CN113050825A - 触摸屏的制备方法及触摸屏 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例提供的触摸屏的制备方法及触摸屏，该触摸屏包括基板、第一透明电极层、金属层、第一平坦层和第二透明导电层和第二平坦层，通过使第一透明电极层和第一金属层共用一道光罩，使得该第一透明电极层在基板的第一区域形成对位电极并在基板的第二区域形成过桥电极，且对位电极与过桥电极同步形成。不仅可以使对位电极与第一区域的金属层完全重叠，从而避免由对位不良造成的线路短路，另外，释放出来的制程间隙有利于缩小触控屏的边框，同时节省光罩和一次曝光制程。
Description
技术领域
本发明涉及触摸屏领域，尤其涉及一种触摸屏的制备方法及触摸屏。
背景技术
On Cell是指将触摸屏嵌入到显示屏的彩色滤光片基板和偏光片之间的方法，即在液晶面板上配触摸传感器，相比In Cell技术难度降低不少。由于只需在彩色滤光片基板和偏光板之间形成简单的透明电极图案等，因此容易确保成品率。另外，像素内的有效显示区域的面积也不会减小，几乎不会由此发生画质劣化现象。
目前，On cell技术中的ITO搭桥工艺有5道制程，分别为ITO1制程、Metal制程、OC1制程、ITO2制程和OC2制程。其中，ITO1制程有两个作用，其中一个作用是在搭桥位置用于导通ITO2，此时ITO1上方不用叠加外围金属；另一个作用是叠加设置在外围金属线(Metal)下方，提高金属附着力和降低线路阻抗。
因此，ITO搭桥工艺在不同区域的结构并不相同，而且在外围金属线路(Metal)与ITO1叠加设置时，为预防由于对位不良引起的线路短路不良，线间距设计较大，不利于制造窄边框的产品。
发明内容
本发明的目的在于提供一种触摸屏的制备方法及触摸屏，以解决上述现有技术中存在的技术问题。
本发明解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现的。
本发明提供一种触摸屏的制备方法，包括步骤：
提供一基板，所述基板包括第一区域和第二区域；
在所述基板上依次形成第一透明电极层和金属层；
在形成有所述金属层的所述基板上形成第一平坦层；
在形成有所述第一平坦层的所述基板上形成第二透明电极层；
其中，在所述基板上依次形成第一透明电极层和金属层包括：
在形成有所述金属层的所述基板上形成光阻层；
利用光罩对所述光阻层进行曝光、显影，使所述光阻层在所述第一区域和所述第二区域分别形成对位光阻和过桥光阻；
利用所述对位光阻和过桥光阻依次对所述金属层和所述第一透明电极层进行处理，使所述第一透明电极层在所述基板的所述第一区域和所述第二区域分别形成对位电极和过桥电极，并去除所述第二区域的所述金属层。
在本发明的一个实施例中，在所述基板上依次形成第一透明电极层和金属层还包括：
在所述基板上形成第一透明电极层；
在形成有所述第一透明电极层的所述基板上形成金属层；
在形成有所述金属层的所述基板上形成光阻层；
利用光罩对所述光阻层进行曝光、显影，使所述光阻层在所述第一区域和所述第二区域分别形成对位光阻和过桥光阻，所述过桥光阻的厚度小于所述对位光阻的厚度；
利用所述对位光阻和所述过桥光阻对所述金属层进行处理，使所述金属层在所述第一区域和所述第二区域分别形成对位金属层和过桥金属层；
利用所述对位光阻和所述过桥光阻对所述第一透明电极层进行处理，使所述第一透明电极层在所述第一区域和所述第二区域分别形成所述对位电极与所述过桥电极；
对所述对位光阻和所述过桥光阻进行处理，减小所述对位光阻的厚度，并去除所述过桥光阻以使所述过桥金属层露出；
去除所述过桥金属层；
去除所述对位光阻。
在本发明的一个实施例中，所述光罩为半色调掩膜版(Half Tone Mask)或者灰色调掩膜版(Gray Tone Mask)。
在本发明的一个实施例中，利用所述对位光阻和所述过桥光阻对所述金属层进行处理的步骤具体包括，利用所述对位光阻和所述过桥光阻对所述金属层进行湿蚀刻或者干蚀刻处理；
在本发明的一个实施例中，利用所述对位光阻和所述过桥光阻对所述第一透明电极层进行处理的步骤具体包括：
利用所述对位光阻和所述过桥光阻对所述第一透明电极层进行湿蚀刻或者干蚀刻处理。
在本发明的一个实施例中，对所述对位光阻和所述过桥光阻进行处理，减小所述对位光阻的厚度，并去除所述过桥光阻以使所述过桥金属层露出的步骤具体包括：
对所述对位光阻和所述过桥光阻进行灰化处理，减小所述对位光阻的厚度，并去除所述过桥光阻以使所述过桥金属层露出。
在本发明的一个实施例中，在所述基板的所述第一区域，所述第一透明电极层和金属层位于不同层且相互接触。
在本发明的一个实施例中，所述第一透明电极层和第二透明电极层的材料均选自ITO(氧化铟锡)、AZO(铝掺杂氧化锌)中的任一种。
在本发明的一个实施例中，所述对位金属层和所述对位电极完全重叠。
本发明还提供一种触摸屏，其采用如上任一项所述的触摸屏的制备方法制备而成。
本发明实施例提供的触摸屏的制备方法及触摸屏，该触摸屏包括基板、第一透明电极层、金属层、第一平坦层和第二透明导电层，通过使第一透明电极层和第一金属层共用一道光罩，使得该第一透明电极层在基板的第一区域形成对位电极并在基板的第二区域形成过桥电极，且对位电极与过桥电极同步形成。不仅可以使对位电极与第一区域的金属层完全重叠，从而避免由对位不良造成的线路短路，另外，释放出来的制程间隙有利于缩小触控屏的边框，同时节省光罩和一次曝光制程。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本申请的实施例，并与说明书一起用于解释本申请的原理。为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施中触控屏的触控区的局部平面示意图。
图2为图1中的局部剖面图。
图3为图1中外围走线区的局部结构示意图。
图4a至图4g为本发明实施例中触控屏的制备工艺流程图。
本申请目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。通过上述附图，已示出本申请明确的实施例，后文中将有更详细的描述。这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本申请构思的范围，而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本申请的概念。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术方式及功效，以下结合附图及实施例，对本发明的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。
图1为本发明实施中触控屏的触控区的局部平面示意图，图2为图1中的局部剖面图，图3为图1中外围走线区的局部结构示意图，图4a至图4g为本发明实施例中触控屏的制备工艺流程图。请结合图1至图3以及图4a至图4g，本实施提供一种触控屏，其包括一具有第一区域A1和第二区域A2的基板100，其中，第一区域A1为外围走线区，第二区域A2为触控区，该基板100上依次形成有第一透明电极层11、金属层12、第一平坦层13、第二透明电极层14和第二平坦层15。在基板100的第一区域A1，第一透明电极层11和金属层12位于不同层且相互接触；在基板100的第二区域A2，第一透明电极层11与第二透明电极层14其中一个方向上的电极相接触。本实施例中，第一透明电极层11和第二透明电极层14的材料均选自ITO(氧化铟锡)、AZO(铝掺杂氧化锌)中的任一种；基板100可以采用玻璃或者树脂材质。
请继续参考图1，在基板100的第一区域A1，第一透明电极层11位于金属层12下方且与金属层12完全重叠，此时，第一透明电极层11起到降低阻抗的作用，还可以避免由对位不良造成的线路短路。
请结合图2和图3，在基板100的第二区域A2，第二透明电极层14包括多个纵向设置的第一触控电极141和多个横向设置的第二触控电极142，相邻且位于一条线上的第一触控电极141自身可以利用连通电极143连通，相邻且位于一条线上的第二触控电极142则被隔断开。因此，第一透明电极层11与第一触控电极141绝缘且与第二触控电极142电性连接，以保证相邻且位于一条线上的两个第二触控电极142的导通。
图4a至图4g为本发明实施例中触控屏的制备工艺流程图，请结合图1至图4g，第一透明电极层11包括位于第二区域A2且用来导通第二透明电极层14的过桥电极112，以及位于第二区域且设置在外围金属层12的下方以提高金属附着力并降低阻抗的对位电极111；金属层12包括位于第一区域A1的对位金属层121，该对位金属层121与该对位电极111完全重叠。第二透明电极层14包括位于第二区域A2的第二触控电极，相互绝缘的第二触控电极142之间通过过桥电极112导通。
本实施例提供的触摸屏的制备方法，包括步骤：
提供一基板100，在基板100上依次形成第一透明电极层11和金属层12；
在形成有金属层12的基板100上形成第一平坦层13；
在形成有第一平坦层13的基板100上形成第二透明电极层14；
在形成有第二透明电极层14的基板100上形成第二平坦层15；
其中，在基板100上依次形成第一透明电极层11和金属层12包括：
在形成有金属层12的基板100上形成光阻层21；
利用光罩31对光阻层21进行曝光、显影，使光阻层21在第一区域A1和第二区域A2分别形成对位光阻211和过桥光阻212；
利用对位光阻211和过桥光阻212依次对金属层12和第一透明电极层11进行处理，使第一透明电极层11在基板100的第一区域A1和第二区域A2分别形成对位电极111和过桥电极112，并去除第二区域A2的金属层12。
下面结合附图，针对在基板100上依次形成第一透明电极层11和金属层12的具体步骤进行描述。
请结合图4a，在基板100上依次形成第一透明电极层11和金属层12，在形成有金属层12的基板100上形成光阻层21。
请结合图4b，利用光罩31对光阻层21进行曝光、显影，使光阻层21在第一区域A1和第二区域A2分别形成对位光阻211和过桥光阻212，其中，该光罩31为半色调掩膜版(HalfTone Mask)或者灰色调掩膜版(Gray Tone Mask)，通过使用这两种掩模版之一，可以使过桥光阻212的厚度小于对位光阻211的厚度。
请结合图4c，利用对位光阻211和过桥光阻212对金属层12进行处理，例如可以采用干蚀刻或者湿蚀刻，使金属层12在第一区域A1和第二区域A2分别形成对位金属层121和过桥金属层122。
请结合图4d，利用对位光阻211和过桥光阻212对第一透明电极层11进行处理，例如可以采用干蚀刻或者湿蚀刻，使第一透明电极层11在第一区域A1和第二区域A2分别形成对位电极111与过桥电极112。此时对位电极111与对位金属层121因为利用同样的对位光阻211和过桥光阻212进行蚀刻，因此，对位电极111与对位金属层121可以完全重叠，从而避免由对位不良造成的线路短路，释放出来的制程间隙有利于缩小触控屏的边框，同时节省光罩和一次曝光制程。
请结合图4e，通过灰化同步对过桥光阻212和对位光阻211进行处理，因为过桥光阻212的厚度本身就小于对位光阻211，同步灰化的结果会使得对位光阻211的厚度减小，并使过桥光阻212去除，从而使过桥光阻212下方的过桥金属层122露出。
请结合图4f，对过桥金属层122进行处理，例如可以采用干蚀刻或者湿蚀刻，去除过桥金属层122，使得过桥金属层122下方的过桥电极112露出。
请结合图4g，剥离基板100上的对位光阻211，使得对位光阻211下方的对位金属层121露出。
通过上述步骤，可以使基板100的第一区域A1形成叠加设置的对位电极111与对位金属层121，使基板100的第二区域A2形成裸露的过桥电极112。然后再于基板100的第一区域A1和第二区域A2分别形成第一平坦层13，在第一平坦层13上方依次形成第二透明电极14、第二平坦层15等膜层，在此不再赘述。
本发明的实施例提供的触摸屏，采用如上所述的触摸屏的制备方法制备而成。
本发明提供的触摸屏的制备方法及触摸屏，该触摸屏包括基板、第一透明电极层、金属层、第一平坦层和第二透明导电层，通过使第一透明电极层和第一金属层共用一道光罩，使得该第一透明电极层在基板的第一区域形成对位电极并在基板的第二区域形成过桥电极，且对位电极与过桥电极同步形成。不仅可以使对位电极与第一区域的金属层完全重叠，从而避免由对位不良造成的线路短路，另外，释放出来的制程间隙有利于缩小触控屏的边框，同时节省光罩和一次曝光制程。
在本文中，所涉及的前、后、上、下等方位词是以附图中零部件位于图中以及零部件相互之间的位置来定义的，只是为了表达技术方案的清楚及方便。应当理解，所述方位词的使用不应限制本申请请求保护的范围。
在不冲突的情况下，本文中上述实施例及实施例中的特征可以相互结合。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种触摸屏的制备方法，其特征在于，包括步骤：
提供一基板(100)，所述基板(100)包括第一区域(A1)和第二区域(A2)；
在所述基板(100)上依次形成第一透明电极层(11)和金属层(12)；
在形成有所述金属层(12)的所述基板(100)上形成第一平坦层(13)；
在形成有所述第一平坦层(13)的所述基板(100)上形成第二透明电极层(14)；
其中，在所述基板(100)上依次形成第一透明电极层(11)和金属层(12)包括：
在形成有所述金属层(12)的所述基板(100)上形成光阻层(21)；
利用光罩(31)对所述光阻层(21)进行曝光、显影，使所述光阻层(21)在所述第一区域(A1)和所述第二区域(A2)分别形成对位光阻(211)和过桥光阻(212)；
利用所述对位光阻(211)和过桥光阻(212)依次对所述金属层(12)和所述第一透明电极层(11)进行处理，使所述第一透明电极层(11)在所述基板(100)的所述第一区域(A1)和所述第二区域(A2)分别形成对位电极(111)和过桥电极(112)，并去除所述第二区域(A2)的所述金属层(12)。
2.如权利要求1所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，在所述基板(100)上依次形成第一透明电极层(11)和金属层(12)还包括：
在所述基板(100)上形成第一透明电极层(11)；
在形成有所述第一透明电极层(11)的所述基板(100)上形成金属层(12)；
在形成有所述金属层(12)的所述基板(100)上形成光阻层(21)；
利用光罩(31)对所述光阻层(21)进行曝光、显影，使所述光阻层(21)在所述第一区域(A1)和所述第二区域(A2)分别形成对位光阻(211)和过桥光阻(212)，所述过桥光阻(212)的厚度小于所述对位光阻(211)的厚度；
利用所述对位光阻(211)和所述过桥光阻(212)对所述金属层(12)进行处理，使所述金属层(12)在所述第一区域(A1)和所述第二区域(A2)分别形成对位金属层(121)和过桥金属层(122)；
利用所述对位光阻(211)和所述过桥光阻(212)对所述第一透明电极层(11)进行处理，使所述第一透明电极层(11)在所述第一区域(A1)和所述第二区域(A2)分别形成所述对位电极(111)和所述过桥电极(112)；
对所述对位光阻(211)和所述过桥光阻(212)进行处理，减小所述对位光阻(211)的厚度，并去除所述过桥光阻(212)以使所述过桥金属层(122)露出；
去除所述过桥金属层(122)；
去除所述对位光阻(211)。
3.如权利要求1所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述光罩(31)为半色调掩膜版或者灰色调掩膜版。
4.如权利要求2所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，利用所述对位光阻(211)和所述过桥光阻(212)对所述金属层(12)进行处理的步骤具体包括，利用所述对位光阻(211)和所述过桥光阻(212)对所述金属层(12)进行湿蚀刻或者干蚀刻处理。
5.如权利要求2所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，利用所述对位光阻(211)和所述过桥光阻(212)对所述第一透明电极层(11)进行处理的步骤具体包括：
利用所述对位光阻(211)和所述过桥光阻(212)对所述第一透明电极层(11)进行湿蚀刻或者干蚀刻处理。
6.如权利要求2所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，对所述对位光阻(211)和所述过桥光阻(212)进行处理，减小所述对位光阻(211)的厚度，并去除所述过桥光阻(212)以使所述过桥金属层(122)露出的步骤具体包括：
对所述对位光阻(211)和所述过桥光阻(212)进行灰化处理，减小所述对位光阻(211)的厚度，并去除所述过桥光阻(212)以使所述过桥金属层(122)露出。
7.如权利要求1所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，在所述基板(100)的所述第一区域(A1)，所述第一透明电极层(11)和金属层(12)位于不同层且相互接触。
8.如权利要求1所述的触摸屏的制备方法，其特在于，所述第一透明电极层(11)和第二透明电极层(14)的材料均选自氧化铟锡、铝掺杂氧化锌中的任一种。
9.如权利要求2所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述对位金属层(121)和所述对位电极(111)完全重叠且相互接触。
10.一种触摸屏，其特征在于，采用如权利要求1至9中任一项所述的触摸屏的制备方法制备而成。
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2021
- 2021-03-09 CN CN202110253894.5A patent/CN113050825B/zh active Active
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