CN112542504B - Oled显示面板及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种OLED显示面板及其制作方法。OLED显示面板包括:基板;像素单元,设置在所述基板上,其中,所述像素单元包括薄膜晶体管和发光层,所述发光层与所述薄膜晶体管电连接,所述发光单元包括阳极、发光层和阴极;触摸感测电容器,所述触摸感测电容器包括第一金属电极和第二金属电极,所述第一金属电极与所述阴极位于同一层;封装层,所述封装层覆盖所述阴极和所述第一金属电极;以及绝缘层,所述绝缘层位于所述封装层上,并且所述绝缘层覆盖设置于所述封装层上的所述第二金属电极。本发明公开的OLED显示面板的结构能够简化制作工艺和降低制作成本。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种OLED显示面板及其制作方法。
背景技术
设置有触摸器件的OLED显示面板可用在触摸屏手机、车载导航仪、平板电脑以及工控设备中。在OLED显示面板中,触摸器件为用户提供触摸界面,使用户能够直观且方便地直接向装置输入数据或指令,而不是使用诸如按钮、键盘或鼠标等传统的数据输入方式。因此,触摸器件必须能够感测用户执行的触摸并准确地确定触摸坐标。目前,常用的触摸器件为电容式触摸感测器件,其基本原理是,当用户触碰到触摸器件时,触摸器件上的电容发生变化,从而能够确定触摸坐标。
目前,传统的基于电容触摸感测的OLED显示面板如图1所示,图中的OLED显示面板100包括:基板101、像素单元102、触摸感测电容器103、阻隔层104、缓冲层105、第一栅极绝缘层106、第二栅极绝缘层107、介电层108、平坦化层109、像素定义层110、封装层111、第一绝缘层112和第二绝缘层113。像素单元102包括薄膜晶体管1021和像素单元1022,其中,薄膜晶体管1021包括有源层1021a、第一栅极1021b、第二栅极1023c、源极1021d和漏极1021e,发光单元1022包括阳极1022a、发光层1022b和阴极1022c。触摸感测电容器103包括第一金属电极1031和第二金属电极1032。
在上述现有技术中,基于电容触摸感测的OLED显示面板通常是在封装层上依次形成作为触摸感测电容器的第一金属电极、第一绝缘层、作为触摸感测电容器的第二金属电极和第二绝缘层。该结构的OLED显示面板的制作工艺复杂,制作成本较高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种OLED显示面板及其制作方法,以解决在制备包含触摸器件的OLED显示面板时制作工艺复杂的问题。
为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:
一种OLED显示面板,其特征在于,所述OLED显示面板包括:
基板;像素单元,设置在所述基板上,其中,所述像素单元包括薄膜晶体管和发光单元,所述发光单元与所述薄膜晶体管电连接,所述发光单元包括阳极、发光层和阴极;触摸感测电容器,所述触摸感测电容器包括第一金属电极和第二金属电极,所述第一金属电极与所述阴极位于同一层;封装层,所述封装层覆盖所述阴极和所述第一金属电极;以及绝缘层,所述绝缘层位于所述封装层上,并且所述绝缘层覆盖设置于所述封装层上的所述第二金属电极。
在上述OLED显示面板中,所述阴极与所述第一金属电极间隔设置。
在上述OLED显示面板中,任意两个所述第一金属电极与所述第二金属电极之间的垂直距离相等。
在上述OLED显示面板中,所述触摸感测电容器在所述基板上的投影位于两个相邻的所述像素单元在所述基板上的投影之间。
在上述OLED显示面板中,所述触摸感测电容器中的所述第一金属电极和所述第二金属电极环绕所述像素单元。
在上述OLED显示面板中,所述触摸感测电容器在第一方向上至少包括两个第一条状子电容器,所述触摸感测电容器在第二方向上至少包括两个第二条状子电容器;至少两个所述第一条状子电容器与至少两个所述第二条状子电容器首尾相连。
一种OLED显示面板的制作方法,所述OLED显示面板的制作方法包括:
在基板上形成包括至少两个薄膜晶体管的薄膜晶体管器件层;在所述薄膜晶体管器件层上形成发光单元以及作为触摸感测电容器的第一金属电极,其中,所述发光单元与所述薄膜晶体管电连接;在所述发光单元以及所述第一金属电极上形成封装层,其中,所述封装层覆盖所述第一金属电极;在所述封装层上形成作为所述触摸感测电容器的第二金属电极;在所述封装层和所述第二金属电极上形成绝缘层,其中,所述绝缘层覆盖所述第二金属电极。
在上述OLED显示面板的制作方法中,所述在所述薄膜晶体管器件层上形成发光单元以及作为触摸感测电容器的第一金属电极的步骤包括:在所述薄膜晶体管器件层上形成一阳极层;图案化所述阳极层以形成阳极;在所述阳极上形成发光层;在所述发光层上形成第一金属层;图案化所述第一金属层以形成所述第一金属电极和阴极。
在上述OLED显示面板的制作方法中,所述图案化所述第一金属层以形成所述第一金属电极和阴极的步骤包括:利用激光切割所述第一金属层以形成所述第一金属电极和所述阴极。
在上述OLED显示面板的制作方法中,所述在所述封装层上形成作为触摸感测电容器的第二金属电极的步骤包括:在所述封装层上形成第二金属层;图案化所述第二金属层以形成所述第二金属电极。
相对于现有技术,本发明提供的OLED显示面板在形成发光单元的阴极的同时形成作为触摸感测电容器的第一金属电极;随后依次形成封装层、作为触摸感测电容器的第二金属电极以及绝缘层;本发明提供的OLED显示面板在进行制作时节省工艺步骤,有利于降低成本。
附图说明
为了更清楚地说明现有技术和本发明的实施例的技术方案,下面将对现有技术和本发明的实施例描述中所需要使用的附图作简单介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为传统的OLED显示面板的结构示意图;
图2为本发明实施例提供的OLED显示面板的结构示意图;
图3为本发明实施例提供的OLED显示面板的另一结构示意图;
图4为本发明实施例提供的OLED显示面板的俯视图;
图5为本发明实施例提供的OLED显示面板的俯视图的局部放大图;
图6为本发明实施例提供的OLED显示面板的俯视图的另一局部放大图;
图7为本发明实施例提供的OLED显示面板的另一俯视图;
图8为本发明实施例提供的OLED显示面板的另一俯视图的局部放大图;
图9为本发明实施例提供的OLED显示面板的制作方法的流程图;
图10为本发明实施例提供的OLED显示面板的发光单元的制作方法的流程图;
图11为本发明实施例提供的OLED显示面板的第二金属电极的制作方法的流程图。
具体实施方式
以下实施方式的说明是参考附加的图示,用以例示本发明可用以实施的特定方式。本发明所提到的[第一]、[第二]、[第三]、[第四]等序号用语并不代表任何顺序、数量或者重要性,只是用于区分不同的部分。本发明所提到的[上]、[下]、[左]、[右]等方向用语仅是参考附加图式的方向。因此,使用的序号用语和方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本发明。在图中,结构相似的单元是以相同标号表示。
本发明针对现有的包含触摸器件的OLED显示面板的制作工艺进行了改进,在制备OLED显示面板的阴极的同时制备了触摸感测电容器的第一金属电极,简化了OLED显示面板的制作工艺,降低了OLED显示面板的制作成本。
图2为本发明实施例提供的OLED显示面板的结构示意图。如图2所示,本发明提供一种OLED显示面板200,包括基板201、像素单元202、触摸感测电容器203、封装层211和绝缘层212。所述像素单元202包括薄膜晶体管2021和发光单元2022;所述触摸感测电容器203包括第一金属电极2031和第二金属电极2032。
具体的,所述基板201上依次层叠设置有阻隔层204、缓冲层205、第一栅极绝缘层206、第二栅极绝缘层207、介电层208、第一平坦化层209、像素定义层210、封装层211、绝缘层212。
所述缓冲层205上设置有多个像素单元202,所述像素单元202包括薄膜晶体管2021和发光单元2022。
所述薄膜晶体管2021包括:有源层2021a,设置在所述缓冲层205上;第一栅极2021b和第二栅极2021c,所述第一栅极2021b和所述第二栅极2021c设置在所述第一栅极绝缘层206上;源极2021d和漏极2021e,所述源极2021d和所述漏极2021e设置在所述介电层208上,所述第一平坦化层209覆盖所述源极2021d和所述漏极2021e。
所述发光单元2022包括:阳极2022a,设置在所述第一平坦化层209上,所述阳极2022a通过接触孔连接所述漏极2021e;发光层2022b,设置在所述阳极2022a上;阴极2022c,设置在所述发光层2022b上,所述阴极2022c覆盖所述发光层2022b;此外,所述阴极2022c为非整面结构。
所述触摸感测电容器203包括:第一金属电极2031和第二金属电极2032,所述第一金属电极2031与所述阴极2022c位于所述像素定义层210上;所述第一金属电极2031与所述阴极2022c的材料相同,因此,可以在像素定义层210上形成一金属层,图案化所述金属层以形成所述第一金属电极2031与所述阴极2022c。所述第一金属电极2031与所述阴极2022c同时制备,有利于简化工艺,节省制作时间和制作材料。
所述像素定义层210上设置有封装层211,所述封装层211覆盖所述第一金属电极2031与所述阴极2022c;所述第二金属电极2032设置在所述封装层211上。
所述封装层211上设置有绝缘层212,所述绝缘层212覆盖设置在所述封装层211上的所述第二金属电极2032。
所述第一金属电极2031和所述第二金属电极2032构成所述触摸感测电容器203;所述第一金属电极2031与所述阴极2022c位于所述像素定义层210上;所述第一金属电极2031与所述阴极2022c间隔设置。所述第一金属电极2031与所述阴极2022c之间存在间隙,所述间隙由所述封装层211的材料填充;所述封装层211的材料为绝缘材料,因此,所述第一金属电极2031与所述阴极2022c电绝缘。
作为一种改进,在垂直于所述基板201所在的平面的方向上,所述像素定义层210上设置有所述阴极2022c的部分的表面与所述像素定义层210上设置有所述第一金属电极2031的部分的表面错开,即,所述像素定义层210上设置有所述阴极2022c的部分的表面与所述像素定义层210上设置有所述第一金属电极2031的部分的表面不在同一平面上。进一步地,在垂直于所述基板201所在的平面的方向上,所述像素定义层210上设置有所述阴极2022c的部分的表面与所述像素定义层210上设置有所述第一金属电极2031的部分的表面之间至少相距所述阴极2022c的厚度或所述第一金属电极2031的厚度,这样,在平行于所述基板201所在的平面的方向上,所述阴极2022c与所述第一金属电极2031之间不存在重叠部分;此时,所述阴极2022c与所述第一金属电极2031不会形成寄生电容,因此,所述阴极2022c上的电荷不会对所述第一金属电极2031形成干扰,有利于确保所述触摸感测电容器203形成准确的触摸感测信号。
所述封装层211覆盖所述第一金属电极2031,所述第二金属电极2032位于所述封装层211上;所述第一金属电极2031的长度方向与所述第二金属电极2032的长度方向平行,所述第一金属电极2031的宽度方向与所述第二金属电极2032的宽度方向平行。任意两个位置上的所述第一金属电极2031与所述第二金属电极2032之间的垂直距离相等。
所述像素单元202位于所述缓冲层205上,所述触摸感测电容器203位于所述像素定义层210上,所述触摸感测电容器203设置在任意两个像素单元202之间,且触摸感测电容器203的第一金属电极2031与所述像素单元202的阴极2022c位于同一层。所述触摸感测电容器203在所述基板201上的投影位于两个相邻的所述像素单元202在所述基板201上的投影之间。
图3为本发明实施例提供的OLED显示面板的另一结构示意图。本发明的OLED显示面板200的另一结构与上述图2的结构相似,不同之处在于:
本发明OLED显示面板200的另一结构在第一平坦化层209上增设漏极连接部2021f和阴极连接部2021g;所述漏极连接部2021f与漏极2021d和发光单元中的阳极2022a通过接触孔连接,所述漏极2021d通过所述漏极连接部2021f为所述阳极2022a提供第一电源电压(VDD)和数据信号(Vdata)。在所述漏极连接部2021f的同一层中,设置有一阴极连接部2021g,发光单元2022中的阴极2022c与所述阴极连接部2021g通过接触孔连接,所述阴极连接部2021g为所述阴极2022c提供第二电源电压或接地电压(VSS),使发光层2022b能正常发光。所述漏极连接部2021f与所述阴极连接部2021g的材料相同,因此,所述漏极连接部2021f与所述阴极连接部2021g可以同时制备。在所述第一平坦化层209上增设第二平坦化层213,所述第二平坦化层213覆盖所述漏极连接部2021f与所述阴极连接部2021g。
图4为本发明实施例提供的OLED显示面板的俯视图。所述OLED显示面板200包括设置在基板上的多个像素单元202和触摸感测电容器203;所述触摸感测电容器203沿第一方向和第二方向设置;所述第一方向为y方向顺时针倾斜45度,所述第二方向为x方向顺时针倾斜45度。所述触摸感测电容器203中的所述第一金属电极2031和所述第二金属电极2032环绕任一所述像素单元202。所述触摸感测电容器203电连接感应电极Rx和驱动电极Tx(图中未显示)。当人体触摸OLED显示面板200时,所述感应电极Rx和所述驱动电极Tx可以根据触摸感测电容器203在不同位置上电容的变化产生触摸信号并将该触摸信号传输至触摸芯片。
图5为本发明实施例提供的OLED显示面板的俯视图的局部放大图。OLED显示面板200的基板上的触摸感测电容器203环绕所述像素单元202;在任一所述像素单元202中,所述触摸感测电容器203在第一方向上至少包括两个第一条状子电容器203a,所述触摸感测电容器203在第二方向上至少包括两个第二条状子电容器203b;至少两个所述第一条状子电容器203a与至少两个所述第二条状子电容器203b首尾相连,从而所述触摸感测电容器203形成矩形结构。在所述触摸感测电容器203形成的矩形结构中,该矩形结构可以是封闭型的矩形结构(如图5所示),也可以是半封闭型的矩形结构(如图6所示)。
图7为本发明实施例提供的OLED显示面板的另一俯视图,图8为本发明实施例提供的OLED显示面板的另一俯视图的局部放大图。本发明OLED显示面板200的另一俯视图与图4所示的俯视图相似,在基板上设置有像素单元202和触摸感测电容器203,所述触摸感测电容器203环绕任一所述像素单元202设置,形成网状分布结构。图8为图7所示的俯视图的局部放大图,与图4不同的是:图7所示的俯视图中,触摸感测电容器203未覆盖的区域为圆形。进一步地,所述触摸感测电容器203未覆盖的区域可以为椭圆形、三角形或其他多边形。所述触摸感测电容器203环绕任一所述像素单元202,所述触摸感测电容器203的覆盖区域为闭合区域。所述触摸感测电容器203电连接感应电极Rx和驱动电极Tx(图中未显示)。当人体触摸OLED显示面板200时,所述感应电极Rx和所述驱动电极Tx可以根据触摸感测电容器203在不同位置上电容的变化产生触摸信号并将该触摸信号传输至触摸芯片。
本发明提供一种OLED显示面板的制作方法,请参阅图9;其中,具体的流程如下:
步骤901、在基板上形成包括至少两个薄膜晶体管的薄膜晶体管器件层。在一些实施例中,所述基板可以为柔性衬底,例如聚酰亚胺。在形成所述薄膜晶体管器件层之前,在所述基板上先后形成一阻隔层和一缓冲层,所述阻隔层和所述缓冲层对所述OLED显示面板起到缓冲和保护的作用。
进一步地,形成所述薄膜晶体管器件层可以包括以下步骤:在所述缓冲层205上形成一有源层,利用准分子激光晶化方法去多晶硅化所述有源层。在所述有源区上先后形成第一栅极绝缘层、第一栅极、第二栅极绝缘层和第二栅极。在所述第二栅极上形成介电层,通过蚀刻工艺在所述介电层上形成第一接触孔和第二接触孔。在所述介电层上形成源漏极层,通过光罩方法图案化所述源漏极层形成源极和漏极。所述光罩方法包括:在预图案化的材料层上涂覆光刻胶层、根据预设图案选择性曝光所述光刻胶层、使用显影剂使所述光刻胶层的图像显影、蚀刻显影后的材料层以及在蚀刻完成后去除材料层上残留的光刻胶。所述第一接触孔和所述第二接触孔贯穿介电层、第二栅极绝缘层和第一栅极绝缘层,接触孔内填充与所述源极和所述漏极相同的材料。所述源极和所述漏极与所述有源层电连接。
步骤902、在所述薄膜晶体管器件层上形成发光单元以及作为触摸感测电容器的第一金属电极,其中,所述发光单元与所述薄膜晶体管电连接。
步骤903、在所述发光单元以及所述第一金属电极上形成封装层,其中,所述封装层覆盖所述第一金属电极。所述封装层采用薄膜封装(Thin Film Encapsulation,TFE)方法形成,所述封装层用于防止水汽入侵所述薄膜晶体管和所述发光单元而造成器件的功能失效。
步骤904、在所述封装层上形成作为所述触摸感测电容器的第二金属电极。
步骤905、在所述封装层和所述第二金属电极上形成绝缘层,其中,所述绝缘层覆盖所述第二金属电极。
图10为本发明实施例提供的OLED显示面板的发光单元的制作方法的流程图,其中,具体的流程如下:
步骤1001、在所述薄膜晶体管器件层上形成一阳极层。具体的,所述阳极层在所述平坦化层上形成,所述阳极层的材料可以为氧化铟锡(Indium Tin Oxides,ITO)或银(Ag)。
步骤1002、图案化所述阳极层以形成阳极。具体的,通过光罩方法图案化所述阳极层形成所述阳极。所述阳极通过第三接触孔电连接所述漏极;所述第三接触孔贯穿所述平坦化层,所述第三接触孔内填充与所述阳极相同的材料。
步骤1003、在所述阳极上形成发光层。具体的,在形成所述发光层之前,在所述阳极上形成像素定义层,所述像素定义层覆盖所述阳极。可选地,图案化所述像素定义层,以使所述像素定义层设置所述发光层的表面与所述像素定义层设置所述第一金属电极的表面不在同一平面上,即,经过后续步骤形成的所述阴极与所述第一金属电极不在同一平面上。在所述像素定义层设置所述发光层的表面形成第四接触孔,在所述第四接触孔内形成所述发光层。所述发光层位于所述阳极的上方,且所述发光层下表面与所述的上表面接触。所述发光层可以发射红光、绿光或蓝光。
步骤1004、在所述发光层上形成第一金属层。所述第一金属层覆盖所述发光层和所述像素定义层。所述第一金属层为阴极常用材料,例如铝(Al)、铝镁合金(Al-Mg)或镁银合金(Mg-Ag)。
步骤1005、图案化所述第一金属层以形成所述第一金属电极和阴极。具体的,通过激光切割第一金属层形成所述第一金属电极和所述阴极。此时,在平行于所述基板所在的平面的方向上,所述阴极与所述第一金属电极之间不存在重叠部分,因此,所述阴极与所述第一金属电极不会形成寄生电容。当所述像素定义层不经过图案化而直接形成所述第四接触孔时,所述阴极与所述第一金属电极在同一平面上;此时,所述阴极与所述第一金属电极在平行于所述基板所在的平面的方向上存在间隙。可选地,当所述像素定义层经过图案化后再形成所述第四接触孔时,所述阴极与所述第一金属电极不在同一平面上;此时,所述阴极与所述第一金属电极在垂直于所述基板所在的平面的方向上至少相距所述阴极的厚度或所述第一金属电极的厚度。所述第一金属电极与所述阴极材料相同。所述阴极覆盖所述发光层。
图11为本发明实施例提供的OLED显示面板的第二金属电极的制作方法的流程图,其中,具体的流程如下:
步骤1101、在所述封装层上形成第二金属层。具体的,所述第二金属层的材料可以为ITO或钛铝合金(Ti-Al-Ti)。
步骤1102、图案化所述第二金属层以形成所述第二金属电极。具体的,通过光罩方法图案化所述第二金属层以形成第二金属电极。
本发明提出的OLED显示面板的制作方法,将作为触摸感测电容器的第一金属电极与发光单元的阴极同层制备,从而节省了触摸感测电容器的膜层制作工序,进一步节省制作材料和制程时间,同时也减小了OLED显示面板的厚度;解决了现有技术中含有触摸器件的OLED显示面板的生产过程中,需要增加多层电极层,在制程上相对复杂,生产节拍较长的技术问题。
综上所述,虽然本发明实施例的详细介绍如上,但上述实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (10)
1.一种OLED显示面板,其特征在于,所述OLED显示面板包括:
基板;
像素单元,设置在所述基板上,其中,所述像素单元包括薄膜晶体管和发光单元,所述发光单元与所述薄膜晶体管电连接,所述发光单元包括阳极、发光层和阴极;
触摸感测电容器,所述触摸感测电容器包括第一金属电极和第二金属电极,所述第一金属电极与所述阴极位于同一层;
像素定义层,所述第一金属电极和所述阴极位于所述像素定义层上;
封装层,所述封装层覆盖所述阴极和所述第一金属电极;以及
绝缘层,所述绝缘层位于所述封装层上,并且所述绝缘层覆盖设置于所述封装层上的所述第二金属电极;其中
在垂直于所述基板所在的平面的方向上,所述像素定义层上设置有所述阴极的部分的表面与所述像素定义层上设置有所述第一金属电极的部分的表面之间至少相距所述阴极的厚度或所述第一金属电极的厚度。
2.根据权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述阴极与所述第一金属电极间隔设置。
3.根据权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,任意两个所述第一金属电极与所述第二金属电极之间的垂直距离相等。
4.根据权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述触摸感测电容器在所述基板上的投影位于两个相邻的所述像素单元在所述基板上的投影之间。
5.根据权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述触摸感测电容器中的所述第一金属电极和所述第二金属电极环绕所述像素单元。
6.根据权利要求5所述的OLED显示面板,其特征在于,所述触摸感测电容器在第一方向上至少包括两个第一条状子电容器,所述触摸感测电容器在第二方向上至少包括两个第二条状子电容器;
至少两个所述第一条状子电容器与至少两个所述第二条状子电容器首尾相连。
7.一种OLED显示面板的制作方法,其特征在于,所述OLED显示面板的制作方法包括:
在基板上形成包括至少两个薄膜晶体管的薄膜晶体管器件层;
在所述薄膜晶体管器件层上形成发光单元以及作为触摸感测电容器的第一金属电极,其中,所述发光单元与所述薄膜晶体管电连接;
在所述发光单元以及所述第一金属电极上形成封装层,其中,所述封装层覆盖所述第一金属电极;
在所述封装层上形成作为所述触摸感测电容器的第二金属电极;
在所述封装层和所述第二金属电极上形成绝缘层,其中,所述绝缘层覆盖所述第二金属电极;
在所述薄膜晶体管器件层上形成发光单元以及作为触摸感测电容器的第一金属电极的步骤包括:
在所述薄膜晶体管器件层上依次形成阳极、像素定义层、发光层和阴极,所述阳极、所述发光层和所述阴极构成所述发光单元;其中
在垂直于所述基板所在的平面的方向上,所述像素定义层上设置有所述阴极的部分的表面与所述像素定义层上设置有所述第一金属电极的部分的表面之间至少相距所述阴极的厚度或所述第一金属电极的厚度。
8.根据权利要求7所述的OLED显示面板的制作方法,其特征在于,所述在所述薄膜晶体管器件层上形成发光单元以及作为触摸感测电容器的第一金属电极的步骤包括:
在所述薄膜晶体管器件层上形成一阳极层;
图案化所述阳极层以形成阳极;
在所述阳极上形成发光层;
在所述发光层上形成第一金属层;
图案化所述第一金属层以形成所述第一金属电极和阴极。
9.根据权利要求8所述的OLED显示面板的制作方法,其特征在于,所述图案化所述第一金属层以形成所述第一金属电极和阴极的步骤包括:
利用激光切割所述第一金属层以形成所述第一金属电极和所述阴极。
10.根据权利要求7所述的OLED显示面板的制作方法,其特征在于,所述在所述封装层上形成作为触摸感测电容器的第二金属电极的步骤包括:
在所述封装层上形成第二金属层;
图案化所述第二金属层以形成所述第二金属电极。
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