个所述第二箱门4的表面均设置有把手5，所述箱体1内设置有隔板6，所述隔板6与两个第一箱门2和两个第二箱门4相适配，所述隔板6的顶部设置有导流板7，所述箱体1内设置有抛光机构8，所述箱体1内壁的顶侧固定安装有液压伸缩杆9，所述液压伸缩杆9的输出轴设置有夹持机构10，所述箱体1内设置有清洁机构11，所述箱体1内设置有回收机构12，所述箱体1的底部固定安装有四个万向轮13；所述抛光机构8包括有第一防护壳801、抛光电机802、抛光盘803和抛光垫804，所述第一防护壳801与隔板6的底部固定连接，所述第一防护壳801内固定安装有抛光电机802，所述抛光电机802的输出轴穿过隔板6与抛光盘803的底部固定连接，所述抛光盘803的顶部与抛光垫804固定连接。

如图1、图2、图3、图4和图5所示，所述夹持机构10包括有固定圆板1001、四个电动伸缩杆1002、四个连接管1003、四个吸盘1004、真空泵1005和四个伸缩软管1006，所述固定圆板1001的顶部与液压伸缩杆9的输出轴固定连接，所述固定圆板1001的表面与四个电动伸缩杆1002的一端固定连接，四个所述电动伸缩杆1002的输出轴分别与对应的连接管1003一侧的表面固定连接，四个所述连接管1003的底部分别与对应的吸盘1004固定连接，所述真空泵1005与固定圆板1001的内部固定连接，所述真空泵1005的吸气口分别与对应的伸缩软管1006的一端相连通，四个所述伸缩软管1006另一端分别穿过对应的连接管1003与对应的吸盘1004相连通；

通过抛光机构8与夹持机构10的相互作用，通过电动伸缩杆1002，调节吸盘1004的位置，使其可以固定不同尺寸的硅片，启动真空泵1005，通过伸缩软管1006将吸盘1004内的空气抽出，使得吸盘1004内为真空，从而将吸盘1004和硅片吸附在一起，达到夹持硅片的效果，且吸盘1004对硅片伤害小，便于对硅片进行加工，启动抛光电机802，带动抛光盘803与抛光垫804转动，再通过启动液压伸缩杆9，使硅片接触到抛光盘803上固定的抛光垫804表面，从而达到对硅片抛光的效果

如图1、图2、图3、图6和图7所示，所述清洁机构11包括有第二防护壳1101、正反电机1102、支撑柱1103，和凸型清洁板刷1104，所述第二防护壳1101与箱体1的一侧内壁固定连接，所述第二防护壳1101内固定安装有正反电机1102，所述支撑柱1103与隔板6和导流板7转动连接，所述支撑柱1103的一端与正反电机1102的输出轴固定连接，所述支撑柱1103的一端与凸型清洁板刷1104的底部固定连接；

通过清洁机构11，启动正反电机1102，使凸型清洁板刷1104，移动到抛光盘803的上方，再通过启动水泵1205，使清洁剂通过出水管1204喷洒到抛光盘803上，再启动抛光电机802，带动抛光盘803转动，从而达到清洁的效果。

如图3所示，所述回收机构12包括有凹槽1201、分流管1202、喷头1203和出水管1204，所述凹槽1201开设在凸型清洁板刷1104的底部，分流管1202与凹槽1201的表面固定连接，所述分流管1202的表面与喷头1203相连接，所述出水管1204的一端与分流管1202相连通；所述回收机构12还包括有水泵1205、进水管1206、第一水箱1207、第一水管1208、第二水箱1209和过滤板1210，所述水泵1205的底部与箱体1的底侧内壁固定连接，所述水泵1205的出水口与出水管1204的另一端相连通，所述水泵1205的进水口与进水管1206一端相连通，所述进水管1206的另一端延伸至第一水箱1207内，所述第一水箱1207的一侧的表面与第一水管1208的一端相连通、所述第一水管1208的另一端与第二水箱1209一侧的表面相连通，所述第二水箱1209内设置有过滤板1210；所述回收机构12还包括有通孔1211和第二水管1212，多个所述通孔1211开设在隔板6的表面，多个所述通孔1211分别与对应的第二水管1212相连通，多个所述第二水管1212均与第二水箱1209的顶部相连通。

通过回收机构12，使用过的清洁剂与对硅片抛光后产生的碎屑会通过导流板7、通孔1211和第二水管1212流入第二水箱1209之中，使其经过过滤板1210的过滤进入到第一水箱1207里面，从而实现净化和回收的作用，避免浪费。

本实用新型提供的硅片加工用抛光装置的工作原理如下：

在当需要使用抛光装置时，利用万向轮13使其移动，当需要静止时，利用锁止结构对万向轮13进行锁定，首先通过打开第一箱门2，再通过电动伸缩杆1002，调节吸盘1004的位置，使其可以固定不同尺寸的硅片，启动真空泵1005，通过伸缩软管1006将吸盘1004内的空气抽出，使得吸盘1004内为真空，从而将吸盘1004和硅片吸附在一起，达到夹持硅片的效果，且吸盘1004对硅片伤害小，便于对硅片进行加工，启动抛光电机802，带动抛光盘803与抛光垫804转动，再通过启动液压伸缩杆9，使硅片接触到抛光盘803上固定的抛光垫804表面，从而达到对硅片抛光的效果，在抛光完成之后，通过启动正反电机1102，使凸型清洁板刷1104，移动到抛光盘803的上方，再通过启动水泵1205，使清洁剂通过出水管1204喷洒到抛光盘803上，再启动抛光电机802，带动抛光盘803转动，从而达到清洁的效果，其中使用过的清洁剂与对硅片抛光后产生的碎屑会通过导流板7、通孔1211和第二水管1212流入第二水箱1209之中，使其经过过滤板1210的过滤进入到第一水箱1207里面，从而实现净化和回收的作用，避免浪费。

需要说明的是，本实用新型的设备结构和附图主要对本实用新型的原理进行描述，在该设计原理的技术上，装置的动力机构、供电系统及控制系统等的设置并没有完全描述清楚，而在本领域技术人员理解上述实用新型的原理的前提下，可清楚获知其动力机构、供电系统及控制系统的具体，申请文件的控制方式是通过控制器来自动控制，控制器的控制电路通过本领域的技术人员简单编程即可实现；

其中所使用到的标准零件均可以从市场上购买，而且根据说明书和附图的记载均可以进行订制，各个零件的具体连接方式均采用现有技术中成熟的螺栓、铆钉、焊接等常规手段，机械、零件和设备均采用现有技术中常规的型号，且本领域技术人员知晓的部件，其结构和原理都为本技术人员均可通过技术手册得知或通过常规实验方法获知。

尽管已经表示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型或直接或间接运用，在其它相关的技术领域，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (6)

1.一种硅片加工用抛光装置，其特征在于，包括：箱体，所述箱体一侧的表面铰接有两个第一箱门，两个所述第一箱门的表面均开设有观察窗，所述箱体的一侧的表面铰接有两个第二箱门，两个所述第二箱门的表面均设置有把手，所述箱体内设置有隔板，所述隔板与两个第一箱门和两个第二箱门相适配，所述隔板的顶部设置有导流板，所述箱体内设置有抛光机构，所述箱体内壁的顶侧固定安装有液压伸缩杆，所述液压伸缩杆的输出轴设置有夹持机构，所述箱体内设置有清洁机构，所述箱体内设置有回收机构，所述箱体的底部固定安装有四个万向轮；

所述抛光机构包括有第一防护壳、抛光电机、抛光盘和抛光垫，所述第一防护壳与隔板的底部固定连接，所述第一防护壳内固定安装有抛光电机，所述抛光电机的输出轴穿过隔板与抛光盘的底部固定连接，所述抛光盘的顶部与抛光垫固定连接。

2.根据权利要求1所述的硅片加工用抛光装置，其特征在于：所述夹持机构包括有固定圆板、四个电动伸缩杆、四个连接管、四个吸盘、真空泵和四个伸缩软管，所述固定圆板的顶部与液压伸缩杆的输出轴固定连接，所述固定圆板的表面与四个电动伸缩杆的一端固定连接，四个所述电动伸缩杆的输出轴分别与对应的连接管一侧的表面固定连接，四个所述连接管的底部分别与对应的吸盘固定连接，所述真空泵与固定圆板的内部固定连接，所述真空泵的吸气口分别与对应的伸缩软管的一端相连通，四个所述伸缩软管另一端分别穿过对应的连接管与对应的吸盘相连通。

3.根据权利要求1所述的硅片加工用抛光装置，其特征在于：所述清洁机构包括有第二防护壳、正反电机、支撑柱，和凸型清洁板刷，所述第二防护壳与箱体的一侧内壁固定连接，所述第二防护壳内固定安装有正反电机，所述支撑柱与隔板和导流板转动连接，所述支撑柱的一端与正反电机的输出轴固定连接，所述支撑柱的一端与凸型清洁板刷的底部固定连接。

4.根据权利要求1所述的硅片加工用抛光装置，其特征在于：所述回收机构包括有凹槽、分流管、喷头和出水管，所述凹槽开设在凸型清洁板刷的底部，分流管与凹槽的表面固定连接，所述分流管的表面与喷头相连接，所述出水管的一端与分流管相连通。

5.根据权利要求4所述的硅片加工用抛光装置，其特征在于：所述回收机构还包括有水泵、进水管、第一水箱、第一水管、第二水箱和过滤板，所述水泵的底部与箱体的底侧内壁固定连接，所述水泵的出水口与出水管的另一端相连通，所述水泵的进水口与进水管一端相连通，所述进水管的另一端延伸至第一水箱内，所述第一水箱的一侧的表面与第一水管的一端相连通、所述第一水管的另一端与第二水箱一侧的表面相连通，所述第二水箱内设置有过滤板。

6.根据权利要求5所述的硅片加工用抛光装置，其特征在于：所述回收机构还包括有通孔和第二水管，多个所述通孔开设在隔板的表面，多个所述通孔分别与对应的第二水管相连通，多个所述第二水管均与第二水箱的顶部相连通。