CN113066820A

CN113066820A - 显示装置

Info

Publication number: CN113066820A
Application number: CN202011434709.4A
Authority: CN
Inventors: 白承汉; 尹景载; 安贤真; 朴成雨
Original assignee: LG Display Co Ltd
Current assignee: LG Display Co Ltd
Priority date: 2019-12-31
Filing date: 2020-12-10
Publication date: 2021-07-02
Also published as: US20210202868A1; US11532797B2; KR20210086284A; TW202127404A; DE102020135056A1; TWI782380B

Abstract

公开了一种包括显示区域、围绕显示区域的非显示区域以及形成在非显示区域的至少一侧中的弯曲区域的显示装置。该显示装置包括：第一玻璃基板，其被设置在显示区域中；第二玻璃基板，其被设置在非显示区域中；以及柔性基板，其被设置成与弯曲区域交叠。

Description

显示装置

相关申请的交叉引用

本申请要求于2019年12月31日提交的韩国专利申请第10-2019-0180109号的优先权，该韩国专利申请通过引用并入本文，如同在本文中完全阐述一样。

技术领域

本公开内容涉及一种显示装置。

背景技术

通常，显示装置被广泛用作各种电子设备的显示屏幕，电子设备诸如移动通信终端、电子日记、电子书、便携式多媒体播放器(PMP)、导航器、超移动PC(UMPC)、移动电话、智能电话、平板个人计算机(PC)、手表电话、电子板、可佩戴设备、便携式信息设备、车辆控制显示设备、电视、笔记本电脑和监视器。

用于将显示装置之中的液晶显示装置、发光显示装置和电泳显示装置实施为柔性显示装置的研究和开发正在进行，该柔性显示装置中的每一个都能够变成薄轮廓并且具有最小的边框面积。为此，需要使用柔性基板。

在应用了常规柔性显示面板的显示装置的制造方法中，在母玻璃基板上方顺序地形成激光牺牲层和柔性基板之后，柔性显示面板的制造过程完成。然后，母玻璃基板通过用于将激光照射至激光牺牲层的激光释放工艺而从柔性基板分离，由此制造了柔性显示面板。

在应用了常规柔性基板的显示装置的制造方法中，由于使用昂贵的激光装备来将母玻璃基板从柔性基板分离，因此增加了制造成本，并且可能产生与激光释放相关的缺陷(根据柔性基板的表面粗糙度的粒子或转移)。特别地，由于占据柔性显示面板的制造成本的一半水平的柔性基板材料被涂覆在母玻璃基板的整个表面上方，材料消耗高并且因此增加了生产成本。

此外，近来，可以通过减小在相同显示面板的尺寸中的不显示图像的边框区域来实施最大屏幕的显示装置的研究与开发正在进行。

发明内容

本公开内容的发明人一直在研究和开发可以替代激光释放工艺的技术，并且已经发明了新结构的显示装置，所述显示装置可以在没有激光释放工艺的情况下被制造。

本公开内容的一个目的是提供一种可以在不进行用于将母玻璃基板从柔性基板分离的激光释放工艺的情况下被制造的显示装置。

本公开内容的另一目的是提供一种提高了可靠性并且可以使边框区域的宽度最小化的显示装置。

除了如上所述的本公开内容的目的之外，本领域技术人员将根据本公开内容的以下描述清楚地理解本公开内容的附加目的和特征。

根据本公开内容的一个方面，可以通过提供一种包括显示区域、围绕显示区域的非显示区域以及形成在非显示区域的至少一侧中的弯曲区域的显示装置来实现上述目的和其他目的，其中，该显示装置包括：第一玻璃基板，其被设置在显示区域中；第二玻璃基板，其被设置在非显示区域中；以及柔性基板，其被设置成与弯曲区域交叠。

根据本公开内容的另一方面，可以通过提供一种包括孔区域、围绕孔区域的边框区域以及围绕边框区域的显示区域的显示装置来实现上述目的和其他目的，其中，该显示装置包括：基础基板，其与孔区域、边框区域和显示区域交叠；薄膜晶体管，其被设置在基础基板上方并且与显示区域交叠；发光二极管，其被设置在薄膜晶体管上方并且与薄膜晶体管电连接；封装部，其覆盖发光二极管；以及光学模块，其布置成与孔区域交叠并且布置在基础基板下方。

本公开内容可以提供一种可以在不进行用于将母玻璃基板从柔性基板分离的激光释放工艺的情况下被制造的显示装置。此外，本公开内容可以提供一种提高了可靠性并且可以使边框区域的宽度最小化的显示装置。

在根据本公开内容的一个实施方式的显示装置中，由于在与显示区域相对应的区域中未布置柔性基板，因此可以改善由于柔性基板导致的显示区域的亮度特性和残留图像特性。

除了如上所述的本公开内容的效果之外，本领域技术人员将根据本公开内容的以上描述清楚地理解本公开内容的附加优点和特征。

附图说明

根据以下结合附图的详细描述，将更清楚地理解本公开内容的上述目的和其他目的、特征和其他优点，其中：

图1是示出根据本公开内容的一个实施方式的显示装置的平面图；

图2是示出根据本公开内容的一个实施方式的显示装置的透视图；

图3是沿着图2所示的线I-I’截取的截面图；

图4是示出根据本公开内容的一个实施方式的显示装置的透视图；

图5是沿着图4所示的线II-II’截取的截面图；

图6A是示出布置在柔性基板上方的链接线部分的简要平面图；

图6B是沿着图6A所示的线III-III’截取的截面图；

图7A是示出布置在柔性基板上方的链接线部分的简要平面图；

图7B是沿着图7A所示的线IV-IV’截取的截面图；

图8A至图8C是示出根据本公开内容的显示装置中的第一玻璃基板的第一蚀刻表面和第二玻璃基板的第二蚀刻表面的制造方法的截面图；

图9A和图9B是沿着线II-II’截取的截面图的另一示例；

图10A至图10D是沿着线II-II’截取的截面图的其他示例；

图11是示出根据本公开内容的一个实施方式的显示装置的平面图；以及

图12是沿着图11所示的线V-V’截取的截面图。

具体实施方式

将通过参照附图描述的以下实施方式来阐明本公开内容的优点和特征及其实现方法。然而，本公开内容可以以不同的形式来实施，并且不应被解释为限于本文中阐述的实施方式。相反，提供这些实施方式使得本公开内容将是透彻和完整的，并将向本领域技术人员充分传达本公开内容的范围。此外，本公开内容仅由权利要求的范围限定。

在附图中公开的用于描述本公开内容的实施方式的形状、尺寸、比率、角度和数量仅是示例，并且因此，本公开内容不限于所示出的细节。在整个说明书中，相同的附图标记指代相同的元件。在以下描述中，当确定相关的已知功能或配置的详细描述不必要地使本公开内容的要点模糊时，将省略该详细描述。

在使用本说明书中描述的“包括”、“具有”和“包含”的情况下，可以添加另一部分，除非使用“仅……”。单数形式的术语可以包括复数形式，除非有相反指示。

在解释元件时，尽管没有明确的描述，但是该元件被解释为包括误差范围。

在描述位置关系时，例如，当将位置关系描述为“在...上”、“在...之上”、“在...之下”和“在...附近”时，除非使用“恰好”或“直接”，否则可以在两个其他部分之间布置一个或更多个部分。

在描述时间关系时，例如，当时间顺序被描述为“在……之后”、“随后”、“接下来”和“在……之前”时，除非使用“恰好”或“直接”，否则可以包括不连续的情况。

将理解，尽管在本文中可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，但是这些元件不应受这些术语的限制。这些术语仅用于区分一个元件和另一元件。例如，在不脱离本公开内容的范围的情况下，第一元件可以被称为第二元件，并且类似地，第二元件可以被称为第一元件。

术语“至少一个”应被理解为包括相关联的所列项中的一个或更多个项的任何组合和所有组合。例如，“第一项、第二项和第三项中的至少一个”的含义表示从第一项、第二项和第三项中的两个或更多个项中提出的所有项的组合以及第一项、第二项或第三项。

如本领域技术人员可以充分理解的，本公开内容的各个实施方式的特征可以部分或整体地彼此耦合或组合，并且可以彼此不同地互操作并且在技术上被驱动。本公开内容的实施方式可以彼此独立地执行，或者可以以相互依存的关系一起执行。

在下文中，将参照附图详细描述根据本公开内容的显示装置。在整个附图中，将尽可能使用相同的附图标记指代相同或相似的部件。由于为了便于描述，附图中所示的元件中的每一个元件的比例与实际比例不同，因此本公开内容不限于所示比例。

图1是示出根据本公开内容的一个实施方式的显示装置10的平面图，图2是示出根据本公开内容的一个实施方式的显示装置10的透视图，以及图3是沿着图2所示的线I-I’截取的截面图。

参照图1至图3，根据本公开内容的一个实施方式的显示装置10包括布置在第一玻璃基板110上方的显示区域DA和围绕显示区域DA的非显示区域NDA，并且显示装置10还包括柔性基板200。

显示区域DA是其中显示图像的区域，并且可以包括多个像素。显示区域DA可以由第一玻璃基板110的第一平坦表面110a支承。多个像素可以以矩阵的形式布置，所述像素中的每一个可以包括子像素。显示区域DA可以大体上具有矩形形状。然而，本公开内容的实施方式不限于矩形形状，并且显示区域DA可以具有随机的多边形形状。例如，根据显示装置的形状，显示区域DA可以具有三角形、五边形形状和六边形形状。在本公开内容中，为了便于描述，将描述按照矩形形状显示装置10的具有矩形形状的显示区域DA。

非显示区域NDA是围绕显示区域DA的区域，并且在非显示区域NDA中可以布置用于驱动显示区域DA的元件和电路线。

弯曲区域BA可以被限定为设置成使得显示装置10被部分地弯曲的区域。因此，根据本公开内容的一个实施方式的显示装置10可以根据弯曲区域BA的弯曲而弯曲成具有一定的曲率半径。

此外，在根据本公开内容的一个实施方式的显示装置10中，可以限定平坦区域FA、弯曲区域BA和后平坦区域RFA。在这种情况下，由于弯曲区域BA与前述弯曲区域相同，因此将省略其描述。

平坦区域FA可以被限定为与第一玻璃基板110的第一平坦表面110a交叠的区域。此外，平坦区域FA可以包括与显示区域DA交叠的区域，以及围绕显示区域DA的预定非显示区域NDA。

后平坦区域RFA可以被限定为与第二玻璃基板120的第二平坦表面120a交叠并且不与弯曲区域BA交叠的区域。后平坦区域RFA可以设置有面板驱动电路800。

第一玻璃基板110可以包括被设置成与弯曲区域BA交叠的第一蚀刻表面110b。在这种情况下，第一蚀刻表面110b与弯曲区域BA交叠的情况可以意指第一蚀刻表面110b朝向与弯曲区域BA交叠的柔性基板200的后表面。此外，如果显示装置10的弯曲区域BA未设置有第一蚀刻表面110b，则由于显示装置10不可以被弯曲，因此显示装置10的弯曲区域BA可以被限定成与第一蚀刻表面110b交叠。

此外，第一玻璃基板110可以包括第一平坦表面110a以及布置在第一平坦表面110a的一侧处的第一蚀刻表面110b，并且还可以包括面对第一平坦表面110a的第一后表面110c。

此外，第一玻璃基板110可以由作为在第一平坦表面110a与第一蚀刻表面110b之间的边界的第一端E1以及作为在第一蚀刻表面110b与第一后表面110c之间的边界的第二端E2限定。第一蚀刻表面110b的倾斜可以由连接第一端E1和第二端E2的倾斜表面限定。参照图2和图3，尽管第一蚀刻表面110b被示出为具有凸形弯曲表面，但是本公开内容的实施方式不限于该示例。稍后将参照图9A和图9B及图10A至图10D描述第一蚀刻表面110b的各种形状。

第二玻璃基板120可以包括被设置成与弯曲区域BA交叠的第二蚀刻表面120b。在这种情况下，第二蚀刻表面120b与弯曲区域BA交叠的情况可以意指第二蚀刻表面120b朝向与弯曲区域BA交叠的柔性基板200的后表面。此外，如果显示装置10的弯曲区域BA未设置有第二蚀刻表面120b，则由于显示装置10不可以被弯曲，因此显示装置10的弯曲区域BA可以被限定成与第二蚀刻表面120b交叠。

此外，第二玻璃基板120可以包括第二平坦表面120a以及布置在第二平坦表面120a的一侧处的第二蚀刻表面120b，并且还可以包括面对第二平坦表面120a的第二后表面120c。

第一玻璃基板110和第二玻璃基板120可以包括玻璃材料。根据一个示例的第一玻璃基板110和第二玻璃基板120可以具有0.01mm至1.0mm的厚度，以保持第一平坦表面110a和第二平坦表面120a的平坦度或者防止水或氧气渗透至显示装置10中。然而，第一玻璃基板110和第二玻璃基板120的厚度不限于上述示例，并且可以根据显示装置10的设计条件而改变。

此外，如果第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b如图3所示形成，可以认为蚀刻表面具有底切UC结构或倒锥形形状。在这种情况下，底切UC可以意指：当假设第二端E2和第四端E4对应于开口图案时，第一端E1和第三端E3形成为比用于蚀刻的开口图案更宽。稍后将参照图9A和图9B及和图10A至图10D描述第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b的详细结构。

由于通过玻璃蚀刻工艺同时形成根据本公开内容的一个实施方式的第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b，因此这些蚀刻表面可以具有蚀刻工艺误差范围内的相同形状。例如，如果第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b以流线形形状形成，则这些蚀刻表面可以具有相同的圆曲率或椭圆曲率。如果第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b以倾斜形状形成，则这些蚀刻表面可以具有相同的倾斜度。如果第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b以阶梯形状形成，则这些蚀刻表面可以以具有相同阶梯差的阶梯形状形成。

根据一个示例，第一玻璃基板110和第二玻璃基板120可以包括但不限于钠钙玻璃或非碱玻璃。第一玻璃基板110和第二玻璃基板120可以包括被广泛用于制造平面显示面板的玻璃。此外，第一玻璃基板110和第二玻璃基板120可以包括蓝宝石玻璃和大猩猩玻璃中的任何一个或沉积结构。

根据一个示例的第一玻璃基板110可以具有0.01mm至1mm的厚度以保持显示装置10的平坦度或者防止水或氧气渗透至显示装置10中，但是其厚度可以根据显示装置10的尺寸改变而不限于该示例。根据另一示例的第一玻璃基板110可以具有0.01mm至0.5mm的厚度以与显示装置10一起弯曲，同时防止水或氧气渗透至显示区域的像素阵列层310中，但是其厚度可以根据显示装置10的尺寸改变而不限于该示例。

柔性基板200可以与弯曲区域BA交叠，并且可以形成为与第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b交叠。此外，如图1和图2所示，柔性基板200可以被设置在第一平坦表面110a和第二平坦表面120a上方。

柔性基板200可以包括例如聚酰亚胺、光丙烯酸、聚氨酯和基于硅的有机物质中的任何一种。柔性基板200可以以一定厚度形成在与第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b、第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b和第二平坦表面120a交叠的区域中，并且然后通过硬化工艺来硬化。

柔性基板200的厚度可以被设置为10μm或更小。如果柔性基板200的厚度超过10μm，则在弯曲区域BA和显示区域DA的边界部分中可能出现阶梯差，并且很可能由于由可能出现的阶梯差引起的应力的出现而导致与弯曲区域BA的柔性基板200交叠的链接线部分410的断开。

柔性基板200可以由对用于图8A至图8C所述的玻璃蚀刻的蚀刻溶液具有优异的耐性的材料形成，所述材料同时包括具有柔性的塑料材料。在这种情况下，作为用于蚀刻玻璃基板110和玻璃基板120的蚀刻溶液，可以使用氢氟酸HF或硝酸HNO₃，或者可以使用已知的蚀刻溶液。

柔性基板200可以包括例如聚酰亚胺、光丙烯酸、聚氨酯和基于硅的有机物质中的任何一种。更优选地，柔性基板200可以包括不透明或彩色的聚酰亚胺(PI)。柔性基板200可以以一定厚度形成在与第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b、第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b和第二平坦表面120a交叠的区域中，并且然后通过硬化工艺来硬化。

根据本公开内容的一个实施方式的显示装置10还可以包括顺序地形成在显示区域DA的第一玻璃基板110的第一平坦表面110a上方的像素阵列层310、外覆层320、触摸传感器层330和功能膜340。此外，如图1至图3所示，柔性基板200可以被设置在不与显示区域DA交叠的非显示区域NDA中。

此外，如图3所示，柔性基板200的至少一部分可以形成为与平坦区域FA和后平坦区域RFA以及弯曲区域BA交叠，所述平坦区域FA和后平坦区域RFA邻近于弯曲区域BA。如果柔性基板200的至少一部分形成为与邻近于弯曲区域BA的平坦区域FA和后平坦区域RFA交叠，则可以改进对于第一玻璃基板110和第二玻璃基板120的蚀刻工艺的稳定性，从而可以提高显示装置10的可靠性。

像素阵列层310包括设置在由像素驱动线限定的像素区域中的多个像素以根据提供至像素驱动线的信号显示图像，所述像素驱动线设置在显示区域DA上方。在这种情况下，像素驱动线可以包括数据线、栅极线和像素驱动电源。像素中的每一个像素可以包括像素电路层、阳极电极层、自发光二极管层和阴极电极层。

像素电路层设置在每个像素区域的晶体管区域中，并且根据从相邻像素驱动线提供的信号进行驱动，以控制自发光二极管层的发光。根据一个示例的像素电路层可以包括至少两个薄膜晶体管和至少一个电容器，所述至少两个薄膜晶体管包括设置在第一玻璃基板110上方限定的每个像素区域的晶体管区域中的驱动薄膜晶体管。在这种情况下，像素电路层可以包括非晶薄膜晶体管(a-Si TFT)、多晶硅薄膜晶体管(poly-Si TFT)、氧化物TFT和有机TFT中的至少一个TFT。阳极电极层可以与驱动薄膜晶体管电连接。

自发光二极管层形成在阳极电极层上方，该阳极电极层设置在每个像素的开口区域中。在这种情况下，每个像素区域的开口区域可以由堤部图案限定，该堤部图案形成在外覆层上方以覆盖阳极电极层的边缘。

根据一个示例的自发光二极管层可以包括有机发光二极管、量子点发光二极管或无机发光二极管。例如，自发光二极管层可以形成在顺序地沉积的空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层和电极注入层的沉积结构中。在这种情况下，可以省略空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层中的一个或两个或更多个。有机发光层可以形成为每个像素发射相同颜色的光例如白光，或者可以形成为每个像素发射不同颜色的光例如红光、绿光或蓝光。

阴极电极层形成在第一玻璃基板110上方以共同地连接至设置在每个像素区域中的自发光二极管层。

此外，像素阵列层310还可以包括焊盘部分和栅极驱动电路。

焊盘部分可以包括设置在第一玻璃基板110的至少一侧的边缘处的多个焊盘电极。多个焊盘电极中的每一个焊盘电极通过多个链接线中的每一个链接线与设置在像素阵列层310中的像素驱动线电连接，并且与栅极驱动电路电连接。焊盘部分与面板驱动电路800电连接，并且通过链接线部分410将从面板驱动电路800提供的信号提供至设置在像素阵列层310中的像素驱动线和栅极驱动电路。

栅极驱动电路850可以设置在第一玻璃基板110的左边缘和/或右边缘处，以与多个栅极线中的每一个栅极线的一端和/或另一端连接。栅极驱动电路响应于通过焊盘部分提供的栅极控制信号来生成栅极信号，并且将所生成的栅极信号提供至多个栅极线中的每一个栅极线。栅极驱动电路可以是但不限于使用每个像素的薄膜晶体管的制造工艺一起形成的栅极内置电路。

外覆层320形成在第一玻璃基板110上方以围绕像素阵列层310。外覆层320可以形成为保护像素阵列层310免受外部冲击，并且可以用于防止氧气和/或水和颗粒渗透至像素阵列层310中。外覆层320可以被称为封装层。

根据一个示例的外覆层320可以包括至少一个无机膜。外覆层320还可以包括至少一个有机膜。例如，外覆层320可以包括第一无机封装层、有机封装层和第二无机封装层。第一无机封装层和第二无机封装层可以包括硅氧化物SiO_x、硅氮化物SiN_x、硅氧氮化物SiON、钛氧化物TiO_x和铝氧化物AlO_x中的至少一种无机材料。有机封装层可以由丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂和苯并环丁烯树脂的有机材料中的任何一种制成。有机封装层可以表示为颗粒覆盖层。

触摸传感器层330可以设置在外覆层320的上表面上方。触摸传感器层包括互电容型或自电容型触摸传感器或者具有根据用户的触摸产生的电容变化的触摸电极。

根据一个示例的触摸传感器层330可以包括：布置在与像素阵列层310交叠的外覆层320上方的触摸电极层；以及覆盖触摸电极层的介电层。可选地，触摸传感器层330可以形成在覆盖外覆层320的触摸缓冲层上方。触摸电极层可以包括以恒定间隔布置在与像素阵列层310交叠的外覆层320上方的多个触摸驱动电极，以及与多个触摸驱动电极电绝缘的多个触摸感测电极。触摸感测电极可以布置在与触摸驱动电极相同的层上方，或者通过插入介电层布置在与触摸驱动电极不同的层上方。

根据另一示例的触摸传感器层330可以被已知的电容类型的触摸面板替代。在这种情况下，可以通过透明粘合构件将触摸面板附接至外覆层320上。在这种情况下，透明粘合构件可以包括压敏粘合剂(PSA)、光学透明粘合剂(OCA)或光学透明树脂(OCR)。

可选地，触摸传感器层330可以布置在功能膜340上方。在这种情况下，功能膜340可以布置在触摸传感器层330与外覆层320之间。

功能膜340设置在触摸传感器层330上方，并且通过使从像素阵列层310的每个像素发出的光偏振或防止外部光反射来改善显示装置10的光学特性。例如，功能膜340通过将由薄膜晶体管和/或设置在每个像素中的线反射的外部光改变成圆偏振状态来改善显示装置10的可视性和对比度。例如，根据一个示例的功能膜340可以包括圆偏振器。可选地，可以以包括圆偏振器的膜类型形成偏振层，并且通过粘合剂将该偏振层附接至触摸传感器层上。

如图3所示，第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b可以由第一玻璃基板110的第一平坦表面的第一端E1和第一后表面的端E2限定，以及第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b可以由第二玻璃基板120的第二平坦表面的端E3和第二后表面的端E4限定。第一玻璃基板110可以包括第一平坦表面110a，和布置在第一平坦表面110a的一侧处的第一蚀刻表面110b，并且还可以包括面对第一平坦表面110a的第一后表面110c。

链接线部分410可以是但不限于数据链接线和栅极链接线中的一个。

根据一个示例，链接线部分410可以由具有优异的柔韧性和导电性的材料形成，以减少在弯曲区域BA的弯曲期间的裂纹的出现。例如，链接线部分410可以由与构成像素阵列层310的薄膜晶体管的源电极或漏电极的导电材料相同的导电材料通过相同的工艺形成，但也可以由另一材料形成而不限于上面的示例。

平坦化层420可以防止出现水渗透至链接线中，同时保护链接线部分410的链接线免受外部冲击。

此外，平坦化层420可以大体上具有平坦的上表面，而不管布置在平坦化层420下方的链接线部分410的图案如何。根据一个示例，平坦化层420可以由与在制备了像素阵列层310的晶体管之后形成的平坦化层的材料相同的材料形成。

例如，平坦化层420可以由但不限于丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚亚苯基树脂、聚苯硫醚树脂和苯并环丁烯中的任何一种或更多种材料形成。

微覆层430可以用作通过在弯曲位置中以薄厚度形成树脂来保护线，因为可能由于在弯曲期间作用于布置在柔性基板200上的链接线部分410中的拉力而出现裂纹。微覆层430可以由基于丙烯酸的材料例如丙烯酸酯聚合物制成。

微覆层430可以控制弯曲区域BA的中性平面。中性平面可以意指虚拟平面，对于该虚拟平面，当结构弯曲时，未施加的作为压缩力的应力与施加于结构的张力是平衡的。如果两个或更多个结构被沉积，则可以在结构之间形成虚拟中性平面。如果结构在一个方向上被弯曲，则通过弯曲来压缩基于中性平面在弯曲方向上布置的结构，从而将压缩力施加至结构。相反，通过弯曲来拉伸基于中性平面在与弯曲方向相反的方向上布置的结构，从而将张力施加至结构。由于所述结构对于张力比压缩力更容易受到损伤，因此当将张力施加于所述结构时，很可能出现裂纹。

由于基于中性平面布置在下部的柔性基板200被压缩，因此可以将压缩力施加至柔性基板200，并且可以将张力施加至布置在上部的链接线部分410，从而可能由于张力而出现裂纹。因此，微覆层430可以布置在中性平面上方以使施加至链接线部分410的张力最小化。

微覆层430可以布置在弯曲区域BA上方以沿向上的方向上升中性平面，并且中性平面可以形成在与线相同的位置处，或者该线可以布置成比中性平面更高，从而在弯曲期间可以不施加应力或者可以施加压缩力来减少裂纹的出现。

面板驱动电路800可以被封装在第二玻璃基板120中，以将用于显示图像的信号提供至像素阵列层310。根据一个示例的面板驱动电路800可以包括柔性电路膜830和驱动集成电路810。柔性电路膜830可以通过膜附接工艺附接至第二玻璃基板120的一侧。

驱动集成电路810通过芯片接合工艺或表面封装工艺被封装在柔性电路膜830中。驱动集成电路810基于时序同步信号和从外部显示驱动系统提供的图像数据来生成数据信号和栅极控制信号，将数据信号提供至每个像素的数据线，并且将栅极控制信号提供至栅极驱动电路。

可选地，驱动集成电路810可以通过被封装在第二玻璃基板120中而不被封装在柔性电路膜830中来电连接至焊盘部分，并且可以电连接至像素驱动信号线和栅极驱动电路中的每一个。在这种情况下，柔性电路膜830用作中继焊盘部分与显示驱动系统之间的信号传输。

在根据本公开内容的一个实施方式的显示装置10中，像素阵列层310直接形成在第一玻璃基板110的第一平坦表面110a上方而没有单独的构件。柔性基板200可以不布置在第一平坦表面110a上方，并且像素阵列层310可以直接形成在第一玻璃基板110上方。因此，在根据本公开内容的一个实施方式的显示装置10中，由于显示区域DA不需要布置在薄膜晶体管下方的牺牲层、层间介电层或缓冲层，因此简化了工艺并且降低了成本。

图4是示出根据本公开内容的一个实施方式的显示装置的透视图，以及图5是沿着图4所示的线II-II’截取的截面图。

如图4和图5所示，第二玻璃基板120可以以180°朝向显示装置10的内侧弯曲，并且可以弯曲成使得第二玻璃基板120的第二后表面120c面对第一玻璃基板110的第一后表面110c。此外，在第二玻璃基板120的第二后表面120c与第一玻璃基板110的第一后表面110c之间还可以布置用于将第二玻璃基板120的第二后表面120c固定至第一玻璃基板110的第一后表面110c的粘合构件700。

由于柔性基板200布置成以弯曲形状通过玻璃蚀刻工艺在第一玻璃基板110上方的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120上方的第二蚀刻表面112b上方弯曲，因此根据本公开内容的一个实施方式的柔性显示装置10可以具有最小化的边框区域。更详细地，不同于常规显示装置，由于第一玻璃基板110的第一后表面110c和第二玻璃基板120的第二后表面120c没有被布置在同一线上方，因此第二玻璃基板120的第二后表面120c具有弯曲结构以面对第一玻璃基板110的第一后表面110c，从而可以设置非显示区域NDA被最小化的显示装置10。

可以通过基于过蚀刻条件的玻璃蚀刻工艺形成根据本公开内容的一个实施方式的第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b。在这种情况下，过蚀刻条件可以由在参考蚀刻时间或更长时间内执行的玻璃蚀刻工艺来限定，该蚀刻时间被设置成蚀刻一定厚度的玻璃。

第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b可以以下述方式形成：在玻璃基板(未示出)的后表面下方形成掩模图案，该掩模图案与除了弯曲区域BA以外的其他区域FA和RFA交叠，并且然后基于过蚀刻条件通过使用掩模图案作为掩模的玻璃蚀刻工艺以倾斜形状蚀刻与弯曲区域BA交叠的玻璃基板的区域。在这种情况下，玻璃基板(未示出)意指在通过玻璃蚀刻工艺将第一玻璃基板110和第二玻璃基板120彼此分离之前的玻璃基板。

第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b可以形成为具有凸形弯曲形状的倾斜表面。在这种情况下，第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b的横截面积可以随着这些蚀刻表面变得远离第一平坦表面110a和第二平坦表面120a而增大。例如，第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b的横截面积和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b的横截面积可以由基于与第一平坦表面110a和第二平坦表面120a平行的水平面切割的水平切割表面的尺寸来限定。第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b可以被指定为具有倒锥形形状。

根据本公开内容的一个实施方式的显示装置10还可以包括布置在功能膜340上方的粘合层350和设置在粘合层350上方的覆盖窗500。

粘合层350可以包括压敏粘合剂、泡沫型粘合剂、液体粘合剂、光固化粘合剂或另一合适的粘合剂材料。在一些实施方式中，粘合层350可以由压缩材料形成或包括压缩材料，并且因此可以用作用于被粘合层350粘合的部分的缓冲构件。例如，粘合层350的材料可以被压缩。粘合层350可以形成在多层结构中，所述多层结构包括布置在粘合材料层的上层和下层之间的缓冲层。

覆盖窗500可以布置成覆盖显示装置10的前表面和弯曲区域BA，并且可以用于保护显示装置10免受外部冲击。根据一个示例的覆盖窗500可以由透明材料、玻璃材料或增强玻璃材料制成。

此外，显示装置10还可以包括用于将第一玻璃基板110的第一后表面110c固定至第二玻璃基板120的第二后表面120c的粘合构件700，但是可以根据显示装置10的设计省略粘合构件700。粘合构件700可以是但不限于光学透明粘合剂(OCA)、光学透明树脂(OCR)、压敏粘合剂(PSA)、双面粘合剂或双面胶带。

如图4和图5所示，根据本公开内容的一个实施方式，与弯曲区域BA交叠的第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b可以被设置成与柔性基板200直接接触。此时，由于第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b可以引导柔性基板200以及弯曲区域的链接线部分410的弯曲，因此这些蚀刻表面可以被称为弯曲引导部。

由于通过玻璃蚀刻工艺同时分别形成根据本公开内容的一个实施方式的第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b，因此这些蚀刻表面可以具有蚀刻工艺误差范围内的相同形状。例如，如果第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b以流线形形状形成，则这些蚀刻表面可以具有相同的曲率；如果第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b以倾斜形状形成，则这些蚀刻表面可以具有相同的倾斜度；或者如果第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b以阶梯形状形成，则这些蚀刻表面可以以具有相同阶梯差的阶梯形状形成。

图6A是示出布置在柔性基板上方的链接线部分的简要平面图，以及图6B是沿着图6A所示的线III-III’截取的截面图。

图6A是示出布置在柔性基板200上方的链接线部分410的简要平面图，并且为了方便描述，省略了玻璃基板、平坦化层420和微覆层430。在图6A中，链接线部分410可以是连接至像素的数据线或栅极驱动电路850的电路线。图6A中的链接线部分410可以布置在非显示区域NDA中，并且可以布置成与柔性基板200和弯曲区域BA交叠。

如图6A所示，布置成包括弯曲区域BA的链接线部分410的至少一部分形成为延伸至不同于弯曲方向的倾斜方向，从而可以使拉力最小化以减少裂纹的出现。可以以(但不限于)菱形形状、三角波形形状、正弦波形形状、梯形形状等设置线的形状。

此时，链接线部分410的图案之间的距离D1可以被设置成10μm至30μm的距离，并且链接线部分410与垂直线之间的角度θ1可以被设置成60°至80°的角度。然而，本公开内容的实施方式不限于该示例。图6A的链接线部分410的图案形成在与弯曲区域BA相对应的区域中，从而可以分散在弯曲区域BA的弯曲期间产生的应力。

参照图6B，多个链接线部分410可以布置在柔性基板200上方，并且可以被平坦化层420和微覆层430覆盖。

平坦化层420可以由但不限于丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚亚苯基树脂、聚苯硫醚树脂和苯并环丁烯中的任何一种或更多种材料形成。

微覆层430可以通过在弯曲位置中以薄厚度涂覆树脂来保护线。因为可能由于在弯曲期间作用于布置在柔性基板200上方的链接线部分410中的拉力而出现裂纹。微覆层430可以由基于丙烯酸的材料例如丙烯酸酯聚合物制成。

图7A是示出布置在柔性基板上方的链接线部分的简要平面图，以及图7B是沿着图7A所示的线IV-IV’截取的截面图。

图7A是示出布置在柔性基板200上方的链接线部分410的简要平面图，并且为了便于描述，省略了玻璃基板、平坦化层420和微覆层430。在图7A中，链接线部分410和412可以是用于驱动像素阵列层310的像素的电源线VDLSS和VDLDD。图7A的链接线部分411和412可以布置在非显示区域NDA中，并且可以布置成与柔性基板200和弯曲区域BA交叠。如果链接线部分411和412布置成与弯曲区域BA交叠，则由于弯曲而可能对链接线部分施加应力或拉应力，从而可能产生由裂纹引起的断开。

如图7A所示，可以以菱形形状形成布置成包括弯曲区域BA的链接线部分411和412的至少一部分，所述菱形形状包括与弯曲方向不同的倾斜方向，从而可以使拉力最小化以减少裂纹的出现。可以以但不限于三角波形形状、正弦波形形状、梯形形状等设置线的形状。

此时，链接线部分411和412的图案之间的距离D2可以被设置成50μm至70μm的距离，并且链接线部分411和412与垂直线之间的角度θ2可以被设置成60°至80°的角度。然而，本公开内容的实施方式不限于该示例。图7A的链接线部分411和412的图案形成在与弯曲区域BA相对应的区域中，从而可以分散在弯曲区域BA的弯曲期间产生的应力。

参照图7B，链接线部分411和412中的一个411可以布置在柔性基板200上方，以及另一个412可以布置在第一平坦化层421上方。如图7B所示，链接线部分411和412可以形成为布置在彼此不同的链接线部分411和412相应的层上方。此外，可以由第二平坦化层422覆盖布置在第一平坦化层421上方的链接线部分412。

图8A至图8C是示出根据本公开内容的显示装置中的第一玻璃基板的第一蚀刻表面和第二玻璃基板的第二蚀刻表面的制造方法的截面图。

首先，参照图8A，柔性基板200形成在与玻璃基板100的弯曲区域BA相对应的上表面上方，并且包括像素阵列层310、第一外覆层320、触摸传感器层330和功能膜340的像素部分形成在与玻璃基板100的显示区域DA相对应的上表面上方。然后，在玻璃基板100的除了预设玻璃蚀刻区域之外的后表面下方形成玻璃蚀刻掩模图案MP。在这种情况下，玻璃蚀刻掩模图案MP可以包括与显示装置10的弯曲区域BA相对应的开口部OP。

接着，如图8B所示，与玻璃基板100的玻璃蚀刻掩模图案MP的开口部OP交叠的部分通过利用将玻璃蚀刻掩模图案MP用作掩模的玻璃蚀刻工艺进行蚀刻来被去除，从而将玻璃基板100分成支承显示区域DA的第一玻璃基板110和支承非显示区域NDA的第二玻璃基板120。形成了与显示装置10的弯曲区域BA交叠的第一玻璃基板的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b。在这种情况下，可以通过湿蚀刻工艺而不是干蚀刻工艺来执行玻璃蚀刻工艺。

此外，第一玻璃基板110的第一平坦表面110a的第一端El、第一后表面的第二端E2、第二玻璃基板120的第二平坦表面120a的第三端E3和第二后表面的第四端E4可以通过玻璃基板的蚀刻工艺来限定。如果根据本公开内容的一个实施方式的显示装置10的第二玻璃基板120弯曲，则第二端E2和第四端E4可以彼此邻接，并且在第一玻璃基板110的第一平坦表面的端E1与第二玻璃基板120的第二平坦表面的端E3之间的区域可以被限定为弯曲区域BA。

第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b可以用作以弯曲形状引导与弯曲区域BA相对应的柔性基板200的弯曲。因此，可以通过过蚀刻条件执行根据本公开内容的玻璃蚀刻工艺以形成具有凸形截面形状的第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b。在这种情况下，过蚀刻条件可以通过玻璃蚀刻工艺来限定，该玻璃蚀刻工艺通过超过可以蚀刻一定厚度的玻璃基板的参考蚀刻时间来执行。如果执行基于过蚀刻条件的玻璃蚀刻工艺，则根据蚀刻时间的流逝从第一玻璃基板110的后表面110c和第二玻璃基板120的后表面120c到邻近于柔性基板200的后表面的第一玻璃基板110的平坦表面110a和第二玻璃基板120的平坦表面120a发生过蚀刻，从而在柔性基板200的后表面与第一玻璃基板110的平坦表面110a和第二玻璃基板120的平坦表面120a之间可以出现底切UC，并且因此第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b可以具有倒锥形形状。在这种情况下，由于按照执行成超过参考蚀刻时间的蚀刻工艺时间部分地过蚀刻邻近于柔性基板200的第一玻璃基板110和第二玻璃基板120，因此可以形成底切UC。

接着，参照图8C，可以将弹性构件600选择性地布置在通过玻璃蚀刻而暴露于柔性基板200的下部的与弯曲区域BA交叠的区域中。如果弯曲区域BA弯曲，则弹性构件600可以缓冲弯曲区域BA的弯曲，并且可以用作防止水渗透至第一玻璃基板110与第二玻璃基板120之间的空间中。

根据本公开内容的一个实施方式，具有防潮特性的防潮绝缘构件可以用作弹性构件600，并且弹性构件600可以是环氧基树脂。可以将已知为塔菲胶的防潮绝缘构件用作弹性构件600。

具有优异的防潮特性的材料可以用作弹性构件600，例如，诸如塔菲胶的材料可以用作弹性构件600。弹性构件600可以被应用以沉积在柔性基板200的后表面下方，并且可以形成为与弯曲区域BA交叠。

弹性构件600可以被填充(或掩埋)以与第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b、第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b和柔性基板200交叠。弹性构件600可以防止水或氧气通过与第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b邻近的柔性基板200渗透至显示装置10中。此外，弹性构件600可以防止与第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b邻近的柔性基板200在显示装置10的反复弯曲(或折叠)期间被损坏。

由于弹性构件600形成为与和显示装置10的弯曲区域BA交叠的柔性基板200和第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b以及第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b交叠，因此可以基于中性平面的位置设置弹性构件600的基于宽度和厚度的形状，所述中性平面的位置基于在显示装置10的弯曲区域BA的弯曲(或折叠)期间施加至显示装置10的弯曲区域BA的压缩应力和拉应力。

根据一个示例的弹性构件600可以以下述方式形成：例如有机树脂的液体树脂通过喷射工艺或分配工艺被填充(或埋入)在柔性基板200与第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b以及第二玻璃基板的第二蚀刻表面120b之间，并且然后通过光硬化工艺被硬化。

当弹性构件600由液态树脂制成时，弹性构件600可以被填充(或渗透)至与第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b邻近的、在柔性基板200与玻璃基板之间的间隙中。为此，弹性构件600可以包括具有防潮特性同时具有粘合特性的材料，并且可以包括通过UV硬化的光学结合剂。例如，弹性构件600可以包括基于丙烯酸或基于硅的有机粘合材料。弹性构件600可以具有100％或更高的伸长率。

此外，根据一个示例的弹性构件600可以具有预定的粘合特性，同时具有100％或更高的伸长率。因此，如果第二玻璃基板120的第二后表面120c朝向第一玻璃基板110的第一后表面110c弯曲，则第一后表面110c和第二后表面120c的弯曲状态可以被固定。

图9A和图9B是沿着线II-II’截取的截面图的另一示例。

参照图9A，第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b的至少一部分具有倒锥形形状或底切UC结构，并且可以包括大体上平行于第三方向Z的垂直蚀刻表面。

因此，可以设置图9A所示的显示装置10，使得第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b的至少一部分与柔性基板200接触，并且第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b的至少一部分不与柔性基板200接触。因此，在图9A的显示装置10中，与弯曲区域BA交叠的柔性基板200、链接线部分410和微覆层430可以以预定距离彼此间隔开以具有自由度。

如图9B的截面图所示，如果第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b的至少一部分不与柔性基板200接触，则可以在柔性基板200下方附加的设置弹性构件600。因此，由于在柔性基板200的下方附加的设置了弹性构件600，因此弹性构件600可以支承与弯曲区域BA交叠的柔性构件200。在这种情况下，弹性构件600可以用作诸如防潮构件、填充构件或伸长构件的术语。弹性构件600可以布置在与弯曲区域BA交叠的柔性构件200的后表面下方。此外，尽管图9B示出了在第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b与柔性基板200之间未沉积有弹性构件600，但是弹性构件600可以被设置成填充在第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b与柔性基板200之间的微小间隙。

图10A至图10D是沿着线II-II’截取的截面图的另一示例。

参照图10A至图10D，第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b可以具有正锥形形状和弯曲表面，并且可以设置成不与柔性基板200接触。

可以通过根据软蚀刻条件的玻璃蚀刻工艺形成根据本公开内容的一个实施方式的第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b。在这种情况下，软蚀刻条件可以由玻璃蚀刻工艺来限定，该玻璃蚀刻工艺所执行的时间小于被设置成蚀刻一定厚度的玻璃的参考蚀刻时间。

第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b可以以下述方式形成：在玻璃基板(未示出)的后表面下方形成掩模图案，该掩模图案与除了弯曲区域BA之外的其他区域FA和RFA交叠，并且然后基于软蚀刻条件通过使用掩模图案作为掩模的玻璃蚀刻工艺、以倾斜形状蚀刻与弯曲区域BA交叠的玻璃基板的区域。在这种情况下，玻璃基板(未示出)意指在通过玻璃蚀刻工艺将第一玻璃基板110和第二玻璃基板120彼此分离之前的玻璃基板。

第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b可以形成为具有凸形弯曲形状或线性形状的倾斜表面。在这种情况下，第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b的截面积和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b的横截面积可以随着这些蚀刻表面变得远离第一平坦表面110a和第二平坦表面120a而减小。例如，第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b的截面积和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b的截面积可以由基于与第一平坦表面110a和第二平坦表面120a平行的水平面切割的水平切割表面的尺寸来限定。第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b可以被指定为具有正锥形形状。

如图10A至图10C所示，根据本公开内容的一个实施方式的第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b可以具有正锥形结构，并且因此可以不与柔性基板200接触。此外，如图10C所示，显示装置10还可以包括设置在柔性基板200下方的弹性构件600。

参照图10D，第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b可以具有不锋利的圆形边缘端或残端。具有圆形边缘端或残端的第一玻璃基板110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃基板120的第二蚀刻表面120b的结构可以是在支承柔性基板200时应力缓慢分散的结构，从而可以提高显示装置10的可靠性。此外，尽管图10D示出了在第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b与柔性基板200之间未沉积弹性构件600，但是弹性构件600可以被设置成填充第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b与柔性基板200之间的微小间隙。

由于根据本公开内容的一个实施方式的显示装置10提供了在显示区域DA中未布置柔性基板200的结构，因此可以改善在显示区域DA中可能出现的由柔性基板200引起的亮度特性或残留图像特性，从而可以减少缺陷率并且可以提高成品率。

图11是示出根据本公开内容的一个实施方式的显示装置的平面图，以及图12是沿着图11所示的线V-V’截取的截面图。在图11和图12的显示装置中，外覆层320、功能膜340、粘合层350和覆盖窗500与图1至图10D中的显示装置10中的外覆层320、功能膜340、粘合层350和覆盖窗500相同，并且将省略其重复描述。

参照图11和图12，根据本公开内容的一个实施方式的包括孔区域CA、围绕孔区域CA的边框区域BZ以及围绕边框区域BZ的显示区域DA的显示装置20包括：基础基板110，其与孔区域CA、边框区域BZ和显示区域DA交叠；薄膜晶体管T，其设置在基础基板110上方并且与显示区域DA交叠；发光二极管E，其设置在薄膜晶体管T上方并且与薄膜晶体管T电连接；封装部320，其覆盖发光二极管E；以及光学模块910，其布置成与孔区域CA部分地交叠并且布置在基础基板110下方。

根据本公开内容的一个实施方式的显示装置20可以包括至少一个薄膜晶体管T。根据一个实施方式，薄膜晶体管可以包括：有源层ACT；形成在有源层ACT上方的栅电极GE；布置在有源层ACT与栅电极GE之间的栅极绝缘膜GI；连接至有源层ACT的一侧的源电极SE；以及连接至有源层ACT的另一侧的漏电极DE。并且显示装置20还可以包括：层间介电(ILD)层，该层间介电(ILD)层保护薄膜晶体管同时将栅电极GE、源电极SE和漏电极DE彼此间隔开；以及覆盖层CAP，其覆盖薄膜晶体管T。

栅极绝缘层GI布置在基础基板110上方。栅极绝缘层GI可以由硅氮化物SiN_x或硅氧化物SiO_x的单层或者硅氮化物SiN_x和硅氧化物SiO_x的多层形成。栅极绝缘层GI包括用于使源电极SE和漏电极DE中的每一个接触到有源层ACT的源区和漏区中的每一个的接触孔。

可以设置层间介电ILD层以覆盖栅电极GE，并且可以用作保护薄膜晶体管T。可以去除层间介电ILD层的相应区域以使有源层ACT与源电极SE或漏电极DE接触。例如，层间介电ILD层可以包括：源电极SE穿过的接触孔；以及漏电极DE穿过的接触孔。根据一个示例，层间介电层125可以包括SiO₂膜或SiN膜，或者可以包括包含SiO₂膜和SiN膜的多层。

覆盖层CAP可以布置成覆盖稍后将描述的薄膜晶体管T。覆盖层CAP是用于保护薄膜晶体管T的绝缘层。覆盖层CAP可以由硅氮化物SiN_x或硅氧化物SiO_x的单层或者硅氮化物SiN_x和硅氧化物SiO_x的多层形成。覆盖层CAP可以包括用于将发光二极管E的第一电极AE与薄膜晶体管T连接的接触孔。

此外，根据本公开内容的一个实施方式的显示装置20还可以包括触摸传感器平坦化层339。触摸传感器平坦化层339可以形成为覆盖多个触摸电极的上部。此外，可以省略触摸传感器平坦化层339，如果根据一个实施方式的显示装置20不需要触摸功能。

基础基板110可以是透明玻璃基板。基础基板110可以包括但不限于钠钙玻璃或非碱玻璃。基础基板110可以包括被广泛用于制造平面显示面板的玻璃。此外，基础基板110可以包括蓝宝石玻璃和大猩猩玻璃中的任何一种或沉积结构。

在这种情况下，基础基板110可以是图1至图10D中描述的第一玻璃基板110，并且优选地可以是未设置有柔性基板200的基础基板110。

因此，基础基板110可以包括与布置在显示区域DA的一侧处的弯曲区域BA交叠的第一蚀刻表面110b，并且可以沿着第一蚀刻表面110b引导根据本公开内容的一个实施方式的显示装置20的弯曲区域BA的弯曲。

孔区域CA可以形成在显示面板的显示区域DA中的至少一部分中。此外，边框区域BZ可以被限定在孔区域CA与显示区域DA之间。尽管图11示出了孔区域CA形成在显示装置20的上端的中心部分处，但是孔区域CA的位置不限于图11的示例。

孔区域CA可以被限定为其中光学模块910布置在基础基板110的后表面下方以与基础基板110交叠的区域。

边框区域BZ可以被限定为围绕孔区域CA的区域。围绕孔区域CA的边框区域BZ可以被称为缓冲区域。与显示区域DA的结构相比，边框区域BZ可以是由于一些元件被去除而准备的区域。

如图12所示，栅极绝缘层GI、层间介电ILD层和覆盖层CAP可以共同地形成在基础基板110上方，并且如果这些层由透明的无机薄膜形成，则在光学模块910中可能不会出现驱动问题。此外，可以通过选择性地去除来制备与孔区域CA交叠的栅极绝缘层GI、层间介电ILD层和覆盖层CAP。

接着，可以设置薄膜晶体管T和发光二极管E以仅与显示区域DA交叠。详细地，可以设计掩模图案，使得薄膜晶体管T和发光二极管E可以不形成在孔区域CA中，从而薄膜晶体管T和发光二极管E可以仅被设置在显示区域DA中。此外，在发光二极管E的情况下，可以使用精细金属掩模FMM来控制发光层EL和阴极电极CE形成在仅显示区域DA中。

接着，外覆层320可以是包括至少一个无机膜和至少一个有机膜的多层封装膜。如图12所示，外覆层320可以包括第一封装膜321、第二封装膜322和第三封装膜323。在这种情况下，第一封装膜321和第三封装膜323可以是无机封装膜，以及第二封装膜322可以是有机封装膜。如果有机封装膜322由边框区域BZ和孔区域CA形成，则在对通过孔区域CA输入的信息进行识别的光学模块910的驱动中可能出现问题。在本公开内容中，可以使用喷墨方法来控制第二封装膜322不被设置在孔区域CA中。

可以通过图案化工艺来制备触摸传感器平坦化层339以对应于显示区域DA或边框区域BZ。

功能膜340和粘合层350可以被设置成不与边框区域BZ和孔区域CA交叠。功能膜340和粘合层350可以被设置，因为通过打孔工艺去除了与孔区域CA或边框区域BZ交叠的区域。功能膜340的与孔区域CA或边框区域BZ交叠的区域可以通过漂白工艺被选择性地去除。

根据本公开内容的一个实施方式的显示装置20可以被设置成使得柔性基板200仅形成在图1至图10D中描述的弯曲区域BA中。因此，在基础基板110或第一玻璃基板110中可以不形成柔性基板200，从而可以改善光学模块910的驱动条件。

在这种情况下，光学模块910可以是摄像装置模块，并且本公开内容的实施方式不限于该示例。例如，光学模块910可以是照度传感器或指纹传感器。

根据本公开内容的一个实施方式的显示装置20还可以包括在其上方安装有光学模块910的光学模块底座930。根据一个示例，光学模块底座930可以是其中封装有光学模块910的电路板。

对于本领域技术人员来说将明显的是，上述本公开内容不受上述实施方式和附图的限制，并且可以在不脱离本公开内容的精神或范围的情况下，可以在本公开内容中进行各种替换、修改和变型。因此，本公开内容的范围由所附权利要求书限定，并且旨在从权利要求书的含义、范围和等同构思获得的所有变型或修改落入本公开内容的范围内。

可以根据以上详细描述对本实施方式进行这些和其他改变。通常，在所附权利要求书中，所使用的术语不应被解释为将权利要求书限于说明书和权利要求书中公开的具体实施方式，而应被解释为包括所有可能的实施方式以及这样的权利要求书所要求保护的等同内容的全部范围。因此，权利要求不受公开内容的限制。

Claims

1.一种包括显示区域、围绕所述显示区域的非显示区域以及形成在所述非显示区域的至少一侧中的弯曲区域的显示装置，所述显示装置包括：

第一玻璃基板，其被设置在所述显示区域中；

第二玻璃基板，其被设置在所述非显示区域中；以及

柔性基板，其被设置成与所述弯曲区域交叠。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一玻璃基板包括被设置成与所述弯曲区域交叠的第一蚀刻表面。

3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第二玻璃基板包括被设置成与所述弯曲区域交叠的第二蚀刻表面。

4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述柔性基板包括具有对玻璃蚀刻溶液的蚀刻耐性的材料。

5.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述柔性基板包括基于硅的有机物质、聚氨酯、聚酰亚胺和光丙烯酸中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述柔性基板具有10μm或更小的厚度。

7.根据权利要求1所述的显示装置，还包括形成在所述柔性基板的上部处的链接线部分。

8.根据权利要求1所述的显示装置，还包括布置在所述柔性基板下方的弹性构件。

9.根据权利要求8所述的显示装置，其中，所述弹性构件具有100％或更高的伸长率。

10.根据权利要求1所述的显示装置，

其中，所述第一玻璃基板包括与所述显示区域交叠的第一平坦表面和面对所述第一平坦表面的第一后表面，所述第二玻璃基板包括与所述第一后表面间隔开并且布置成面对所述第一后表面的第二后表面，并且

所述显示装置还包括粘合构件，所述粘合构件通过接触所述第一后表面和所述第二后表面中的每一个而将所述第一后表面固定至所述第二后表面。

11.根据权利要求10所述的显示装置，

其中，所述第一玻璃基板的第一蚀刻表面和所述第二玻璃基板的第二蚀刻表面被形成为具有凸形弯曲形状的倾斜表面，以及

其中，所述第一蚀刻表面和所述第二蚀刻表面的横截面积随着所述第一蚀刻表面和所述第二蚀刻表面远离所述第一平坦表面和所述第二玻璃基板的第二平坦表面而增大或减小，所述第二平坦表面与所述第二后表面相对。

12.一种包括孔区域、围绕所述孔区域的边框区域以及围绕所述边框区域的显示区域的显示装置，所述显示装置包括：

基础基板，其与所述孔区域、所述边框区域和所述显示区域交叠；

薄膜晶体管，其被设置在所述基础基板之上并且与所述显示区域交叠；

发光二极管，其被设置在所述薄膜晶体管之上并且与所述薄膜晶体管电连接；

封装部，其覆盖所述发光二极管；以及

光学模块，其被布置成与所述孔区域交叠并且被布置在所述基础基板之下。

13.根据权利要求12所述的显示装置，其中，所述基础基板是透明玻璃基板。

14.根据权利要求12所述的显示装置，还包括光学模块底座，在所述光学模块底座中安装有光学模块。

15.根据权利要求12所述的显示装置，还包括布置在所述显示区域的一侧处的弯曲区域，其中，所述基础基板包括与所述弯曲区域交叠的第一蚀刻表面。

16.根据权利要求12所述的显示装置，还包括布置成面对所述基础基板并且被布置在所述发光二极管之上的覆盖窗。