CN112760610A - 一种航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层及其制备方法 - Google Patents
一种航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112760610A CN112760610A CN202110097546.3A CN202110097546A CN112760610A CN 112760610 A CN112760610 A CN 112760610A CN 202110097546 A CN202110097546 A CN 202110097546A CN 112760610 A CN112760610 A CN 112760610A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- nitride coating
- sample
- coating
- entropy nitride
- entropy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
- C23C14/352—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering using more than one target
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
- C23C14/0036—Reactive sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
- C23C14/165—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon by cathodic sputtering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明涉及一种航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层,该高熵氮化物涂层为(CrAlTiNbV)Nx,x=0.3~0.5;其所含元素按原子百分数计:Cr为15~30 at.%,Al为5~15 at.%,Ti为3~10 at.%,Nb为5~10 at.%,V为5~15 at.%,N为30~50 at.%。同时,本发明还公开了该涂层的制备方法。本发明采用磁控溅射技术以及多元靶技术,能够成功制备出含有五种元素的高熵氮化物涂层,并通过调控镀膜工艺参数,得到最佳N2流量下的高熵氮化物涂层,从而使其能够在航空润滑油环境中大大提高钢基体的耐磨损性能。
Description
技术领域
本发明涉及轴承表面防护领域,尤其涉及一种航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层及其制备方法。
背景技术
随着航空发动机朝着大推重比、高可靠性、高耐久性、低耗油率、低成本等方向的发展,对于服役在航空发动机中的运动部件,如主轴、轴承、压气机叶片、铰链和齿轮,其面临着变载、变速、断油等复杂恶劣的工况,在运转过程中,其零部件之间的接触表面极易被破坏,从而导致运动部件发生失效。
在过去几十年,硬质耐磨固体自润滑涂层在机械部件上的应用日趋成熟,已成为改善机械运动部件服役性能的重要途径。但多数研究中所选用元素单一,不能充分发挥多种元素协同作用的效果。近年来,高熵合金由于其优越的结构性能已成为广泛研究的热点。高的混合熵使得合金倾向于形成多元素固溶体结构,从而具备一系列优异的性能,如高强度、高耐磨性和抗氧化性等优点。因此,研究人员将高熵合金的概念引入到涂层的制备过程中,提出高熵合金涂层的设计理念。最近,又有研究人员提出在高熵合金涂层中添加氮元素,行成高熵氮化物涂层。由于氮元素的添加使高熵氮化物涂层相比一般的高熵合金涂层表现出更优异的耐磨损性能。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种在航空润滑油环境中具有高耐磨性的航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层。
本发明所要解决的另一个技术问题是提供该高熵氮化物涂层的制备方法。
为解决上述问题,本发明所述的一种航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层,其特征在于:该高熵氮化物涂层为(CrAlTiNbV)Nx,x=0.3~0.5;其所含元素按原子百分数计:Cr为 15~30 at. %, Al为 5~15 at. %, Ti为 3~10 at. %, Nb为 5~10 at. %, V为5~15at. %, N为30~50 at. %。
如上所述的一种航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层的制备方法,其特征在于:该高熵氮化物涂层在室温下采用磁控溅射技术和多元靶技术制得,具体步骤如下:
⑴用无水乙醇和丙酮分别超声清洗钢块样品15 min,将样品吹干后再放入真空室中,进行抽真空;
⑵当真空度低于3×10-3 Pa时开始进行镀膜工作;通入氩气,制备过程中氩气含量固定为18 sccm,其真空室内部压强为0.24 Pa,在样件上加脉冲偏压电源,在-450 V的偏压下用氩气等离子体对样品进行预溅射清洗20~30 min;
⑶保持腔室压力不变,连续调整偏压为 -60~-120 V,在单一Cr靶上加直流电源,调节电流为4.5 A的条件下沉积Cr过渡层,沉积时间为5~15 min;
⑷氩气流量保持不变,通入18~48 sccm不同流量的N2,调节腔室压力分别为0.3~0.8 Pa,在偏压-36 V下,调节Cr-Nb-Ti-Al-V多元靶的电流为 4.5 A,沉积时间为14000 s,即得(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层。
本发明与现有技术相比具有以下优点:
1、本发明采用磁控溅射技术以及多元靶技术,能够成功制备出含有五种元素的高熵氮化物涂层,并通过调控镀膜工艺参数,得到最佳N2流量下的高熵氮化物涂层,从而使其能够在航空润滑油环境中大大提高钢基体的耐磨损性能。
2、本发明采用磁控溅射技术和多元靶技术在室温下制备,基材无需任何额外的加热过程。
3、本发明所制备的(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层厚度在0.8~1.13 μm,呈现出不同致密性的柱状晶结构,表面较为光滑(粗糙度<5 nm);其具有较高的硬度,硬度(H)和杨氏模量(E)分别为8~17 GPa和179~276 Gpa。
【粗糙度测试实验】
采用NanoWizard 4原子力显微镜,对实施例1~4所制备的一系列(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层进行表面原子力显微镜测试,扫描范围10×10 μm,结果如图2所示。原子力显微镜能够以纳米级分辨率获得涂层表面形貌颗粒尺寸及表面粗糙度信息,图2a中氮气流量为18 sccm时制备的涂层表面颗粒尺寸相对较小,随N2流量的增加,颗粒尺寸先增大后减小,在38 sccm N2流量下达到最大(图2c),但当N2流量继续增加到48 sccm时(图2d),颗粒表面出现异常增大的突出颗粒。图3为原子力显微镜测试给出的相应条件下涂层的表面粗糙度结果。由图可知,随N2流量的增加,涂层表面的粗糙度先增大后减小,在38 sccm N2流量下取得极大值。
4、本发明高熵氮化物涂层主要应用于轴承的表面防护领域,配合润滑油进行固液复合润滑,能够显著提高运动部件的耐磨性和使用寿命,从而表现出优异的摩擦学性能。
【摩擦磨损实验】
采用CSM摩擦试验机对所述实施例1-4所制备的(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层进行摩擦学性能测试,所用摩擦对偶球为直径6 mm的9Cr18钢球,法向载荷为20 N,旋转速度为300 r/min,线速度为6.28 cm/s。与4050#航空油复合润滑摩擦系数结果如附图4所示。由图中可以看出,该涂层在4050# 航空润滑油中的摩擦系数为0.096~0.115。
采用Surftest SJ-210粗糙度仪对所述实施例1-4所制备的(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层进行磨损率测试,磨损率结果如附图5所示。由图中可以看出,在氮气流量为38sccm下的涂层磨损率最小,为1.8×10−7 mm3/(N∙m),比未涂层钢基体在4050# 航空油中的磨损率(5.68×10−6 mm3/(N∙m))减少一个数量级,表明该高熵氮化物在航空润滑油环境中能够明显提高基体的耐磨损性能。
附图说明
下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。
图1为本发明制备的(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层的截面SEM像。
图2为本发明制备的(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层的原子力照片。
图3为本发明制备的(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层的粗糙度曲线。
图4为本发明制备的(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层的摩擦系数。
图5为本发明制备的(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层的磨损率结果。
具体实施方式
一种航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层,该高熵氮化物涂层为(CrAlTiNbV)Nx,x=0.3~0.5;其所含元素按原子百分数计:Cr为 15~30 at. %, Al为 5~15 at. %, Ti为 3~10 at. %, Nb为 5~10 at. %, V为5~15 at. %, N为30~50 at. %。
该高熵氮化物涂层在室温下采用磁控溅射技术和多元靶技术制得,具体步骤如下:
⑴用无水乙醇和丙酮分别超声清洗钢块样品15 min,将样品吹干后再放入真空室中,进行抽真空;
⑵当真空度低于3×10-3 Pa时开始进行镀膜工作;通入氩气,制备过程中氩气含量固定为18 sccm,其真空室内部压强为0.24 Pa,在样件上加脉冲偏压电源,在-450 V的偏压下用氩气等离子体对样品进行预溅射清洗20~30 min;
⑶保持腔室压力不变,连续调整偏压为 -60~-120 V,在单一Cr靶上加直流电源,调节电流为4.5 A的条件下沉积Cr过渡层,沉积时间为5~15 min;
⑷氩气流量保持不变,通入18~48 sccm不同流量的N2,调节腔室压力分别为0.3~0.8 Pa,在偏压-36 V下,调节Cr-Nb-Ti-Al-V多元靶的电流为 4.5 A,沉积时间为14000 s,即得(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层。
本发明的原理是利用磁控溅射技术和多元靶技术,选用多元靶材(Cr-Nb-Ti-Al-V)和纯金属靶材(Cr)作为沉积源,同时,溅射沉积时保持固定氩气(Ar)流量为18 sccm,通过改变不同氮气(N2)流量(18-48 sccm),制备出不同结构的(CrAlTiNbV)Nx 高熵氮化物涂层,涂层的致密性与颗粒大小均能影响其机械性能,进而可以获得具备最优摩擦学性能的高熵氮化物涂层。
实施例1 一种航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层,该高熵氮化物涂层为(CrAlTiNbV)Nx,x=0.3;其所含元素按原子百分数计:Cr为 30 at. %, Al为 15 at. %, Ti为 3 at. %, Nb为 7 at. %, V为15 at. %, N为30 at. %。
其制备方法:
⑴用无水乙醇和丙酮分别超声清洗钢块样品15 min,将样品吹干后再放入真空室中,进行抽真空;
⑵当真空度低于3×10-3 Pa时开始进行镀膜工作;通入氩气,制备过程中氩气含量固定为18 sccm,其真空室内部压强为0.24 Pa,在样件上加脉冲偏压电源,在-450 V的偏压下用氩气等离子体对样品进行预溅射清洗20~30 min,以清除表面的氧化层和其它杂质;
⑶保持腔室压力(0.24 Pa)不变,连续调整偏压为 -60~-120 V,在单一Cr靶上加直流电源,调节电流为4.5 A的条件下沉积Cr过渡层,沉积时间为5~15 min;
⑷氩气流量(18 sccm)保持不变,通入18 sccm的N2,调节腔室压力为0.3 Pa,在偏压-36 V下,调节Cr-Nb-Ti-Al-V多元靶的电流为 4.5 A,沉积时间为14000 s,即得(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层。
所制备的(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层的截面SEM像如附图1(a) 所示,涂层的厚度约为0.93 μm。
实施例2 一种航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层,该高熵氮化物涂层为(CrAlTiNbV)Nx,x=0.35;其所含元素按原子百分数计:Cr为 20 at. %, Al为 15 at. %,Ti为 10 at. %, Nb为 10 at. %, V为10 at. %, N为35 at. %。
其制备方法::
⑴用无水乙醇和丙酮分别超声清洗钢块样品15 min,将样品吹干后再放入真空室中,进行抽真空;
⑵当真空度低于3×10-3 Pa时开始进行镀膜工作;通入氩气,制备过程中氩气含量固定为18 sccm,其真空室内部压强为0.24 Pa,在样件上加脉冲偏压电源,在-450 V的偏压下用氩气等离子体对样品进行预溅射清洗20~30 min,以清除表面的氧化层和其它杂质;
⑶保持腔室压力(0.24 Pa)不变,连续调整偏压为 -60~-120 V,在单一Cr靶上加直流电源,调节电流为4.5 A的条件下沉积Cr过渡层,沉积时间为5~15 min;
⑷氩气流量(18 sccm)保持不变,通入28 sccm不同流量的N2,调节腔室压力为0.4Pa,在偏压-36 V下,调节Cr-Nb-Ti-Al-V多元靶的电流为 4.5 A,沉积时间为14000 s,即得(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层。
所制备的(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层的截面SEM像如附图1(b) 所示,涂层的厚度约为0.8 μm。
实施例3 一种航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层,该高熵氮化物涂层为(CrAlTiNbV)Nx,x=0.45;其所含元素按原子百分数计:Cr为 15 at. %, Al为 10 at. %,Ti为 10 at. %, Nb为 5 at. %, V为15 at. %, N为45 at. %。
其制备方法:
⑴用无水乙醇和丙酮分别超声清洗钢块样品15 min,将样品吹干后再放入真空室中,进行抽真空;
⑵当真空度低于3×10-3 Pa时开始进行镀膜工作;通入氩气,制备过程中氩气含量固定为18 sccm,其真空室内部压强为0.24 Pa,在样件上加脉冲偏压电源,在-450 V的偏压下用氩气等离子体对样品进行预溅射清洗20~30 min,以清除表面的氧化层和其它杂质;
⑶保持腔室压力(0.24 Pa)不变,连续调整偏压为 -60~-120 V,在单一Cr靶上加直流电源,调节电流为4.5 A的条件下沉积Cr过渡层,沉积时间为5~15 min;
⑷氩气流量(18 sccm)保持不变,通入38 sccm不同流量的N2,调节腔室压力为0.6Pa,在偏压-36 V下,调节Cr-Nb-Ti-Al-V多元靶的电流为 4.5 A,沉积时间为14000 s,即得(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层。
所制备的(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层的截面SEM像如附图1(c) 所示,涂层的厚度约为0.8 μm。
实施例4 一种航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层,该高熵氮化物涂层为(CrAlTiNbV)Nx,x=0.5;其所含元素按原子百分数计:Cr为 22 at. %, Al为 5 at. %, Ti为 10 at. %, Nb为 8 at. %, V为5 at. %, N为50 at. %。
其制备方法:
⑴用无水乙醇和丙酮分别超声清洗钢块样品15 min,将样品吹干后再放入真空室中,进行抽真空;
⑵当真空度低于3×10-3 Pa时开始进行镀膜工作;通入氩气,制备过程中氩气含量固定为18 sccm,其真空室内部压强为0.24 Pa,在样件上加脉冲偏压电源,在-450 V的偏压下用氩气等离子体对样品进行预溅射清洗20~30 min,以清除表面的氧化层和其它杂质;
⑶保持腔室压力(0.24 Pa)不变,连续调整偏压为 -60~-120 V,在单一Cr靶上加直流电源,调节电流为4.5 A的条件下沉积Cr过渡层,沉积时间为5~15 min;
⑷氩气流量(18 sccm)保持不变,通入48 sccm不同流量的N2,调节腔室压力为0.8Pa,在偏压-36 V下,调节Cr-Nb-Ti-Al-V多元靶的电流为 4.5 A,沉积时间为14000 s,即得(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层。
所制备的(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层的截面SEM像如附图1(d) 所示,涂层的厚度约为1.13 μm。
Claims (2)
1.一种航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层,其特征在于:该高熵氮化物涂层为(CrAlTiNbV)Nx,x=0.3~0.5;其所含元素按原子百分数计:Cr为 15~30 at. %, Al为 5~15at. %, Ti为 3~10 at. %, Nb为 5~10 at. %, V为5~15 at. %, N为30~50 at. %。
2.如权利要求1所述的一种航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层的制备方法,其特征在于:该高熵氮化物涂层在室温下采用磁控溅射技术和多元靶技术制得,具体步骤如下:
⑴用无水乙醇和丙酮分别超声清洗钢块样品15 min,将样品吹干后再放入真空室中,进行抽真空;
⑵当真空度低于3×10-3 Pa时开始进行镀膜工作;通入氩气,制备过程中氩气含量固定为18 sccm,其真空室内部压强为0.24 Pa,在样件上加脉冲偏压电源,在-450 V的偏压下用氩气等离子体对样品进行预溅射清洗20~30 min;
⑶保持腔室压力不变,连续调整偏压为 -60~-120 V,在单一Cr靶上加直流电源,调节电流为4.5 A的条件下沉积Cr过渡层,沉积时间为5~15 min;
⑷氩气流量保持不变,通入18~48 sccm不同流量的N2,调节腔室压力分别为0.3~0.8Pa,在偏压-36 V下,调节Cr-Nb-Ti-Al-V多元靶的电流为 4.5 A,沉积时间为14000 s,即得(CrAlTiNbV)Nx高熵氮化物涂层。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110097546.3A CN112760610B (zh) | 2021-01-25 | 2021-01-25 | 一种航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110097546.3A CN112760610B (zh) | 2021-01-25 | 2021-01-25 | 一种航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层及其制备方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112760610A true CN112760610A (zh) | 2021-05-07 |
CN112760610B CN112760610B (zh) | 2022-04-29 |
Family
ID=75707227
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110097546.3A Active CN112760610B (zh) | 2021-01-25 | 2021-01-25 | 一种航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层及其制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN112760610B (zh) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114196914A (zh) * | 2021-12-14 | 2022-03-18 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 一种碳化物高熵陶瓷材料、碳化物陶瓷层及其制备方法和应用 |
CN114540753A (zh) * | 2022-03-22 | 2022-05-27 | 西安工业大学 | 提高高熵氮化物膜膜基结合强度的梯度过渡层及制备方法 |
CN114959616A (zh) * | 2022-06-23 | 2022-08-30 | 贵州大学 | 一种高结晶性单相高熵氮化物涂层及其制备方法 |
CN115110030A (zh) * | 2022-07-04 | 2022-09-27 | 河南科技大学 | 铈掺杂高熵合金氮化物涂层及其制备方法 |
CN115161607A (zh) * | 2022-07-04 | 2022-10-11 | 河南科技大学 | 一种稀土掺杂高熵合金氮化物涂层及其制备方法 |
CN115233171A (zh) * | 2022-06-23 | 2022-10-25 | 贵州大学 | 一种高熵超晶格氮化物涂层及其制备方法 |
CN116516286A (zh) * | 2023-04-18 | 2023-08-01 | 哈尔滨工业大学 | 一种屏蔽高能电子的高熵陶瓷氮化物防护涂层及其制备方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090301610A1 (en) * | 2006-09-08 | 2009-12-10 | Universite D'orleans | Process for depositing a thin film of metal alloy on a substrate and metal alloy in thin-film form |
CN106835037A (zh) * | 2016-12-14 | 2017-06-13 | 上海理工大学 | 一种高硬度、高弹性模量的多组元氮化物涂层及其制备方法 |
CN108220880A (zh) * | 2018-01-30 | 2018-06-29 | 上海新弧源涂层技术有限公司 | 一种高硬度高耐蚀性高熵合金氮化物涂层及其制备方法 |
CN108411272A (zh) * | 2018-05-30 | 2018-08-17 | 上海电机学院 | 一种轴承用AlCrCuFeNi系高熵合金涂层的制备方法 |
CN108642445A (zh) * | 2018-05-30 | 2018-10-12 | 上海电机学院 | 一种AlCrTaTiZr高熵合金氮化物薄膜及其制备方法 |
CN109338300A (zh) * | 2018-11-23 | 2019-02-15 | 西安工业大学 | 一种高熵合金氮化物涂层的高硬度材料及其制备方法 |
KR101955370B1 (ko) * | 2017-10-20 | 2019-03-07 | 충남대학교산학협력단 | 코발트크롬철망간니켈 질산화물 고엔트로피 합금 및 상기 박막의 제조방법 |
CN111074224A (zh) * | 2020-01-06 | 2020-04-28 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种耐腐蚀高熵合金氮化物涂层、其制备方法及应用 |
-
2021
- 2021-01-25 CN CN202110097546.3A patent/CN112760610B/zh active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090301610A1 (en) * | 2006-09-08 | 2009-12-10 | Universite D'orleans | Process for depositing a thin film of metal alloy on a substrate and metal alloy in thin-film form |
CN106835037A (zh) * | 2016-12-14 | 2017-06-13 | 上海理工大学 | 一种高硬度、高弹性模量的多组元氮化物涂层及其制备方法 |
KR101955370B1 (ko) * | 2017-10-20 | 2019-03-07 | 충남대학교산학협력단 | 코발트크롬철망간니켈 질산화물 고엔트로피 합금 및 상기 박막의 제조방법 |
CN108220880A (zh) * | 2018-01-30 | 2018-06-29 | 上海新弧源涂层技术有限公司 | 一种高硬度高耐蚀性高熵合金氮化物涂层及其制备方法 |
CN108411272A (zh) * | 2018-05-30 | 2018-08-17 | 上海电机学院 | 一种轴承用AlCrCuFeNi系高熵合金涂层的制备方法 |
CN108642445A (zh) * | 2018-05-30 | 2018-10-12 | 上海电机学院 | 一种AlCrTaTiZr高熵合金氮化物薄膜及其制备方法 |
CN109338300A (zh) * | 2018-11-23 | 2019-02-15 | 西安工业大学 | 一种高熵合金氮化物涂层的高硬度材料及其制备方法 |
CN111074224A (zh) * | 2020-01-06 | 2020-04-28 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种耐腐蚀高熵合金氮化物涂层、其制备方法及应用 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
XIAOLONG LU.ETAL: "exploring the atmospheric tribological properties of mos2-(Cr,Nb,Ti,Al,V) composite coatings by high throughput preparation", 《TRIBOLOGY INTERNATIONAL》 * |
李春玲等: "难熔高熵合金的研究进展及应用", 《精密成型工程》 * |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114196914A (zh) * | 2021-12-14 | 2022-03-18 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 一种碳化物高熵陶瓷材料、碳化物陶瓷层及其制备方法和应用 |
CN114196914B (zh) * | 2021-12-14 | 2022-09-02 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 一种碳化物高熵陶瓷材料、碳化物陶瓷层及其制备方法和应用 |
CN114540753A (zh) * | 2022-03-22 | 2022-05-27 | 西安工业大学 | 提高高熵氮化物膜膜基结合强度的梯度过渡层及制备方法 |
CN114540753B (zh) * | 2022-03-22 | 2024-01-26 | 西安工业大学 | 提高高熵氮化物膜膜基结合强度的梯度过渡层及制备方法 |
CN115233171A (zh) * | 2022-06-23 | 2022-10-25 | 贵州大学 | 一种高熵超晶格氮化物涂层及其制备方法 |
CN115233171B (zh) * | 2022-06-23 | 2023-06-20 | 贵州大学 | 一种高熵超晶格氮化物涂层及其制备方法 |
CN114959616B (zh) * | 2022-06-23 | 2023-07-21 | 贵州大学 | 一种高结晶性单相高熵氮化物涂层及其制备方法 |
CN114959616A (zh) * | 2022-06-23 | 2022-08-30 | 贵州大学 | 一种高结晶性单相高熵氮化物涂层及其制备方法 |
CN115161607A (zh) * | 2022-07-04 | 2022-10-11 | 河南科技大学 | 一种稀土掺杂高熵合金氮化物涂层及其制备方法 |
CN115110030A (zh) * | 2022-07-04 | 2022-09-27 | 河南科技大学 | 铈掺杂高熵合金氮化物涂层及其制备方法 |
CN115161607B (zh) * | 2022-07-04 | 2024-05-07 | 河南科技大学 | 一种稀土掺杂高熵合金氮化物涂层及其制备方法 |
CN115110030B (zh) * | 2022-07-04 | 2024-05-07 | 河南科技大学 | 铈掺杂高熵合金氮化物涂层及其制备方法 |
CN116516286A (zh) * | 2023-04-18 | 2023-08-01 | 哈尔滨工业大学 | 一种屏蔽高能电子的高熵陶瓷氮化物防护涂层及其制备方法 |
CN116516286B (zh) * | 2023-04-18 | 2024-02-09 | 哈尔滨工业大学 | 一种屏蔽高能电子的高熵陶瓷氮化物防护涂层及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112760610B (zh) | 2022-04-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN112760610B (zh) | 一种航空轴承表面防护用高熵氮化物涂层及其制备方法 | |
US20080076683A1 (en) | Slide member | |
CN114703454B (zh) | 宽温域耐磨自润滑CrVN/Ag复合涂层及其制备方法 | |
CN101444985A (zh) | 一种非晶碳涂层及其制备方法和用途 | |
CN111286701B (zh) | 一种宽温域耐磨润滑涂层及其制备方法与应用 | |
Steinmann et al. | A new type of tribological coating for machine elements based on carbon, molybdenum disulphide and titanium diboride | |
JP2008286354A (ja) | 摺動部材 | |
JP4359979B2 (ja) | 被覆摺動部材 | |
CN115287592B (zh) | 一种指尖密封用高温耐磨自润滑涂层及其制备方法 | |
Zhang et al. | Microstructure and friction behavior of LaF3 doped Ti-MoS2 composite thin films deposited by unbalanced magnetron sputtering | |
CN107699859B (zh) | 轴瓦用全金属自润滑减摩涂层及其制备方法 | |
CN113621912A (zh) | 一种梯度自润滑复合涂层及其制备方法 | |
Wu et al. | Wear behavior of AlCrSiVN coatings at elevated temperature up to 700° C | |
CN102650043A (zh) | 一种纳米复合润滑薄膜的制备方法 | |
CN111455318A (zh) | 一种氮化钼/二硫化钼/银三元复合高温固体润滑薄膜及其制备方法 | |
Chen et al. | Tribological performance and thermal stability of a novel cold sprayed nanostructured Ni-based lubrication coating | |
GB2415753A (en) | Sliding member | |
CN114318263B (zh) | 一种抗氧化、耐磨减摩的梯度纳米金属涂层及其制备方法 | |
Yamamoto et al. | Nano-multilayered CrN/BCN coating for anti-wear and low friction applications | |
Wang et al. | Microstructure and tribological properties of GLC/MoS2 composite films deposited by magnetron sputtering | |
CN114196913A (zh) | 一种超低摩擦固液复合润滑涂层及其制备方法 | |
CN112626456A (zh) | 一种兼具高硬度和高韧性的ZrB2-Ni涂层及其制备工艺 | |
CN109943822B (zh) | 一种提高CrN涂层抗磨减摩性能的后处理方法 | |
CN111304619A (zh) | 宽温域自润滑MoN-VN多层涂层的制备方法及应用 | |
CN110578114A (zh) | 一种掺杂的类石墨复合薄膜及其制备方法、含有掺杂的类石墨复合薄膜的部件 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |