JPS6264036A - 電子ビ−ム装置 - Google Patents
電子ビ−ム装置Info
- Publication number
- JPS6264036A JPS6264036A JP20383485A JP20383485A JPS6264036A JP S6264036 A JPS6264036 A JP S6264036A JP 20383485 A JP20383485 A JP 20383485A JP 20383485 A JP20383485 A JP 20383485A JP S6264036 A JPS6264036 A JP S6264036A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- side direction
- linear
- short side
- long side
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、電子ビームを走査して、金属や半導体や絶縁
物（膜〉などの被加工物を熱処理する電子ビーム装置に
関する。
物（膜〉などの被加工物を熱処理する電子ビーム装置に
関する。
ｒ従来の技術〕
従来、この種の電子ビーム装置は、第４図に示すように
、例えば電子放出部が１゜４＠Ｉ×５１ＩＩＩめ形状を
した線状タングステンフィラメント１を使い、この線状
タンクスデンフィラメン１〜１から放出される線状電子
ビーム４を被加工物（図示略）に照射する。線状電子ビ
ーム４は電磁レンズ５で例えば５ＩＩＬｌｌ×０゜３
［１１＋のビームに絞られ、偏向コイル６により、線状
電子ビーム４の長辺方向に対して直角に走査させ、さら
に偏向コイル６を使い線状電子ビームの長辺方向にイン
デックス（長辺の直角方向の走査ごとに長辺方向に一定
距離移動）させていくことにより帯状領域を次々と熱処
理し、被加工物の全域（大面積）を熱処理してきた。
、例えば電子放出部が１゜４＠Ｉ×５１ＩＩＩめ形状を
した線状タングステンフィラメント１を使い、この線状
タンクスデンフィラメン１〜１から放出される線状電子
ビーム４を被加工物（図示略）に照射する。線状電子ビ
ーム４は電磁レンズ５で例えば５ＩＩＬｌｌ×０゜３
［１１＋のビームに絞られ、偏向コイル６により、線状
電子ビーム４の長辺方向に対して直角に走査させ、さら
に偏向コイル６を使い線状電子ビームの長辺方向にイン
デックス（長辺の直角方向の走査ごとに長辺方向に一定
距離移動）させていくことにより帯状領域を次々と熱処
理し、被加工物の全域（大面積）を熱処理してきた。
上述した状来の電子ビーム装置では、電子ビーム４の長
辺方向のビーム電流密度分布はほぼ均一になるようにし
、短辺方向の電流密度分布は第５図のようにガウス分布
状になっている。しかしながら、熱処理される被加工物
によっては短辺方向でビーム電流密度が急峻に立ち上が
り、なだらかに立ち下がる、あるいは逆になだらかに立
ち上がり、急峻に立ち下がることが必要な場合もあるが
、ガウス分布状の電流密度分布ではこの要求を満たずこ
とができない。
辺方向のビーム電流密度分布はほぼ均一になるようにし
、短辺方向の電流密度分布は第５図のようにガウス分布
状になっている。しかしながら、熱処理される被加工物
によっては短辺方向でビーム電流密度が急峻に立ち上が
り、なだらかに立ち下がる、あるいは逆になだらかに立
ち上がり、急峻に立ち下がることが必要な場合もあるが
、ガウス分布状の電流密度分布ではこの要求を満たずこ
とができない。
本発明の目的は、線状電子ビームの短辺方向のビーム電
流密度分布を疑似的に任意の分布にすることができる電
子ビーム装置を提供することにある。
流密度分布を疑似的に任意の分布にすることができる電
子ビーム装置を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段１
本発明は、線状電子ビームを長辺方向に対して直角に走
査して被加工物の熱処理を行う電子ビーム装置において
、前記線状電子ビームを短辺方向に任意の波形でかつ数
ｋｔｌｚす、上の振動数で振動させる手段を含んで構成
される。
査して被加工物の熱処理を行う電子ビーム装置において
、前記線状電子ビームを短辺方向に任意の波形でかつ数
ｋｔｌｚす、上の振動数で振動させる手段を含んで構成
される。
〔実施例゛１
次に本発明について図面を用いて説明する９第１図は本
発明の構成図である。線状タングステンフィラメント１
から放出される電子ビーム４は、グリッド２により電子
ビーム放出量を制御され、アノード３を通り、電磁レン
ズ５で収束され、偏向コイル６によって電子ビーム４の
長辺方向に対して直角に走査され、また長辺方向にイン
デックスされる。
発明の構成図である。線状タングステンフィラメント１
から放出される電子ビーム４は、グリッド２により電子
ビーム放出量を制御され、アノード３を通り、電磁レン
ズ５で収束され、偏向コイル６によって電子ビーム４の
長辺方向に対して直角に走査され、また長辺方向にイン
デックスされる。
さらに静電偏向器７により電子ビーム４のｊ（辺方向に
対して直角に小さく数ｋ １１７．以１−１の振動数で
振動させ、疑似的に電子ビーム４の短辺方向にｆＥ意の
電子ビーム電流密度分布を作る。この電子ビーム４の振
動は、ファンクションジェネレータ９によって発生され
、アンプ８によって増幅された信号が静電調光器７に印
加されることによって行われる。増幅されたファンクシ
ョンジェネレータ９の信号が静電偏向器７に引加される
と静電１扁向器７の静電偏向板間に電界を生じ、その間
に人ってきた電子を偏向させる。そして電子ビーム４の
短辺方向のビーム電流密度分布を疑似的にファンクショ
ンジェネレータ９が発生ずる信号の波形によって定まる
（ガウス分布と異なる）任意の形状とすることができる
。電子ビーム４の短辺方向の電子ビーム電流密度分布は
、例えば第２１”１（ａ）のような波形からなる電圧を
静電１扁向器７に印加すると第２図（１））のようにな
り、第３図（ａ＞のような波形からなる電圧を静電ｆｇ
向器７に印加すると第３図（ｂ）のようになる。
対して直角に小さく数ｋ １１７．以１−１の振動数で
振動させ、疑似的に電子ビーム４の短辺方向にｆＥ意の
電子ビーム電流密度分布を作る。この電子ビーム４の振
動は、ファンクションジェネレータ９によって発生され
、アンプ８によって増幅された信号が静電調光器７に印
加されることによって行われる。増幅されたファンクシ
ョンジェネレータ９の信号が静電偏向器７に引加される
と静電１扁向器７の静電偏向板間に電界を生じ、その間
に人ってきた電子を偏向させる。そして電子ビーム４の
短辺方向のビーム電流密度分布を疑似的にファンクショ
ンジェネレータ９が発生ずる信号の波形によって定まる
（ガウス分布と異なる）任意の形状とすることができる
。電子ビーム４の短辺方向の電子ビーム電流密度分布は
、例えば第２１”１（ａ）のような波形からなる電圧を
静電１扁向器７に印加すると第２図（１））のようにな
り、第３図（ａ＞のような波形からなる電圧を静電ｆｇ
向器７に印加すると第３図（ｂ）のようになる。
以上説明したように本発明は、線状電子ビームの短辺方
向に任意の電流密度分布を作ることができ、各種の被加
工物に対し最適の電流密度分布の線状電子ビームを走査
して熱処理を行うことができる。
向に任意の電流密度分布を作ることができ、各種の被加
工物に対し最適の電流密度分布の線状電子ビームを走査
して熱処理を行うことができる。
第１図は本発明の一実施例の構成図、第２図（ａ）は第
１図に示す静電偏向器７に引加する電圧の一例の波形図
であり、第２図（１））はその時の第１図に示す線状電
子ビーム４の短辺方向のく疑似的）電流密度分布を示す
図、第３図（ａ）は静電偏向器７に引加する電圧の他の
例の波形図であり、第３図（ｂ）はその時の線状電子ビ
ーム４の短辺方向の（疑似的）電流密度分布を示す図、
第４図は従来の電子ビーム装置の構成図、第５図は第４
図に示す線状電子ビーム４の短辺方向の電流密度分布で
ある。 図において、１は線状タングステンフ仁うメント、２は
グリッド、３はアノード、４は電子ビーム、５は電磁レ
ンズ、６は偏向コイル、７は静電偏向器、８はアンプ、
９はファンクションジェネレータを示す。 仁ゴ゛−シ≦１祇ノフー１のイ貞−２二筋？ 図 躬３図 躬４−図 第Ｓ図
１図に示す静電偏向器７に引加する電圧の一例の波形図
であり、第２図（１））はその時の第１図に示す線状電
子ビーム４の短辺方向のく疑似的）電流密度分布を示す
図、第３図（ａ）は静電偏向器７に引加する電圧の他の
例の波形図であり、第３図（ｂ）はその時の線状電子ビ
ーム４の短辺方向の（疑似的）電流密度分布を示す図、
第４図は従来の電子ビーム装置の構成図、第５図は第４
図に示す線状電子ビーム４の短辺方向の電流密度分布で
ある。 図において、１は線状タングステンフ仁うメント、２は
グリッド、３はアノード、４は電子ビーム、５は電磁レ
ンズ、６は偏向コイル、７は静電偏向器、８はアンプ、
９はファンクションジェネレータを示す。 仁ゴ゛−シ≦１祇ノフー１のイ貞−２二筋？ 図 躬３図 躬４−図 第Ｓ図
Claims (1)
- 線状電子ビームを長辺方向に対して直角に走査して被加
工物の熱処理を行う電子ビーム装置において、前記線状
電子ビームを短辺方向に任意の波形でかつ数ｋＨｚ以上
の振動数で振動させる手段を含むことを特徴とする電子
ビーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20383485A JPS6264036A (ja) | 1985-09-13 | 1985-09-13 | 電子ビ−ム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20383485A JPS6264036A (ja) | 1985-09-13 | 1985-09-13 | 電子ビ−ム装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6264036A true JPS6264036A (ja) | 1987-03-20 |
Family
ID=16480472
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20383485A Pending JPS6264036A (ja) | 1985-09-13 | 1985-09-13 | 電子ビ−ム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6264036A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013159833A (ja) * | 2012-02-06 | 2013-08-19 | Jfe Steel Corp | 方向性電磁鋼板の鉄損改善方法およびその装置 |
| WO2018131109A1 (ja) * | 2017-01-12 | 2018-07-19 | 株式会社アドバンテスト | 三次元積層造形装置の電子ビームカラム、三次元積層造形装置、および三次元積層造形方法 |
-
1985
- 1985-09-13 JP JP20383485A patent/JPS6264036A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013159833A (ja) * | 2012-02-06 | 2013-08-19 | Jfe Steel Corp | 方向性電磁鋼板の鉄損改善方法およびその装置 |
| WO2018131109A1 (ja) * | 2017-01-12 | 2018-07-19 | 株式会社アドバンテスト | 三次元積層造形装置の電子ビームカラム、三次元積層造形装置、および三次元積層造形方法 |
| US11458561B2 (en) | 2017-01-12 | 2022-10-04 | Advantest Corporation | Electron beam column for three-dimensional printing device, three-dimensional printing device, and three-dimensional printing method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS58190028A (ja) | 可変ライン走査を用いる荷電粒子ビ−ム露光装置 | |
| US4117339A (en) | Double deflection electron beam generator for employment in the fabrication of semiconductor and other devices | |
| US2866902A (en) | Method of and apparatus for irradiating matter with high energy electrons | |
| US4937458A (en) | Electron beam lithography apparatus including a beam blanking device utilizing a reference comparator | |
| JPH07192669A (ja) | 電界電離型ガスフェーズイオン源の調整方法 | |
| JP6453756B2 (ja) | イオンビーム処理装置 | |
| JPS6264036A (ja) | 電子ビ−ム装置 | |
| JP2946433B2 (ja) | イオンビーム制御システム | |
| JPS63200434A (ja) | イオンビ−ム発生装置 | |
| JPS6035447A (ja) | 電子流生成方法及び装置 | |
| JP2590063B2 (ja) | イオンビーム照射装置 | |
| JP2870858B2 (ja) | 線状電子ビーム照射方法とその装置 | |
| JP3397390B2 (ja) | 集束イオンビームによる加工方法 | |
| JPH0550267A (ja) | 電子ビーム加工装置 | |
| JPS61245453A (ja) | 線状電子ビ−ム熱処理装置 | |
| JPS59119666A (ja) | イオンビ−ム照射装置 | |
| JPH01231252A (ja) | 電子ビーム処理装置 | |
| JPH0388247A (ja) | 線状電子ビーム照射方法とその装置 | |
| JPS61114449A (ja) | 電子銃 | |
| JPH05128992A (ja) | 電子ビーム照射方法及び電子ビーム照射装置 | |
| JP2850411B2 (ja) | 線状電子ビーム用遮蔽マスク | |
| JPS59182969A (ja) | イオンビ−ムエツチング装置 | |
| JPS62219445A (ja) | 電子線装置 | |
| JPS63216257A (ja) | イオンビ−ム装置 | |
| JP3381406B2 (ja) | 電子線描画装置 |