CN218775258U - 一种改进的光学晶体用表面处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种改进的光学晶体用表面处理装置，包括外箱和调整机构，所述调整机构设置于外箱的内部，所述调整机构中的内箱安装于外箱内腔的底部，所述调整机构还包括有负压泵，所述负压泵安装于内箱顶部的一侧；本实用新型通过调整机构的设置，以使其具备高度清洗的优点，并且能够进行多面调节式的清洗，从而提高清洗的效果以及全面性，由负压泵利于软管配合吸盘对晶体进行吸附，而电动滑台则用于在其吸附前后进行高低位置调整，通过夹持机构的设置，可使其具备对晶体进行夹持工作，避免出现位置移动，从而保证其冲洗时的全面性，利用处理机构的设置，可用于提高其清洗效果，以此来清除晶体表面的杂质有油污。

Description

一种改进的光学晶体用表面处理装置

技术领域

本实用新型涉及光学晶体表面处理技术领域，具体为一种改进的光学晶体用表面处理装置。

背景技术

光学晶体是用作光学介质材料的晶体材料，主要用于制作紫外和红外区域窗口、透镜和棱镜，按晶体结构分为单晶和多晶，并且晶体在加工的过程中需要通过处理装置对晶体表面处理。目前对光学晶体的清洗一般是直接浸泡在水中利用布进行清洗，但是使用这样的方式可能会使得晶体的表面出现细微的划痕和附着布的纤维，清洗效果较差，使用较为不便。

针对上述技术问题，如公告号为CN213255986U公开了一种改进的光学晶体用表面处理装置，通过使用纯水清洗的方式对光学晶体进行清洗，并且通过喷洒、浸泡和流动水三重清洗的方式对光学晶体进行清洗，可以在晶体表面被完全清洗的情况下避免划痕和附着物的产生，相比于目前使用的清洗方式而言，提高了清洗的效果。

上述结构利用多种的清洗方式来提高其清洗效果，但是其在试剂的操作过程中其夹持端的一侧无法被有效清洗，由于需要稳定夹持避免脱落，那么在夹持的位置便会受阻，因此无法提高其高精度的清洗效果以及无法达到多面以及调节时清洗。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种改进的光学晶体用表面处理装置，具备高度清洗的优点，并且能够进行多面调节式的清洗，从而提高清洗的效果以及全面性，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种改进的光学晶体用表面处理装置，包括外箱和调整机构，所述调整机构设置于外箱的内部，所述调整机构中的内箱安装于外箱内腔的底部，所述调整机构还包括有负压泵，所述负压泵安装于内箱顶部的一侧；

还包括有用于对晶体进行夹持的夹持机构和处理机构，所述夹持机构分别设置于内箱内腔的顶部和底部，所述处理机构设置于外箱的一侧以及其内部。

其中，所述调整机构还包括有电动滑台和第一电动推杆，所述电动滑台安装于内箱内腔的背面，所述第一电动推杆安装于电动滑台的表面。

其中，所述调整机构还包括有第一电机和吸盘，所述第一电机安装于第一电动推杆的输出端，所述吸盘键连接于第一电机的输出轴，所述负压泵的出气端通过软管于吸盘的一侧连通。

其中，所述夹持机构包括第二电动推杆和上夹盘，所述第二电动推杆安装于内箱的顶部，所述上夹盘活动安装于第二电动推杆的输出端。

其中，所述夹夹持机构还包括有第二电机和下夹盘，所述第二电机安装于外箱内腔底部的一侧，所述下夹盘键连接于第二电机的输出轴。

其中，所述处理机构包括水箱、水泵、输送管和喷头，所述水箱安装于外箱一侧的下部，所述水泵安装于外箱内腔底部的一侧，所述输送管连通于水泵出液端，所述水泵的进液端通过管道与水箱一侧的底部连通，所述输送管与内箱内腔的一侧安装，所述喷头连通于输送管的一侧。

其中，所述处理机构还包括有清洗剂管和超声波清洗器，所述清洗剂管连通于内箱一侧的上部，所述超声波清洗器安装于内箱内腔另一侧的下部。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型通过调整机构的设置，以使其具备高度清洗的优点，并且能够进行多面调节式的清洗，从而提高清洗的效果以及全面性，由负压泵利于软管配合吸盘对晶体进行吸附，而电动滑台则用于在其吸附前后进行高低位置调整，以使其转动方向，而第一电动推杆则用于推动吸盘向前延伸实现吸附的作用，最后由第一电机带动吸盘进行一周转动，以调整其的位置，随后反转至原位即可。

本实用新型通过夹持机构的设置，可使其具备对晶体进行夹持工作，避免出现位置移动，利用第二电动推杆、上夹盘和第二电机、下夹盘之间的配合实现夹持工作，并且还可带动晶体进行转动工作，从而保证其冲洗时的全面性，利用处理机构的设置，可用于提高其清洗效果，先由清洗剂管输送清洗剂并满过晶体，随后启动超声波清洗器，以此来清除晶体表面的杂质有油污，最后再由水箱、水泵、输送管和喷头的配合抽喷清水来对其进行清理，以提高其清洗的效果。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的剖视结构示意图；

图3为本实用新型的第一电动推杆结构示意图；

图4为本实用新型的下夹盘俯视结构示意图。

图中：1、外箱；2、调整机构；21、内箱；22、负压泵；23、电动滑台；24、第一电动推杆；25、第一电机；26、吸盘；3、夹持机构；31、第二电动推杆；32、上夹盘；33、第二电机；34、下夹盘；4、处理机构；41、水箱；42、水泵；43、输送管；44、喷头；45、清洗剂管；46、超声波清洗器。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，本实用新型提供一种改进的光学晶体用表面处理装置，包括外箱1和调整机构2，调整机构2设置于外箱1的内部，调整机构2中的内箱21安装于外箱1内腔的底部，调整机构2还包括有负压泵22，负压泵22安装于内箱21顶部的一侧，利用内箱21利于对晶体进行多次处理工作，且负压泵22则用于在吸附晶体时使其进行负压吸附，需要吸附时先启动负压泵22工作即可；

还包括有用于对晶体进行夹持的夹持机构3和处理机构4，夹持机构3分别设置于内箱21内腔的顶部和底部，处理机构4设置于外箱1的一侧以及其内部。

优选的，调整机构2还包括有电动滑台23和第一电动推杆24，电动滑台23安装于内箱21内腔的背面，第一电动推杆24安装于电动滑台23的表面，在需要吸附时，先由电动滑台23带动表面的部件进行高低位置移动，移动至所需位置后启动第一电动推杆24，利用第一电动推杆24推动表面的部件向前延伸，从而便可调整吸盘26高度位置以及前后的位置，并且使吸盘26接触晶体从而利于其进行吸附。

其中，调整机构2还包括有第一电机25和吸盘26，第一电机25安装于第一电动推杆24的输出端，吸盘26键连接于第一电机25的输出轴，负压泵22的出气端通过软管于吸盘26的一侧连通，在吸盘26接触晶体时便可启动负压泵22，以使吸盘26产生负压进行吸附，且吸盘26的圈边可由橡胶亦或是硅胶等软性材料包裹，避免损坏晶体，此时便可吸附，之后解除夹持机构3的固定，随后向上移动并且旋转一圈后放置在原位即可对其进行再次夹持，而吸盘26回转移动至初始位置即可完成晶体的调节转动工作。

进一步，夹持机构3包括第二电动推杆31和上夹盘32，第二电动推杆31安装于内箱21的顶部，上夹盘32活动安装于第二电动推杆31的输出端，需要对晶体进行夹持时启动第二电动推杆31推动上夹盘32向下移动即可对其压持工作，避免晶体位移。

另外，夹持机构3还包括有第二电机33和下夹盘34，第二电机33安装于外箱1内腔底部的一侧，下夹盘34键连接于第二电机33的输出轴，而下夹盘34则用于承载放置晶体，之后配合下压的上夹盘32完成晶体夹持固定，随后在清洗时可启动第二电机33缓慢匀速转动使其均匀被冲洗，且下夹盘34和上夹盘32接触晶体的一面可设置有橡胶亦或是硅胶等软性材料包裹，避免损坏晶体。

处理机构4包括水箱41、水泵42、输送管43和喷头44，水箱41安装于外箱1一侧的下部，水泵42安装于外箱1内腔底部的一侧，输送管43连通于水泵42出液端，水泵42的进液端通过管道与水箱41一侧的底部连通，输送管43与内箱21内腔的一侧安装，喷头44连通于输送管43的一侧，在清洗剂清洗完成后，启动水泵42将水箱41内部的清水抽取至输送管43内后再由喷头44喷出，即可对匀速旋转的晶体进行全面冲洗工作，此清洗分两次，首先对为变换角度的的晶体进行冲洗，之后再对变换后角度的晶体进行冲洗。

处理机构4还包括有清洗剂管45和超声波清洗器46，清洗剂管45连通于内箱21一侧的上部，超声波清洗器46安装于内箱21内腔另一侧的下部，在需要进行初次处理后由清洗剂管45排出预先准备好的清洗机，之后排至内箱21内，并且满过晶体即可，同时启动超声波清洗器46，利用超声波清洗器46进行超声波清洗，从而清除表面的油污等杂质，且时间不能低于3分钟，之后排出清洗剂，同时在清洗剂和超声波双重清理的过程中其可解除夹持状态也可使其处于夹持状态，根据现场进行调整即可。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (7)

1.一种改进的光学晶体用表面处理装置，其特征在于：包括外箱和调整机构，所述调整机构设置于外箱的内部，所述调整机构中的内箱安装于外箱内腔的底部，所述调整机构还包括有负压泵，所述负压泵安装于内箱顶部的一侧；

还包括有用于对晶体进行夹持的夹持机构和处理机构，所述夹持机构分别设置于内箱内腔的顶部和底部，所述处理机构设置于外箱的一侧以及其内部。

2.根据权利要求1所述的一种改进的光学晶体用表面处理装置，其特征在于：所述调整机构还包括有电动滑台和第一电动推杆，所述电动滑台安装于内箱内腔的背面，所述第一电动推杆安装于电动滑台的表面。

3.根据权利要求2所述的一种改进的光学晶体用表面处理装置，其特征在于：所述调整机构还包括有第一电机和吸盘，所述第一电机安装于第一电动推杆的输出端，所述吸盘键连接于第一电机的输出轴，所述负压泵的出气端通过软管于吸盘的一侧连通。

4.根据权利要求1所述的一种改进的光学晶体用表面处理装置，其特征在于：所述夹持机构包括第二电动推杆和上夹盘，所述第二电动推杆安装于内箱的顶部，所述上夹盘活动安装于第二电动推杆的输出端。

5.根据权利要求4所述的一种改进的光学晶体用表面处理装置，其特征在于：所述夹持机构还包括有第二电机和下夹盘，所述第二电机安装于外箱内腔底部的一侧，所述下夹盘键连接于第二电机的输出轴。

6.根据权利要求1所述的一种改进的光学晶体用表面处理装置，其特征在于：所述处理机构包括水箱、水泵、输送管和喷头，所述水箱安装于外箱一侧的下部，所述水泵安装于外箱内腔底部的一侧，所述输送管连通于水泵出液端，所述水泵的进液端通过管道与水箱一侧的底部连通，所述输送管与内箱内腔的一侧安装，所述喷头连通于输送管的一侧。

7.根据权利要求6所述的一种改进的光学晶体用表面处理装置，其特征在于：所述处理机构还包括有清洗剂管和超声波清洗器，所述清洗剂管连通于内箱一侧的上部，所述超声波清洗器安装于内箱内腔另一侧的下部。

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