CN1130243C - 电子束辐射装置 - Google Patents
电子束辐射装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1130243C CN1130243C CN99104388A CN99104388A CN1130243C CN 1130243 C CN1130243 C CN 1130243C CN 99104388 A CN99104388 A CN 99104388A CN 99104388 A CN99104388 A CN 99104388A CN 1130243 C CN1130243 C CN 1130243C
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- electron beam
- electric current
- electromagnet
- magnet
- current
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 107
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000002784 hot electron Substances 0.000 description 4
- PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-bromo-2-fluorophenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC(Br)=C1F PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000003337 fertilizer Substances 0.000 description 2
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003916 acid precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000003915 air pollution Methods 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 238000006477 desulfuration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/007—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by irradiation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J3/00—Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J3/26—Arrangements for deflecting ray or beam
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2259/00—Type of treatment
- B01D2259/80—Employing electric, magnetic, electromagnetic or wave energy, or particle radiation
- B01D2259/812—Electrons
Abstract
一种电子束辐射装置,可避免在最大扫描点处电子束会聚的问题,恒定获得均匀能量密度的辐射区域,该装置包括:电子束源12,加速电子束源发射的电子的加速管13,对加速管形成的高能电子束施加磁场以控制电子束束直径的聚焦电磁铁16,以及用于向电子束施加磁场来偏转和扫描已被控制束直径的电子束的电磁铁17,其中与扫描电磁铁17的电流IS同步的电流成分IF被迭加到聚焦电磁铁16的电流IF上,由此控制聚焦电磁铁的电流IF,使所述束直径在最大扫描点上成为最大。
Description
技术领域
本发明涉及一种电子束辐射装置及方法,特别涉及用于去除包含在从例如火力发电站排出的废气中的有害成分的一种电子束辐射装置及电子束辐射方法。
背景技术
据认为已成为全球性问题的由空气污染所导致的温室效应,酸雨及其它效应,源于如SOx、NOx等成分,它们包含在从例如热电站等排出的燃烧废气之中。已实践了一种去除如SOx、NOx等有害成分的方法是在燃烧废气上辐射电子束,由此进行去硫及去硝(去除有害成分如SOx、NOx等)。
图1示出了被用于以上应用的电子束发生装置的一个例子。燃烧废气处理装置主要构成为:产生高直流(DC)电压的电源10;在燃烧废气上辐射电子束的电子束辐射装置11;以及沿着作为由装置11辐射的电子束的出口的辐射窗15而安置的用于燃烧废气的流动通路19。从辐射窗15发射到外部的电子束在燃烧废气中辐射氧气(O2)及蒸气(H2O)的分子,其中辐射窗15的构成为例如一个钛薄膜等。通过接收辐射,这些分子变成自由基如OH、O、HO2等,它们具有很强的氧化能。这些自由基氧化有害成分如SOx、NOx等,并形成中间产物如硫酸,硝酸等。这些中间产物与预先注入的氨气(NH3)化学反应,并变成硫酸铵及硝酸铵。硫酸铵及硝酸铵被作为化肥的材料重新利用。通过使用这样的废气处理系统,可以从燃烧废气中去除有害成分如SOx,NOx等,并重新利用副产品如硫酸铵及硝酸铵,它们可被用作化肥的材料。
电子束发生装置11主要的构成有:热电子束发生源12如一热电子丝等;用于加速从热电子发生源12发射的电子的加速管13;用于向由加速管形成的高能电子施加磁场由此控制电子束的束直径的聚焦电磁铁16;以及用于向其束直径被控制的电子束施加磁场由此偏转电子束的扫描电磁铁17,这些元件被包括在封闭件18a及18b中并保持在高真空气氛中。由此形成的高能电子束通过由扫描电磁铁17施加的磁场被偏转和扫描,并从辐射窗15发射到废气的流动通路19的预定区域。
图2(a)示出了由普通聚焦电磁铁及扫描电磁铁形成的束的偏转和会聚。例如由热电子发生源12如灯丝等产生的热电子通过例如约1MV的高压在加速管13上被加速并会聚并变成高速电子束。然后,为了扩大或减小束直径,由聚焦电磁铁16控制束直径以便聚焦成具有恒定直径的电子束。在这种结构中,聚焦电磁铁16是一种结构为围绕主轴放置的环形线圈的电磁铁。通过聚焦电磁铁,在束轴方向上相对该轴对称形成一个电磁场,并且控制束直径与磁场的大小与方向相一致。为了上述目的,如图3(b)所示向该电磁铁施加一直流电IO。
这个由聚焦电磁铁16控制束直径的电子束由扫描电磁铁17向x和y方向扫描。在这种结构中,扫描电极17是一种电磁铁它包括可以将电子束向x和y方向偏转的两组磁极。通过控制向该电磁铁的线圈施加的电流的大小与方向,x及y方向的偏转角度被控制,电子束被扫描且电子束的辐射区域被控制。为止,如图3(a)所示向电磁铁线圈施加正弦AC电流IS。结果,在图2(b)中如所示的那样电子束对辐射窗15在左及右方向上被扫描。应注意到图2(a)中,竖直方向扫描为便于解释而被省略了。
然而,当电子束在x方向通过使用扫描电磁铁17扫描时,如果靠近最大扫描点A及B的偏转角是大的,则会产生这样一个问题即由于用该电磁铁产生的磁场的偏转效应,使得电子束的向出射角与其入射角不同并且由于类似凸镜的效应电子束会聚在一个集点上。换句话说,期望获得如图2(b)中虚线所示的均匀束图案,但是实际上,束的辐射特别地集中在位于图中阴影线部分的左端和右端的最大扫描点A和B上。当电子束集中在靠近上述的最大扫描位置A和B的位置上时,这些地方的能量密度增加并且其结果产生了这样一种问题即可能损坏辐射窗。而且,在靠近最大扫描所述位置A和B的地方形成没有被电子束辐射的一些区域。结果,不能充分地进行从燃烧废气中去除有害成分。
发明内容
本发明可以解决上述问题。本发明的一个目标是提供一种电子束辐射装置,它可以避免电子束会聚于最大扫描点的问题并恒定地及完整地获得一个均匀能量密度的辐射区。
根据本发明的电子束辐射装置,包括:电子束源;用于加速从所述电子束源发射的电子的加速管;用于向由所述加速管形成的高能电子束施加磁场以便控制电子束的直径的聚焦电磁铁;以及用于向所述电子束施加磁场以使所述直径被控制的电子束偏转及扫描的扫描电磁铁,所述电子束辐射装置的特征在于:与所述扫描电磁铁的正弦波或三角波交流电流同步的电流成分,被迭加到流经所述聚焦电磁铁的直流电流上,以此方式来控制所述聚焦电磁铁的电流使所述束直径在所述扫描的最大点上变为最大。
根据本发明,通过在聚焦电磁铁的直流电流上迭加上与扫描电磁铁的电流同步的电流成分,控制聚焦电磁铁的电流使束直径在最大扫描点上即,在偏转角变得最大的点为最大,并在常规的扫描下,会聚束直径。通过上述措施,由于束直径在最大扫描点(即在最大偏转角的点)为最大,可以延伸明显焦距长度并避免束直径在辐射窗部分上会聚。结果,电子束的辐射密度在辐射窗部分变得均匀,可避免损坏辐射窗部分并且电子束从辐射窗部分均匀辐射,由此电子束均匀辐射燃烧废气并可以取得对有害成分的充分去除。
本发明进一步的特征在于所述扫描电磁铁的电流是正弦AC电流,所述聚焦电磁铁电流是通过在一DC电流上迭加上其频率是所述扫描电磁铁电流两倍的正弦AC电流而形成的,以及聚焦电磁铁的电流被同步控制使得所述束直径在所述扫描电磁铁电流的最大正值和负值处为最大。通过上面措施,束直径分别在正、负方向的扫描最大点为最大。
也可以是,所述扫描电磁铁的电流是三角波形AC电流,所述聚焦电磁铁的电流由在一DC电流上迭加上其频率为所述扫描电磁铁的电流两倍的三角波AC电流而形成的,这是可能的,并且同步控制聚焦电磁铁的电流以便使所述束直径在所述扫描电磁铁的电流的正负方向最大值上最大化,这也是可能的。通过上述措施,束直径也可以分别在正及负方向上的最大扫描点被最大化。
根据本发明的辐射电子束的方法,包括步骤:将第一磁场施加到通过加速电子源发射的电子而形成的高能电子束来控制所述电子束的束直径;将第二磁场施加到所述束直径被控制的电子束以使所述电子束偏转和扫描,其特征在于:与扫描电磁铁的正弦波或三角波交流电流同步的电流成分,被迭加到流经聚焦电磁铁的直流电流上,以此方式来控制所述聚焦电磁铁的电流使所述束直径在所述扫描的最大点上变为最大。应该明白,扫描电磁铁的电流波形不限于上述正弦及三角波形状,而且无需说明,在辐射窗上施加均匀束图案的任何电流波形都可取得该目标。
通过上述措施,基至在扫描具有相对大的偏转角的高能电子束的场合,克服电子束会聚的问题由此用均匀能量密度的电子束辐射宽的扫描表面成为可能。结果在如可用于废气处理的电子束辐射装置这样的应用中,可以向相对大的辐射表面施加均匀密度的电子束。而且,可以使偏移角更大,由此降低装置的尺寸。当将本发明应用于各种使用电子束的装置如除了用于废气处理的电子束辐射装置外的电子束焊接装置,扫描电子显微镜等时,可期望取得类似效应。
本发明的其它目标当参照附图时从下列详细描述本发明的实施例可变得很明显。
附图说明
图1示意性示出使用电子束辐射装置的现有废气处理装置。
图2(a)是现在技术的示意图,示出电子束如何被偏转,而图2(b)示出了电子束的辐射图案。
图3(a)说明扫描电磁铁的电流,而图3(b)示出现有技术中聚焦电磁铁的电流。
图4(a)示出根据本发明的电子束辐射装置的第一实施例的结构,示出电子束如何被偏转,而图4(b)示出了图4(a)所示电子束的辐射图案。
图5(a)说明本发明带扫描电磁铁的电流,而图5(b)示出本发明第一实施例的聚焦电磁铁的电流。
图6(a)说明本发明第二实施例的扫描电磁铁的电流,而图6(b)示出本发明第二实施例的聚焦电磁铁的电流。
图7(a)说明本发明第三实施例的扫描电磁铁的电流,而图7(b)示出本发明第三实施例的聚焦电磁铁的电流。
具体实施方式
将参照图4(a)至7(b)来描述本发明的实施例。在这些图中,相同的标号代表相同或等同组件。
图4(a)示出由根据本发明的一个实施例的聚焦电磁铁和扫描电磁铁形成的电子束,而图4(b)示电子束在辐射表面的辐射图案。图5(a)说明根据本发明第一实施例的扫描电磁铁的电流,并且图5(b)示出根据本发明第一实施例的聚焦电磁铁的电流。电子束辐射装置11的构成为:电子束源12,加速管13,聚焦电磁铁16,及扫描电磁铁17。通过扫描电磁铁17的磁场所加速并扫描的电子束从辐射窗15发射这种结构与现有技术相同。而且与现有技术相类似,装置11被构造成在加速管13中使用约1MV的高电压来加速具有高速度的电子束,用聚焦电磁铁来控制电子束的束直径并将其束直径被控制的电子束偏转至预定区域来扫描。扫描宽度在较长方向(x方向)为约3-4米并在较短方向(y方向)约为30-40厘米。
在本发明中,在辐射装置中,将一个与扫描电磁铁的AC电流IS同步的电流成分迭加在聚焦电磁铁的DC电流IO上。图5(a)示出了被施加到电磁铁线圈以用于x方向扫描的AC电流IS。通过向扫描电磁铁线圈施加正弦电流进行x方向扫描。当被施加到扫描电磁铁的线圈的正弦电流值变成最大值时,形成最大磁场,由此电子束偏转角变成最大而电子束扫描点位于图4(b)右端最大点A。当正弦电流值变成最大负值时,电子束的扫描点位于图4(b)左端最大点B。要注意,虽然在Y方向扫描也进行,与束直径的会聚相关问题并不发生,因为Y方向的扫描宽度比x方向的扫描宽度窄。
另一方面,被施加给聚焦电磁铁17线圈的是电流IF,它由在DC电流IO上迭加一个频率为电流IS的两倍并与之同步的AC电流成分而形成。换句话说,聚焦电磁铁的DC电流IO被控制来加大束直径,并且在该DC电流IO上来迭加频率为扫描电磁铁17的电流IS两倍的AC电流,以这样一种方式即这个AC电流的最大值分别与扫描电磁铁17的正弦电流的最大正和负点A与B同步。
通过上述措施,在由扫描电磁铁17偏转电子束向右及向左到达的最大点A与B,向聚焦电磁铁16施加的电流IF变成最大并且,在此时,束直径变成最大。由此,电子束进入扫描电磁铁17的磁场并被偏转时,电子束的入射是被发散的,并且结果焦距被延长,由此避免了电子束在辐射窗15上的会聚。结果,可以避免在现有技术中发生在大偏转角度上的电子束的集中现象,并可以获得图4(b)所示的恒定能量密度,不考虑扫描位置。结果,由电子束在辐射窗15上会聚引起的问题如由燃烧引起的损坏被防止。
图6(a)说明根据本发明第二实施例的扫描电磁铁的电流,而图6(b)示出根据本发明的第二实施例的聚焦电磁铁的电流。在这个实施例中聚焦电磁铁的电流的DC分量IO是用于减少束直径的控制电流。因此,将频率为电流IS的两倍的正弦AC电流迭加到DC电流IO上,迭加方式为与扫描电磁铁的电流IS的正弦波的正与负峰值A与B同步,以便使聚焦电磁铁的电流IF最小。通过上述结构,束直径在电流IS的正弦波的正与负最大点即在最大扫描值A与B上变为最大,因而,在扫描电磁铁17的磁场变为最大而束直径已准备会聚时,束直径被加大且焦距被延长,由此避免在辐射窗15上电子束的会聚问题。应注意到由于在靠近扫描电磁铁的电流IS的零点位置,偏转角为零,聚焦电磁铁的电流IF等于IO并返回原始束直径。
图7(a)说明本发明第三实施例的扫描电磁铁的电流,而图7(b)示出本发明第三实施例的聚焦电磁铁的电流。在这个实施例中,如图7(a)所示三角形波形(锯齿波形)被用于由扫描电磁铁17进行的x方向扫描。即,由聚焦电磁铁16控制束直径的电子束所进入的扫描电磁铁17的磁场相对于时间从负方向到正方向呈线性变化。因而,在图7(b)中电子束在时间轴上从点A到点B也近似线性地被偏转及扫描。由此原因,如图7(b)所示与扫描电磁铁的电流同步的三角波也被用作聚焦电磁铁16的电流IF。即在这个实施例中,DC电流成分IO是用于控制会聚束直径的电流,而聚焦电磁铁16的电流与扫描电磁铁17的电流IS同步以形成三角波,使得三角波在点A与B变成最小。由此,通过聚焦电磁铁16控制束直径在扫描点A与B成为最大。通过上述结构,可以避免在最大扫描点A与B上束直径的会聚的问题,避免辐射窗损坏并象上述那些实施例那样,向整个辐射表面施加均匀能量密度的电子束。
在上述实施例中,描述了本发明作为用于废气处理系统的电子束辐射装置,但是,本发明的要点是避免被由电子束在扫描时伴随偏移角造成电子束的聚焦现象。因此,本发明的思想可被广泛用于各种使用电子束的装置如电子束焊接装置,扫描电子显微镜等。
如上所述,根据本发明,可以避免电子束的会聚问题并且即使扫描具有相对宽偏转角的高能电子束,也可以取得在宽的扫描区域上具有均匀能量密度的电子束的辐射。
虽然已详细描述并图解了本发明,应清楚地理解到这只是通过图解与举例方式来描述和图解了本发明。
Claims (4)
1.一种电子束辐射装置,包括:
电子束源;
用于加速从所述电子束源发射的电子的加速管;
用于向由所述加速管形成的高能电子束施加磁场以便控制电子束的直径的聚焦电磁铁;以及
用于向所述电子束施加磁场以使所述直径被控制的电子束偏转及扫描的扫描电磁铁,所述电子束辐射装置的特征在于:与所述扫描电磁铁的正弦波或三角波交流电流同步的电流成分,被迭加到流经所述聚焦电磁铁的直流电流上,以此方式来控制所述聚焦电磁铁的电流使所述束直径在所述扫描的最大点上变为最大。
2.如权利要求1所述的电子束辐射装置,其特征在于所述扫描电磁铁的电流是正弦AC电流,所述聚焦电磁铁的电流是通过在DC电流上迭加频率为所述扫描电磁铁的电流的两倍的正弦AC电流而形成的,以及所述聚焦电磁铁的电流被同步控制使得所述束直径在所述扫描电磁铁电流的最大正负值处最大化。
3.如权利要求1所述的电子束辐射装置,其特征在于所述扫描电磁铁的电流是三角波形AC电流,所述聚焦电磁铁的电流是通过在DC电流上迭加频率为所述扫描电磁铁的电流两倍的三角波AC电流而形成的,以及所述聚焦电磁铁的电流被同步控制使得所述束直径在所述扫描电磁铁的最大正负值处最大化。
4.一种辐射电子束的方法,包括步骤:将第一磁场施加到通过加速电子源发射的电子而形成的高能电子束来控制所述电子束的束直径;将第二磁场施加到所述束直径被控制的电子束以使所述电子束偏转和扫描,其特征在于:与扫描电磁铁的正弦波或三角波交流电流同步的电流成分,被迭加到流经聚焦电磁铁的直流电流上,以此方式来控制所述聚焦电磁铁的电流使所述束直径在所述扫描的最大点上变为最大。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP100406/98 | 1998-03-27 | ||
JP10100406A JPH11281799A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | 電子線照射装置 |
JP100406/1998 | 1998-03-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1242253A CN1242253A (zh) | 2000-01-26 |
CN1130243C true CN1130243C (zh) | 2003-12-10 |
Family
ID=14273106
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN99104388A Expired - Fee Related CN1130243C (zh) | 1998-03-27 | 1999-03-26 | 电子束辐射装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6329769B1 (zh) |
JP (1) | JPH11281799A (zh) |
CN (1) | CN1130243C (zh) |
PL (1) | PL332232A1 (zh) |
RU (1) | RU2219606C2 (zh) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6696693B1 (en) * | 1999-07-02 | 2004-02-24 | Ebara Corporation | Electron beam irradiation apparatus and method |
JP2001221899A (ja) * | 2000-02-07 | 2001-08-17 | Ebara Corp | 電子線照射装置 |
US20060196853A1 (en) * | 2005-03-04 | 2006-09-07 | The Regents Of The University Of California | Micro-joining using electron beams |
CA2857801C (en) | 2006-10-26 | 2014-12-30 | Xyleco, Inc. | Methods of processing biomass comprising electron-beam radiation |
CN102097150B (zh) * | 2010-11-04 | 2012-07-04 | 华中科技大学 | 一种用于辐射加工的电子束扩散装置 |
CN102494917A (zh) * | 2011-12-13 | 2012-06-13 | 江苏达胜加速器制造有限公司 | 空间环境辐射模拟装置 |
WO2014025751A2 (en) | 2012-08-06 | 2014-02-13 | Implant Sciences Corporation | Non-radioactive ion source using high energy electrons |
CN103068145A (zh) * | 2013-01-04 | 2013-04-24 | 中国原子能科学研究院 | 一种电磁铁磁场波形合成方法及其装置 |
CN103762007B (zh) * | 2014-01-20 | 2016-08-17 | 汇佳生物仪器(上海)有限公司 | 电子直线加速器二维扫描高能x线辐照系统 |
CN104582231A (zh) * | 2014-12-11 | 2015-04-29 | 中国原子能科学研究院 | 一种电子辐照加速器的束流偏转方法 |
IT201600082446A1 (it) * | 2016-08-04 | 2018-02-04 | Consorzio Di Ricerca Hypatia | Macchina per la stampa 3d a fascio di elettroni |
CN110237674A (zh) * | 2019-06-28 | 2019-09-17 | 浙江哲丰能源发展有限公司 | 一种燃煤电厂烟气脱硫脱硝处理系统 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL8601511A (nl) * | 1986-06-11 | 1988-01-04 | Philips Nv | Kathodestraalbuis met magnetische focusseerlens. |
JPH07192673A (ja) | 1993-12-24 | 1995-07-28 | Nissin High Voltage Co Ltd | 走査型電子線照射装置 |
JP3057486B2 (ja) | 1997-01-22 | 2000-06-26 | セイコー精機株式会社 | ターボ分子ポンプ |
JPH10223159A (ja) * | 1997-02-06 | 1998-08-21 | Hitachi Ltd | カラー陰極線管 |
JP3716068B2 (ja) | 1997-04-22 | 2005-11-16 | 三菱重工業株式会社 | ターボ分子ポンプ及び同ターボ分子ポンプを有する真空容器 |
KR100288807B1 (ko) * | 1997-07-29 | 2001-06-01 | 가나이 쓰도무 | 편향요크 및 이것을 사용한 음극선관장치와 디스플레이장치 |
-
1998
- 1998-03-27 JP JP10100406A patent/JPH11281799A/ja active Pending
-
1999
- 1999-03-25 US US09/275,786 patent/US6329769B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-03-26 CN CN99104388A patent/CN1130243C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-03-26 RU RU99106679/06A patent/RU2219606C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1999-03-26 PL PL99332232A patent/PL332232A1/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH11281799A (ja) | 1999-10-15 |
RU2219606C2 (ru) | 2003-12-20 |
CN1242253A (zh) | 2000-01-26 |
US6329769B1 (en) | 2001-12-11 |
PL332232A1 (en) | 1999-10-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1130243C (zh) | 电子束辐射装置 | |
CN1256751C (zh) | 离子注入机中的高效率扫描 | |
KR100226381B1 (ko) | 자기이온빔 스캐닝 및 침착 시스템 | |
JP5373702B2 (ja) | イオンビームスキャン処理装置及びイオンビームスキャン処理方法 | |
CN1241800A (zh) | 大功率电子束的驱动方法 | |
US5099130A (en) | Apparatus and methods relating to scanning ion beams | |
CN101924005A (zh) | 一种用于电子束表面处理的均匀束斑方法 | |
US6696693B1 (en) | Electron beam irradiation apparatus and method | |
JP6453756B2 (ja) | イオンビーム処理装置 | |
US5744810A (en) | Method and system for exposing pattern on object by charged particle beam | |
JPH025343A (ja) | イオン注入方法 | |
CN1209788C (zh) | 电子束辐射方法和设备 | |
CH684001A5 (de) | Verfahren und Anordnung zur Steuerung der Bedampfungsstromdichte und/oder deren Verteilung. | |
JPH07216541A (ja) | 電子ビーム走査方法及び装置 | |
JPH07209498A (ja) | 荷電粒子照射装置 | |
JPH03112043A (ja) | 線状電子ビーム照射方法とその装置 | |
JPH11248900A (ja) | 電子線照射方法及びその装置 | |
JPH03225738A (ja) | 線状電子ビーム照射方法 | |
CN115529710A (zh) | 一种电子帘加速器 | |
JPH0812771B2 (ja) | 電子ビーム処理装置 | |
JPH0620283Y2 (ja) | 電子線照射装置 | |
JPS62149864A (ja) | 電子ビ−ムの照射方法 | |
JPH025353A (ja) | イオン注入装置 | |
JPH02230646A (ja) | イオンビーム発生装置 | |
JPS6264036A (ja) | 電子ビ−ム装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
REG | Reference to a national code |
Ref country code: HK Ref legal event code: GR Ref document number: 1064153 Country of ref document: HK |
|
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20031210 Termination date: 20120326 |