CN1125782A - 铜及铜合金表面精细蚀刻技术 - Google Patents
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Abstract
铜及铜合金表面精细蚀刻技术,经清洗烘干和覆盖(如印刷)所需图案后,采用能够对铜及铜合金的各种成分和各种金相组织具有均匀稳定腐蚀效力的2~4份容积磷酸、5~7份容积醋酸和0.5~1.5份容积无机强酸(如硝酸)的混合液作为腐蚀剂,可大大提高图案蚀刻精度,实现精细蚀刻。
Description
本发明为金属表面腐蚀雕刻技术,特别适用于铜及铜合金表面精细蚀刻。
金属制作的标牌、商标或类似的工艺品可采用蚀刻法产生所需的图案,如中国发明专利公开号CN86108399A《不锈钢制品花纹及图案腐蚀技术》和公开号CN1058933A《隐形商标及其制作方法》,都是采用腐蚀雕刻的方法产生所需图案,其中前者是用三氯化铁蚀刻不锈钢表面产生明显的图案,后者是用硫酸蚀刻铜材表面再经抛光产生肉眼不易察觉的隐形图案。由于实用的被蚀件大多用合金制造,而采用单一成分的腐蚀剂不能同时有效地腐蚀合金的各种成分和各种金相组织,故腐蚀中会出现蚀点,使产生的图案边缘不精密齐整,色泽也不够一致和纯正,不能制做细微或精细的图案。
本发明旨在找到对铜及铜合金的各成分和各金相组织能够均蚀的腐蚀剂,实现精细蚀刻。
本发明的工艺步骤如下:
光整、清洗和烘干被蚀件表面——在被蚀件表面制作可防腐蚀的图案——在10~60℃温度下,用2~4份容积磷酸、5~7份容积醋酸和0.5~1.5份容积无机强酸的混合液,对被蚀件腐蚀0.2~5分钟——表面光整和防腐处理。
上述过程中,所用的无机强酸最好是硝酸。
腐蚀时的温度一般在常温下即可,磷酸的最佳含量为3份容积,醋酸最佳含量为6份容积,硝酸最佳含量为1份容积,腐蚀时间一般在30~150秒即可。
工艺过程中所说的光整包括整平和抛光:清洗要使油污和污垢全部清除干净:所用的磷酸酸度强弱适中,醋酸酸度较弱,二者协同作用,可缓和、稳定强酸的腐蚀过程,保证图案边缘光滑齐整:防腐处理可用苯骈三氯唑、磺基水杨酸钠及十二烷基硫酸钠的混合液进行。
下面结合实施例作详细说明:
实施例1:
取约3厘米宽、10厘米长的纯铜片和黄铜片各两个,进行不同尺寸的“ABCD”字样蚀刻。
第一步:清洗铜和黄铜片表面油污,用常规方法抛光,再用非离子型表面活性剂清洗和用去离子水漂净,最后脱水烘干。
第二步:在铜和黄铜片上用印刷法或蘸油墨手写"ABCD"字样,所用油墨可保护其覆盖的部分不被腐蚀。
第三步:在常温(如20℃)下,用3份容积磷酸、6份容积醋酸和1份容积硝酸的混合液,对上述铜和黄铜片进行腐蚀,时间分别为12秒、60秒、100秒和300秒。
第四步:抛光已蚀刻好的铜和黄铜片,并用前述的防腐剂浸泡,以进行防腐处理。
实施例2:
腐蚀温度为10℃,磷酸含量为4份容积,醋酸含量为7份容积,硝酸含量为1.5份容积,其余同上。
实施例3:
腐蚀温度为60℃,磷酸含量为2份容积,醋酸含量为5份容积,硝酸含量为0.5份容积,其余同实施例1。
以上三例均得到了边缘齐整光滑、具有一定高度的“ABCD”字样。
用本发明可以实现对铜及铜合金的各种成分及各种金相组织均蚀,制作的图案边缘非常精密齐整,而且色泽纯正,从而可以大大提高商标等蚀刻品的质量,若需抛光成隐形商标,还可提高商标的防伪能力。
Claims (2)
1.铜及铜合金表面精细蚀刻技术,由以下步骤组成:
a.光整、清洗和烘干被蚀件表面,
b.在被蚀件表面制作可防腐蚀的图案,
c.在10~60℃温度下用腐蚀剂腐蚀0.2~5分钟,
d.表面光整和防腐处理;
其特征在于:
所用的腐蚀剂为2~4份容积磷酸、5~7份容积醋酸和0.5~1.5份容积无机强酸的混合液。
2.如权利要求1所述的蚀刻技术,其特征在于:所用的无机强酸为硝酸。
Priority Applications (1)
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CN 94113369 CN1125782A (zh) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | 铜及铜合金表面精细蚀刻技术 |
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CN 94113369 CN1125782A (zh) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | 铜及铜合金表面精细蚀刻技术 |
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Publication Number | Publication Date |
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CN1125782A true CN1125782A (zh) | 1996-07-03 |
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ID=5036700
Family Applications (1)
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CN 94113369 Pending CN1125782A (zh) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | 铜及铜合金表面精细蚀刻技术 |
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Country | Link |
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CN (1) | CN1125782A (zh) |
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- 1994-12-28 CN CN 94113369 patent/CN1125782A/zh active Pending
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