CN112731576B - 反射膜及其制备方法和应用 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及背光模组领域，具体而言，涉及一种反射膜及其制备方法和应用。本发明提供了一种反射膜的制备方法，其包括以下步骤：提供反射膜坯件，并通过控制反射膜坯件的表面温度为70℃～140℃，对反射膜坯件加热至其软化；将加热后的反射膜坯件置于50℃～130℃的模具内成型、脱模，制备反射膜。该制备方法制得的反射膜的热收缩率小，且力学性能优异，具有高的拉伸强度和断裂伸长率。本发明还提供了该反射膜在制备直下型背光模组中的应用。

Description

反射膜及其制备方法和应用
技术领域
本发明涉及背光模组领域，具体而言，涉及一种反射膜及其制备方法和应用。
背景技术
随着科技的发展，手机、电脑、电视等电子产品发展迅速。这类电子产品中的显示屏是对用户直观使用体验具有较大影响的因素之一。其中，液晶显示器已成为显示屏的重点发展方向。但是，液晶本身没有发光能力，只能依靠其中的背光模组来提供所需的光源，从而可以保证液晶显示屏正常的呈现影像。而背光模组中的反射膜显著影响着其发射光的光亮度和光均匀性。
目前，生产的背光模组中的反射膜多为卷材，即使能成型，成型后的反射膜也容易发生鼓包与折皱且力学性能较差。由于反射膜的上述缺陷，导致背光模组多为人工组装，组装效率低且成本高。
发明内容
基于此，本发明提供了一种反射膜及其制备方法和应用，经研究发现通过本发明提供的制备方法制得的反射膜具有良好的力学性能，且热收缩率小。
本发明一方面，提供一种反射膜的制备方法，其包括以下步骤：
提供反射膜坯件，反射膜坯件包括两个支撑层以及设置于两个支撑层之间的反射层；
支撑层的材料包括第一聚酯树脂、抗静电剂及分散于第一聚酯树脂中的第一无机粒子，其中第一聚酯树脂选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯及聚萘二甲酸乙二醇酯中的至少一种，抗静电剂选自阴离子型抗静电剂、非离子型抗静电剂及两性离子型抗静电剂中的至少一种，第一无机粒子选自碳酸钙、二氧化硅、二氧化钛及硫酸钡中的至少一种；
反射层的材料包括第二聚酯树脂、聚烯烃类树脂及分散于第二聚酯树脂中的第二无机粒子，其中第二聚酯树脂选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯及聚萘二甲酸乙二醇酯中的至少一种，第二无机粒子选自二氧化钛、硫酸钡、碳酸钙及氧化铝中的至少一种；
反射膜坯件的厚度为100μm～300μm；
控制反射膜坯件的表面温度为70℃～140℃，对反射膜坯件加热至其软化；
将加热后的反射膜坯件置于50℃～130℃的模具内成型、脱模，制备反射膜。
在一个具体的实施例中，对反射膜坯件进行加热时，控制反射膜坯件的表面温度为70℃～100℃，加热时间为10s～20s。
在一个具体的实施例中，制备得到的反射膜包括底面以及围绕底面设置的侧壁，其中底面为长方形，侧壁有四个，四个侧壁均为等腰梯形，且四个侧壁围成的结构的开口尺寸随远离所述底面逐渐增大。
在一个具体的实施例中，四个侧壁相邻的两个分别为第一侧壁和第二侧壁，其中第一侧壁的上底边长为200mm～1200mm，下底边长为250mm～1700mm，所述第二侧壁的上底边长为100mm～1000mm，下底边长为150mm～1100mm，第一侧壁和第二侧壁的下底边与腰之间的角度为≥15°且≤30°。
在一个具体的实施例中，反射膜的厚度为0.1mm～0.55mm，深度为1mm～30mm。
在一个具体的实施例中，支撑层的材料中第一聚酯树脂的质量百分含量为97％～97.9％，第一无机粒子的质量百分含量为1％～3％，抗静电剂的质量百分含量为0.1％～1％。
在一个具体的实施例中，反射层的材料中第二聚酯树脂的质量百分含量为60％～80％，所述第二无机粒子的质量百分含量为5％～20％，所述聚烯烃类树脂的质量百分含量为5％～20％。
本发明一方面，还提供一种反射膜，其采用上述制备方法制得。
本发明另一方面，进一步提供一种直下型背光模组，其包括上述反射膜及光源，其中光源位于反射膜的反射面。
本发明再一方面，进一步提供一种显示器件，其包括框架、显示面板及上述直下型背光模组，其中显示面板和直下型背光模组安装于框架上，显示面板位于直下型背光模组的出光侧。
本发明通过研究发现，控制合适的加热温度可以使得反射膜坯件成型，而且选用具有支撑层和反射层组成的三层结构的反射膜作为坯件制得的反射膜表面平滑、无折皱。此外，本发明制得的反射膜具有低的纵向热收缩率(MD)和横向热收缩率(TD)。
进一步地，由于制备的反射膜具有特定形状，可以使得反射膜的挺度加强，而且可以保证照到反射膜上的光线能够被充分反射和利用，提高了光能的使用效率。另外，本发明制备的反射膜的力学性能优异，在高温下具有高的拉伸强度和断裂伸长率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明一个实施例中制备的反射膜的结构示意图。
具体实施方式
现将详细地提供本发明实施方式的参考，其一个或多个实例描述于下文。提供每一实例作为解释而非限制本发明。实际上，对本领域技术人员而言，显而易见的是，可以对本发明进行多种修改和变化而不背离本发明的范围或精神。例如，作为一个实施方式的部分而说明或描述的特征可以用于另一实施方式中，来产生更进一步的实施方式。
因此，旨在本发明覆盖落入所附权利要求的范围及其等同范围中的此类修改和变化。本发明的其它对象、特征和方面公开于以下详细描述中或从中是显而易见的。本领域普通技术人员应理解本讨论仅是示例性实施方式的描述，而非意在限制本发明更广阔的方面。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
本发明一方面，提供一种反射膜的制备方法，其包括以下步骤：
提供反射膜坯件，反射膜坯件包括两个支撑层以及设置于两个支撑层之间的反射层；
支撑层的材料包括第一聚酯树脂、抗静电剂及分散于第一聚酯树脂中的第一无机粒子，其中第一聚酯树脂选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯及聚萘二甲酸乙二醇酯中的至少一种，抗静电剂选自阴离子型抗静电剂、非离子型抗静电剂及两性离子型抗静电剂中的至少一种，第一无机粒子选自碳酸钙、二氧化硅、二氧化钛及硫酸钡中的至少一种；
反射层的材料包括第二聚酯树脂、聚烯烃类树脂及分散于第二聚酯树脂中的第二无机粒子，其中第二聚酯树脂选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯及聚萘二甲酸乙二醇酯中的至少一种，第二无机粒子选自二氧化钛、硫酸钡、碳酸钙及氧化铝中的至少一种；
反射膜坯件的厚度为100μm～300μm；
控制反射膜坯件的表面温度为70℃～140℃，对反射膜坯件加热至其软化；
将加热后的反射膜坯件置于50℃～130℃的模具内成型、脱模，制备反射膜。
通过研究发现，控制合适的加热温度可以保证反射膜形成一定的形状，且选用具有支撑层与反射层组成的三层结构的反射膜作为坯件制得的反射膜表面平滑、无折皱，具有低的纵向热收缩率和横向热收缩率。
在本发明中，作为进一步说明，对反射膜坯件进行加热时，控制反射膜坯件的表面温度为70℃～100℃，加热时间为10s～20s。
在本发明中，作为进一步说明，制备得到的反射膜包括底面以及围绕底面设置的侧壁，其中底面为长方形，侧壁有四个，四个侧壁均为等腰梯形，且四个侧壁围成的结构的开口尺寸随远离所述底面逐渐增大。
在本发明中，作为进一步说明，四个侧壁相邻的两个分别为第一侧壁和第二侧壁，其中第一侧壁的上底边长为200mm～1200mm，下底边长为250mm～1700mm，所述第二侧壁的上底边长为100mm～1000mm，下底边长为150mm～1100mm，第一侧壁和第二侧壁的下底边与腰之间的角度为≥15°且≤30°。在一个优选的具体实施方式中，第一侧壁的上底边长为837mm，下底边长为960mm，第二侧壁的上底边长为424mm，下底边长为542mm，第一侧壁和第二侧壁的下底边与腰之间的角度为23°。
在本发明中，作为进一步说明，反射膜的厚度为0.1mm～0.55mm，深度为1mm～30mm。又如反射膜的厚度还可以为0.2mm、0.3mm、0.4mm，深度还可以为5mm、8mm、12mm、20mm、25mm。在一个优选的具体实施方式中，反射膜的厚度为0.188mm，深度为23mm。
在本发明中，作为进一步说明，支撑层的材料中第一聚酯树脂的质量百分含量为97％～97.9％，第一无机粒子的质量百分含量为1％～3％，抗静电剂的质量百分含量为0.1％～1％。
在本发明中，作为进一步说明，反射层的材料中第二聚酯树脂的质量百分含量为60％～80％，所述第二无机粒子的质量百分含量为5％～20％，所述聚烯烃类树脂的质量百分含量为5％～20％。
本发明一方面，还提供一种反射膜，其采用上述制备方法制得。
本发明制备的反射膜的力学性能优异，在高温下具有高的拉伸强度和断裂伸长率。而且反射膜可通过自动化组装到直下型背光模组中，大幅度降低了背光模组的组装工时，提高了组装效率
本发明另一方面，进一步提供一种直下型背光模组，其包括上述反射膜及光源，其中光源位于反射膜的发射面。
本发明再一方面，进一步提供一种显示器件，其包括框架、显示面板及上述直下型背光模组，其中显示面板和直下型背光模组安装于框架上，显示面板位于直下型背光模组的出光侧。
在本发明中，作为进一步说明，反射膜坯件可以在下述专利中找到：申请号为CN201911314278.5，公开号为CN110927846A，公开日为2020年03月27日，名称为反射膜及其制备方法，特此将上述专利文件中的全部内容并入本文作为参考。
以下结合具体实施例和对比例对本发明的反射膜及其制备方法和应用作进一步详细的说明。
图1为本发明中一实施例中制备的反射膜1的结构示意图。如图1所示，图中反射膜1由底面11和四个侧壁12构成。底面11上设有开孔111，四个侧壁12均为等腰梯形，四个侧壁12的上底边与腰的夹角相同。
实施例1反射膜的制备
(1)将反射膜坯件放置到液晶屏反射膜定制热成型机的加热系统中。加热系统采用陶瓷红外线加热瓦对反射膜坯件进行加热，通过PLC电控系统控制每块陶瓷红外线加热瓦温控器的温度为80℃，保证此时反射膜坯件表面温度为70℃对反射膜坯件加热10s。同时通过PLC电控系统控制成型系统中模具的温度为80℃，对模具进行预加热；
(2)将上述加热后的反射膜坯件放置于成型系统中预加热后的模具中热压成反射膜，反射膜相邻两个侧壁分别为第一侧壁和第二侧壁，第一侧壁的上底长为837mm、下底长为960mm、第二侧壁的上底长为424mm、下底长为542mm，第一侧壁和第二侧壁的腰与下底边的角度为23°，厚度为0.188mm；
(3)将上述成型后的反射膜放置于裁切系统，在反射膜底面裁切出如图1所示的开孔；
(4)经输出系统将步骤(3)中的产品输出，并进行相关性能测试，测试结果分别如表1和表2所示。
实施例2反射膜的制备
(1)将反射膜坯件放置到液晶屏反射膜定制热成型机的加热系统。加热系统采用陶瓷红外线加热瓦对反射膜坯件进行加热，通过PLC电控系统控制每块陶瓷红红外线加热瓦温控器的温度为90℃，保证此时反射膜坯件表面温度为80℃对反射膜坯件加热10s。同时通过PLC电控系统控制成型系统中模具的温度为80℃，对模具进行预加热；
(2)将上述加热后的反射膜坯件放置于成型系统中预加热后的模具中热压成反射膜，反射膜相邻两个侧壁分别为第一侧壁和第二侧壁，第一侧壁的上底长为837mm、下底长为960mm、第二侧壁的上底长为424mm、下底长为542mm，第一侧壁和第二侧壁的腰与下底边的角度为23°，厚度为0.188mm；
(3)将上述成型后的反射膜放置于裁切系统，在反射膜底面裁切出开孔；
(4)经输出系统将步骤(3)中的产品输出，并进行相关性能测试，测试结果分别如表1和表2所示。
实施例3反射膜的制备
(1)将反射膜坯件放置到液晶屏反射膜定制热成型机的加热系统。加热系统采用陶瓷红外线加热瓦对反射膜坯件进行加热，通过PLC电控系统控制每块陶瓷红红外线加热瓦温控器的温度为100℃，保证此时反射膜坯件表面温度为90℃对反射膜坯件加热10s。同时通过PLC电控系统控制成型系统中模具的温度为80℃，对模具进行预加热；
(2)将上述加热后的反射膜坯件放置于成型系统中预加热后的模具中热压成反射膜，反射膜相邻两个侧壁分别为第一侧壁和第二侧壁，第一侧壁的上底长为837mm、下底长为960mm、第二侧壁的上底长为424mm、下底长为542mm，第一侧壁和第二侧壁的腰与下底边的角度为23°，厚度为0.188mm；
(3)将上述成型后的反射膜放置于裁切系统，在反射膜底面裁切出如图1所示的开孔；
(4)经输出系统将步骤(3)中的产品输出，并进行相关性能测试，测试结果分别如表1和表2所示。
实施例4反射膜的制备
(1)将反射膜坯件放置到液晶屏反射膜定制热成型机的加热系统。加热系统采用陶瓷红外线加热瓦对反射膜坯件进行加热，通过PLC电控系统控制每块陶瓷红红外线加热瓦温控器的温度为110℃，保证此时反射膜坯件表面温度为100℃对反射膜坯件加热10s。同时通过PLC电控系统控制成型系统中模具的温度为80℃，对模具进行预加热；
(2)将上述加热后的反射膜坯件放置于成型系统中预加热后的模具中热压成反射膜，反射膜相邻两个侧壁分别为第一侧壁和第二侧壁，第一侧壁的上底长为837mm、下底长为960mm、第二侧壁的上底长为424mm、下底长为542mm，第一侧壁和第二侧壁的腰与下底边的角度为23°，厚度为0.188mm；
(3)将上述成型后的反射膜放置于裁切系统，在反射膜底面裁切出开孔；
(4)经输出系统将步骤(3)中的产品输出，并进行相关性能测试，测试结果分别如表1和表2所示。
实施例5反射膜的制备
(1)将反射膜坯件放置到液晶屏反射膜定制热成型机的加热系统。加热系统采用陶瓷红外线加热瓦对反射膜坯件进行加热，通过PLC电控系统控制每块陶瓷红红外线加热瓦温控器的温度为120℃，保证此时反射膜坯件表面温度为110℃对反射膜坯件加热10s。同时通过PLC电控系统控制成型系统中模具的温度为80℃，对模具进行预加热；
(2)将上述加热后的反射膜坯件放置于成型系统中预加热后的模具中热压成反射膜，反射膜相邻两个侧壁分别为第一侧壁和第二侧壁，第一侧壁的上底长为837mm、下底长为960mm、第二侧壁的上底长为424mm、下底长为542mm，第一侧壁和第二侧壁的腰与下底边的角度为23°，厚度为0.188mm；
(3)将上述成型后的反射膜放置于裁切系统，在反射膜底面裁切出开孔；
(4)经输出系统将步骤(3)中的产品输出，并进行相关性能测试，测试结果分别如表1和表2所示。
实施例6反射膜的制备
(1)将反射膜坯件放置到液晶屏反射膜定制热成型机的加热系统。加热系统采用陶瓷红外线加热瓦对反射膜坯件进行加热，通过PLC电控系统控制每块陶瓷红红外线加热瓦温控器的温度为130℃，保证此时反射膜坯件表面温度为120℃对反射膜坯件加热10s。同时通过PLC电控系统控制成型系统中模具的温度为80℃，对模具进行预加热。
(2)将上述加热后的反射膜坯件放置于成型系统中预加热后的模具中热压成反射膜，反射膜相邻两个侧壁分别为第一侧壁和第二侧壁，第一侧壁的上底长为837mm、下底长为960mm、第二侧壁的上底长为424mm、下底长为542mm，第一侧壁和第二侧壁的腰与下底边的角度为23°，厚度为0.188mm；
(3)将上述成型后的反射膜放置于裁切系统，在反射膜底面裁切出开孔；
(4)经输出系统将步骤(3)中的产品输出，并进行相关性能测试，测试结果分别如表1和表2所示。
实施例7反射膜的制备
(1)将反射膜坯件放置到液晶屏反射膜定制热成型机的加热系统。加热系统采用陶瓷红外线加热瓦对反射膜坯件进行加热，通过PLC电控系统控制每块陶瓷红红外线加热瓦温控器的温度为140℃，保证此时反射膜坯件表面温度为130℃对反射膜坯件加热10s。同时通过PLC电控系统控制成型系统中模具的温度为80℃，对模具进行预加热。
(2)将上述加热后的反射膜坯件放置于成型系统中预加热后的模具中热压成反射膜，反射膜相邻两个侧壁分别为第一侧壁和第二侧壁，第一侧壁的上底长为837mm、下底长为960mm、第二侧壁的上底长为424mm、下底长为542mm，第一侧壁和第二侧壁的腰与下底边的角度为23°，厚度为0.188mm；
(3)将上述成型后的反射膜放置于裁切系统，在反射膜底面裁切出开孔；
(4)经输出系统将步骤(3)中的产品输出，并进行相关性能测试，测试结果分别如表1和表2所示。
实施例8反射膜的制备
(1)将反射膜坯件放置到液晶屏反射膜定制热成型机的加热系统。加热系统采用陶瓷红外线加热瓦对反射膜坯件进行加热，通过PLC电控系统控制每块陶瓷红红外线加热瓦温控器的温度为150℃，保证此时反射膜坯件表面温度为140℃对反射膜坯件加热10s。同时通过PLC电控系统控制成型系统中模具的温度为80℃，对模具进行预加热。
(2)将上述加热后的反射膜坯件放置于成型系统中预加热后的模具中热压成反射膜，反射膜相邻两个侧壁分别为第一侧壁和第二侧壁，第一侧壁的上底长为837mm、下底长为960mm、第二侧壁的上底长为424mm、下底长为542mm，第一侧壁和第二侧壁的腰与下底边的角度为23°，厚度为0.188mm；
(3)将上述成型后的反射膜放置于裁切系统，在反射膜底面裁切出开孔；
(4)经输出系统将步骤(3)中的产品输出，并进行相关性能测试，测试结果分别如表1和表2所示。
实施例9反射膜的制备
与实施例1的制备方法基本相同，不同之处在于：步骤(1)中对反射膜坯件的加热时间为20s。相关性能测试结果分别如表1和表2所示。
实施例10反射膜的制备
与实施例2的制备方法基本相同，不同之处在于：步骤(1)中对反射膜坯件的加热时间为20s。相关性能测试结果分别如表1和表2所示。
实施例11反射膜的制备
与实施例3的制备方法基本相同，不同之处在于：步骤(1)中对反射膜坯件的加热时间为20s。相关性能测试结果分别如表1和表2所示。
实施例12反射膜的制备
与实施例4的制备方法基本相同，不同之处在于：步骤(1)中对反射膜坯件的加热时间为20s。相关性能测试结果分别如表1和表2所示。
实施例13反射膜的制备
与实施例5的制备方法基本相同，不同之处在于：步骤(1)中对反射膜坯件的加热时间为20s。相关性能测试结果分别如表1和表2所示。
实施例14反射膜的制备
与实施例6的制备方法基本相同，不同之处在于：步骤(1)中对反射膜坯件的加热时间为20s。相关性能测试结果分别如表1和表2所示。
实施例15反射膜的制备
与实施例7的制备方法基本相同，不同之处在于：步骤(1)中对反射膜坯件的加热时间为20s。相关性能测试结果分别如表1和表2所示。
实施例16反射膜的制备
与实施例8的制备方法基本相同，不同之处在于：步骤(1)中对反射膜坯件的加热时间为20s。相关性能测试结果分别如表1和表2所示。
对比例1
与实施例1的制备方法基本相同，不同之处在于：步骤(1)中通过PLC电控系统控制每块陶瓷红红外线加热瓦温控器的温度为70℃，保证此时反射膜坯件表面温度为60℃对反射膜坯件加热10s。相关性能测试结果分别如表1和表2所示。
对比例2
与实施例1的制备方法基本相同，不同之处在于：步骤(1)中通过PLC电控系统控制每块陶瓷红红外线加热瓦温控器的温度为160℃，保证此时反射膜坯件表面温度为150℃对反射膜坯件加热10s。相关性能测试结果分别如表1和表2所示。
对比例3
与实施例3的制备方法基本相同，不同之处在于：步骤(1)中对反射膜坯件的加热时间为25s。
性能测试：
按照标准GB/T13542.4-2009测试反射膜在90～105℃温度下的纵向和横向热收缩率，测试结果如表1所示；按照标准GB/T13542.4-2009测试反射膜在70～90℃温度下的拉伸强度和断裂伸长率，测试结果如表2所示。
表1反射膜热收缩率测试结果
Figure BDA0002870389820000131
Figure BDA0002870389820000141
上述测试结果表明，在适宜的加热温度和时间内，反射膜具有优异的热收缩率和成型性。
表2反射膜力学性能测试数据
Figure BDA0002870389820000142
上述实验结果证明，本发明制备的反射膜具有低的热收缩率和高的拉伸强度和断裂伸长率。反射膜在70～90℃温度下的拉伸强度均在80MPa以上，断裂伸长率均在70％以上。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (8)

1.一种反射膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供反射膜坯件，所述反射膜坯件包括两个支撑层以及设置于两个支撑层之间的反射层；
所述支撑层的材料包括第一聚酯树脂、抗静电剂及分散于第一聚酯树脂中的第一无机粒子，所述第一聚酯树脂选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯及聚萘二甲酸乙二醇酯中的至少一种，所述抗静电剂选自阴离子型抗静电剂、非离子型抗静电剂及两性离子型抗静电剂中的至少一种，所述第一无机粒子选自碳酸钙、二氧化硅、二氧化钛及硫酸钡中的至少一种；
所述反射层的材料选自第二聚酯树脂、聚烯烃类树脂及分散于第二聚酯树脂中的第二无机粒子，所述第二聚酯树脂选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯及聚萘二甲酸乙二醇酯中的至少一种，所述第二无机粒子选自二氧化钛、硫酸钡、碳酸钙及氧化铝中的至少一种；
所述反射膜坯件的厚度为100μm～300μm；
控制所述反射膜坯件的表面温度为70℃～140℃，对所述反射膜坯件加热至其软化；
将加热后的反射膜坯件置于50℃～130℃的模具内成型、脱模，制备反射膜；所述反射膜包括底面以及围绕所述底面设置的侧壁，所述底面为长方形，所述侧壁有四个，四个所述侧壁均为等腰梯形，且四个侧壁围成的结构的开口尺寸随远离所述底面逐渐增大，四个所述侧壁相邻的两个分别为第一侧壁和第二侧壁，所述第一侧壁的上底边长为200mm～1200mm，下底边长为250mm～1700mm，所述第二侧壁的上底边长为100mm～1000mm，下底边长为150mm～1100mm，所述第一侧壁和所述第二侧壁的下底边与腰之间的角度≥15°且≤30°。
2.根据权利要求1所述的反射膜的制备方法，其特征在于，对所述反射膜坯件进行加热时，控制所述反射膜坯件的表面温度为70℃～100℃，加热时间为10s～20s。
3.根据权利要求1所述的反射膜的制备方法，其特征在于，所述反射膜的厚度为0.1mm～0.55mm，深度为1mm～30mm。
4.根据权利要求1～3任一项所述的反射膜的制备方法，其特征在于，所述支撑层的材料中第一聚酯树脂的质量百分含量为97％～97.9％，第一无机粒子的质量百分含量为1％～3％，抗静电剂的质量百分含量为0.1％～1％。
5.根据权利要求1～3任一项所述的反射膜的制备方法，其特征在于，所述反射层的材料中第二聚酯树脂的质量百分含量为60％～80％，所述第二无机粒子的质量百分含量为5％～20％，所述聚烯烃类树脂的质量百分含量为5％～20％。
6.一种反射膜，其特征在于，其采用如权利要求1～5任一项所述的反射膜的制备方法制得。
7.一种直下型背光模组，其特征在于，包括权利要求6所述的反射膜及光源，所述光源位于所述反射膜的反射面。
8.一种显示器件，其特征在于，包括框架、显示面板及权利要求7所述的直下型背光模组，所述显示面板和直下型背光模组安装于所述框架上，所述显示面板位于所述直下型背光模组的出光侧。
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