CN113031387A - 一种掩膜版及显示面板的制作方法 - Google Patents

一种掩膜版及显示面板的制作方法 Download PDF

Info

Publication number
CN113031387A
CN113031387A CN202110221153.9A CN202110221153A CN113031387A CN 113031387 A CN113031387 A CN 113031387A CN 202110221153 A CN202110221153 A CN 202110221153A CN 113031387 A CN113031387 A CN 113031387A
Authority
CN
China
Prior art keywords
region
light
area
boundary
photoresist
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202110221153.9A
Other languages
English (en)
Inventor
李小朋
张明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hefei Visionox Technology Co Ltd
Original Assignee
Hefei Visionox Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hefei Visionox Technology Co Ltd filed Critical Hefei Visionox Technology Co Ltd
Priority to CN202110221153.9A priority Critical patent/CN113031387A/zh
Publication of CN113031387A publication Critical patent/CN113031387A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/26—Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/1201—Manufacture or treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/131—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/17—Passive-matrix OLED displays
    • H10K59/179—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

本发明实施例公开一种掩膜版及显示面板的制作方法。该掩膜版包括透光区及与透光区相邻设置的遮光区，还包括透明基板和设置于透明基板的第一表面的遮光层，遮光层设置于遮光区；透明基板还包括与第一表面相对设置的第二表面，第二表面为平面；透光区包括远离遮光区的第一区域和与遮光区相邻的第二区域；第二区域的第一表面包括与第一区域的第一表面相邻的第一边界和与遮光区的第一表面相邻的第二边界；沿第一边界指向第二边界的方向，第二区域的第一表面与第二表面之间的距离逐渐增大，且第二区域的第一表面的切面与第一区域的第一表面之间的夹角逐渐增大或不变。本发明实施例提供的技术方案解决显示面板的走线易出现断裂或短路影响显示的问题。

Description

一种掩膜版及显示面板的制作方法
技术领域
本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜版及显示面板的制作方法。
背景技术
随着显示技术的发展以及人们生活水平的提高，有机发光二极管(OrganicLight-Emitting Diode，OLED)显示装置得到广泛应用，随着显示装置的分辨率(PPI，PixelPer Inch)越来越高，显示面板的驱动电路层的走线越来越密集，且线宽越来越小，容易出现断裂或短路，影响显示。
发明内容
本发明实施例提供一种掩膜版及显示面板的制作方法，以解决现有的显示面板的走线容易出现断裂或短路，影响显示的问题。
为实现上述技术问题，本发明采用以下技术方案：
第一方面，本发明实施例提供一种掩膜版，包括：
透光区以及与透光区相邻设置的遮光区；
还包括透明基板和设置于所述透明基板的第一表面的遮光层，遮光层设置于遮光区；透明基板还包括与第一表面相对设置的第二表面，第二表面为平面；
透光区包括远离遮光区的第一区域和与遮光区相邻的第二区域；第二区域的第一表面包括与第一区域的第一表面相邻的第一边界和与遮光区的第一表面相邻的第二边界；沿第一边界指向第二边界的方向，第二区域的第一表面与第二表面之间的距离逐渐增大，且第二区域的第一表面的切面与第一区域的第一表面之间的夹角逐渐增大或不变，使得显影后光刻胶层的坡度角较小，由于光刻胶层的坡度角较小，对覆盖有较小坡度角的光刻胶图案的金属层进行刻蚀，可以使制得的金属层的坡度角较小，避免由于金属层的坡度角较大引起成膜不均匀而导致信号走线断线、短路等问题，改善显示面板的显示效果。
进一步的，第二区域的第一表面为凹面或平面，使得显影后留下的光刻胶的宽度较大，使得显影后的光刻胶在第二区域形成的坡度角较小。
进一步的，第二区域的第一表面为凹面时，沿第一边界指向第二边界的方向，凹面的曲率半径逐渐减小，使得改变光刻胶层不同区域的受光情况，从而调节光刻胶层的坡度角的大小，使得第二区域对应的光刻胶层的厚度逐渐增厚，经曝光显影工艺后的光刻胶的坡度角更平滑。
进一步的，第二区域的第一表面包括至少两个子表面，沿第一边界指向第二边界的方向，至少两个子表面依次排列，且至少两个子表面的切面与第一区域的第一表面的夹角依次增大，使得第二区域对应的光刻胶层的厚度逐渐增厚，经曝光显影工艺后的光刻胶的坡度角更平滑。
进一步的，子表面均为平面，使得制作工艺较简单，容易实现。
进一步的，第二区域的第一表面的切面与第一区域的第一表面的夹角的范围为15°～50°，使得第二区域对应的光刻胶层的宽度和厚度在合适的范围内，在减小坡度角的同时，可以避免影响后续金属层的刻蚀。
进一步的，第一区域的第一表面与第二表面平行，使得在曝光工艺中，光线垂直于透明基板的方向透射，光的强度较强，曝光显影效率较高，掩膜版的第二表面平整，方便掩膜版与显示面板对位，可以提高信号走线的制作精度。
进一步的，第二区域的宽度范围为0μm～5μm，使得掩膜版更适用于实际生产过程中的Mask设计尺寸的需要。
进一步的，透明基板的材料包括熔融石英；
遮光层的材料包括金属。
第二方面，本发明实施例提供一种显示面板的制作方法，采用第一方面任意掩膜版形成信号走线。
本发明实施例提供的掩膜版通过在沿第一边界指向第二边界的方向，设置第二区域的第一表面与第二表面之间的距离逐渐增大，且第二区域的第一表面的切面与第一区域的第一表面之间的夹角逐渐增大或不变，第二区域的第一表面接收到的部分光发生折射或反射，经第二区域投射到光刻胶层的光较少，对正性光刻胶而言使得第二区域的部分光刻胶不能被去除，从而增大了显影后留下的光刻胶的宽度，对负性光刻胶而言，使得第二区域的部分光刻胶被显影掉，第二区域的光刻胶厚度较小，进而减小了显影后光刻胶层的坡度角，进而使得后续工艺形成的金属层的坡度角较小，解决了现有的显示面板的走线容易出现断裂或短路，影响显示的问题。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对本发明实施例描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据本发明实施例的内容和这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的一种掩膜版的结构示意图；
图2是本发明实施例提供的一种掩膜版沿图1中AA’方向的截面示意图；
图3是本发明实施例提供的图2中D区域的放大结构示意图；
图4是本发明实施例提供的一种使用图2所示的掩膜版经曝光后形成的光学胶层的示意图；
图5是图4的光学胶层经硬烘烤之后的示意图；
图6是本发明实施例提供的另一种掩膜版的结构示意图；
图7是本发明实施例提供的又一种掩膜版的结构示意图；
图8是本发明实施例提供的又一种掩膜版的结构示意图；
图9是本发明实施例提供的又一种掩膜版的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
正如背景技术中提到的随着显示装置的分辨率越来越高，显示面板的驱动电路层的走线越来越密集，线宽越来越小，容易出现断裂或短路。发明人通过研究发现出现这种问题的原因在于：走线在形成过程中会用到光刻(Photo)工艺，现有光刻工艺之后光刻胶的坡度角(PR Taper，Photo Resist Taper)较大，过大的PR Taper会导致对金属层的刻蚀后形成的走线的坡度角偏大，使得有效膜宽降低，进而导致后续成膜会产生断线、短路等问题。
基于上述技术问题，本实施例提出了以下解决方案：
图1是本发明实施例提供的一种掩膜版的结构示意图。图2是本发明实施例提供的一种掩膜版沿图1中AA’方向的截面示意图。图3是本发明实施例提供的图2中D区域的放大结构示意图。结合图1至图3，本发明实施例提供的掩膜版101包括透光区10以及与透光区10相邻设置的遮光区20；还包括透明基板1和设置于透明基板1的第一表面11的遮光层2，遮光层2设置于遮光区20；透明基板1还包括与第一表面11相对设置的第二表面12，第二表面12为平面；透光区10包括远离遮光区20的第一区域30和与遮光区20相邻的第二区域40；第二区域40的第一表面11包括与第一区域30的第一表面11相邻的第一边界B1和与遮光区20的第一表面11相邻的第二边界B2；沿第一边界B1指向第二边界B2的方向，第二区域40的第一表面11与第二表面12之间的距离D1逐渐增大，且第二区域40的第一表面11的切面与第一区域30的第一表面11之间的夹角α逐渐增大或不变。
具体地，图1示例性地示出了掩膜版101包括遮光区20环绕透光区10的遮光区20的情况，也可以根据需要，设置透光区10环绕遮光区20，或者，当遮光区20设置为平行的多个条状遮光区20时，透光区10也可以设置为与遮光区20相邻且间隔设置的条状透光区10，在此不作任何限定。图2示出了光刻过程中掩膜版和显示面板的位置关系。参考图2，走线在形成时，首先在玻璃基板100上形成金属层200，在对金属层200进行刻蚀之前，需要在金属层200远离玻璃基板100的一侧形成光刻胶层300，掩膜版101放置于光刻胶层300远离金属层200的一侧，掩膜版101的透光区10可以透射光，遮光区20不透光，光刻胶层300经过曝光和显影之后可以形成设定图形的光刻胶层图案，然后对未覆盖光刻胶层300金属层200进行刻蚀，形成走线。
需要说明的是，光刻胶可以包括正性光刻胶或负性光刻胶，正性光刻胶会在接收光照后经显影工艺后去除，负性光刻胶会在接受光照后经显影工艺后保留，当采用正性光刻胶时，遮光区20包括金属层200走线的图形特征；当采用负性光刻胶时，透光区10包括金属层200走线的图形特征。
本实施例通过设置沿第一边界B1指向第二边界B2的方向，第二区域40的第一表面11与第二表面12之间的距离逐渐增大，且第二区域40的第一表面11的切面400与第一区域30的第一表面11之间的夹角α逐渐增大或不变，沿平行于透明基板1的方向，第二区域40的第一表面11接收到的部分光发生折射或反射，使得经第二区域40投射到光刻胶层300的光较少，对正性光刻胶而言使得第二区域的部分光刻胶不能被去除，从而增大了显影后留下的光刻胶的宽度(对负性光刻胶而言，使得第二区域的部分光刻胶被显影掉，第二区域的光刻胶厚度较小)，进而减小了显影后光刻胶层300的坡度角，由于光刻胶层300的坡度角较小，对覆盖有较小坡度角的光刻胶图案的金属层200进行刻蚀，例如可以通过干刻法对金属层200进行刻蚀，可以使制得的金属层200的坡度角较小，避免由于金属层200的坡度角较大引起成膜不均匀而导致信号走线断线、短路等问题，改善显示面板的显示效果。
图4是本发明实施例提供的一种使用图2所示的掩膜版经曝光显影后形成的光学胶层的示意图。图5是图4的光学胶层经硬烘烤之后的示意图。参考图4和图5，采用本实施例的方案光刻胶层的坡度角较小，可以根据需要使得光刻胶层的坡度角在15°～50°范围内，例如，光刻胶层的坡度角可以为20°、25°、30°、35°、40°、45°或50°等。
本实施例提供的掩膜版通过在沿第一边界指向第二边界的方向，设置第二区域的第一表面与第二表面之间的距离逐渐增大，且第二区域的第一表面的切面与第一区域的第一表面之间的夹角逐渐增大或不变，第二区域的第一表面接收到的部分光发生折射或反射，经第二区域投射到光刻胶层的光较少，对正性光刻胶而言使得第二区域的部分光刻胶不能被去除，从而增大了显影后留下的光刻胶的宽度，对负性光刻胶而言，使得第二区域的部分光刻胶被显影掉，第二区域的光刻胶厚度较小，进而减小了显影后光刻胶层的坡度角，进而使得后续工艺形成的金属层的坡度角较小，解决了现有的显示面板的走线容易出现断裂或短路，影响显示的问题。
可选的，继续参见图2和图3，第二区域40的第一表面11可以为凹面或平面。
具体地，第二区域40的第一表面11为凹面时，第一表面11可以近似为凹透镜，垂直于透明基板1的光照射至凹面上，由于凹面的对光有散射作用，经过凹面透射至光刻胶层300的光较少，示例性地，对正性光刻胶而言使得第二区域40的部分光刻胶不能被去除，从而增大了显影后留下的光刻胶的宽度，使得显影后的光刻胶在第二区域40形成的坡度角较小。
图6是本发明实施例提供的另一种掩膜版的结构示意图。在上述实施例的基础上，参见图6，第二区域40的第一表面11为平面时，由于平面对光有反射作用，经过平面反射后，透过平面照射至光刻胶层的光较少，示例性地，对正性光刻胶而言使得第二区域的部分光刻胶不能被去除，从而增大了显影后留下的光刻胶的宽度，使得显影后的光刻胶在第二区域40形成的坡度角较小，且制作为平面的第二区域40的第一表面11工艺较简单，容易制作。
可选的，图7是本发明实施例提供的又一种掩膜版的结构示意图。在上述实施例的基础上，参见图7，第二区域40的第一表面11为凹面时，沿第一边界B1指向第二边界B2的方向，凹面的曲率半径R逐渐减小。
具体地，这样设置可以改变光刻胶层不同区域的受光情况，从而调节光刻胶层的坡度角的大小，使得第二区域40对应的光刻胶层的厚度逐渐增厚，经曝光显影工艺后的光刻胶的坡度角更平滑。以正性光刻胶为例，较大曲率半径的凹面，经第二区域40投射到光刻胶层的光较多，经过曝光显影后，第二区域40对应的光刻胶层的厚度较薄，较小曲率半径的凹面，经第二区域40投射到光刻胶层的光较少，经过曝光显影后，第二区域40对应的光刻胶层的厚度较厚。沿第一边界B1指向第二边界B2的方向，凹面的曲率半径R逐渐减小，使得第二区域40对应的光刻胶层的厚度由薄逐渐增厚，经曝光显影工艺后的光刻胶的坡度角更平滑。
可选的，图8是本发明实施例提供的又一种掩膜版的结构示意图。在上述实施例的基础上，参见图8，第二区域40的第一表面11包括至少两个子表面13，沿第一边界B1指向第二边界B2的方向，至少两个子表面13依次排列，且至少两个子表面13的切面与第一区域30的第一表面11的夹角β依次增大。
具体地，可以根据需要将第二区域40的第一表面11划分为多个子表面13，每一子表面13的切面与第一区域30的第一表面11的夹角β依次增大，使得第二区域40对应的光刻胶层的厚度逐渐增厚，经曝光显影工艺后的光刻胶的坡度角更平滑。示例性地，以正性光刻胶为例，由于子表面13的切面与第一区域30的第一表面11的夹角β较小时，经第二区域40投射到光刻胶层的光较多，经过曝光显影后，第二区域40对应的光刻胶的厚度较薄；子表面13的切面与第一区域30的第一表面11的夹角β较大时，经第二区域40投射到光刻胶层的光较少，经过曝光显影后，第二区域40对应的光刻胶的厚度较厚，沿第一边界B1指向第二边界B2的方向，子表面13的切面与第一区域30的第一表面11的夹角β依次增大，第二区域40对应的光刻胶层的厚度由薄逐渐增厚，使得第二区域40对应形成的光刻胶的坡面更平坦。
可选的，子表面可以为平面。
具体地，继续参见图8，子表面13可以为平面，多个相邻子表面13共同构成第二区域40的第一表面，可以根据需要，将多个子表面13与第一区域30的第一表面11的夹角β设置为不同，同一子表面13折射的光线平行，经第二区域40投射到光刻胶层的光也相互平行，经过曝光显影后，第二区域40对应的光刻胶层的坡面与子表面对应形成不同台阶，后续膜层也会形成台阶，便于后续膜层的附着，使得金属层不容易翘曲或断裂，避免信号走线断线、短路等问题，改善显示面板的显示效果。另外，子表面为平面时制作工艺较简单，容易实现。
需要说明的是，图9是本发明实施例提供的又一种掩膜版的结构示意图。参见图9，可以根据需要将子表面13设置为凹面，也可以根据需要设置子表面13为平面和凹面的组合，在此不作任何限定。
可选的，继续参见图7，第二区域40的第一表面11的切面与第一区域30的第一表面11的夹角α的范围为15°～50°。
具体地，第二区域40的第一表面11的切面与第一区域30的第一表面11的夹角β过小时，经第二区域40投射到光刻胶层的光较多，不利于增大显影后留下的光刻胶的宽度，进而使光刻胶层的坡度角过大；第二区域40的第一表面11的切面与第一区域30的第一表面11的夹角β过大时，经第二区域40投射到光刻胶层的光过少，经过曝光显影后，第二区域残留的光刻胶过多，影响后续金属层的刻蚀精度。设置第二区域40的第一表面11的切面与第一区域30的第一表面11的夹角α的范围为15°～50°，使得第二区域40对应的光刻胶层的宽度和厚度在合适的范围内，在减小坡度角的同时，可以避免影响后续金属层的刻蚀。
可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图9，可以设置第一区域30的第一表面11与第二表面12平行。
具体地，这样设置在曝光工艺中，光线垂直于透明基板1的方向透射，光的强度较强，曝光显影效率较高，掩膜版的第二表面12平整，方便掩膜版与显示面板对位，可以提高信号走线的制作精度。
可选的，透明基板的材料可以包括熔融石英；遮光层的材料可以包括金属。
具体地，透明基板的材料采用熔融石英使得透明基板具有较好的透光性，遮光层的材料可以为金属，例如可以为铬(Cr，Chromium)，使得遮光层的遮光效果较好。可以通过在透明基板上面溅射一层铬，铬层的厚度可以为800～1000埃。
可选的，第二区域的宽度范围可以为0μm～5μm。
具体地，这样设置使得掩膜版更适用于实际生产过程中的Mask设计尺寸的需要。
需要说明的是，本实施例提供的掩膜版适用于驱动电路层的宽度较窄的电路、走线以及其他较细的膜层，可以是金属膜层或非金属的膜层，例如绝缘层、封装层等需要较小坡度角的膜层。
可选的，本发明实施例提供一种显示面板的制作方法，采用上述任意实施例提出的掩膜版形成信号走线。具有上述实施例提供的掩膜版的有益效果，在此不再赘述。显示面板可以用于手机、平板电脑以及可穿戴设备等移动终端。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (10)

1.一种掩膜版，其特征在于，包括：
透光区以及与所述透光区相邻设置的遮光区；
还包括透明基板和设置于所述透明基板的第一表面的遮光层，所述遮光层设置于所述遮光区；所述透明基板还包括与所述第一表面相对设置的第二表面，所述第二表面为平面；
所述透光区包括远离所述遮光区的第一区域和与所述遮光区相邻的第二区域；所述第二区域的第一表面包括与所述第一区域的第一表面相邻的第一边界和与所述遮光区的第一表面相邻的第二边界；沿所述第一边界指向所述第二边界的方向，所述第二区域的第一表面与所述第二表面之间的距离逐渐增大，且所述第二区域的第一表面的切面与所述第一区域的第一表面之间的夹角逐渐增大或不变。
2.根据权利要求1所述掩膜版，其特征在于，所述第二区域的第一表面为凹面或平面。
3.根据权利要求2所述掩膜版，其特征在于，
所述第二区域的第一表面为凹面时，沿所述第一边界指向所述第二边界的方向，所述凹面的曲率半径逐渐减小。
4.根据权利要求1所述掩膜版，其特征在于，
所述第二区域的所述第一表面包括至少两个子表面，沿所述第一边界指向所述第二边界的方向，至少两个子表面依次排列，且至少两个子表面的切面与第一区域的第一表面的夹角依次增大。
5.根据权利要求4所述掩膜版，其特征在于，
所述子表面均为平面。
6.根据权利要求1所述掩膜版，其特征在于，
所述第二区域的所述第一表面的切面与所述第一区域的第一表面的夹角的范围为15°～50°。
7.根据权利要求1所述掩膜版，其特征在于，
所述第一区域的所述第一表面与所述第二表面平行。
8.根据权利要求1所述掩膜版，其特征在于，
所述第二区域的宽度范围为0μm～5μm。
9.根据权利要求1所述掩膜版，其特征在于，
所述透明基板的材料包括熔融石英；
所述遮光层的材料包括金属。
10.一种显示面板的制作方法，其特征在于，采用权利要求1-9任一项所述掩膜版形成信号走线。
CN202110221153.9A 2021-02-26 2021-02-26 一种掩膜版及显示面板的制作方法 Pending CN113031387A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110221153.9A CN113031387A (zh) 2021-02-26 2021-02-26 一种掩膜版及显示面板的制作方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110221153.9A CN113031387A (zh) 2021-02-26 2021-02-26 一种掩膜版及显示面板的制作方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN113031387A true CN113031387A (zh) 2021-06-25

Family

ID=76464653

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110221153.9A Pending CN113031387A (zh) 2021-02-26 2021-02-26 一种掩膜版及显示面板的制作方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113031387A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023164793A1 (zh) * 2022-03-01 2023-09-07 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制作方法、显示装置

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105633102A (zh) * 2016-04-05 2016-06-01 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、薄膜晶体管、显示器件的制作方法、显示装置
CN205880497U (zh) * 2016-05-30 2017-01-11 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 一种掩膜板
CN206133181U (zh) * 2016-11-01 2017-04-26 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种掩膜板
CN107340683A (zh) * 2017-07-28 2017-11-10 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板、oled显示基板及其制作方法、显示装置
CN108803232A (zh) * 2018-05-31 2018-11-13 云谷（固安）科技有限公司 曝光光罩及其制作方法、光阻材料图形化方法及蚀刻方法
CN208351242U (zh) * 2018-07-24 2019-01-08 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板、阵列基板、显示装置
US20190041691A1 (en) * 2017-08-01 2019-02-07 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Display panel and display device
CN109814332A (zh) * 2019-03-15 2019-05-28 云谷（固安）科技有限公司 一种掩膜版、制备方法及显示面板
CN110699637A (zh) * 2019-10-17 2020-01-17 昆山国显光电有限公司 掩膜版的制作方法、掩膜版和显示面板的制作方法

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105633102A (zh) * 2016-04-05 2016-06-01 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、薄膜晶体管、显示器件的制作方法、显示装置
CN205880497U (zh) * 2016-05-30 2017-01-11 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 一种掩膜板
CN206133181U (zh) * 2016-11-01 2017-04-26 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种掩膜板
CN107340683A (zh) * 2017-07-28 2017-11-10 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板、oled显示基板及其制作方法、显示装置
US20190041691A1 (en) * 2017-08-01 2019-02-07 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Display panel and display device
CN108803232A (zh) * 2018-05-31 2018-11-13 云谷（固安）科技有限公司 曝光光罩及其制作方法、光阻材料图形化方法及蚀刻方法
CN208351242U (zh) * 2018-07-24 2019-01-08 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板、阵列基板、显示装置
CN109814332A (zh) * 2019-03-15 2019-05-28 云谷（固安）科技有限公司 一种掩膜版、制备方法及显示面板
CN110699637A (zh) * 2019-10-17 2020-01-17 昆山国显光电有限公司 掩膜版的制作方法、掩膜版和显示面板的制作方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023164793A1 (zh) * 2022-03-01 2023-09-07 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制作方法、显示装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107632453B (zh) 显示面板及制造方法和显示装置
WO2019041899A1 (zh) 显示面板、显示装置及显示面板制作方法
US11201301B2 (en) Base support plate and method of manufacturing the same, and method of manufacturing a flexible display panel
WO2017190535A1 (zh) 单侧发光光源及其制作方法、显示装置
KR100491258B1 (ko) 반사투과형 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법
CN113031387A (zh) 一种掩膜版及显示面板的制作方法
WO2021077475A1 (zh) 显示器件及其制备方法
CN114975477A (zh) 显示面板、显示面板的制造方法以及显示装置
JPH0850283A (ja) 液晶表示パネル
CN110008869B (zh) 显示面板和显示装置
TWI764634B (zh) 感測裝置
CN113035930B (zh) 一种阵列基板、显示面板及显示装置
CN112864182B (zh) 感光模组和显示装置
CN116547569A (zh) 一种微透镜结构、其制作方法及显示装置
TW202040226A (zh) 畫素結構
WO2022000478A1 (zh) 线路板制作方法及线路板
CN216488059U (zh) 显示面板和显示装置
KR101301731B1 (ko) 표시장치 및 그 제조방법
US20240094274A1 (en) Thin film sensor and manufacturing method thereof
US20240045118A1 (en) Optical module, manufacturing method, and display device
US20230239382A1 (en) Display module
TWI417625B (zh) 反射式液晶顯示面板之薄膜電晶體基板及其製作方法
TW202315147A (zh) 光學感測裝置
JP2023140279A (ja) 反射板、表示装置及び反射板の製造方法
KR100537875B1 (ko) 반사형 액정 표시 장치 및 그 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination