JPWO2020213228A1 - 蒸着源及び蒸着装置 - Google Patents
蒸着源及び蒸着装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2020213228A1 JPWO2020213228A1 JP2020536305A JP2020536305A JPWO2020213228A1 JP WO2020213228 A1 JPWO2020213228 A1 JP WO2020213228A1 JP 2020536305 A JP2020536305 A JP 2020536305A JP 2020536305 A JP2020536305 A JP 2020536305A JP WO2020213228 A1 JPWO2020213228 A1 JP WO2020213228A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- nozzle
- deposition source
- storage box
- vapor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 title claims description 22
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 225
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 85
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 81
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 17
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 12
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 39
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 29
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 19
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 abstract description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 83
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 15
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 14
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 14
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 7
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 6
- 230000002146 bilateral effect Effects 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/225—Oblique incidence of vaporised material on substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Description
特許文献1に記載される蒸着装置では、マスクエフェクトを抑制し、均一な膜厚分布の薄膜を得るために、蒸着源の長手方向の両側方領域それぞれの最も外方に位置するノズル間の間隔を基板の幅よりも狭くし、蒸着源の両側方領域それぞれに位置する複数のノズルの孔軸が外方に大きく傾くように配置し、更に、両側方領域それぞれに位置する複数のノズルを高密度に配置している。
上記収容箱は、蒸着対象物に成膜する蒸着材料を収容する。
上記第1のノズル群は、上記収容箱の一方向における中央領域に設けられた、上記蒸着対象物に向かって出射される上記蒸着材料の気化物質が通過する第1のノズル孔を有する複数の第1のノズルからなる。
上記第2のノズル群は、上記収容箱の上記一方向における上記中央領域よりも外方の各側の側方領域に設けられた、上記蒸着対象物に向かって出射される上記蒸着材料の気化物質が通過する第2のノズル孔を有する複数の第2のノズルからなる。
上記収容箱の上記一方向両端にそれぞれ位置する第2のノズル間の間隔が、上記蒸着対象物の上記一方向における長さよりも長い。
上記第2のノズルの上記蒸着材料の気化物質が出射される開口端において、上記第2のノズル孔の孔軸に直交する仮想基準面からの高さが、上記中央領域側に位置する部分よりも上記一方向における外方側に位置する部分の方が低い。
上記蒸着対象物に成膜する蒸着材料を収容する収容箱と、上記収容箱の一方向における中央領域に設けられた、上記蒸着対象物に向かって出射される上記蒸着材料の気化物質が通過する第1のノズル孔を有する複数の第1のノズルからなる第1のノズル群と、上記収容箱の上記一方向における上記中央領域よりも外方の各側の側方領域に設けられた、上記蒸着対象物に向かって出射される上記蒸着材料の気化物質が通過する第2のノズル孔を有する複数の第2のノズルからなる第2のノズル群とを具備する蒸着源であって、上記収容箱の上記一方向両端にそれぞれ位置する第2のノズル間の間隔が、上記蒸着対象物の上記一方向における長さよりも長く、上記第2のノズルの上記蒸着材料の気化物質が出射される開口端において、上記第2のノズル孔の孔軸に直交する仮想基準面からの高さが、上記中央領域側に位置する部分よりも上記一方向における外方側に位置する部分の方が低い。
上記マスク材は、上蒸着対象物と上記蒸着源との間に配置され、上記気化物質の上記蒸着対象物に対する付着範囲を制限する複数の開口を有する。
上記第2のノズルの開口端において、上記第2の開口端と上記仮想基準面とのなす角度である傾斜角をθとし、上記記マスク材の板面に対する上記テーパ面の角度をθmとしたときに、
上記第1のノズルは、上記収容箱の上記一方向における中心から上記一方向に次式で求められるL1/2の長さの領域内に配置されてもよい。
上記3つの蒸着源のうち中央に位置する蒸着源に設けられる第1のノズルの孔軸は上記蒸着対象物の蒸着面と直交して位置し、第2のノズルの孔軸は上記蒸着面又は上記蒸着面の延長面に対して直交する、又は、上記中央領域側に傾いて位置し、
上記3つの蒸着源のうち上記中央の蒸着源の両側それぞれに位置する蒸着源に設けられる第1のノズルの孔軸は上記中央の蒸着源側に傾いて位置し、第2のノズルの孔軸は、上記中央領域側に傾き、かつ、上記中央の蒸着源側に傾いて位置してもよい。
図2は、蒸着装置100を正面側からみた部分断面図である。
蒸着装置100は、例えば矩形の平面形状の基板Sの一方の面(蒸着面)に薄膜を蒸着して成膜する真空蒸着装置である。
真空チャンバ1には、図示しない排気管を介して真空ポンプが接続され、真空チャンバ1内を所定圧力(真空度)に真空引きして保持できるようになっている。
図7(A)に示すように、マスクプレート4の開口41の内面は、蒸着源3側から板厚方向(Z軸方向)に先細りする第1のテーパ面411と、末広がりの第2のテーパ面412とが連続した形状を有する。開口41におけるマスクプレート4の蒸着源3側の板面413に対する第1のテーパ面411の角度θm(以下、テーパ角θmと称す。)は例えば40°〜50°の範囲にある。本実施形態においては、マスクプレート4のテーパ角θmは50°とする。
図1〜図3に示すように、蒸着源3は、収容箱31と、複数の第1のノズル7からなる第1のノズル群10と、複数の第2のノズル8からなる第2のノズル群20とを有する。
図2に示すように、収容箱31の上面31aと基板Sとは平行に位置しており、基板Sを収容箱31に投影したとき、基板Sの投影領域内に第1のノズル群10と、第2のノズル群20の一部が位置する。各第2のノズル群20のうち、最も外方に位置する2つの第2のノズル8a及び8b、第2のノズル8f及び8gは、基板Sの投影領域外に位置する。
図3に示すように、第2のノズル群20において、5つの第2のノズル8のうち、中央領域61側に位置する4つの第2のノズル8はaの間隔で等間隔に配置される。両側方領域62それぞれのY軸方向における外方側に位置する2つの第2のノズル(8aと8b、8fと8g)は、aの間隔よりも狭いbの間隔で配置される。このように、本実施形態では、第2のノズル群20において、外方側に位置する第2のノズル8は中央領域側に位置する第2のノズル8よりも密に配置される。
図5は第2のノズル8の斜視図である。
図6は第2のノズル8の概略断面図である。
第1のノズル7は第1のノズル孔72となる中空部を有する筒状を有し、外形が直方体形状となっている。第1のノズル孔72の第1の孔軸73は上面31aに対し垂直に設けられる。第1のノズル7の開口端71は、上面31aからの高さが、周縁に沿って同じとなっている。
図6に示すように、第2のノズル孔82を形成する第2のノズル8は、内側面821を有する。
内側面821は、収容箱31の高さ方向(Z軸方向)に沿って第2のノズル孔82の開口形状が変化しない形状となっている。
第2のノズル孔82の孔軸である第2の孔軸83は上面31aに対し垂直となっている。
一方、第1のノズル7及び第1のノズル孔72は、Y軸方向に沿った断面図において、第1のノズル7の第1の孔軸73からみて左右対称の形状を有する。
図6に示すように、第2のノズル8の開口端81は、第2の孔軸83に対して垂直な仮想基準面9からの高さが、周縁に沿って異なっている。より具体的には、収容箱31に第2のノズル8を配置して蒸着源3としたときに、第2のノズル8の開口端81において、第2の開口端81の中央領域61側に位置する部分81aの仮想基準面9からの高さh1は、第2のノズル8の開口端81のY軸方向における外方側に位置する部分81bの仮想基準面9からの高さh2よりも高くなっている。
このように第2のノズル8の開口端81は、仮想基準面9に対して傾斜している。
第2のノズル8の開口端81の内縁部を周縁とする平面を第2のノズル8の開口面とする。この開口面と仮想基準面9とのなす角度を第2のノズル8の傾斜角θとする。言い換えると、第2のノズル8の開口端81と仮想基準面9とのなす角度が傾斜角θであり、第2のノズル8の開口端81の内縁部における最も高さが低い部分と最も高さが高い部分を通る仮想線と仮想基準面9とのなす角度が傾斜角θとなる。尚、仮想線は上面31aに投影したときにY軸方向に沿うものとする。
本実施形態においては、仮想基準面9と上面31aとは平行に位置する。
また、本実施形態において、第2のノズル8の第2の孔軸83を収容箱の深さ方向(Z軸方向)とY軸方向とで規定されるZY平面に投影した線は、基板Sの蒸着面又は蒸着面の延長面に対して直交する。これにより、孔軸が外方にむけて傾くように設けるよりも、第2のノズル8の周辺の外方側での未使用の蒸着材料の堆積が抑制され、より長時間の連続生産が可能となる。
尚、第2のノズル8の第2の孔軸83をZY平面に投影した線が中央領域61側に傾くように第2のノズル8を設けても良い。これにより、基板Sの蒸着面又は蒸着面の延長面に対して直交するように設ける場合と同様に、孔軸が外方にむけて傾くように設けるよりも、第2のノズル8の周辺の外方側での未使用の蒸着材料の堆積が抑制され、より長時間の連続生産が可能となる。
図10に示すように、第2のノズル8を用いることにより基板SのY軸方向における両端部にも薄膜を十分に成膜することができ、また、面内で均一な膜厚分布の薄膜を成膜することができる。更に、マスクエフェクトを抑制することができる。
これに対し、本実施形態では、第2のノズルから出射される蒸着材料の出射角度を制御することにより、マスクエフェクトの発生を抑制することができる。
このように、第2のノズル8の開口をX軸方向に長手方向を有する形状とすることにより、ノズル詰まりの発生を抑制することができる。以下、図11を用いて説明する。
一方、図11(B)に示す第2のノズル8でも、第2のノズル8の開口端81は傾斜面を有しており、仮想基準面からの高さが周縁で異なっている。第2のノズル8の開口面は矩形状となっている。
これにより、隣り合う第2のノズル8間距離を、ノズル90を用いる場合よりも広く取ることができる。
傾斜する開口端を有する第2のノズル8を複数用いる場合、隣り合う第2のノズル8間の距離が短いと、図12に示すように、一方の第2のノズル8の開口端81のうち最も高さの低い部分81b側から出射される蒸着材料が他方の第2のノズル8で跳ね返って基板Sの所望の領域に付着されないといった問題がある。このため、このような跳ね返りの発生を抑制するために隣り合う第2のノズル8をある程度離して配置することが望ましい。
従って、本実施形態のX軸方向に長手方向を有する開口を有する第2のノズル8を用いることにより、蒸着材料の出射量を確保しつつ、上述のような第2のノズル8での蒸着材料の跳ね返りによる影響が抑制されるように第2のノズル8間距離を離すことが可能となる。これにより、基板Sの所望の領域に蒸着材料を付着させることができ、薄膜の膜厚分布を均一化することができる。
図11に示すように、第2のノズル8はその開口形状が長手方向を有するので、同じ開口面積を有するノズル90と比較して、高さをより低くすることができる。したがって、第2のノズル8は、ノズル90と比べて、防着板13から突出するノズル部分の長さを短くすることができ、ノズル詰まりの発生を抑制することができる。
例えば、連続生産期間を長くするため、未使用蒸着材料の堆積物によってノズルの開口がふさがれないように防着板から突出するノズルの長さを長くすることが考えられるが、突出したノズルは冷えやすいため、ノズルの中に蒸着材料が付着してノズルが詰まりやすい。このようなノズル詰まりの発生を抑制するために、ノズルの温度を上げると、収容箱に収容されている蒸着材料の表面温度が上昇し、蒸着材料の劣化という問題が生じる。
また、上述のように、第2のノズル8の開口を、長手方向を有する形状とすることにより防着板から突出するノズルの長さを短くすることができるので、ノズル詰まりの発生を抑制することができる。従って、ノズル詰まりの発生を抑制するためにノズルの温度を上げる必要がなく、収容箱に収容されている蒸着材料の表面温度が上昇し、蒸着材料の劣化を招くといった問題の発生を抑制することができる。
本実施形態における第2のノズル8は、その開口端81の外方側に位置する部分81bが仮想傾斜面よりも基板S側に位置しているため、図17に示す変形例の第2のノズル38と比較して、ノズルの周囲に配置される防着板へ飛散する蒸着材料を外方側に位置する部分81bでより多く遮ることができる。
尚、本実施形態では、外方側に位置する部分81bは、その端面の全てが仮想傾斜面よりも基板S側に位置している例をあげたが、端面の少なくとも一部が仮想傾斜面よりも基板S側に位置していればよい。
図7(A)に示すように、マスクプレート4の開口41は、蒸着源3に向かって末広がりの第1のテーパ面411を有している。
図13に示すように、マスクエフェクトの発生の抑制のためθの値を大きくしてノズルからの蒸着材料の出射角度を調整すると蒸着材料使用効率が低下し、蒸着材料使用効率の向上のためにθの値を小さくしていくとマスクエフェクトが低下する。このように、マスクエフェクトと蒸着材料使用効率との関係はトレードオフの関係にある。
例えば、本実施形態では、マスクプレート4のテーパ角θmを50°とした場合、第2のノズル8の傾斜角θは35°〜55°の範囲で設定されることが好ましく、更に好ましくは40°〜50°である。傾斜角θの好ましい設定範囲の上限値は、蒸着材料の種類、マスクプレート4のテーパ角θm、基板Sの幅Lw等により適宜設定される。本実施形態では、第2のノズル8の傾斜角θを40°とした。
すなわち、図8に示すように、基板SのY軸方向における中心を通る基板厚み方向(Z軸方向)に沿った中心線C上に収容箱31のY軸方向における中心を位置させ、基板SのY軸方向における長さをLwとし、収容箱31の上面31aでの複数の第1のノズル7が配置され得るY軸方向における長さをL1とし、基板Sの蒸着面と第2のノズル8との距離をHとしたときに、第1のノズル7は、中心線CからY軸方向に、次式で求められるL1/2の長さの領域内に配置される。
一方、複数の第2のノズル8は、収容箱31の上面31a上の中心線CからY軸方向に264mmの領域よりも外方の領域に設けられる。
収容箱531の収容部の深さを深くする場合、蒸着装置全体が大きくなってしまう。
収容箱531の内寸のY軸方向における長さL2´をY軸方向両端にそれぞれ位置する第2のノズル508間の間隔L´よりも十分長くする場合、収容箱531の両側方部のノズルが位置しない領域と、間隔L´を規定する領域となるノズルが位置する領域とで、収容する蒸着材料の温度を均一にすることが難しく、収容箱531内の蒸着材料表面の温度が不均一になりやすい。このため、長時間の連続生産中に蒸着材料が劣化するといった問題が生じやすい。
更に、マスクエフェクトを抑制しつつ、蒸着材料の使用効率を向上させることができる。マスクエフェクトの抑制により、より高精細のパターンの成膜が可能となる。蒸着材料の使用効率の向上により、生産効率を向上させることができ、長時間の連続生産が可能となる。更に、蒸着材料の劣化を抑制することができる。
図15は、図14の蒸着源103が備える第2のノズル18の斜視図を示す。
第2のノズル群120は、蒸着源103の両側方領域62に設けられた複数(図においては5つ)の第2のノズル18を有する。図14及び図15に示すように、第2のノズル18は、X軸方向に沿って配設された3つの副ノズル181から構成される。各副ノズル181は、開口端1811が傾斜面となる円筒状を有する。副ノズル181は、開口端1811において、開口端1811の中央領域61側に位置する部分1811aの高さが、開口端1811の外方側に位置する部分1811bの高さよりも高くなっている。
これにより、上述の第2のノズル8と同様に、図11に示す1つのノズル90を用いる場合と比べて、防着板から突出するノズル部分の長さを短くすることができ、ノズル詰まりの発生を抑制することができる。
図16に示すように、第2のノズル28を上方からみたときに第2のノズル28の開口端281は矩形状を有する。仮想基準面9からの矩形の一辺に対応する開口端281までの高さh1は、他の三辺に対応する開口端281までの高さh2よりも高くなっている。第2のノズル28の開口端281のうち仮想基準面9からの高さが最も高い部分を281aとし、最も低い部分を281bとする。第2のノズル28を収容箱に設けて蒸着源としたとき、部分281aは中央領域61側に位置し、部分281bは中央領域61よりもY軸方向の外方側に位置する。
開口端281の内縁部における最も高さが低い部分と最も高さが高い部分を通る仮想線と仮想基準面9とのなす角度が第2のノズル28の傾斜角θとなる。尚、仮想線は上面31aに投影したときにY軸方向に沿うものとする。
図17に示すように、第2のノズル38は開口端381を有している。開口端381の内縁部を周縁とする平面である開口面は、仮想基準面9に対して傾斜角θで傾斜している。第2のノズル38の開口端381のうち仮想基準面9からの高さが最も高い部分を381aとし、最も低い部分を381bとする。第2のノズル38を収容箱に設けて蒸着源としたとき、部分381aは中央領域61側に位置し、部分381bは中央領域61よりもY軸方向の外方側に位置する。
図18に示すように、第2のノズル48の第2のノズル孔482が、収容箱31の上面31aに対して傾斜していてもよい。図18に示す例では、第2のノズル48の外側壁は上面31aに対して垂直に位置する。
図19に示すように、第2のノズル58の第2のノズル孔582の第2の孔軸583が上面31aに対して斜めになるのに加えて、第2のノズル58の外側壁が上面31aに対して斜めに位置してもよい。外側壁は第2の孔軸583と平行となっている。
3つの蒸着源203、3、203のうち中央の蒸着源3の両側それぞれに位置する蒸着源203に設けられる第1のノズル7の第1の孔軸73は中央の蒸着源3側に傾いて位置する。蒸着源203に設けられる第2のノズル8の第2の孔軸83は、中央領域61側に傾き、かつ、中央の蒸着源3側に傾いて位置する。
蒸着源3(203)の第2のノズル8の第2の孔軸83をZY平面に投影した線は基板Sの蒸着面又は蒸着面の延長面に対して直交する。尚、本実施形態では、蒸着源3(203)において、第2のノズル8の第2の孔軸83が上面31a(231a)に対して垂直に位置する例をあげたが、中央領域61側に傾いて位置してもよく、この場合、第2の孔軸83をZY平面に投影した線は中央領域61側に傾く。
また、蒸着源203の収容箱231の上面231aと蒸着源3の収容箱31の上面31aとが鈍角に位置するように構成する例をあげたが、上面231aと上面31aとが平坦な位置関係となるように構成してもよい。この場合、蒸着源203に設けられる第1のノズル7の第1の孔軸73が中央の蒸着源3側に傾いて位置するように構成し、蒸着源203に設けられる第2のノズル8の第2の孔軸83が、中央領域61側に傾き、かつ、中央の蒸着源3側に傾いて位置するように構成すればよい。
4…マスクプレート(マスク材)
7…第1のノズル
8、18、28、38、48、58…第2のノズル
9…仮想基準面
10…第1のノズル群
20…第2のノズル群
31…収容箱
41…開口
61…中央領域
62…側方領域
71…第1のノズルの開口端
72…第1のノズル孔
73…第1の孔軸(第1のノズル孔の孔軸)
81、281、381、481、581…第2のノズルの開口端
81a、281a、381a、481a、581a…第2のノズルの開口端において中央領域側に位置する部分
81b、281b、381b、481b、581b…第2のノズルの開口端において外方側に位置する部分
82、482、582…第2のノズル孔
83、4083、5083…第2の孔軸(第2のノズル孔の孔軸)
85…仮想線
100…蒸着装置
181…副ノズル
231…収容箱
411…第1のテーパ面
413…板面
S…基板(蒸着対象物)
Vm…蒸着材料
Claims (12)
- 蒸着対象物に成膜する蒸着材料を収容する収容箱と、
前記収容箱の一方向における中央領域に設けられた、前記蒸着対象物に向かって出射される前記蒸着材料の気化物質が通過する第1のノズル孔を有する複数の第1のノズルからなる第1のノズル群と、
前記収容箱の前記一方向における前記中央領域よりも外方の各側の側方領域に設けられた、前記蒸着対象物に向かって出射される前記蒸着材料の気化物質が通過する第2のノズル孔を有する複数の第2のノズルからなる第2のノズル群と
を具備する蒸着源であって、
前記収容箱の前記一方向両端にそれぞれ位置する第2のノズル間の間隔が、前記蒸着対象物の前記一方向における長さよりも長く、
前記第2のノズルの前記蒸着材料の気化物質が出射される開口端において、前記第2のノズル孔の孔軸に直交する仮想基準面からの高さが、前記中央領域側に位置する部分よりも前記一方向における外方側に位置する部分の方が低い
蒸着源。 - 請求項1に記載の蒸着源であって、
前記第2のノズルの開口端の前記一方向における外方側に位置する部分の端面は、前記第2のノズルの開口端の内縁部における前記中央領域側に位置する部分と前記一方向における外方側に位置する部分とを通り前記仮想基準面に投影した時に前記一方向に沿う仮想線と前記仮想基準面とのなす角度で前記仮想基準面に対して傾斜する、前記仮想線を含む仮想傾斜面より、前記蒸着対象物側に位置する
蒸着源。 - 請求項1又は2に記載の蒸着源であって、
前記第2のノズル孔の孔軸を前記収容箱の深さ方向と前記一方向とで規定される平面に投影した線は、前記蒸着対象物の蒸着面又は前記蒸着面の延長面に対して直交する、又は、前記中央領域側に傾いて位置する
蒸着源。 - 請求項1に記載の蒸着源であって、
前記第2のノズルの開口端の形状は、前記一方向と直交する方向に長手方向を有する
蒸着源。 - 請求項1に記載の蒸着源であって、
前記第2のノズルは、前記一方向と直交する方向に沿って複数配置された副ノズルから構成される
蒸着源。 - 請求項1に記載の蒸着源であって、
前記第1のノズルは、前記気化物質を出射し、前記仮想基準面からの高さが周縁に沿って同じ開口端を有する
蒸着源。 - 蒸着対象物に成膜する蒸着材料を収容する収容箱と、
前記収容箱の一方向における中央領域に設けられた、前記蒸着対象物に向かって出射される前記蒸着材料の気化物質が通過する第1のノズル孔を有する複数の第1のノズルからなる第1のノズル群と、
前記収容箱の前記一方向における前記中央領域よりも外方の各側の側方領域に設けられた、前記蒸着対象物に向かって出射される前記蒸着材料の気化物質が通過する第2のノズル孔を有する複数の第2のノズルからなる第2のノズル群と
を具備する蒸着源であって、
前記収容箱の前記一方向両端にそれぞれ位置する第2のノズル間の間隔が、前記蒸着対象物の前記一方向における長さよりも長く、
前記第2のノズルの前記蒸着材料の気化物質が出射される開口端において、前記第2のノズル孔の孔軸に直交する仮想基準面からの高さが、前記中央領域側に位置する部分よりも前記一方向における外方側に位置する部分の方が低い
蒸着源と、
前記蒸着対象物と前記蒸着源との間に配置され、前記気化物質の前記蒸着対象物に対する付着範囲を制限する複数の開口を有するマスク材
を具備する蒸着装置。 - 請求項8に記載の蒸着装置であって、
前記蒸着源に対して前記蒸着対象物を前記一方向に相対移動させる移動手段
を更に具備する蒸着装置。 - 請求項7に記載の蒸着装置であって、
前記一方向に直交する方向に配列された前記蒸着源を3つ具備し、
前記3つの蒸着源のうち中央に位置する蒸着源に設けられる第1のノズルの孔軸は前記蒸着対象物の蒸着面と直交して位置し、第2のノズルの孔軸は前記蒸着面又は前記蒸着面の延長面に対して直交する、又は、前記中央領域側に傾いて位置し、
前記3つの蒸着源のうち前記中央の蒸着源の両側それぞれに位置する蒸着源に設けられる第1のノズルの孔軸は前記中央の蒸着源側に傾いて位置し、第2のノズルの孔軸は、前記中央領域側に傾き、かつ、前記中央の蒸着源側に傾いて位置する
蒸着装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019079789 | 2019-04-19 | ||
JP2019079789 | 2019-04-19 | ||
PCT/JP2020/004126 WO2020213228A1 (ja) | 2019-04-19 | 2020-02-04 | 蒸着源及び蒸着装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020213228A1 true JPWO2020213228A1 (ja) | 2021-05-06 |
JP7016420B2 JP7016420B2 (ja) | 2022-02-04 |
Family
ID=72837310
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020536305A Active JP7016420B2 (ja) | 2019-04-19 | 2020-02-04 | 蒸着源及び蒸着装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7016420B2 (ja) |
KR (1) | KR102551540B1 (ja) |
CN (1) | CN113039306B (ja) |
TW (1) | TWI759697B (ja) |
WO (1) | WO2020213228A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115216737B (zh) * | 2022-07-19 | 2024-03-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀装置及蒸镀方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007146219A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Hitachi Zosen Corp | 真空蒸着装置 |
JP2013147739A (ja) * | 2012-01-19 | 2013-08-01 | Samsung Display Co Ltd | 蒸着用マスク及びこれを含む蒸着設備 |
JP2014077193A (ja) * | 2012-10-09 | 2014-05-01 | Samsung Display Co Ltd | 蒸着装置およびこれを用いた有機発光表示装置の製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100467805B1 (ko) * | 2002-01-22 | 2005-01-24 | 학교법인연세대학교 | 박막두께분포를 조절 가능한 선형 및 평면형 증발원 |
KR100980729B1 (ko) * | 2006-07-03 | 2010-09-07 | 주식회사 야스 | 증착 공정용 다중 노즐 증발원 |
KR102039684B1 (ko) * | 2012-10-15 | 2019-11-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조방법 |
JP6529257B2 (ja) * | 2014-12-26 | 2019-06-12 | キヤノントッキ株式会社 | 真空蒸着装置 |
CN109328244B (zh) * | 2016-08-02 | 2021-06-22 | 株式会社爱发科 | 真空蒸镀装置 |
JP6895162B2 (ja) * | 2017-02-28 | 2021-06-30 | 学校法人 芝浦工業大学 | 超音速フリージェット物理蒸着装置で用いる超音速ノズル、超音速フリージェット物理蒸着装置で用いる超音速ノズルの製造方法、超音速フリージェット物理蒸着装置で用いる超音速ノズルの設計方法及びコンピュータプログラム |
-
2020
- 2020-02-04 WO PCT/JP2020/004126 patent/WO2020213228A1/ja active Application Filing
- 2020-02-04 JP JP2020536305A patent/JP7016420B2/ja active Active
- 2020-02-04 KR KR1020217012035A patent/KR102551540B1/ko active IP Right Grant
- 2020-02-04 CN CN202080006222.8A patent/CN113039306B/zh active Active
- 2020-03-04 TW TW109106983A patent/TWI759697B/zh active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007146219A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Hitachi Zosen Corp | 真空蒸着装置 |
JP2013147739A (ja) * | 2012-01-19 | 2013-08-01 | Samsung Display Co Ltd | 蒸着用マスク及びこれを含む蒸着設備 |
JP2014077193A (ja) * | 2012-10-09 | 2014-05-01 | Samsung Display Co Ltd | 蒸着装置およびこれを用いた有機発光表示装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102551540B1 (ko) | 2023-07-06 |
CN113039306A (zh) | 2021-06-25 |
JP7016420B2 (ja) | 2022-02-04 |
CN113039306B (zh) | 2023-06-06 |
WO2020213228A1 (ja) | 2020-10-22 |
TWI759697B (zh) | 2022-04-01 |
KR20210058963A (ko) | 2021-05-24 |
TW202039897A (zh) | 2020-11-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102155099B1 (ko) | 진공 증착 장치 | |
KR101450339B1 (ko) | 증발원 및 이것을 이용한 진공 증착 장치 | |
JP6239286B2 (ja) | 蒸着装置およびこれを用いた有機発光表示装置の製造方法 | |
CN105734495B (zh) | 真空蒸镀装置 | |
JP5155941B2 (ja) | 蒸発源アセンブリ及びそれを用いた蒸着装置 | |
JP7016420B2 (ja) | 蒸着源及び蒸着装置 | |
KR102046441B1 (ko) | 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조방법 | |
JP5400653B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
US10947616B2 (en) | Method for forming vapor deposition pattern, pressing-plate-integrated type pressing member, vapor deposition apparatus, and method for producing organic semiconductor element | |
KR20130141188A (ko) | 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조방법 | |
KR102039684B1 (ko) | 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조방법 | |
JP2014109072A (ja) | 蒸着源、これを含む蒸着装置および蒸着方法 | |
JP2020063511A5 (ja) | ||
JP7297449B2 (ja) | 蒸着装置及びノズル用アダプタ | |
JP6983096B2 (ja) | 真空蒸着装置用の蒸着源 | |
KR102372878B1 (ko) | 증착 장치 | |
KR102506553B1 (ko) | 증발원 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 | |
CN113463032A (zh) | 蒸镀装置及蒸发源 | |
US8944569B2 (en) | Liquid discharge head and recording apparatus using the same | |
TW202134454A (zh) | 蒸鍍源單元、蒸鍍源、以及蒸鍍源用噴嘴 | |
JP2017176948A (ja) | 成膜装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200626 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210720 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210902 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20210902 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220118 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220125 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7016420 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |