CN112567068B - 用于以含碳层对基底覆层的设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种用于在带状的连续的基底(2)上沉积石墨烯、碳纳米管或其它尤其含碳的层的设备，所述基底(2)通过入口(12)进入反应器壳体(1)并且通过出口(12’)离开反应器壳体(1)，所述基底(2)沿传输方向从入口(12)经过布置在所述反应器壳体(1)中的、由控温装置(8)调温的处理区(5)被传输到出口(12’)。按照本发明，在所述处理区(5)与入口(12)之间和/或在所述处理区(5)与出口(12')之间布置有阻隔热传递的器件(14，15，16，17)，通过所述阻隔热传递的器件减小从所述处理区(5)到入口(12)或出口(12’)的热传递。此外，设有导引元件(11)，用于将基底(2)导引入直接与开口(12，12’)邻接的区域中。

Description

用于以含碳层对基底覆层的设备
技术领域
本发明涉及一种用于在带状的连续的基底上沉积石墨烯、碳纳米管或其它尤其含碳的层的设备，所述基底通过入口进入反应器壳体并且通过出口离开反应器壳体，所述基底沿传输方向从入口经过布置在所述反应器壳体中的、尤其由至少一个加热装置调温的处理区被传输到出口，供气管路的进气口通入所述处理区。
技术背景
在美国申请文件US 9,227,171 B2中描述一种用于沉积含碳涂层如石墨烯或碳纳米管(CNT)的含碳涂层的设备。在此描述的设备具有沿水平方向延伸的反应器，该设备具有多个在水平方向上并排的区域，连续的基底被输送穿过该多个区域。
US 2016/0031712 Al示出一种用于制造石墨烯的设备，该设备具有多个沿基底的传输方向依次布置的处理区。在处理区中设有一些加热装置，以使该基底达到处理温度。
从US 2017/0314134 Al中已知一种用于处理基底的设备，其具有隔热罩。
现有技术还包括US 2018/0209044 A1、JP 202-166991 A、DE 103 22 935 A1、DE10 2014 106 451 A1和DE 10 2015 013 799 A1。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是，使用有利地改进前述类型的设备并且尤其提供一种可以改善覆层效果的手段。
按照本发明的用于沉积石墨烯或碳纳米管(Carbon-Nano-Tubes)或另外的尤其含碳层的设备具有反应器壳体，该反应器壳体具有两个相对置的开口。尤其缝隙状的开口形成用于基底的入口。第二开口形成用于基底的出口。该基底优选是带状金属板，该带状金属板从第一卷轴拉出并且连续地穿过反应器的处理区，以便它通过出口再次离开。在出口的后方具有第二卷轴，基底卷绕在该第二卷轴上。进气口可以通入处理区，该进气口可以是管状的气体管路的端部，通过该气体管路可以将处理气体、例如CH4或另外的含碳气体导入处理区中。在对置侧上具有出气口，通过该出气口可以将气态的组分从处理区中泵出。处理气体优选与不和处理气体反应的惰性气体一起导入。必须采取措施防止氧气从反应器外部进入反应器。为此，入口和/或出口可以用惰性气体冲洗，从而形成扩散屏障。规定可以在反应器的壁的区域内调节入口间隙或出口间隙的间隙宽度。在反应器的内部具有控温装置，通过该控温装置可以控制基底的温度或控制包围基底的大气的温度。控温装置尤其是加热装置，通过该加热装置可以加热处理气体，从而尤其通过热分解形成碳，碳以石墨烯或碳纳米管的形式被沉积在基底上。反应器的壁的包围入口和出口的区域可以通过适合的器件被冷却。本发明提供一种器件，以便阻隔从加热的处理区到入口或出口的热传递。
本发明提供的器件尤其设置在反应器的空腔的入口区域或出口区域中，其中，入口区域布置在处理区和入口之间，出口区域布置在处理区和出口之间。阻隔热传递的器件尤其紧邻地与盖板邻接地布置，该盖板具有入口或出口并且在其端面上封闭优选柱形的反应器。在一种变型方案中规定，阻隔热传递的器件形成一个或多个热辐射防护罩。阻隔热传递的器件由反射器形成。此外规定，阻隔热传递的器件由扁平体形成。扁平体可以是板件。它可以横向于基底的传输方向或者相对于基底的传输方向倾斜地延伸。此外规定，阻隔热传递的器件填充入口区域或出口区域的横截面面积的至少75％，优选至少80％或90％。入口区域和出口区域优选具有圆形的空着的横截面面积。空着的横截面面积大部分被阻隔热传递的器件填充，其中，优选径向地穿过空着的横截面的间隙区和围绕阻隔热传递的器件的环区保持空着。在本发明的扩展设计中规定，尤其由板件制成的阻隔热传递的器件具有狭缝。它是窄的狭缝，该狭缝朝阻隔热传递的器件的边缘敞开。狭缝可以具有狭缝宽度，该狭缝宽度大致相当于由板件制成的阻隔热传递的器件的材料厚度。阻隔热传递的器件可以具有尤其在圆弧线上延伸的轮廓。至少入口区域和/或出口区域同样具有圆形轮廓。入口区域和出口区域优选由内管(衬管)的端部区段构成，该内管延伸通过反应器的整个空腔并且在其中心区域形成处理区。处理区可以被加热装置围绕，该加热装置由加热螺旋管构成。布置在入口区域或出口区域中的用于阻隔热传递的器件也可以被加热螺旋管围绕。但备选地，这些器件也可以被冷却螺旋管围绕。在本发明的扩展设计中规定，阻隔热传递的器件形成用于杆件或管件的通孔。阻隔热传递的器件可以在杆件或管件上可移动地导引。管件中的至少一个可以是进气口的管件和/或出气口的管件。阻隔热传递的器件可以设计为由两部分组成，其中，在两个优选半圆形设计的器件之间留有一个间隙，基底输送穿过该间隙。在本发明的扩展设计中规定，多个、至少两个、优选三个或四个阻隔热传递的器件沿传输方向依次布置。这种，尤其由板式反射器形成的用于阻隔热传递的器件可以借助间隔器件，例如间隔套筒彼此保持间隔一定距离。间隔套筒可以布置在管件上。但间隔套筒也可以布置在杆件上，在杆件上，阻隔热传递的器件可移动地布置在反应器中。此外可以规定，阻隔热传递的器件具有不同大小的面延伸部并且尤其填充入口区域或出口区域的不同大小的横截面面积，其中，具有较小横截面的至少一个阻隔热传递的器件布置在离入口或出口最远的位置。可以规定，阻隔热传递的器件具有十字形形状。十字形设计的阻隔热传递的元件具有优选四个区段，这四个区段沿径向从阻隔热传递的器件的中心突伸。该中心由中心线形成，该中心线横向于传输方向延伸。两个扁平体可以从该中心线在一个宽边上V形地突伸。在相对置的一个宽边上，两个扁平体也可以从中心线V形地突伸。尤其形成两个顺着传输方向突伸的和两个逆着传输方向倾斜突伸的扁平体。阻隔热传递的器件可以是由两个相互连接的扁平体组成的部分。可以规定，两个分别绕顶点线弯曲的扁平体在顶点线处相互连接。顶点线在此限定了用于使基底穿过的间隙的边界。还规定，两个扁平体借助连接条彼此连接，其中，连接条限定用于使基底穿过的间隙的边界。在具有独立含义的本发明的扩展设计中，设有导引元件，该导引元件位于反应器壳体的内部并且优选紧邻地与入口或出口邻接。在此，导引元件可以是平行于传输方向的一些棒。这些棒可以在它们之间留有让基底穿过的导引间隙。在基底的每一侧上可以布置有多个，优选三个棒。这些棒可以由陶瓷材料组成。在本发明的优选设计方案中，导引元件由阻隔热传递的器件固持。为此，阻隔热传递的器件可以具有固持导引元件的钻孔或类似物。可以规定，最后一个尤其与入口或出口相距一定距离的阻隔热传递的器件形成止挡面，导引元件的一个端部位于该止挡面的前方。导引元件的背离该端部指向的第二端部支撑在另一个优选用于阻隔热传递的第一器件上或在盖板上。在本发明的扩展设计中规定，入口区域或出口区域的直接与盖板邻接的区被惰性气体冲洗。通过该措施在很大程度上防止了处理气体从入口或出口流出。在扩展设计中规定，反应器以竖向布置方式运行。入口和出口在该变型中竖向地彼此间隔开，从而基底在竖向上连续地被输送穿过反应器壳体。基底优选从下方导引入反应器并且从上方导引出反应器。这可以借助转向滚轮实现。气体进入同样优选从下方进行，从而在反应器的上侧设有出气口。在反应器内部的气流因此平行于可在一侧或两侧被覆层的基底的输送方向。
本发明的第一方面涉及阻隔热传递的器件设计成扁平体形式的反射器的方案，第二方面涉及布置在由板件制成的阻隔热传递的器件中的狭缝和/或钻孔，杆件或管件可以穿过该狭缝和/或钻孔。本发明的第三方面涉及多个阻隔热传递的器件沿传输方向依次的并且彼此相间隔的布置方式。本发明的第四方面涉及阻隔热传递的器件设计成十字形的扁平体的方案。本发明的另一方面规定，在反应器壳体内部的直接与出口邻接的出口区域中布置有用于导引基底的导引元件并且这些导引元件由杆件或管件形成，该杆件或管件沿基底的传输方向延伸。这些杆件可以直接紧邻间隙地布置在阻隔热传递的器件的两个部分之间。
本发明的另一方面涉及用于通过第一间隙限定体和第二间隙限定体之间延伸的间隙将基底导引进出基底处理装置的设备。为了进一步防止氧气渗透到处理室中，建议一种用于通过间隙将基底导入和导出基底处理装置的设备。该间隙的间隙宽度由两个间隙限定体的距离确定。尤其重要的是，两个间隙限定体彼此紧邻地贴靠在倾斜面上并且为了调节间隙宽度可以沿倾斜面的倾斜方向移动，其中，这种移动沿基底的面延伸段的方向并且尤其沿横向于基底的传输方向的方向进行。
附图说明
以下参照附图阐述本发明的实施例。在附图中：
图1示出具有壳体1的反应器、尤其CVD(化学气相沉积)反应器的截面图，该壳体沿竖向布置，并且从第一卷轴3拉出的带状的基底2在下侧的入口12中引入壳体并且从上侧的开口12'抽出，以便卷绕到第二卷轴3'上，
图2示出图1中局部II的放大图，
图3示出图1所示的设备的仰视图，
图4示出固定在盖板13上的阻隔热传递的器件14，15，16，17的第一立体图，
图5示出阻隔热传递的器件14，15，16，17的分解图，
图6示出沿图2的VI-VI线剖切所得的截面图，
图7示出类似于图1的图示，但具有第二实施例的阻隔热传递的器件，
图8示出第二实施例的立体图，
图9示出第二实施例的单独的阻隔热传递的器件的立体图，
图10示出按图9的箭头X观察的视图，
图11示出按图10的箭头XI观察的视图，
图12示出按图10的箭头XII观察的视图，
图13示出按图10的线XIII-XIII剖切所得的截面图，
图14示出按图11的线XIV-XIV剖切所得的截面图，
图15示出两个间隙限定体10，11的分解图，
图16示出两个彼此紧靠地安装的间隙限定体10，11的在第一间隔位置处朝间隙12观察的前视图，
图17示出两对间隙限定体10，11，10'，11'，它们可以共同地既在入口侧也在出口侧布置在基底处理装置1的壳体上，
图18示出间隙限定体10，10'，11，11'在图17中所示的成对布置的俯视图，
图19示出按图18的线XIX-XIX剖切所得的截面图，
图20示出按图18的线XX-XX剖切所得的截面图，具有最小间隙宽度w，
图21示出相同的截面图，但具有最大间隙宽度w，和
图22示出间隙限定体10，11的第二实施例。
具体实施形式
图1示出反应器、尤其CVD反应器，其具有纵长延伸的柱体形状，其中，柱形的壳体1的轴线竖直地延伸。反应器壳体1的两个向下指向或向上指向的端面被盖板13封闭。供气管路6'和排气管路7'通入盖板中。供气管路6'继续延伸到管件中，所述管件的开放的端部形成进气口6。排气管路7'继续延伸到管件中，所述管件的开放的端部形成出气口7。供气管路6'连接到供气系统上，通过供气系统尤其提供CH4。排气管路7'连接真空泵，通过该真空泵可以将反应器壳体内部的内压力调节到大约大气压。
在两个盖板13之间延伸有内管9，该内管是衬管。由内管9界定的柱形空间与下盖板13邻接地形成入口区域5'并且与上盖板13邻接地形成出口区域5"。入口区域5'和出口区域5"分别被螺旋控温体8'包围，通过螺旋控温体8'可以加热或冷却所述区域5，5'。
在入口区域5'和出口区域5"之间延伸有处理区5，该处理区5被加热螺旋管8包围，以便将处理区5加热到处理温度。
下盖板13和上盖板13分别具有间隙12，通过该间隙可以将带状的连续的基底2输送进入并且又离开反应器壳体空腔。在盖板13的外部具有扩散屏障10。该扩散屏障10由多个间隙限定体组成，通过该间隙限定体可以调节间隙的间隙宽度，基底2通过该间隙可以被输送进入或被输送离开反应器壳体。扩散屏障10还具有进气开口，通过该进气开口可以将冲洗气体导入两个间隙限定体之间的间隙。
在面向处理区5的两个盖板13中的每一个的内侧上均具有多个阻隔热传递的器件14，15，16，17和多个用于导引基底2的导引元件11。
在该实施例中，通过反射板14，15，16，17形成阻隔从处理区5到盖板3的热传递的器件14，15，16，17。
对于图2至6所示的第一实施例，反射板14，15，16，17由薄板构成，该薄板具有基本上圆形的轮廓并且这样地布置在入口区域5'或出口区域5"中，使得其表面横向于基底的传输方向定向。反射板14，15，16，17借助间隔套筒18相互间隔。每个反射板14，15，16，17由两部分组成。这两部分分别是其间留有一个间隙19的半圆形部件，基底2可以被输送穿过该间隙19。第一反射板17借助多个间隔套筒18与盖板13间隔第一距离。第二反射板16借助间隔套筒18与第一反射板17相间隔。第三反射板15借助间隔套筒18与第二反射板16相间隔。第四反射板14通过间隔套筒18与第三反射板15相间隔。第一和第二反射板16，17具有基本上相当于内管9的内径的直径，而第三反射板15具有更小的直径。第三反射板15到第二反射板16的距离也小于第二反射板16到第一反射板17的距离，该距离大致相当于第一反射板17到盖板13的距离。第四反射板14到第三反射板15的距离又小于第三反射板15到第二反射板16的距离。
对于该实施例，所有的反射板14，15，16，17都具有径向狭缝20。这些径向狭缝20的狭缝宽度大致相当于反射板14，15，16，17的材料厚度。
此外，在每个反射板14，15，16，17中具有第一钻孔22，棒或管件可以穿过该第一钻孔22，在棒或管件上固定有反射板14，15，16，17。所述管件可以是一种管件，进气口6通过这种管件被馈送气体或者这种管件与出气口7相连。但也可以是仅具有导引反射板14，15，16，17作用的导引杆。
设有第二钻孔21，其直接地邻近反射板14，15，16，17的每个部分的直线边缘。这些第二钻孔21用于容纳前述的棒状的导引元件11。该棒由陶瓷材料制成。棒可以以其端面在一侧支撑在盖板13上，在另一侧支撑在第四反射板14上。设有尤其三个成对地对置的导引元件11。两个导引元件11分别布置在基底2的两个边缘上。第三对导引元件11布置在基底中间，在边缘之间的中央。
反射板14，15，16，17可以是相同形状的屏蔽板。通过反射板14，15，16，17或屏蔽板可以阻隔从处理区5到入口12或出口12'的热传递。
图7至14示出屏蔽板14，15或反射板14，15的第二实施例。阻隔从处理区5到入口区域5'或出口区域5”的热传递的器件尤其是反射元件14，15或屏蔽元件14，15。第二实施例的阻隔热传递的器件由两个板14，15组成，这两个板在顶点线14'，15'上弯曲大致90度的角度。两个板14，15在顶点线14'，15'上相互连接。为此，设有连接条24，该连接条24使顶点线14'，15'彼此保持一定的距离，从而在顶点线14'，15'之间形成间隙19，基底2可以传输通过该间隙。
相互连接的反射板或屏蔽板14，15形成热传递阻隔元件，该热传递阻隔元件基本上填满内管9的横截面面积。
每个反射板或屏蔽板14，15的两个翼板通过间隔套筒18相互连接。套筒的两端部可以牢固地与翼板之一连接。杆件或管件穿过该套筒，在该杆件或管件上阻隔热传递的器件可移动或者该杆件或管件使阻隔热传递的器件位置固定。
图7还示出在对置的盖板13之间延伸的杆件25，该杆件25嵌在阻隔热传递的器件的凹部23中。
入口区域5'和/或出口区域5"可以分别设有正好一个阻隔热传递的器件。
卷轴3，3'可以由电动机驱动。为了使导入反应器1中的基底2转向，设有第一转向滚轮4，为了使离开反应器壳体1的基底2转向，设有第二转向滚轮4'。
在入口区域5和出口区域5中具有与盖板13紧邻的气体冲洗区26。在该区中，借助未示出的进气口将惰性气体引入反应器壳体的空腔。
图15至22涉及本发明的另一方面。
在入口侧和出口侧，基底处理装置1的空腔分别被盖板113，113'封闭。盖板113，113'具有间隙开口，基底2穿过该间隙开口。在盖板各自的外侧上，盖板113，113'具有分别由两个间隙限定体110，110'；l11，111'构成的装置。间隙限定体110，110'；l11，111'具有彼此面对的间隙限界面或间隙壁115，115'，其彼此间隔大致0至5mm。间隙宽度w最大为2mm。
在入口侧和出口侧上沿间隙的输送方向依次分别布置有两个分别由两个间隙限定体110，110'；l11，111'构成的装置，从而基底在进入基底处理装置1时必须通过这些装置中的两个并且在离开基底处理装置1时同样通过这些装置中的两个。关于间隙限定体110，111的这些装置的设计方案，参考图15至21。
间隙限定体110，111的每个装置具有两个彼此形状相同的间隙限定体110，111。它们在组装状态下具有彼此面对的间隙限界壁115，115'，间隙112在该间隙限界壁115，115'之间延伸。间隙限界壁115，115'由钢制的、尤其不锈钢制成的基体114，114'构成。该实施例是纵长形的基体114，114'，其延伸方向横向于基底2的传输方向。
基体114，114'的与间隙限界壁115，115'相对置的背面具有槽形的凹部，该凹部分别形成气体分配室117，117'。平行于间隙限界壁115，115'延伸的气体分配室117，117'的底部具有多个均匀布置的钻孔，该钻孔形成出气口116，116'，该出气口116，116'连通间隙限界壁115，从而它形成出气面。形成气体分配室117的凹处的开口被环槽119，119'围绕，在环槽119，119'中嵌有密封线118，118'、例如O型圈，以便通过遮盖件120，120'遮盖气体分配室117，117'，该遮盖件120，120'借助紧固螺钉固定在基体114，114'上。借助与遮盖件120，120'连接的供气管路124，124'可以将冲洗气体供给到气体分配室117中。
间隙限界壁115，115'形成出气面。出气面具有纵长形的形状，其中，出气面115，115'的延伸方向横向于基底2的传输方向延伸。在该实施例中，在出气面115，115'的两个彼此对置的端部上，出气面115，115'的窄边端部与相同定向的倾斜面121，121'；122，122'邻接。第一倾斜面121，121'向上倾斜大致10度，而第二倾斜面122，122'向下倾斜大致10度。两个倾斜面121，121'；122，122'在彼此平行的平面中延伸。
两个间隙限定体110，111这样地彼此叠置，使得第二间隙限定体111的第一倾斜面121'平放在第一间隙限定体110的第二倾斜面122，并且第二间隙限定体111的第二间隙限界面122'平放在第一间隙限定体110的第一倾斜面121上。通过沿图21中用S表示的方向的移动，倾斜面121，121'；122，122'可以紧靠地沿着彼此滑动并且相对移动。结果，两个间隙限定体110，111不仅在位于间隙平面中的方向上，而且还在横向于间隙平面的方向上移动，使得间隙宽度w可以从图20中所示的最小间隙宽度w变化为图21中所示的最大间隙宽度w'。一个间隙限定体110相对于另一个间隙限定体111位移的位移方向倾斜于间隙限界壁115，115'的面法线或间隙平面地指向。
为了灵敏地调节间隙宽度w，w'，设有调节螺钉123，所述调节螺钉分别拧入间隙限定体110，111的宽边的螺纹孔128，128'中。调节螺钉123的头部作用在相应的另一个间隙限定体111的侧壁上，从而通过对调节螺钉123的旋转调节可以调节间隙宽度w，w'。优选在基体114，114'的两个窄边上分别布置有两个调节螺钉123，通过所述调节螺钉123不仅能够调节间隙宽度w，w'，而且还能够固定间隙宽度w，w'，因为对置的螺钉沿相反方向作用。
螺纹孔127，127'位于第一倾斜面121，121'的内部。螺纹孔127，127'的轴线沿间隙壁115，115'的面法线的方向沿延伸。在第二倾斜面122，122'中具有用于使固定螺钉125，125'穿过的长孔126，该固定螺钉125，125'可以拧入内螺纹127，127'，以便将两个间隙面121，122，121'，122'彼此夹紧。
附图标记130，130'表示耦连构件，通过该耦连构件使两对间隙限定体110，110'；111，111'这样地相互耦连，使得相应对的间隙112彼此对准。
上述实施方式用于阐述在申请中整体包含的发明，该发明至少通过以下特征组合分别独立地扩展了现有技术，其中，两个、更多或全部的特征也可以相互组合，即：
一种设备，其特征在于，在所述处理区5与入口12之间和/或在所述处理区5与出口12'之间布置有阻隔热传递的器件14，15，16，17，通过所述阻隔热传递的器件减小从所述处理区5到入口12或出口12’的热传递。
一种设备，其特征在于，所述阻隔热传递的器件14，15，16，17设计为一个或多个热辐射防护罩和/或反射器和/或由扁平体构成，所述扁平体横向于传输方向或者相对于传输方向倾斜地延伸，和/或所述扁平体具有一个横截面面积，该横截面面积填充与所述处理区5邻接的入口区域5'或出口区域5"的大于75％、优选大于80％或大于90％的空着的横截面面积，在所述入口区域或出口区域中布置有所述阻隔热传递的器件14，15，16，17。
一种设备，其特征在于，由板件制成的阻隔热传递的器件14，15，16，17构成狭缝20和/或用于杆件11或管件6，7的通孔22，和/或所述阻隔热传递的器件14，15，16，17可移动地支承在所述杆件11或管件6，7上和/或被进气口6的管件或出气口7的管件穿过，和/或所述阻隔热传递的器件14，15，16，17由两个部分组成，在这两个部分之间留有用于使所述基底2穿过的间隙19。
一种设备，其特征在于，多个阻隔热传递的器件14，15，16，17沿传输方向依次布置和/或通过间隔器件彼此保持间距和/或具有彼此不同大小的反射面。
一种设备，其特征在于，一个或多个阻隔热传递的器件14，15，16，17是圆形构造的、一件式或多件式的扁平体，和/或一个或多个阻隔热传递的器件14，15，16，17是设计成十字形的扁平体，和/或一个或多个阻隔热传递的器件14，15，16，17由两个围绕顶点线14’，15’弯曲的扁平体14，15构成，这种扁平体14，15在顶点线14’，15'上在形成用于使基底2穿过的间隙19的情况下彼此连接和/或两个扁平体14，15通过连接条24彼此连接以便形成用于使基底2穿过的间隙19。
一种设备，其特征在于，在所述反应器壳体1内的直接与入口12邻接的入口区域5'和/或直接与出口12’邻接的出口区域5"中布置有用于导引基底2的多个导引元件11。
一种设备，其特征在于，设有布置在壳体1内的入口区域5'和/或出口区域5"中的用于导引基底2的多个导引元件11，和/或用于导引基底2的导引元件11直接与所述入口12或出口12’邻接地在所述壳体1的空腔中延伸。
一种设备，其特征在于，用于导引基底2的导引元件11由杆件构成，所述杆件沿传输方向延伸并且紧挨着所述阻隔热传递的器件14，15，16，17的两个部分之间的间隙19布置，和/或所述杆件由阻隔热传递的器件14，15，16，17承载和/或穿过阻隔热传递的器件14，15，16，17的钻孔21。
一种设备，其特征在于，缝隙状的入口12和/或缝隙状的出口12'被惰性气体冲洗，从第一卷轴3展开的并且在第二卷轴3'上卷绕的并且持续地被输送通过处理区5的基底2穿过缝隙状的入口12和/或缝隙状的出口12'，和/或所述反应器壳体1具有圆柱形的形状并且所述入口12和/或出口12'布置在所述反应器壳体1的端面之一上。
一种设备，其特征在于，所述基底2的穿过反应器壳体1的传输方向是竖向，和/或所述基底2通过布置在反应器壳体1的下侧的入口12进入所述反应器壳体1和/或从布置在反应器壳体1的上侧的出口12'处离开所述反应器壳体1，和/或在所述反应器壳体1的空腔的入口区域5'和/或出口区域5"中布置进气口6和出气口7，使得气流从下向上指向地经过所述处理室5。
一种设备，其特征在于，两个间隙限定体110，110'；111，111'的确定间隙宽度w的间距是可调节的。
一种设备，其特征在于，所述间隙限定体110，110'，111，111'彼此间形状相同地设计。
一种设备，其特征在于，所述间隙限定体110，110'；111，111'的各自基体114，114'的、构成间隙112的限界壁的表面115，115'都具有连通所述间隙112的多个出气口116，116'，其中尤其规定，这些出气口116，116'由钻孔形成，所述钻孔将布置在所述间隙限定体110，110'；111，111'内的气体分散体积117，117'与所述间隙112相连，其中尤其规定，多个出气口116，116'以规则的布置方式喷头状地分布在所述表面115，115'上，其中尤其规定，这些出气口116，116'布置成沿传输方向并排的多列、尤其至少四列。
一种设备，其特征在于，各两对间隙限定体110，110'；111，111'沿尤其平坦的、带状的基底2的传输方向依次布置。
一种设备，其特征在于，第一间隙限定体110，110'具有第一倾斜面121，所述第一倾斜面121贴靠在第二间隙限定体111，111'的第二倾斜面122'上，和/或第一间隙限定体110，110'具有第二倾斜面122，所述第二倾斜面122贴靠在第二间隙限定体111，111'的第一倾斜面121'上，其中，所述间隙限定体110，110'；111，111'为了调节间隙宽度w能够沿间隙延伸方向S、尤其横向于基底2的传输方向地移动，以便通过第一和第二倾斜面121，121'；122，122'的彼此滑动而改变间隙宽度w。
一种设备，其特征在于，设有用于调节间隙宽度w的调节螺钉123，其中，尤其垂直于间隙限界面115，115'延伸的侧壁具有内螺纹128，128'，调节螺钉123的螺纹杆被拧入所述内螺纹128，128'中，所述调节螺钉的头部贴靠在相应的另一个间隙限定体110，110'；111，111'的侧壁上。
一种设备，其特征在于，所述间隙限定体110，110'；111，111'的基体114，114'具有长孔126，126'，紧固螺钉125，125'穿过所述长孔126，126'，所述紧固螺钉125，125'拧入相应的另一个间隙限定体110，110'；111，111'的内螺纹127，127'中，以便相互贴靠的倾斜面121，121'；122，122'相互挤压，其中尤其规定，所述长孔126和/或内螺纹127，127'分别布置在倾斜面121，121'，122，122'的区域内。
一种设备，其特征在于，所述间隙宽度w在0至5mm的范围内可无极地调节，和/或所述倾斜面121，121'；122，122'相对于间隙延伸方向或间隙延伸平面的角度在5至40度之间或5至20度之间的范围内、优选在9至11度之间的范围内。
一种按照前述权利要求之一所述的设备在基底处理装置1上的应用，分别在所述基底处理装置1的两个彼此背离的侧面上应用所述设备，其中，从第一卷轴3拉出的基底2通过由至少两个间隙限定体110，110'；111，111'组成的第一装置进入所述基底处理装置1的处理室5中，在所述处理室5中所述基底被石墨烯、碳纳米管或其它层覆层，所述基底从由至少两个间隙限定体110，110'；111，111'组成的第二装置离开并且在第二卷轴3'上卷绕。
所有公开的特征(本身及其相互组合)都有发明意义或发明价值。在本申请的公开文件中，所属/附属的优先权文本(在先申请文件)的公开内容也被完全包括在内，为此也将该优先权文本中的特征纳入本申请的权利要求书中。从属权利要求的特征即使没有相应权利要求的技术特征也都是对于现有技术有独立发明意义或价值的改进设计，尤其可以这些从属权利要求为基础提出分案申请。在每个权利要求中提供的发明可以附加地具有一个或多个在前述说明中、尤其设有附图标记和/或在附图标记列表中提供的技术特征。本发明也涉及一些设计形式，其中，在前述说明书中提到的个别技术特征不能实现，尤其就此可被识别出对于各个应用目的是不必要的或者通过其它技术上可同样实现的器件可被替代。
附图标记清单
1 基底处理装置、反应器壳体
2 基底
3 卷轴
3' 卷轴
4 转向滚轮
4' 转向滚轮
5 处理区
5' 入口区域
5" 出口区域
6 进气口
6' 供气管路
7 出气口
7' 排气管路
8 加热螺旋管
8' 加热螺旋管
9 衬管
10 扩散屏障
11 导引元件
12 入口、间隙
12' 出口、间隙
13 盖板
14 第四反射板、顶点元件
14' 顶点线
15 第三反射板、顶点元件
15' 顶点线
16 第二反射板
17 第一反射板
18 间隔套筒
19 间隙
20 间隙
21 钻孔
22 钻孔、穿孔
23 凹部
24 连接条
25 杆件
26 气体冲洗区
110 间隙限定体
110' 间隙限定体
111 间隙限定体
111' 间隙限定体
112 间隙
113 盖板
113' 盖板
114 基体
114' 基体
115 间隙壁(出气面)
115' 间隙壁(出气面)
116 出气口
116' 出气口
117 气体分配室
117' 气体分配室
118 密封线
118' 密封线
119 环槽
119' 环槽
120 遮盖件
120' 遮盖件
121 倾斜面
121' 倾斜面
122 倾斜面
122' 倾斜面
123 调节螺钉
124 供气管路
124' 供气管路
125 固定螺钉
125' 固定螺钉
126 长孔
126' 长孔
127 螺纹孔、内螺纹
127' 螺纹孔、内螺纹
128 螺纹孔、内螺纹
128' 螺纹孔、内螺纹
129 凹部
130 耦连构件
130' 耦连构件
w 间隙宽度
w' 间隙宽度
S 间隙延伸方向

Claims (16)

1.一种用于在带状的连续的基底(2)上沉积石墨烯、碳纳米管或其它含碳的层的设备，所述基底(2)通过入口(12)进入反应器壳体(1)并且通过出口(12’)离开反应器壳体(1)，所述基底(2)沿传输方向从入口(12)经过布置在所述反应器壳体(1)中的、由控温装置(8)调温的处理区(5)被传输到出口(12’)，其中，在所述处理区(5)与入口(12)之间和/或在所述处理区(5)与出口(12')之间布置有阻隔热传递的器件(14，15，16，17)，通过所述阻隔热传递的器件减小从所述处理区(5)到入口(12)或出口(12’)的热传递，其中，所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)设计为横向于传输方向或者相对于传输方向倾斜地延伸的扁平体，其特征在于，所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)具有钻孔(22)，杆件或管件穿过所述钻孔，所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)固定在所述杆件或管件上。
2.按照权利要求1所述的设备，其特征在于，所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)是反射器，所述反射器具有扁平体的形状。
3.按照权利要求1所述的设备，其特征在于，所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)由板件制成并且具有狭缝(20)。
4.按照前述权利要求之一所述的设备，其特征在于，所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)设计为扁平体，所述扁平体具有一个横截面面积，该横截面面积填充与所述处理区(5)邻接的入口区域(5')或出口区域(5")的大于75％、大于80％或大于90％的空着的横截面面积，在所述入口区域或出口区域中布置有所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)。
5.按照权利要求3所述的设备，其特征在于，所述狭缝(20)和/或钻孔(22)构造为，使得所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)可移动地支承在所述杆件或管件上和/或被进气口的管件或出气口的管件穿过，和/或所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)由两个部分组成，在这两个部分之间留有用于使所述基底(2)穿过的间隙(19)。
6.按照权利要求1所述的设备，其特征在于，多个阻隔热传递的器件(14，15，16，17)沿传输方向依次布置和/或通过间隔器件彼此保持间距和/或具有彼此不同大小的反射面。
7.按照权利要求1所述的设备，其特征在于，一个或多个阻隔热传递的器件(14，15，16，17)是圆形构造的、一件式或多件式的扁平体，和/或一个或多个阻隔热传递的器件(14，15，16，17)是设计成十字形的扁平体，和/或一个或多个阻隔热传递的器件(14，15，16，17)由两个围绕顶点线(14’，15’)弯曲的扁平体构成，这种扁平体在顶点线(14’，15')上在形成用于使基底(2)穿过的间隙(19)的情况下彼此连接和/或两个扁平体通过连接条(24)彼此连接以便形成用于使基底(2)穿过的间隙(19)。
8.按照权利要求1所述的设备，其特征在于，在所述反应器壳体(1)内的直接与入口(12)邻接的入口区域(5')和/或直接与出口(12’)邻接的出口区域(5")中布置有用于导引基底(2)的多个导引元件，这些导引元件设计为沿传输方向延伸的杆件。
9.按照权利要求8所述的设备，其特征在于，这些导引元件直接与所述入口(12)或出口(12’)邻接地在所述反应器壳体(1)的空腔中延伸。
10.按照权利要求8所述的设备，其特征在于，所述导引元件紧挨着所述阻隔热传递的器件(14，15，16，17)的两个部分之间的间隙(19)布置，和/或所述杆件由阻隔热传递的器件(14，15，16，17)承载。
11.按照权利要求1所述的设备，其特征在于，缝隙状的入口(12)和/或缝隙状的出口(12')被惰性气体冲洗，从第一卷轴(3)展开的并且在第二卷轴(3')上卷绕的并且持续地被输送通过处理区(5)的基底(2)穿过缝隙状的入口(12)和/或缝隙状的出口(12')，和/或所述反应器壳体(1)具有圆柱形的形状并且所述入口(12)和/或出口(12')布置在所述反应器壳体(1)的端面之一上。
12.按照权利要求1所述的设备，其特征在于，所述基底(2)的穿过反应器壳体(1)的传输方向是竖向，和/或所述基底(2)通过布置在反应器壳体(1)的下侧的入口(12)进入所述反应器壳体(1)和/或从布置在反应器壳体(1)的上侧的出口(12')处离开所述反应器壳体(1)，和/或在所述反应器壳体(1)的空腔的入口区域(5')和/或出口区域(5")中布置进气口和出气口，使得气流从下向上指向地经过所述处理区 。
13.一种用于将基底(2)引入或引出基底处理装置的设备，所述设备具有具备第一基体(114)的第一间隙限定体(110)，其中，所述第一基体(114)具有平坦的第一表面(115)、第一倾斜面(121)和第二倾斜面(122)，其中，所述第一倾斜面(121)和第二倾斜面(122)通过平坦的第一表面(115)相互连接；并且所述设备还具有具备第二基体(114')的第二间隙限定体(111)，其中，所述第二基体(114')具有平坦的第二表面(115')、第三倾斜面(121')和第四倾斜面(122')，其中，所述第三倾斜面(121')和第四倾斜面(122')通过平坦的第二表面(115')相互连接；
其中，所述第一倾斜面(121)和第四倾斜面(122')位于共同的平面内，并且所述第二倾斜面(122)和第三倾斜面(121')位于共同的平面内；
其中，平坦的第一表面(115)和平坦的第二表面(115')通过间隙(112)以间隙宽度彼此间隔；
其中，所述第一倾斜面(121)与第四倾斜面(122')相贴靠，并且所述第二倾斜面(122)与第三倾斜面(121')相贴靠；
其中，这两个间隙限定体(110，110')沿所述第一倾斜面(121)、第二倾斜面(122)、第三倾斜面(121')和第四倾斜面(122')的倾斜方向能够移动以便调节间隙宽度。
14.按照权利要求13所述的设备，其特征在于，所述间隙限定体(110，110'，111，111')彼此间形状相同地设计。
15.按照权利要求13所述的设备，其特征在于，这些平坦的表面(115，115')都具有连通所述间隙(112)的多个出气口(116，116')，和/或这些出气口(116，116')由钻孔形成，所述钻孔将布置在所述间隙限定体(110，110'；111，111')内的气体分散体积(117，117')与所述间隙(112)相连，和/或多个出气口(116，116')以规则的布置方式喷头状地分布在所述表面(115，115')上，和/或这些出气口(116，116')布置成沿传输方向并排的多列或至少四列。
16.一种按照权利要求13所述的设备在基底处理装置上的应用，分别在所述基底处理装置的两个彼此背离的侧面上应用所述设备，其中，从第一卷轴(3)拉出的基底(2)通过由至少两个间隙限定体(110，110'；111，111')组成的第一装置进入所述基底处理装置的处理室中，在所述处理室中所述基底被石墨烯、碳纳米管或其它层覆层，所述基底从由至少两个间隙限定体(110，110'；111，111')组成的第二装置离开并且在第二卷轴(3')上卷绕。
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