CN113039306A - 蒸镀源以及蒸镀装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种能够长时间连续生产均匀的膜厚分布的薄膜的蒸镀源以及蒸镀装置。蒸镀源具有收纳箱、第一喷嘴组以及第二喷嘴组。收纳箱收纳在蒸镀对象物上成膜的蒸镀材料。第一喷嘴组由多个第一喷嘴构成，该第一喷嘴设置在收纳箱的一方向上的中央区域且具有第一喷嘴孔。第二喷嘴组由多个第二喷嘴构成，该第二喷嘴设置在收纳箱的一方向上的比中央区域靠外方的各侧的侧方区域且具有第二喷嘴孔。分别位于收纳箱的一方向的两端的第二喷嘴之间的间隔比蒸镀对象物的上述一方向上的长度长，在第二喷嘴的射出蒸镀材料的气化物质的开口端中，一方向上的位于外方侧的部分距离假想基准面的高度比位于中央区域侧的部分距离假想基准面的高度低，所述假想基准面是与第二喷嘴孔的孔轴正交的面。

Description

蒸镀源以及蒸镀装置

技术领域

本发明涉及一种具有对蒸镀对象物射出蒸镀材料的喷嘴的蒸镀源以及蒸镀装置。

背景技术

例如，在专利文献1中，公开了一种具有长条状的蒸镀源的蒸镀装置，该蒸镀源设置有对基板射出蒸镀材料的多个喷嘴。蒸镀源具有收纳蒸镀材料的收纳箱和多个喷嘴。

在专利文献1所记载的蒸镀装置中，为了抑制掩蔽效应(Mask effect)并获得均匀的膜厚分布的薄膜，以将位于蒸镀源的长度方向的两侧方区域各自的最外方的喷嘴之间的间隔设为比基板的宽度窄，并将分别位于蒸镀源的两侧方区域的多个喷嘴的孔轴向外方大幅倾斜的方式进行配置，进而，高密度地配置分别位于两侧方区域的多个喷嘴。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2018/025637号

发明内容

发明要解决的问题

在这种蒸镀装置中，期望一种能够相对于蒸镀对象物获得均匀的膜厚分布且能够长时间连续生产的蒸镀源。为了实现这种长时间连续生产，需要不产生喷嘴的堵塞，使蒸镀材料不劣化。

鉴于以上情况，本发明提供一种能够长时间连续生产均匀的膜厚分布的薄膜的蒸镀源以及蒸镀装置。

用于解决问题的手段

为了达成上述目的，本发明的一形态的蒸镀源具有收纳箱、第一喷嘴组以及第二喷嘴组。

上述收纳箱收纳在蒸镀对象物上成膜的蒸镀材料。

上述第一喷嘴组由多个第一喷嘴构成，该第一喷嘴设置在上述收纳箱的一方向上的中央区域且具有第一喷嘴孔，该第一喷嘴孔供朝向上述蒸镀对象物射出的上述蒸镀材料的气化物质通过。

上述第二喷嘴组由多个第二喷嘴构成，该第二喷嘴设置在上述收纳箱的上述一方向上的比上述中央区域靠外方的各侧的侧方区域且具有第二喷嘴孔，该第二喷嘴孔供朝向上述蒸镀对象物射出的上述蒸镀材料的气化物质通过。

分别位于上述收纳箱的上述一方向的两端的第二喷嘴之间的间隔比上述蒸镀对象物的上述一方向上的长度长。

在上述第二喷嘴的射出上述蒸镀材料的气化物质的开口端中，上述一方向上的位于外方侧的部分距离假想基准面的高度比位于上述中央区域侧的部分距离上述假想基准面的高度低，上述假想基准面是与上述第二喷嘴孔的孔轴正交的面。

根据本发明的这样的结构，通过使用第二喷嘴，能够控制从第二喷嘴射出的蒸镀材料的射出角度，能够进行膜厚分布均匀的成膜。

也可以为，上述一方向上的位于外方侧的部分的端面位于比包含假想线的假想倾斜面靠上述蒸镀对象物侧的位置，上述假想线穿过上述第二喷嘴的开口端的内缘部中的位于上述中央区域侧的部分与上述一方向上的位于外方侧的部分，并在投影于上述假想基准面时沿着上述一方向，上述假想倾斜面相对于上述假想基准面以上述假想线与上述假想基准面所成的角度倾斜。

也可以为，将上述第二喷嘴孔的孔轴投影于由上述收纳箱的深度方向和上述一方向所规定的平面而形成的线相对于上述蒸镀对象物的蒸镀面或上述蒸镀面的延长面正交，或者向所述中央区域侧倾斜。

也可以为，上述第二喷嘴的开口端的形状在与上述一方向正交的方向上具有长度方向。

也可以为，上述第二喷嘴由沿着与上述一方向正交的方向配置的多个副喷嘴构成。

也可以为，上述第一喷嘴具有开口端，该开口端射出上述气化物质，距离上述假想基准面的高度沿该开口端的周缘相同。

为了达成上述目的，本发明的一形态的蒸镀装置具有蒸镀源和掩膜件。

蒸镀源具有收纳箱、第一喷嘴组以及第二喷嘴组，上述收纳箱收纳在蒸镀对象物上成膜的蒸镀材料，上述第一喷嘴组由多个第一喷嘴构成，该第一喷嘴设置在上述收纳箱的一方向上的中央区域且具有第一喷嘴孔，该第一喷嘴孔供朝向上述蒸镀对象物射出的上述蒸镀材料的气化物质通过，上述第二喷嘴组由多个第二喷嘴构成，该第二喷嘴设置在上述收纳箱的上述一方向上的比上述中央区域靠外方的各侧的侧方区域且具有第二喷嘴孔，该第二喷嘴孔供朝向上述蒸镀对象物射出的上述蒸镀材料的气化物质通过，分别位于上述收纳箱的上述一方向的两端的第二喷嘴之间的间隔比上述蒸镀对象物的上述一方向上的长度长，在上述第二喷嘴的射出上述蒸镀材料的气化物质的开口端中，上述一方向上的位于外方侧的部分距离假想基准面的高度比位于上述中央区域侧的部分距离上述假想基准面的高度低，上述假想基准面是与上述第二喷嘴孔的孔轴正交的面。

上述掩膜件配置在上述蒸镀对象物与上述蒸镀源之间，具有限制上述气化物质相对于上述蒸镀对象物的附着范围的多个开口。

也可以为，上述掩膜件的开口的内表面具有从上述蒸镀源起在厚度方向上逐渐变细的锥面，

在上述第二喷嘴的开口端，在将作为上述第二开口端与上述假想基准面所成的角度的倾斜角设为θ，将上述锥面相对于上述掩膜件的板面的角度设为θm时，满足：

[公式1]

θ＞θm-15°。

也可以为，在将上述蒸镀对象物的上述一方向上的长度设为Lw，将上述第一喷嘴能够配置于上述收纳箱的上述一方向上的长度设为L1，将上述蒸镀对象物与上述第二喷嘴之间的距离设为H时，

上述第一喷嘴被配置在上述一方向上的从上述收纳箱的上述一方向上的中心起由以下公式求出的L1/2的长度的区域内：

[公式2]

也可以为，在将分别位于上述收纳箱的上述一方向的两端的第二喷嘴之间的间隔设为L，将上述收纳箱的内尺寸的上述一方向上的长度设为L2时，满足：

[公式3]

0.8≤L/L₂＜1。

也可以为，还具有移动单元，该移动单元使上述蒸镀对象物相对于上述蒸镀源向上述一方向相对移动。

也可以为，具有3个沿上述一方向排列的上述蒸镀源，

设置于3个上述蒸镀源中的位于中央的蒸镀源的第一喷嘴的孔轴与上述蒸镀对象物的蒸镀面正交，第二喷嘴的孔轴相对于上述蒸镀面或上述蒸镀面的延长面正交，或者向上述中央区域侧倾斜，

设置于3个上述蒸镀源中的分别位于上述中央的蒸镀源的两侧的蒸镀源的第一喷嘴的孔轴向上述中央的蒸镀源侧倾斜，第二喷嘴的孔轴向上述中央区域侧倾斜且向上述中央的蒸镀源侧倾斜。

发明的效果

如上所述，根据本发明，能够进行均匀的膜厚分布的成膜。

附图说明

图1是说明本发明的实施方式的蒸镀装置的局部立体图。

图2是从正面侧观察上述蒸镀装置时的蒸镀装置的局部剖视图。

图3是设置于上述蒸镀装置的蒸镀源的概要俯视图。

图4是设置于上述蒸镀源的第一喷嘴的立体图。

图5是设置于上述蒸镀源的第二喷嘴的立体图。

图6是上述第二喷嘴的剖视图。

图7是用于说明上述蒸镀源中的第二喷嘴的倾斜角与掩膜板的开口的内表面的锥角之间的关系的示意性剖视图，是用于说明掩蔽效应的产生的掩膜板以及基板的局部放大剖视图。

图8是从正面侧观察用于说明上述蒸镀源中的配置有第一喷嘴以及第二喷嘴的区域的蒸镀装置时的示意图。

图9是说明分别由第一喷嘴以及第二喷嘴形成的膜的膜厚分布的图。

图10是用于说明图9所示的由各喷嘴形成的膜的膜厚分布的图。

图11是用于说明第二喷嘴的形状的图。

图12是用于说明第二喷嘴的配置的图。

图13是用于说明第二喷嘴的倾斜角θ与掩蔽效应以及材料使用效率之间的关系的图。

图14是设置有变形例的第二喷嘴的蒸镀源的概要俯视图。

图15是图14所示的设置于蒸镀源的第二喷嘴的立体图。

图16是示出第二喷嘴的其他变形例的立体图以及剖视图。

图17是示出第二喷嘴的另一其他变形例的立体图以及剖视图。

图18是示出第二喷嘴的另一其他变形例的剖视图。

图19是示出第二喷嘴的另一其他变形例的剖视图。

图20是示出蒸镀源的变形例的蒸镀源的概要俯视图以及剖视图。

图21是作为现有例的蒸镀源的局部剖视图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明。在后述的变形例的说明中，对相同的结构赋予相同的附图标记，对于已经在先说明过的结构有时省略其说明。

图1是本发明的一实施方式的蒸镀装置100的示意性剖视图。

图2是从正面侧观察蒸镀装置100时的局部剖视图。

蒸镀装置100是例如将薄膜蒸镀在矩形的平面形状的基板S的一方的面(蒸镀面)上来进行成膜的真空蒸镀装置。

如图1以及图2所示，蒸镀装置100具有真空腔1、基板搬送装置2以及蒸镀源3。

在真空腔1中，经由未图示的排气管连接有真空泵，能够将真空腔1内抽真空到规定压力(真空度)并保持。

基板搬送装置2设置在真空腔1内的上部。基板搬送装置2具有以将作为蒸镀面的下表面释放的状态保持基板S的搬运器21，利用未图示的驱动装置使搬运器21以及基板S以规定速度向真空腔1内的一方向移动。以下，将基板S相对于蒸镀源3的相对移动方向设为X轴方向，将与X轴方向正交的基板S的宽度方向设为作为一方向的Y轴方向，将与X轴方向以及Y轴方向正交的基板S的膜厚方向设为Z轴方向。

蒸镀源3在真空腔1的底面侧与沿X轴方向移动的基板S相向地设置。蒸镀源3为沿一方向(Y轴方向)延伸的长条状的线型。对于作为蒸镀对象物的基板S，一边使蒸镀源3沿与蒸镀源3的长度方向呈大致直角的方向(X轴方向)移动，一边进行成膜。此外，在本实施方式中，虽然列举了使蒸镀源3移动的示例，但也可以使基板S移动，还可以使双方移动。

另外，以夹在由基板搬送装置2搬送的基板S与蒸镀源3之间的方式设置有板状的掩膜板(掩膜件)4。在本实施方式中，掩膜板4与基板S一体地安装，与基板S一同由基板搬送装置2搬送。此外，掩膜板4也能够预先固定配置在真空腔1中。

在掩膜板4上以在板厚方向(Z轴方向)上贯通的方式设置有与成膜的薄膜图案对应的开口41。利用开口41，限制来自蒸镀源3的蒸镀材料Vm相对于基板S的附着范围，能够以规定的图案在基板S上形成薄膜。

使用图7中的(A)所示的掩膜板4的局部剖视图对开口41的形状进行说明。

如图7中的(A)所示，掩膜板4的开口41的内表面具有如下形状，即，从蒸镀源3侧起在板厚方向(Z轴方向)上逐渐变细的第一锥面411和逐渐变宽的第二锥面412连续而成的形状。开口41中的第一锥面411相对于掩膜板4的蒸镀源3侧的板面413的角度θm(以下称为锥角θm。)例如在40°～50°的范围。在本实施方式中，掩膜板4的锥角θm为50°。

作为掩膜板4，除了铝、氧化铝或不锈钢、因瓦合金等之外，还使用聚酰亚胺等树脂制的材料。各开口41的形状、个数根据想要在基板S上形成的图案来适当选择。

图3是蒸镀源3的概要俯视图。

如图1～图3所示，蒸镀源3具有收纳箱31、由多个第一喷嘴7构成的第一喷嘴组10以及由多个第二喷嘴8构成的第二喷嘴组20。

收纳箱31收纳根据想要在基板S上形成的薄膜而适当选择的蒸镀材料即蒸镀材料Vm。在收纳箱31的位于基板S侧的上表面31a，设置有第一喷嘴组10和第二喷嘴组20。

第一喷嘴组10位于收纳箱31的上表面31a的Y轴方向上的中央区域61。第一喷嘴组10由在上表面31a上沿Y轴方向例如等间隔地配置的多个第一喷嘴7构成。此外，在图2以及图3中，为了在后述的说明中使用，对一部分的第一喷嘴以方便区分的方式赋予了附图标记7a、7b，但在不需要特别区分说明的情况下，称为第一喷嘴7进行说明。

第二喷嘴组20位于侧方区域62，该侧方区域62沿Y轴方向位于比收纳箱31的上表面31a的中央区域61靠外方侧的位置。第二喷嘴组20由沿Y轴方向配置于上表面31a的多个第二喷嘴8构成。此外，在图2以及图3中，为了在后述的说明中使用，对一部分的第二喷嘴以方便区分的方式赋予了附图标记8a～8g，但在不需要特别区分说明的情况下，称为第二喷嘴8进行说明。

2个侧方区域62以将中央区域61夹在中间的方式沿Y轴方向相向配置，第二喷嘴组20隔着第一喷嘴组10而相向配置。多个第一喷嘴7以及多个第二喷嘴8沿Y轴方向配置成一列。此外，喷嘴的数量并不限定于图示的数量。

如图2所示，位于上表面31a的沿Y轴方向的两端各自的最外方的第二喷嘴8a与第二喷嘴8g之间的间隔L比基板S的Y轴方向上的宽度Lw长。

如图2所示，收纳箱31的上表面31a与基板S平行，在将基板S向收纳箱31投影时，第二喷嘴组20的一部分和第一喷嘴组10位于基板S的投影区域内。在各第二喷嘴组20中，位于最外方的2个第二喷嘴8a以及第二喷嘴8b、第二喷嘴8f以及第二喷嘴8g位于基板S的投影区域外。

在本实施方式中，各第二喷嘴组20具有5个第二喷嘴8。

如图3所示，在第二喷嘴组20中，在5个第二喷嘴8之中，位于中央区域61侧的4个第二喷嘴8以a间隔等间隔地配置。位于两侧方区域62各自的Y轴方向上的外方侧的2个第二喷嘴(8a和8b、8f和8g)以比a间隔窄的b间隔配置。这样，在本实施方式中，在第二喷嘴组20中，位于外方侧的第二喷嘴8配置得比位于中央区域侧的第二喷嘴8密。

在收纳箱31中附设有对蒸镀材料Vm进行加热的未图示的加热单元。被加热单元加热的蒸镀材料的气化物质从各第一喷嘴7以及各第二喷嘴8被射出。

图4是第一喷嘴7的立体图。

图5是第二喷嘴8的立体图。

图6是第二喷嘴8的概要剖视图。

如图4所示，第一喷嘴7具有作为通过孔的第一喷嘴孔72，该第一喷嘴孔72供在收纳箱31内升华或气化的蒸镀材料通过。第一喷嘴7具有朝向基板S射出蒸镀材料的开口端71。第一喷嘴7的开口端71成为与上表面31a平行的面，如图3所示，从上方观察蒸镀源3时具有矩形状。

第一喷嘴7为具有成为第一喷嘴孔72的中空部的筒状，外形呈长方体形状。第一喷嘴孔72的第一孔轴73相对于上表面31a垂直地设置。第一喷嘴7的开口端71距离上表面31a的高度沿周缘相同。

如图5以及图6所示，第二喷嘴8具有作为通过孔的第二喷嘴孔82，该第二喷嘴孔82供在收纳箱31内升华或气化的蒸镀材料通过。第二喷嘴8具有朝向基板S射出蒸镀材料的开口端81。

第二喷嘴8为具有成为第二喷嘴孔82的中空部的筒状。

如图6所示，形成有第二喷嘴孔82的第二喷嘴8具有内侧面821。

内侧面821成为第二喷嘴孔82的开口形状沿收纳箱31的高度方向(Z轴方向)不变化的形状。

第二喷嘴孔82的孔轴即第二孔轴83相对于上表面31a垂直。

如图6所示，在沿Y轴方向的剖视图中，从第二孔轴83观察时，第二喷嘴8以及第二喷嘴孔82具有左右不对称的形状。

另一方面，在沿Y轴方向的剖视图中，从第一喷嘴7的第一孔轴73观察时，第一喷嘴7以及第一喷嘴孔72具有左右对称的形状。

如图3所示，从上方观察蒸镀源3时，第二喷嘴8的开口端81具有矩形的框缘形状，该矩形在与Y轴方向正交的X轴方向上具有长度方向。

如图6所示，第二喷嘴8的开口端81距离相对于第二孔轴83垂直的假想基准面9的高度沿周缘而不同。更具体来说，在收纳箱31中配置第二喷嘴8作为蒸镀源3时，在第二喷嘴8的开口端81，第二开口端81的位于中央区域61侧的部分81a距离假想基准面9的高度h1比第二喷嘴8的开口端81的位于Y轴方向的外方侧的部分81b距离假想基准面9的高度h2高。

这样，第二喷嘴8的开口端81相对于假想基准面9倾斜。

此外，假想基准面9是与第二孔轴83正交的面，位于上表面31a与第二喷嘴8的开口端81中高度最低的部分(在本实施方式中标记为附图标记81b的部分)之间。

将以第二喷嘴8的开口端81的内缘部为周缘的平面作为第二喷嘴8的开口面。将该开口面与假想基准面9所成的角度设为第二喷嘴8的倾斜角θ。换句话说，第二喷嘴8的开口端81与假想基准面9所成的角度为倾斜角θ，通过第二喷嘴8的开口端81的内缘部中高度最低的部分和高度最高的部分的假想线与假想基准面9所成的角度成为倾斜角θ。此外，假想线在投影于上表面31a时沿着Y轴方向。

在本实施方式中，假想基准面9与上表面31a平行。

在设置于蒸镀源3的第二喷嘴8的开口端81中，第二喷嘴8的开口端81的位于中央区域61侧的部分81a比第二喷嘴8的开口端81的位于外方侧的部分81b高。由此，能够控制从第二喷嘴8射出的蒸镀材料的射出角度，能够使从1个第二喷嘴8射出并附着于基板S而形成的薄膜的面内的膜厚分布在Y轴方向上以第二孔轴83为中心左右不均匀。详细内容将使用图9在后文叙述。

通过设置具备具有这样的倾斜角的第二喷嘴8的开口端81的第二喷嘴8，并且以使分别位于上表面31a的两端的第二喷嘴8a与第二喷嘴8g之间的间隔L比基板S的Y轴方向上的宽度Lw长的方式构成蒸镀源3，从而能够在面内形成均匀的膜厚分布的薄膜。

另外，在本实施方式中，将第二喷嘴8的第二孔轴83投影于由收纳箱的深度方向(Z轴方向)和Y轴方向所规定的ZY平面而形成的线与基板S的蒸镀面或蒸镀面的延长面正交。由此，与孔轴以朝向外方倾斜的方式设置相比，能够抑制在第二喷嘴8的周边的外方侧的未使用的蒸镀材料的堆积，能够进行更长时间的连续生产。

此外，也可以以使第二喷嘴8的第二孔轴83投影于ZY平面而形成的线向中央区域61侧倾斜的方式设置第二喷嘴8。由此，与设置成与基板S的蒸镀面或蒸镀面的延长面正交的情况同样地，与孔轴以朝向外方倾斜的方式设置相比，能够抑制在第二喷嘴8的周边的外方侧的未使用的蒸镀材料的堆积，能够进行更长时间的连续生产。

图9示出了：使基板S和蒸镀源3如图8所示那样相向配置，分别使用图3所示的设置于蒸镀源3的第一喷嘴7a、7b和第二喷嘴8a～8e在基板S上形成薄膜时，针对各喷嘴到基板S的中心的距离的相对膜厚的模拟结果。

如图9所示，使用第一喷嘴7a以及7b形成的薄膜的相对膜厚以峰部分为界，呈现几乎左右对称的形状。另一方面，使用第二喷嘴8a～8e形成的薄膜的相对膜厚以峰部分为界，呈现左右不对称的形状。在由各第二喷嘴8形成的薄膜中，峰部分的右侧即到基板S的中心的距离更远的一方侧的膜厚比峰部分的左侧即到基板S的中心的距离更近的一方侧厚。各峰部分与对应的喷嘴的孔轴的位置对应。

即，通过使用具有倾斜角θ的第二喷嘴8的开口端81的第二喷嘴8，能够控制射出的蒸镀材料的射出角度，能够使由1个第二喷嘴8形成的薄膜的膜厚分布不均匀。更详细来说，通过使用第二喷嘴8，能够以使位于第二喷嘴8的开口端81的高度最高的部分81a侧的薄膜的膜厚比低的部分81b侧薄的方式，形成相对于第二孔轴83左右不对称的膜厚分布的薄膜。

在图9中示出了由各喷嘴形成的薄膜的膜厚分布，图10示出了使用设置于包含这些各喷嘴的蒸镀源3的所有喷嘴(第一喷嘴组以及2个第二喷嘴组)形成薄膜时的针对到基板S的中心的距离的薄膜的相对膜厚的模拟结果。

如图10所示，通过使用第二喷嘴8，能够在基板S的Y轴方向上的两端部充分地形成薄膜，另外，能够在面内形成均匀的膜厚分布的薄膜。此外，能够抑制掩蔽效应。

这样，在设置于蒸镀源的两侧方区域的第二喷嘴中，通过以使位于中央区域侧的部分比位于外方侧的部分高的方式构成其开口端，能够控制从第二喷嘴射出的蒸镀材料的射出角度。由此，能够在面内形成均匀的膜厚分布的薄膜，并抑制掩蔽效应。

图7中的(B)是掩膜板4和基板S的局部放大剖视图。如图7中的(B)所示，在想要隔着掩膜板4在基板S的区域A和区域B双方形成相同膜厚的薄膜的情况下，若蒸镀材料向掩膜板4的入射角度变大，则在区域A中，与区域B相比，蒸镀材料向基板S的入射被掩膜板4掩蔽，所以将产生形成的薄膜的膜厚变薄这样的所谓的掩蔽效应。

与此相对，在本实施方式中，通过控制从第二喷嘴射出的蒸镀材料的射出角度，能够抑制掩蔽效应的产生。

进而，通过使设置于蒸镀源的多个喷嘴中的位于沿Y轴方向最外方的两侧的第二喷嘴之间的距离设为比基板S在Y轴方向上的宽度长，能够在基板S的Y轴方向上的两端部都充分地成膜，能够以在面内形成均匀的膜厚分布的方式成膜。

另外，第二喷嘴8的第二喷嘴8的开口端81成为沿与Y轴方向正交的X轴方向的长度比沿Y轴方向的长度长的形状。这样，第二喷嘴8的开口成为在X轴方向上具有长度方向的形状。

这样，通过将第二喷嘴8的开口设为在X轴方向上具有长度方向的形状，能够抑制喷嘴堵塞的产生。以下，使用图11进行说明。

图11中的(A)示出作为比较例的喷嘴的立体图、剖视图、俯视图。图11中的(B)示出本实施方式的第二喷嘴8的立体图、剖视图、俯视图。每一幅剖视图都相当于以沿着蒸镀源3的长度方向即Y轴方向的截面切断的图。

图11中的(A)所示的喷嘴90和图11中的(B)所示的第二喷嘴8的开口面积相等。在此，开口面积表示通过射出蒸镀材料侧的开口端的内缘部的平面(开口面)中的第二喷嘴孔82的区域的面积。

在图11中的(A)和(B)中，附图标记12表示反射板(Reflector)，附图标记13表示防粘板。反射板12由多个板状构件构成，隔断从收纳箱31放出的热。防粘板13以不堵塞喷嘴的开口端的方式配置。通过设置防粘板13，防止蒸镀材料附着在喷嘴周边。此外，在图1～图3中省略了反射板以及防粘板的图示。

图11中的(A)所示的喷嘴90的开口端91成为倾斜面，距离假想基准面的高度在周缘处不同。以垂直于喷嘴90的孔轴93的面切断的喷嘴90的开口具有正圆形状，开口面成为椭圆形状。

另一方面，即使在图11中的(B)所示的第二喷嘴8中，第二喷嘴8的开口端81也具有倾斜面，距离假想基准面的高度在周缘处不同。第二喷嘴8的开口面成为矩形状。

由于第二喷嘴8的开口具有长度方向，因此与具有相同开口面积且具有椭圆形状的开口面的喷嘴90相比，能够缩短开口面的Y轴方向上的长度。

由此，能够使相邻的第二喷嘴8之间的距离比使用喷嘴90的情况更宽。

图12是用于说明第二喷嘴8的配置的图。

在使用多个具有倾斜的开口端的第二喷嘴8的情况下，若相邻的第二喷嘴8之间的距离短，则如图12所示，存在从一方的第二喷嘴8的开口端81中高度最低的部分81b侧射出的蒸镀材料在另一方的第二喷嘴8处反溅而没有附着于基板S的期望的区域的问题。因此，为了抑制这样的反溅的产生，优选将相邻的第二喷嘴8隔开一定程度进行配置。

因此，通过使用本实施方式的具有在X轴方向上具有长度方向的开口的第二喷嘴8，能够确保蒸镀材料的射出量，并使第二喷嘴8之间的距离增大以抑制上述那样的在第二喷嘴8处的蒸镀材料的反溅带来的影响。由此，能够使蒸镀材料附着在基板S的期望的区域，从而能够使薄膜的膜厚分布均匀化。

进而，在第二喷嘴8中，能够缩短开口面在Y轴方向上的长度，由此能够抑制喷嘴堵塞的产生。

如图11所示，第二喷嘴8由于其开口形状具有长度方向，所以与具有相同开口面积的喷嘴90相比，能够进一步降低高度。因此，第二喷嘴8与喷嘴90相比，能够缩短从防粘板13突出的喷嘴部分的长度，从而能够抑制喷嘴堵塞的产生。

即，从防粘板13突出的喷嘴部分的长度越长则蒸镀材料越容易冷却，从而越容易产生蒸镀材料的喷嘴堵塞。在本实施方式中，第二喷嘴8由于其开口具有长度方向，所以能够在不改变开口面积的情况下缩短从防粘板13突出的喷嘴部分的长度。因此，能够确保蒸镀材料的射出量，并且蒸镀材料难以冷却，从而能够抑制喷嘴堵塞的产生。由此，能够进行长时间的连续生产。

在此，图21是作为现有例的蒸镀源503的Y轴方向侧方部的局部剖视图。在图21所示的蒸镀源503中，在沿Y轴方向的截面上，收纳箱531的整体具有凸形状。收纳箱531具有在其Y轴方向中央部与基板S平行的上表面531a和在Y轴方向两侧方部相对于上表面531a倾斜的斜面531b。在上表面531a配置有第一喷嘴507，在斜面531b配置有开口直径比第一喷嘴507大的第二喷嘴508。在使用蒸镀源503的蒸镀装置中，蒸镀源503的Y轴方向的长度比基板S的Y轴方向的长度短，分别配置于蒸镀源503的Y轴方向两侧方区域的第二喷嘴508的孔轴向外方倾斜。

在图21所示的蒸镀源503中，在位于两侧方区域的第二喷嘴508附近，未附着于基板的未使用的蒸镀材料的堆积量增加。由于需要进行维护以防喷嘴的开口被未使用的蒸镀材料的堆积物堵塞，因此若蒸镀材料的堆积量增加，则维护的频率变高。若维护的频率变高，则由于连续生产的期间变短，因而生产效率会降低。

例如，为了延长连续生产期间，考虑延长从防粘板突出的喷嘴长度以防喷嘴的开口被未使用蒸镀材料的堆积物堵塞，但由于突出的喷嘴容易冷却，因而蒸镀材料容易附着在喷嘴中而使喷嘴堵塞。若为了抑制这样的喷嘴堵塞的产生而提高喷嘴的温度，则收纳于收纳箱的蒸镀材料的表面温度会上升，产生蒸镀材料劣化的问题。

与此相对，在本实施方式中，第二喷嘴8的第二孔轴83以相对于基板S的蒸镀面或蒸镀面的延长面正交的方式设置，因此与以孔轴向外方倾斜的方式配置的情况相比，能够使未使用的蒸镀材料的堆积量减少。因此，能够提高蒸镀材料的使用效率，从而能够提高生产效率。进而，由于能够降低维护频率，因此能够进行长时间的连续生产。

另外，如上所述，通过将第二喷嘴8的开口设为具有长度方向的形状，能够缩短从防粘板突出的喷嘴的长度，所以能够抑制喷嘴堵塞的产生。因此，无需为了抑制喷嘴堵塞的产生而提高喷嘴的温度，能够抑制收纳在收纳箱中的蒸镀材料的表面温度上升而导致蒸镀材料劣化这样的问题的发生。

在图6中，画出假想线85，该假想线85穿过第二喷嘴8的开口端81的位于内缘部的中央区域侧的部分81a和位于Y方向上的外方侧的部分81b，在投影到假想基准面9时沿着Y方向。开口端81的位于外方侧的部分81b的端面位于比包含假想线85的假想倾斜面更靠基板S侧的位置，该假想倾斜面相对于假想基准面9以假想线85与假想基准面9所形成的角度θ倾斜。在图6所示的例子中，位于外方侧的部分81b的整个端面都位于比假想倾斜面更靠基板S侧的位置，位于外方侧的部分81b的端面与假想基准面9平行。

在此，第二喷嘴也可以像后述的图17所示的变形例的第二喷嘴38那样，是开口端381的位于外方侧的部分381b的端面相对于假想基准面9倾斜的斜面。在图17所示的第二喷嘴38中，位于外方侧的部分381b的端面位于假想倾斜面上。该假想倾斜面是包含假想线385的面，该假想线385穿过开口端381的位于内缘部的中央区域侧的部分381a和位于Y方向上的外方侧的部分381b，在投影于假想基准面9时沿着Y方向，并且该假想倾斜面相对于假想基准面9以该假想线385与假想基准面9所形成的角度θ倾斜。

本实施方式的第二喷嘴8由于其开口端81的位于外方侧的部分81b位于比假想倾斜面更靠基板S侧的位置，因此与图17所示的变形例的第二喷嘴38相比，能够通过位于外方侧的部分81b更多地遮挡向配置在喷嘴周围的防粘板飞散的蒸镀材料。

这样，优选使位于外方侧的部分81b的端面位于比假想倾斜面更靠基板S侧的位置，能够使蒸镀材料向防粘板13的堆积速度变慢，从而能够进行更长时间的连续生产。

此外，在本实施方式中，举出了位于外方侧的部分81b的整个端面位于比假想倾斜面更靠基板S侧的位置的示例，但只要端面的至少一部分位于比假想倾斜面更靠基板S侧的位置即可。

图7中的(A)是用于说明第二喷嘴8的倾斜角θ与掩膜板4的开口41的第一锥面411的锥角θm之间的关系的图。

如图7中的(A)所示，掩膜板4的开口41具有朝向蒸镀源3逐渐变宽的第一锥面411。

图7中的(B)是掩膜板4和基板S的局部放大剖视图。以想要隔着掩膜板4在基板S的区域A和区域B双方形成相同膜厚的薄膜的情况为例。如图7中的(B)所示，当蒸镀材料向掩膜板4的入射角度变大时，蒸镀材料到达基板S的区域B，而在区域A中，蒸镀材料向基板S的入射被掩膜板4遮挡，因此产生形成的薄膜的膜厚比区域B薄这样的所谓掩蔽效应。

图13是用于说明第二喷嘴8的倾斜角θ与掩蔽效应以及蒸镀材料使用效率之间的关系的示意图。

如图13所示，若为了抑制掩蔽效应的产生而增大θ的值来调整来自喷嘴的蒸镀材料的射出角度，则会使蒸镀材料使用效率降低，若为了提高蒸镀材料使用效率而缩小θ的值，则掩蔽效应会降低。这样，掩蔽效应与蒸镀材料使用效率之间的关系为此消彼长(Trade-off)的关系。

第二喷嘴8的倾斜角θ优选使用掩膜板4的锥角θm设定在以下公式的范围内。

[公式4]

θ＞θm-15°

如上述公式那样，第二喷嘴8的倾斜角θ大于比掩膜板4的锥角θm小15°的数值即可，更优选为大于比锥角θm小10°的数值。

例如，在本实施方式中，在将掩膜板4的锥角θm设为50°的情况下，第二喷嘴8的倾斜角θ优选设定在35°～55°的范围，更优选为40°～50°。倾斜角θ的优选设定范围的上限值根据蒸镀材料的种类、掩膜板4的锥角θm、基板S的宽度Lw等而适当设定。在本实施方式中，将第二喷嘴8的倾斜角θ设为40°。

这样，在本实施方式中，将具有相对于假想基准面9倾斜的第二喷嘴8的开口端81的第二喷嘴8以使中央区域61侧比外方侧的高度高的方式配置，以使分别位于收纳箱31的Y轴方向上的两端的第二喷嘴8a与第二喷嘴8g之间的间隔L比基板S的Y轴方向上的宽度Lw长的方式构成蒸镀源3，进而，通过以上述方式设定第二喷嘴8的倾斜角θ，除了能够形成均匀的膜厚分布之外，还能够抑制掩蔽效应的产生，提高蒸镀材料的使用效率。

另外，在蒸镀源3中，第一喷嘴7以如下方式配置。

即，如图8所示，使收纳箱31的Y轴方向上的中心位于中心线C上，该中心线C沿着通过基板S的Y轴方向上的中心的基板厚度方向(Z轴方向)，在将基板S的Y轴方向上的长度设为Lw，将收纳箱31的上表面31a的可配置多个第一喷嘴7的Y轴方向上的长度设为L1，将基板S的蒸镀面与第二喷嘴8之间的距离设为H时，第一喷嘴7被配置在Y轴方向上的从中心线C起由下述公式求出的L1/2的长度的区域内。

[公式5]

作为一个示例，在将基板S的Y轴方向上的长度Lw设为900mm，将基板S的蒸镀面与第二喷嘴8之间的距离H设为500mm，将θ设为40°时，L1的值为528mm。在该情况下，在收纳箱31的上表面31a，在Y轴方向上的从中心线C起264mm的区域内设置第一喷嘴7。

另一方面，多个第二喷嘴8被设置在Y轴方向上的比从收纳箱31的上表面31a上的中心线C起264mm的区域更靠外方的区域。

进而，如图8所示，在将分别位于收纳箱31的Y轴方向两端的第二喷嘴8之间的间隔设为L，将收纳箱31的内尺寸的Y轴方向上的长度设为L2时，优选L/L2的值满足以下公式。由此，容易使收纳箱31内的蒸镀材料的表面温度均匀，能够抑制材料在长期的连续生产中劣化。

[公式6]

0.8≤L/L₂＜1

在此，使用图21进行说明。图21所示的作为现有例的蒸镀源503的Y轴方向上的长度比基板S的长度短。在使用这样的蒸镀源503的情况下，为了在收纳箱531中收纳与如本实施方式那样使用分别位于Y轴方向两端的第二喷嘴8之间的间隔L比基板S的长度长的蒸镀源3的情况相同的量的蒸镀材料，则需要加深收纳箱531的收纳部的深度，或者使收纳箱531的内尺寸的Y轴方向上的长度L2’比分别位于Y轴方向两端的第二喷嘴508之间的间隔L’充分长。

在加深收纳箱531的收纳部的深度的情况下，蒸镀装置整体变大。

在使收纳箱531的内尺寸的Y轴方向上的长度L2’比分别位于Y轴方向两端的第二喷嘴508之间的间隔L’充分长的情况下，在收纳箱531的两侧方部的没有喷嘴的区域和作为对间隔L’进行规定的区域的有喷嘴的区域，难以使收纳的蒸镀材料的温度均匀，收纳箱531内的蒸镀材料表面的温度容易变得不均匀。因此，在长时间的连续生产中容易产生蒸镀材料劣化的问题。

与此相对，在本实施方式中，将L/L2的值设为0.8以上且小于1的值，在收纳箱31的上表面31a上在大范围内配置第一喷嘴以及第二喷嘴，因此能够使被收纳箱31收纳的蒸镀材料的表面温度均匀。由此，能够抑制蒸镀材料的劣化，即使长时间的连续生产，也能够使蒸镀材料的品质稳定。

如上所述，在本实施方式中，能够以在面内形成均匀的膜厚分布的方式成膜。

进而，能够抑制掩蔽效应，并提高蒸镀材料的使用效率。通过抑制掩蔽效应，能够进行更高精细的图案的成膜。通过蒸镀材料的使用效率的提高，能够使生产效率提高，能够进行长时间的连续生产。进而，能够抑制蒸镀材料的劣化。

本发明的实施方式并不限定于上述的实施方式，在不脱离本发明的主旨的范围内能够进行各种变更。

例如，在上述实施方式中，作为第二喷嘴，举出了使用具有1个开口端81的第二喷嘴8的例子，该开口端81沿X轴方向具有长度方向，但并不限定于此。例如，也可以由沿X轴方向配置的多个副喷嘴构成第二喷嘴。图14以及图15是说明作为其一个示例即变形例的第二喷嘴的图。

图14是设置有作为变形例的第二喷嘴18的蒸镀源103的俯视图。

图15示出图14的蒸镀源103所具有的第二喷嘴18的立体图。

如图14所示，蒸镀源103具有收纳箱31、设置在收纳箱31的上表面31a上的第一喷嘴组10以及第二喷嘴组120。

第二喷嘴组120具有设置于蒸镀源103的两侧方区域62的多个(图中为5个)第二喷嘴18。如图14以及图15所示，第二喷嘴18由沿X轴方向配设的3个副喷嘴181构成。各副喷嘴181具有开口端1811成为倾斜面的圆筒状。在副喷嘴181中，在开口端1811处，开口端1811的位于中央区域61侧的部分1811a的高度比开口端1811的位于外方侧的部分1811b的高度高。

这样，由多个副喷嘴181构成第二喷嘴18，也可以形成第二喷嘴18的开口的长度方向。在该情况下，第二喷嘴18的开口面积成为开口面的面积的3倍的值，该开口面是以1个副喷嘴181的开口端1811的内缘部为周缘部的平面。

由此，与上述的第二喷嘴8同样地，与使用图11所示的1个喷嘴90的情况相比，能够缩短从防粘板突出的喷嘴部分的长度，能够抑制喷嘴堵塞的产生。

另外，第二喷嘴的形状并不限定于上述实施方式以及变形例所示的形状，只要是具有相对于假想基准面的高度在周缘处不同的开口端的喷嘴即可，例如也可以是图16～图19所示的形状。

图16中的(A)是作为变形例的第二喷嘴28的立体图，图16中的(B)是第二喷嘴28的剖视图。

如图16所示，从上方观察第二喷嘴28时，第二喷嘴28的开口端281具有矩形状。从假想基准面9到与矩形的一边对应的开口端281为止的高度h1比到与其他三边对应的开口端281为止的高度h2高。将第二喷嘴28的开口端281中的距离假想基准面9的高度最高的部分设为281a，将最低的部分设为281b。在将第二喷嘴28设置于收纳箱中而作为蒸镀源时，部分281a位于中央区域61侧，部分281b位于比中央区域61靠Y轴方向的外方侧。

穿过开口端281的内缘部中的高度最低的部分和高度最高的部分的假想线与假想基准面9所成的角度成为第二喷嘴28的倾斜角θ。此外，假想线投影于上表面31a时沿着Y轴方向。

图17中的(A)是作为变形例的第二喷嘴38的立体图，图17中的(B)是第二喷嘴38的剖视图。

如图17所示，第二喷嘴38具有开口端381。以开口端381的内缘部为周缘的平面即开口面相对于假想基准面9以倾斜角θ倾斜。将第二喷嘴38的开口端381中的距离假想基准面9的高度最高的部分设为381a，将最低的部分设为381b。在将第二喷嘴38设置于收纳箱中而作为蒸镀源时，部分381a位于中央区域61侧，部分381b位于比中央区域61靠Y轴方向的外方侧。

图18是作为变形例的第二喷嘴48的剖视图。

如图18所示，第二喷嘴48的第二喷嘴孔482也可以相对于收纳箱31的上表面31a倾斜。在图18所示的例子中，第二喷嘴48的外侧壁相对于上表面31a垂直。

如图18所示，第二喷嘴48具有开口端481。以开口端481的内缘部为周缘的平面即开口面相对于假想基准面9以倾斜角θ倾斜。将第二喷嘴48的开口端481中的距离假想基准面9的高度最高的部分设为481a，将最低的部分设为481b。在图中，将部分481a距离假想基准面9的高度设为h1，将部分481b距离假想基准面9的高度设为h2。在将第二喷嘴48设置于收纳箱中而作为蒸镀源时，部分481a位于中央区域61侧，部分481b位于比中央区域61靠Y轴方向的外方侧。

在将第二喷嘴48设置于收纳箱中作为蒸镀源而设置于蒸镀装置中时，第二喷嘴孔482的第二孔轴483向中央区域61侧倾斜，并相对于基板S的蒸镀面倾斜。此外，在上述的实施方式以及各变形例中，在蒸镀装置的状态下，第二喷嘴的孔轴相对于基板S的蒸镀面或该蒸镀面的假想延长面正交。

图19是作为变形例的第二喷嘴58的剖视图。

如图19所示，除第二喷嘴58的第二喷嘴孔582的第二孔轴583相对于上表面31a倾斜以外，第二喷嘴58的外侧壁也可以相对于上表面31a倾斜。外侧壁与第二孔轴583平行。

如图19所示，第二喷嘴58具有开口端581。以开口端581的内缘部为周缘的平面即开口面相对于假想基准面9以倾斜角θ倾斜。将第二喷嘴58的开口端581中的距离假想基准面9的高度最高的部分设为581a，将最低的部分设为581b。在图中，将部分581a距离假想基准面9的高度设为h1，将部分581b距离假想基准面9的高度设为h2。在将第二喷嘴58设置于收纳箱中而作为蒸镀源时，部分581a位于中央区域61侧，部分581b位于比中央区域61靠Y轴方向的外方侧。

在将第二喷嘴58设置于收纳箱中作为蒸镀源而设置于蒸镀装置中时，第二喷嘴孔582的第二孔轴583向中央区域61侧倾斜，并相对于基板S倾斜。

另外，在上述实施方式的蒸镀装置中，举出了设置1个的蒸镀源的例子，但也可以如图20所示那样设置3个蒸镀源。

图20中的(A)是沿X轴方向排列3个蒸镀源203、3、203时的俯视图。图20中的(B)是沿图20中的(A)的线A-A切断的概要剖视图。

如图20所示，在搭载于蒸镀装置的状态下，设置于3个蒸镀源203、3、203中的位于中央的蒸镀源3的第一喷嘴7的第一孔轴73与基板S的蒸镀面正交。设置于位于中央的蒸镀源3的第二喷嘴8的第二孔轴83与基板S的蒸镀面或蒸镀面的延长面正交，或向中央区域61侧倾斜。

设置于3个蒸镀源203、3、203中的分别位于中央的蒸镀源3的两侧的蒸镀源203的第一喷嘴7的第一孔轴73向中央的蒸镀源3侧倾斜。设置于蒸镀源203的第二喷嘴8的第二孔轴83向中央区域61侧倾斜，且向中央的蒸镀源3侧倾斜。

在图20所示的例子中，位于中央的蒸镀源3的上表面31a与基板S的蒸镀面平行。分别位于中央的蒸镀源3的两侧的蒸镀源203的上表面231a相对于位于中央的蒸镀源3的上表面31a成钝角。这样一来，3个蒸镀源中的位于两侧的蒸镀源203的上表面231a朝向位于中央的蒸镀源3倾斜。

在各蒸镀源203中，第一喷嘴7、第二喷嘴8以各自的第一孔轴73以及第二孔轴83与上表面231a正交的方式配置在上表面231a上。因此，设置于各蒸镀源203的第一喷嘴7的第一孔轴73以及第二喷嘴8的第二孔轴83相对于基板S倾斜。

将蒸镀源3(203)的第一喷嘴7的第一孔轴73投影于ZY平面而形成的线相对于基板S的蒸镀面或蒸镀面的延长面正交。

将蒸镀源3(203)的第二喷嘴8的第二孔轴83投影于ZY平面而形成的线相对于基板S的蒸镀面或蒸镀面的延长面正交。此外，在本实施方式中，在蒸镀源3(203)中，举出了第二喷嘴8的第二孔轴83相对于上表面31a(231a)垂直的例子，但也可以向中央区域61侧倾斜，在该情况下，将第二孔轴83投影于ZY平面而形成的线向中央区域61侧倾斜。

此外，在此，虽然蒸镀源203、3、203构成为分别具有收纳箱，但也可以构成为共有1个收纳箱。

另外，举出了构成为蒸镀源203的收纳箱231的上表面231a与蒸镀源3的收纳箱31的上表面31a成钝角的例子，但也可以构成为上表面231a与上表面31a成为平坦的位置关系。在该情况下，也可以构成为，设置于蒸镀源203的第一喷嘴7的第一孔轴73向中央的蒸镀源3侧倾斜，设置于蒸镀源203的第二喷嘴8的第二孔轴83向中央区域61侧倾斜且向中央的蒸镀源3侧倾斜。

附图标记说明

3、103、203：蒸镀源，

4：掩膜板(掩膜件)，

7：第一喷嘴，

8、18、28、38、48、58：第二喷嘴，

9：假想基准面，

10：第一喷嘴组，

20：第二喷嘴组，

31：收纳箱，

41：开口，

61：中央区域，

62：侧方区域，

71：第一喷嘴的开口端，

72：第一喷嘴孔，

73：第一孔轴(第一喷嘴孔的孔轴)，

81、281、381、481、581：第二喷嘴的开口端，

81a、281a、381a、481a、581a：第二喷嘴的开口端中位于中央区域侧的部分，

81b、281b、381b、481b、581b：第二喷嘴的开口端中位于外方侧的部分，

82、482、582：第二喷嘴孔，

83、4083、5083：第二孔轴(第二喷嘴孔的孔轴)，

85：假想线，

100：蒸镀装置，

181：副喷嘴，

231：收纳箱，

411：第一锥面，

413：板面，

S：基板(蒸镀对象物)，

Vm：蒸镀材料。

Claims (12)

1.一种蒸镀源，具有：

收纳箱，收纳在蒸镀对象物上成膜的蒸镀材料，

第一喷嘴组，由多个第一喷嘴构成，该第一喷嘴设置在所述收纳箱的一方向上的中央区域并具有第一喷嘴孔，该第一喷嘴孔供朝向所述蒸镀对象物射出的所述蒸镀材料的气化物质通过，以及

第二喷嘴组，由多个第二喷嘴构成，该第二喷嘴设置在所述收纳箱的所述一方向上的比所述中央区域靠外方的各侧的侧方区域并具有第二喷嘴孔，该第二喷嘴孔供朝向所述蒸镀对象物射出的所述蒸镀材料的气化物质通过，

所述蒸镀源的特征在于，

分别位于所述收纳箱的所述一方向的两端的第二喷嘴之间的间隔比所述蒸镀对象物的所述一方向上的长度长，

在所述第二喷嘴的射出所述蒸镀材料的气化物质的开口端中，所述一方向上的位于外方侧的部分距离假想基准面的高度比位于所述中央区域侧的部分距离所述假想基准面的高度低，所述假想基准面是与所述第二喷嘴孔的孔轴正交的面。

2.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，

所述第二喷嘴的开口端的所述一方向上的位于外方侧的部分的端面位于比包含假想线的假想倾斜面靠所述蒸镀对象物侧的位置，所述假想线穿过所述第二喷嘴的开口端的内缘部中的位于所述中央区域侧的部分与所述一方向上的位于外方侧的部分，并在投影于所述假想基准面时沿着所述一方向，所述假想倾斜面相对于所述假想基准面以所述假想线与所述假想基准面所成的角度倾斜。

3.根据权利要求1或2所述的蒸镀源，其特征在于，

将所述第二喷嘴孔的孔轴投影于由所述收纳箱的深度方向和所述一方向所规定的平面而形成的线相对于所述蒸镀对象物的蒸镀面或所述蒸镀面的延长面正交，或者向所述中央区域侧倾斜。

4.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，

所述第二喷嘴的开口端的形状在与所述一方向正交的方向上具有长度方向。

5.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，

所述第二喷嘴由沿着与所述一方向正交的方向配置的多个的副喷嘴构成。

6.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，

所述第一喷嘴具有开口端，该开口端射出所述气化物质，距离所述假想基准面的高度沿着该开口端的周缘相同。

7.一种蒸镀装置，其特征在于，具有：

蒸镀源，具有收纳箱、第一喷嘴组以及第二喷嘴组，所述收纳箱收纳在蒸镀对象物上成膜的蒸镀材料，所述第一喷嘴组由多个第一喷嘴构成，该第一喷嘴设置在所述收纳箱的一方向上的中央区域并具有第一喷嘴孔，该第一喷嘴孔供朝向所述蒸镀对象物射出的所述蒸镀材料的气化物质通过，所述第二喷嘴组由多个第二喷嘴构成，该第二喷嘴设置在所述收纳箱的所述一方向上的比所述中央区域靠外方的各侧的侧方区域并具有第二喷嘴孔，该第二喷嘴孔供朝向所述蒸镀对象物射出的所述蒸镀材料的气化物质通过，分别位于所述收纳箱的所述一方向两端的第二喷嘴之间的间隔比所述蒸镀对象物的所述一方向上的长度长，在所述第二喷嘴的射出所述蒸镀材料的气化物质的开口端中，所述一方向上的位于外方侧的部分距离假想基准面的高度比位于所述中央区域侧的部分距离所述假想基准面的高度低，所述假想基准面是与所述第二喷嘴孔的孔轴正交的面；以及

掩膜件，配置在所述蒸镀对象物与所述蒸镀源之间，具有限制所述气化物质相对于所述蒸镀对象物的附着范围的多个开口。

8.根据权利要求7所述的蒸镀装置，其特征在于，

所述掩膜件的开口的内表面具有从所述蒸镀源起在厚度方向上逐渐变细的锥面，

在所述第二喷嘴的开口端，在将作为所述第二喷嘴的开口端与所述假想基准面所成的角度的倾斜角设为θ，将所述锥面相对于所述掩膜件的板面的角度设为θm时，满足：

[公式1]

θ＞θm-15°。

9.根据权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，

在将所述蒸镀对象物的所述一方向上的长度设为Lw，将所述第一喷嘴能够配置于所述收纳箱的所述一方向上的长度设为L1，将所述蒸镀对象物与所述第二喷嘴之间的距离设为H时，

所述第一喷嘴被配置在所述一方向上的从所述收纳箱的所述一方向上的中心起由以下公式求出的L1/2的长度的区域内：

[公式2]

10.根据权利要求8或9所述的蒸镀装置，其特征在于，

在将分别位于所述收纳箱的所述一方向的两端的第二喷嘴之间的间隔设为L，将所述收纳箱的内尺寸的所述一方向上的长度设为L2时，满足：

[公式3]

0.8≤L/L₂＜1。

11.根据权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，

还具有移动单元，所述移动单元使所述蒸镀对象物相对于所述蒸镀源向所述一方向相对移动。

12.根据权利要求7所述的蒸镀装置，其特征在于，

具有3个在与所述一方向正交的方向上排列的所述蒸镀源，

设置于3个所述蒸镀源中的位于中央的蒸镀源的第一喷嘴的孔轴与所述蒸镀对象物的蒸镀面正交，第二喷嘴的孔轴相对于所述蒸镀面或所述蒸镀面的延长面正交，或者向所述中央区域侧倾斜，

设置于3个所述蒸镀源中的分别位于所述中央的蒸镀源的两侧的蒸镀源的第一喷嘴的孔轴向所述中央的蒸镀源侧倾斜，第二喷嘴的孔轴向所述中央区域侧倾斜且向所述中央的蒸镀源侧倾斜。

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