CN112850716A - 一种镁热还原制备纳米级多孔晶体Si的方法 - Google Patents
一种镁热还原制备纳米级多孔晶体Si的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112850716A CN112850716A CN202110153937.2A CN202110153937A CN112850716A CN 112850716 A CN112850716 A CN 112850716A CN 202110153937 A CN202110153937 A CN 202110153937A CN 112850716 A CN112850716 A CN 112850716A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- sio
- nano
- porous crystal
- ball milling
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 24
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 38
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 38
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 38
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 38
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 21
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 19
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 15
- KDXKERNSBIXSRK-YFKPBYRVSA-N L-lysine Chemical compound NCCCC[C@H](N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-YFKPBYRVSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 235000019766 L-Lysine Nutrition 0.000 claims abstract description 6
- 239000004472 Lysine Substances 0.000 claims abstract description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 21
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 15
- 238000005554 pickling Methods 0.000 claims description 13
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 12
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 8
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 7
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 claims description 7
- WPLOVIFNBMNBPD-ATHMIXSHSA-N subtilin Chemical compound CC1SCC(NC2=O)C(=O)NC(CC(N)=O)C(=O)NC(C(=O)NC(CCCCN)C(=O)NC(C(C)CC)C(=O)NC(=C)C(=O)NC(CCCCN)C(O)=O)CSC(C)C2NC(=O)C(CC(C)C)NC(=O)C1NC(=O)C(CCC(N)=O)NC(=O)C(CC(C)C)NC(=O)C(NC(=O)C1NC(=O)C(=C/C)/NC(=O)C(CCC(N)=O)NC(=O)C(CC(C)C)NC(=O)C(C)NC(=O)CNC(=O)C(NC(=O)C(NC(=O)C2NC(=O)CNC(=O)C3CCCN3C(=O)C(NC(=O)C3NC(=O)C(CC(C)C)NC(=O)C(=C)NC(=O)C(CCC(O)=O)NC(=O)C(NC(=O)C(CCCCN)NC(=O)C(N)CC=4C5=CC=CC=C5NC=4)CSC3)C(C)SC2)C(C)C)C(C)SC1)CC1=CC=CC=C1 WPLOVIFNBMNBPD-ATHMIXSHSA-N 0.000 claims description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 6
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 6
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims description 4
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 abstract description 32
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 8
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 abstract description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 abstract description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 abstract description 4
- 238000009833 condensation Methods 0.000 abstract description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 abstract description 3
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 abstract description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 9
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000005543 nano-size silicon particle Substances 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003822 SiHCl3 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002159 adsorption--desorption isotherm Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- -1 generally speaking Substances 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000002336 sorption--desorption measurement Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
- C01B33/021—Preparation
- C01B33/023—Preparation by reduction of silica or free silica-containing material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/30—Particle morphology extending in three dimensions
- C01P2004/32—Spheres
Abstract
本发明公开一种镁热还原制备纳米级多孔晶体Si的方法,属于硅材料制备技术领域。本发明所述方法为以L‑赖氨酸为催化剂通过TEOS的水解与缩合制备出球状纳米级SiO2粒子;将所制备的纳米级SiO2颗粒与Mg粉进行球磨混合得Mg@SiO2复合体然后进行镁热还原反应后,再经HCl酸蚀、离心、干燥即可获得纳米级多孔晶体Si粒子。本发明制备的纳米SiO2材料粒径尺寸均一,比表面积相对较大,为后续应用到纳米SiO2的工序提供便利;将其与Mg粉均匀混合,形成Mg@SiO2复合体缩短了Mg蒸汽的扩散路径,提高了反应程度,再经过HCl酸蚀后获得了纯度很高的纳米级多孔晶体Si,其制备工艺耗能少,操作简单,可规模化生产。
Description
技术领域
本发明涉及一种镁热还原制备纳米级多孔晶体Si的方法,属于硅材料制备技术领域。
背景技术
随着自然能源的日益短缺,开发、探索例如太阳能电池、锂离子电池等新能源的步伐已经缓缓迈进,对于硅的需求也是越来越多,进而促进了硅产业的蓬勃发展。硅材料是当代电子工业中应用最多的半导体材料,他还是目前可获得的纯度最高的材料之一。由于硅的纯度对芯片或太阳能电池有很重要的影响,所以工业生产要求使用高纯硅,以满足器件质量的需求。在硅材料的提纯工艺流程中,一般说来,化学提纯在先,物理提纯在后。多晶硅生产主要靠CVD(化学气相沉积法)来获取,在1100℃的高温下以SiCl4 、SiHCl3 为原料制备,能耗高、工艺复杂且对环境有害;另一种制备方法−冶金法须经多种工艺组合、多次重复球磨才能得以实现,其耗能巨大,成本高。
镁具有强还原性,镁热还原反应的温度不需要很高在650℃下就可以实现SiO2到Si的转变,大大节约了能耗,设备简单易操作;但是镁热还原反应比较复杂,在反应过程中会产生一些副产物、杂相等或是反应不完全的现象,往往还原程度不是很高。
发明内容
本发明的目的在于一种镁热还原制备纳米级多孔晶体Si的方法,利用L-赖氨酸作为TEOS水解、缩合的催化剂,制备纳米级尺寸均一的球形SiO2,将其与Mg粉均匀混合,形成Mg@SiO2复合体结构,缩短了Mg与SiO2反应的路径,极大的提高了还原反应程度;镁热还原反应具有一定的保型性,可以将所制备的纳米级球状SiO2结构很好的复制下来,经过HCl酸洗后获得纳米级球状多孔晶体Si;本发明制备工艺简单易操作、耗能少且对环境友好、可商业化,具体包括以下步骤:
(1)纳米级球形SiO2颗粒的制备:将去离子水、辛烷搅拌混合均匀后加入L-赖氨酸,搅拌使L-赖氨酸完全溶解,然后加入正硅酸乙酯,混合溶液继续在50-80℃下搅拌20-24h后,然后在100℃下静态放置24-48h,水分蒸发后于马弗炉中煅烧去除样品中的有机物,即得到纯的纳米级SiO2球状颗粒;其中,去离子水、辛烷、L-赖氨酸、正硅酸乙酯的质量比为277.92:14.85-29.70:0.37-0.74:20.83-41.66。
(2)球磨混料:按SiO2与镁粉质量比为1:0.85的比例将所制纳米级SiO2样品与镁粉球磨混合,即获得Mg@SiO2复合体样品。
(3)镁热还原及HCl酸蚀:所制Mg@SiO2复合体样品自然干燥后,置于密封的石墨坩埚内,在Ar气氛下以3℃/min的速率升温至700℃保温5h-10h,经随炉冷却获得还原样品,样品经HCl酸洗后,离心、回收干燥即获得纳米级多孔晶体Si。
优选的,本发明步骤(1)中马弗炉中煅烧条件是:以3℃/min升温至600℃保温4h。
优选的,本发明所述球磨混合的条件为:所用球磨罐为玛瑙球磨罐,球料质量比为5:1,150rpm球磨24h。
优选的,本发明所述所述镁粉的粒径为5~150μm。
优选的,本发明所述HCl的浓度为1mol/L,酸洗时长是24-48h。
本发明的有益效果为:
(1)本发明所述方法利用L-赖氨酸作为催化剂,催化TEOS的水解与缩合从而制备出纳米级SiO2球状颗粒;所制SiO2粒径尺寸均一且多孔,实验方法简单易操作。
(2)将所制备的纳米级SiO2与Mg粉通过适宜的质量比球磨混合后得到Mg@SiO2复合体结构,大大缩短了Mg蒸汽的扩散距离,减短了反应路径,使还原程度有效的得到提高;不仅得到高产率的Si而且减少了反应过程中出现的副产物与杂质相。
(3)将还原后的样品置于1mol/L的HCl溶液进行酸洗,将反应中间相(MgO)与杂质相(Mg2Si)等酸蚀干净,获得纯度更高的Si样品;酸蚀过程中会在Si粒子内部产生微-细介孔,极大的增加了表面积为后续的多孔纳米Si的应用(半导体器件、光催化剂及生物/化学传感等领域)打下良好的基础。
附图说明
图1是实施例1中所制备的13nm的SiO2场发射电镜照片。
图2是实施例4中镁热还原、HCl酸洗后获得的多孔晶体Si的N2吸附-脱附等温曲线以及孔径分布曲线。
图3是实施例4中镁热还原、HCl酸洗后获得的多孔晶体Si的X-射线衍射谱图。
图4是实施例4中镁热还原、HCl酸洗后获得的多孔晶体Si的场发射电镜照片。
图5是实施例4中纳米SiO2镁热还原、HCl酸洗前后的光学照片。
具体实施方式
下面结合具体实施例本发明作进一步的详细说明,但本发明的保护范围并不限于所述内容。
在下面的实施例中,产物组成的计算是基于所测得的XRF数据,在边界条件下从元素含量(Si、O、Mg)开始计算得出;粒径尺寸基于电镜照片。
实施例1
一种镁热还原制备纳米级多孔晶体Si的方法,具体包括以下步骤:
(1)将去离子水(139g)、辛烷(7.3g)在60℃下搅拌10min后加入0.146g L-赖氨酸,搅拌30min后加入TEOS(10.41g),混合溶液继续在60℃下搅拌24h后,然后在100℃下静态放置24h,在干燥箱内100℃下将水分蒸发后,将样品转移至马弗炉中以3℃/min 升温至600℃,保温4h去除样品中的有机物,即获得粒径尺寸为13nm的SiO2球状颗粒(见表1)。
(2)将所制备的纳米级SiO2与150μm Mg粉按质量比为1:0.85精确配比,以正戊烷为球磨介质,球料质量比为5:1,利用行星式球磨机进行球磨混合,150rpm球磨24h后经自然干燥得到Mg@SiO2复合体结构。
(3)将所获Mg@SiO2复合体结构置于密封的石墨坩埚内,在Ar气氛下,以3℃/min升温至700℃,保温10h后,随炉冷却即获得还原样品。
(4)还原样品经1mol/L的HCl溶液酸蚀48h后,经去离子水、无水乙醇清洗3遍后,干燥即得到多孔晶体Si纳米粒子(其纯度见表1)。
图1是本实例中所制备的13nm的SiO2的场发射电镜照片,从图片可以看到SiO2粒径尺寸均一为13nm,有很好的球形度。
实施例2
一种镁热还原制备纳米级多孔晶体Si的方法,具体包括以下步骤:
(1)将去离子水(139g)、辛烷(7.3g)在60℃下搅拌10min后加入0.146g L-赖氨酸搅拌30min后加入TEOS(20.82g),混合溶液继续在60℃下搅拌24h后,然后在100℃下静态放置24h,在干燥箱内100℃下将水分蒸发后,将样品转移至马弗炉中以3℃/min 升温至600℃,保温4h去除样品中的有机物,即获得粒径尺寸为20nm的SiO2球状颗粒(见表1)。
(2)将所制备的纳米级SiO2与5μm Mg粉按质量比为1:0.85精确配比,以正戊烷为球磨介质,球料质量比为5:1,利用行星式球磨机进行球磨混合,150rpm球磨24h后经自然干燥得到Mg@SiO2复合体结构。
(3)将所获Mg@SiO2复合体结构置于密封的石墨坩埚内,在Ar气氛下,以3℃/min升温至700℃,保温5h后,随炉冷却即获得还原样品。
(4)还原样品经1mol/L的HCl溶液酸蚀48h后,经去离子水、无水乙醇清洗3遍后,干燥即得到多孔晶体Si纳米粒子(其纯度见表1)。
实施例3
一种镁热还原制备纳米级多孔晶体Si的方法,具体包括以下步骤:
(1)将去离子水(139g)、辛烷(7.3g)在60℃下搅拌10min后加入0.292g L-赖氨酸,搅拌30min后加入TEOS(10.41g),混合溶液继续在60℃下搅拌24h后,然后在100℃下静态放置24h,在干燥箱内100℃下将水分蒸发后,将样品转移至马弗炉中以3℃/min升温至600℃,保温4h去除样品中的有机物,即获得粒径尺寸为22nm的SiO2球状颗粒(见表1)。
(2)将所制备的纳米级SiO2与75μm Mg粉按质量比为1:0.85精确配比,以正戊烷为球磨介质,球料质量比为5:1,利用行星式球磨机进行球磨混合,150rpm球磨24h后经自然干燥得到Mg@SiO2复合体结构。
(3)将所获Mg@SiO2复合体结构置于密封的石墨坩埚内,在Ar气氛下,以3℃/min升温至700℃,保温10h后,随炉冷却即获得还原样品。
(4)还原样品经1mol/L的HCl溶液酸蚀24h后,经去离子水、无水乙醇清洗3遍后,干燥即得到多孔晶体Si纳米粒子(其纯度见表1)。
实施例4
一种镁热还原制备纳米级多孔晶体Si的方法,具体包括以下步骤:
(1)将去离子水(139g)、辛烷(14.6g)在60℃下搅拌10min后加入0.146g L-赖氨酸搅拌30min后加入TEOS(10.41g),混合溶液继续在60℃下搅拌24h后,然后在100℃下静态放置24h,在干燥箱内100℃下将水分蒸发后,将样品转移至马弗炉中以3℃/min升温至600℃,保温4n去除样品中的有机物,即获得粒径尺寸为13nm的SiO2球状颗粒(见表1)。
(2)将所制备的纳米级SiO2与5μm Mg粉按质量比为1:0.85精确配比,以正戊烷为球磨介质,球料质量比为5:1,利用行星式球磨机进行球磨混合,150rpm球磨24h后经自然干燥得到Mg@SiO2复合体结构。
(3)将所获Mg@SiO2复合体结构置于密封的石墨坩埚内,在Ar气氛下,以3℃/min升温至700℃,保温10h后,随炉冷却即获得还原样品。
原样品经1mol/L的HCl溶液酸蚀48h后,经去离子水、无水乙醇清洗3遍后,干燥即得到多孔晶体Si纳米粒子(其纯度见表1)。
图2是本实例中镁热还原、HCl酸洗后获得的多孔晶体Si的N2吸附-脱附等温曲线以及孔径分布曲线,由图可知所制备的Si颗粒,经过HCl酸洗后,在颗粒内留下3~7nm的细小介孔,形成多孔结构;这些孔道为后续应用Si的领域提供了良好的性能基础,尤其在硅基锂电池领域有很大的使用价值。
图3是本实例中镁热还原、HCl酸洗后获得的多孔晶体Si的X-射线衍射谱图,由图可以看出酸蚀后还原副产物均已被溶解,并出现了很强的晶体硅的衍射峰;从峰型上看,所制的晶体硅具有较好的结晶度。
图4是本实施例中镁热还原、HCl酸洗后获得的多孔晶体Si的场发射电镜照片,由图可见制得的晶体Si保留了原始SiO2的尺寸与形貌,说明镁热还原具有保型性,在低能耗,操作简单的情况下,成功制备出了纳米多孔晶体Si,为商业大批量生产纳米Si提供了一种可行性的方法。
图5是本实施例中纳米SiO2镁热还原、HCl酸洗前后的光学照片,由图可见, Mg @SiO2包裹体的颜色呈银灰色,SiO2经镁热还原后呈棕黑色,经过进一步HCl酸浸后,洗净了副产物及杂质后,获得棕黄色粉末的多孔晶体Si。
对实施例1~3所得材料进行相同的测试,性能与本实施例相似。
表1实施例中合成的SiO2的粒径尺寸及镁热还原、HCl酸洗后Si的纯度
由表1可以看出,增加TEOS或催化剂L-赖氨酸试剂的量,其制备出的SiO2粒径都会有所增大,是因为制备的碱性环境增强,更加促进SiO2的形核、长大过程,使粒径增加;TEOS浓度的增加,加快其水解与缩聚反应,缩短了反应过程,促使粒径增大。实施例4中镁热还原后Si的纯度最高,可见选用5μm镁粉最好、保温10h最宜,因为镁热还原的保温时间延长会促进中间相(Mg2Si)向晶相Si转变,可见还原程度的高低与镁粉的选择、还原温度有着极大的关系;为此本发明提出了一种在低能耗,简便、低廉的制备工艺条件下,可规模化生产纳米Si的有效方法。
Claims (5)
1.一种镁热还原制备纳米级多孔晶体Si的方法,其特征在于,具体包括以下步骤:
(1)纳米级球形SiO2颗粒的制备:将去离子水、辛烷搅拌混合均匀后加入L-赖氨酸,搅拌使L-赖氨酸完全溶解,然后加入正硅酸乙酯,混合溶液继续在50-80℃下搅拌20-24h后,然后在100℃下静态放置24-48h,水分蒸发后于马弗炉中煅烧去除样品中的有机物,即得到纯的纳米级SiO2球状颗粒;其中,去离子水、辛烷、L-赖氨酸、正硅酸乙酯的质量比为277.92:14.85-29.70:0.37-0.74:20.83-41.66;
(2)球磨混料:按SiO2与镁粉质量比为1:0.85的比例将所制纳米级SiO2样品与镁粉球磨混合,即获得Mg@SiO2复合体样品;
(3)镁热还原及HCl酸蚀:所制Mg@SiO2复合体样品自然干燥后,置于密封的石墨坩埚内,在Ar气氛下以3℃/min的速率升温至700℃保温5h-10h,经随炉冷却获得还原样品,样品经HCl酸洗后,离心、回收干燥即获得纳米级多孔晶体Si。
2.根据权利要求1所述镁热还原制备纳米级多孔晶体Si的方法,其特征在于:步骤(1)中马弗炉中煅烧条件是:以3℃/min升温至600℃保温4h。
3.根据权利要求1所述镁热还原制备纳米级多孔晶体Si的方法,其特征在于:球磨混合的条件为:所用球磨罐为玛瑙球磨罐,球料质量比为5:1,150rpm球磨24h。
4.根据权利要求1所述镁热还原制备纳米级多孔晶体Si的方法,其特征在于:镁粉的粒径为5~150μm。
5.根据权利要求1所述镁热还原制备纳米级多孔晶体Si的方法,其特征在于:HCl的浓度为1mol/L,酸洗时长是24-48h。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110153937.2A CN112850716A (zh) | 2021-02-04 | 2021-02-04 | 一种镁热还原制备纳米级多孔晶体Si的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110153937.2A CN112850716A (zh) | 2021-02-04 | 2021-02-04 | 一种镁热还原制备纳米级多孔晶体Si的方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112850716A true CN112850716A (zh) | 2021-05-28 |
Family
ID=75986696
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110153937.2A Pending CN112850716A (zh) | 2021-02-04 | 2021-02-04 | 一种镁热还原制备纳米级多孔晶体Si的方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN112850716A (zh) |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102259858A (zh) * | 2011-06-07 | 2011-11-30 | 同济大学 | 一种镁热还原制备多孔硅的方法 |
CN102583404A (zh) * | 2012-03-15 | 2012-07-18 | 天津大学 | 介孔二氧化硅纳米粒子及制备方法 |
US20120251718A1 (en) * | 2011-03-28 | 2012-10-04 | Intermolecular, Inc. | Sol-gel transition control of coatings by addition of solidifiers for conformal coatings on textured glass |
US20130149549A1 (en) * | 2011-12-12 | 2013-06-13 | Nicholas Francis Borrelli | Metallic structures by metallothermal reduction |
CN103204506A (zh) * | 2013-04-15 | 2013-07-17 | 上海应用技术学院 | 一种形貌可控的介孔硅纳米材料及其制备方法 |
US20150028263A1 (en) * | 2013-07-26 | 2015-01-29 | Yanbo Wang | Methods for mass-producing silicon nano powder and graphene-doped silicon nano powder |
CN104609431A (zh) * | 2015-01-19 | 2015-05-13 | 武汉金弘扬化工科技有限公司 | 一种50纳米以下SiO2纳米粒子的合成方法及其粒径控制合成方法 |
CN107416849A (zh) * | 2017-09-06 | 2017-12-01 | 青岛科技大学 | 一种制备单分散纳米二氧化硅粒子的方法 |
CN110371982A (zh) * | 2019-08-29 | 2019-10-25 | 贵州大学 | 一种熔盐镁热还原法还原纳米二氧化硅的方法 |
CN110562985A (zh) * | 2019-09-23 | 2019-12-13 | 北京化工大学 | 一种多孔结构硅纳米线的制备方法及其应用 |
CN111244414A (zh) * | 2020-01-16 | 2020-06-05 | 昆明理工大学 | 一种镁热还原制备硅碳负极材料的方法 |
WO2021194149A1 (ko) * | 2020-03-26 | 2021-09-30 | 동아대학교 산학협력단 | 다공성 실리콘 및 이를 포함하는 이차전지 음극 활물질 제조 방법 |
-
2021
- 2021-02-04 CN CN202110153937.2A patent/CN112850716A/zh active Pending
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20120251718A1 (en) * | 2011-03-28 | 2012-10-04 | Intermolecular, Inc. | Sol-gel transition control of coatings by addition of solidifiers for conformal coatings on textured glass |
CN102259858A (zh) * | 2011-06-07 | 2011-11-30 | 同济大学 | 一种镁热还原制备多孔硅的方法 |
US20130149549A1 (en) * | 2011-12-12 | 2013-06-13 | Nicholas Francis Borrelli | Metallic structures by metallothermal reduction |
CN102583404A (zh) * | 2012-03-15 | 2012-07-18 | 天津大学 | 介孔二氧化硅纳米粒子及制备方法 |
CN103204506A (zh) * | 2013-04-15 | 2013-07-17 | 上海应用技术学院 | 一种形貌可控的介孔硅纳米材料及其制备方法 |
US20150028263A1 (en) * | 2013-07-26 | 2015-01-29 | Yanbo Wang | Methods for mass-producing silicon nano powder and graphene-doped silicon nano powder |
CN104609431A (zh) * | 2015-01-19 | 2015-05-13 | 武汉金弘扬化工科技有限公司 | 一种50纳米以下SiO2纳米粒子的合成方法及其粒径控制合成方法 |
CN107416849A (zh) * | 2017-09-06 | 2017-12-01 | 青岛科技大学 | 一种制备单分散纳米二氧化硅粒子的方法 |
CN110371982A (zh) * | 2019-08-29 | 2019-10-25 | 贵州大学 | 一种熔盐镁热还原法还原纳米二氧化硅的方法 |
CN110562985A (zh) * | 2019-09-23 | 2019-12-13 | 北京化工大学 | 一种多孔结构硅纳米线的制备方法及其应用 |
CN111244414A (zh) * | 2020-01-16 | 2020-06-05 | 昆明理工大学 | 一种镁热还原制备硅碳负极材料的方法 |
WO2021194149A1 (ko) * | 2020-03-26 | 2021-09-30 | 동아대학교 산학협력단 | 다공성 실리콘 및 이를 포함하는 이차전지 음극 활물질 제조 방법 |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
TOSHIYUKI YOKOI: ""Periodic Arrangement of Silica Nanospheres Assisted by Amino Acids"", 《J.AM.CHEM.SOC》 * |
刘宜汉: "《金属陶瓷材料制备与应用》", 东北大学出版社 * |
玉日泉: ""金属热还原法制备锂离子电池纳米硅材料的研究进展"", 《材料导报》 * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105347346B (zh) | 一种空气辅助制备多孔纳米硅的方法 | |
CN110203972A (zh) | M相二氧化钒纳米粉体的制备方法 | |
CN110980664B (zh) | 一种多孔少层h-BN纳米片及其制备方法 | |
CN105905908A (zh) | 一种基于埃洛石原料制备纳米硅的方法 | |
CN106431418A (zh) | 水热法制备纳米AlN粉体的方法和其中间体及产品 | |
CN108996557B (zh) | 一种空心球结构氧化镍/氧化铜复合纳米材料及其制备方法 | |
CN104671245A (zh) | 一种碳化铪纳米粉体的制备方法 | |
CN103754921A (zh) | 一种单分散氧化铈疏松纳米球的制备方法 | |
CN110171832A (zh) | 一种基于金属氢化物还原制备多孔硅的方法 | |
CN111905796A (zh) | 一种超细金属纳米颗粒/氮化碳纳米片复合材料的制备方法 | |
CN106946259A (zh) | 一种非晶硅粉体的制备方法 | |
CN107673318B (zh) | 氮化硼纳米管及其批量制备方法 | |
CN108339562B (zh) | 一种铁离子掺杂的氮化碳纳米管的制备方法及所得产品 | |
CN111196604A (zh) | 一种以废弃物微硅粉为原料制备高纯硅的方法 | |
CN113184870A (zh) | 一种宏量粒度可控LaB6粉体的制备方法 | |
CN104071760A (zh) | 一种多孔棒状六方氮化硼陶瓷材料的制备方法 | |
CN112850716A (zh) | 一种镁热还原制备纳米级多孔晶体Si的方法 | |
CN109399678B (zh) | 一种纳米级金属氢氧化物的制备方法 | |
CN114014316B (zh) | 一种基于碳化钛的复合光热材料及其制备方法 | |
CN1330796C (zh) | 一种合成两种不同形状碳化硅纳米线的方法 | |
CN106006740B (zh) | 一种碳纤维@二硫化钨纳米片核壳复合结构及其制备方法 | |
CN110697719B (zh) | 一种制备高纯纳米硅的方法 | |
CN114180560A (zh) | 一种熔盐体系中煤基石墨烯的制备方法 | |
CN111905795A (zh) | 环保简便制备Ta3N5光催化剂的方法 | |
CN114735704B (zh) | 一种低温合成纳米碳化硅的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20210528 |