CN112517104A - 一种大米抛光工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种大米抛光工艺,具体涉及粮食再加工领域,复位各设备,将水箱设定为自动状态;监测室内温度,根据监测的室内温度设定水箱温度;监测水箱温度,并开始抛光机;启动风机,等待15秒,主机电机进入星三角降压启动,同时启动补水程序;监测电机的电流强度,运转260秒大米流程为0,则终止程序;启动电磁喷雾阀全部喷水;抛光机进入停止程序时,待整机电流降为65A后,运转30秒排空抛光室,先关抛光机主机电机,然后关闭风机,关闭电源。本发明可提高大米抛光的质量和效率,且自动化高。
Description
技术领域
本发明属于一种大米抛光工艺,具体涉及粮食再加工领域。
背景技术
大米抛光是现代粮食加工生产优质精制大米必不可少的一道工序。它是将精制大米送入专用设备内,经过水及抛光剂的喷淋和磨擦,并在一定温度下,米粒表面的淀粉胶质化,从而保证了大米粒的光洁。通过大米抛光技术,能够清除米粒表面浮糠,使米粒表面光洁细腻,提高大米的外观品质以及大米的商品价值;大米通过抛光工序,进一步清除了大米加工后残存的糠粉,延长了大米的货架期。现有的抛光工艺自动化和抛光效果仍有待进一步提高
针对上述不足,现需要一种大米抛光工艺,可提高大米抛光的质量和效率,且自动化高。
发明内容
本发明的目的是提供一种大米抛光工艺,可提高大米抛光的质量和效率,且自动化高。
本发明提供了如下的技术方案:
一种大米抛光工艺,具体如下,复位各设备,将水箱设定为自动状态;监测室内温度,根据监测的室内温度设定水箱温度;监测水箱温度,并开始抛光机;启动风机,等待15秒,主机电机进入星三角降压启动,同时启动补水程序;监测电机的电流强度,运转260秒大米流程为0,则终止程序;启动电磁喷雾阀全部喷水;抛光机进入停止程序时,待整机电流降为65A后,运转30秒排空抛光室,先关抛光机主机电机,然后关闭风机,关闭电源。
优选的,电流电流强度与大米流量成正比,电机空转是电流为65A,电流强度为65A至70A,大米流量为少,电流强度为大于75A,大米流量为多;运转260秒大米流程为0。
优选的,大米流量低于1立方米/小时,则启动电磁喷雾阀部分喷水;大米流量大于1立方米/小时,则启动电磁喷雾阀全部喷水
优选的,水温对应环境温度如下,室温小于0℃时,其中实时室温为t,水温为t+5摄氏度;室温大于或等于0摄氏度,水箱温度设定在0摄氏度,。
优选的,硬件部分包括中央处理模块模块和温度模块,及设置于水箱内的温度传感模块,设置于电动机上的单相交流电流传感模块和单相交流电压传感模块,模块间通过变送模块及A/D转换模块与温度模块的数据输入端相联。
优选的,中央处理模块模块的输出端通过驱动模块分别与电磁喷雾阀,主机电动机,风机,水泵相联;
本发明的有益效果:
本发明可有效提高大米的抛光效率,提高生产的效率和提高抛光质量,且本工艺自动化程度高,大大降低人力成本。
具体实施方式
实施例1:
一种大米抛光工艺,具体如下,复位各设备,将水箱设定为自动状态;监测室内温度,根据监测的室内温度设定水箱温度,水温对应环境温度如下,室温小于0℃时,其中实时室温为t,水温为t+5摄氏度;室温大于或等于0摄氏度,水箱温度设定在0摄氏度;监测水箱温度,并开始抛光机;启动风机,等待30秒,主机电机进入星三角降压启动,同时启动补水程序;监测电机的电流强度,电流电流强度与大米流量成正比,电机空转是电流为65A,电流强度为65A至70A,大米流量为少,电流强度为大于75A,大米流量为多;运转260秒大米流程为0,则终止程序;大米流量低于1立方米/小时,则启动电磁喷雾阀部分喷水;大米流量大于1立方米/小时,则启动电磁喷雾阀全部喷水;抛光机进入停止程序时,待整机电流降为65A后,运转30秒排空抛光室,先关抛光机主机电机,然后关闭风机,关闭电源。硬件部分包括中央处理模块模块和温度模块,及设置于水箱内的温度传感模块,设置于电动机上的单相交流电流传感模块和单相交流电压传感模块,模块间通过变送模块及A/D转换模块与温度模块的数据输入端相联。中央处理模块模块的输出端通过驱动模块分别与电磁喷雾阀,主机电动机,风机,水泵相联。
实施例2:
一种大米抛光工艺,具体如下,复位各设备,将水箱设定为自动状态;监测室内温度,根据监测的室内温度设定水箱温度,水温对应环境温度如下,室温小于2℃时,其中实时室温为t,水温为t+10摄氏度;室温大于或等于2摄氏度,水箱温度设定在2摄氏度;监测水箱温度,并开始抛光机;启动风机,等待15秒,主机电机进入星三角降压启动,同时启动补水程序;监测电机的电流强度,电流电流强度与大米流量成正比,电机空转是电流为65A,电流强度为65A至70A,大米流量为少,电流强度为大于75A,大米流量为多;运转260秒大米流程为0,则终止程序;大米流量低于1立方米/小时,则启动电磁喷雾阀部分喷水;大米流量大于1立方米/小时,则启动电磁喷雾阀全部喷水;抛光机进入停止程序时,待整机电流降为65A后,运转30秒排空抛光室,先关抛光机主机电机,然后关闭风机,关闭电源。硬件部分包括中央处理模块模块和温度模块,及设置于水箱内的温度传感模块,设置于电动机上的单相交流电流传感模块和单相交流电压传感模块,模块间通过变送模块及A/D转换模块与温度模块的数据输入端相联。中央处理模块模块的输出端通过驱动模块分别与电磁喷雾阀,主机电动机,风机,水泵相联。
实施例3:
一种大米抛光工艺,具体如下,复位各设备,将水箱设定为自动状态;监测室内温度,根据监测的室内温度设定水箱温度,水温对应环境温度如下,室温小于0℃时,其中实时室温为t,水温为t+5摄氏度;室温大于或等于0摄氏度,水箱温度设定在0摄氏度;监测水箱温度,并开始抛光机;启动风机,等待15秒,主机电机进入星三角降压启动,同时启动补水程序;监测电机的电流强度,电流电流强度与大米流量成正比,电机空转是电流为65A,电流强度为65A至70A,大米流量为少,电流强度为大于75A,大米流量为多;运转180秒大米流程为0;则终止程序;大米流量低于1.5立方米/小时,则启动电磁喷雾阀部分喷水;大米流量大于1.5立方米/小时,则启动电磁喷雾阀全部喷水;抛光机进入停止程序时,待整机电流降为65A后,运转30秒排空抛光室,先关抛光机主机电机,然后关闭风机,关闭电源。硬件部分包括中央处理模块模块和温度模块,及设置于水箱内的温度传感模块,设置于电动机上的单相交流电流传感模块和单相交流电压传感模块,模块间通过变送模块及A/D转换模块与温度模块的数据输入端相联。中央处理模块模块的输出端通过驱动模块分别与电磁喷雾阀,主机电动机,风机,水泵相联。
以上仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种大米抛光工艺,其特征在于:复位各设备,将水箱设定为自动状态;监测室内温度,根据监测的室内温度设定水箱温度;监测水箱温度,并开始抛光机;启动风机,等待15秒,主机电机进入星三角降压启动,同时启动补水程序;监测电机的电流强度,运转260秒大米流程为0,则终止程序;启动电磁喷雾阀全部喷水;抛光机进入停止程序时,待整机电流降为65A后,运转30秒排空抛光室,先关抛光机主机电机,然后关闭风机,关闭电源。
2.根据权利要求1所述的一种大米抛光工艺,其特征在于:电流电流强度与大米流量成正比,电机空转是电流为65A,电流强度为65A至70A,大米流量为少,电流强度为大于75A,大米流量为多;运转260秒大米流程为0。
3.根据权利要求2所述的一种大米抛光工艺,其特征在于:大米流量低于1立方米/小时,则启动电磁喷雾阀部分喷水;大米流量大于1立方米/小时,则启动电磁喷雾阀全部喷水。
4.根据权利要求1所述的一种大米抛光工艺,其特征在于:水温对应环境温度如下,室温小于0℃时,其中实时室温为t,水温为t+5摄氏度;室温大于或等于0摄氏度,水箱温度设定在0摄氏度。
5.根据权利要求4所述的一种大米抛光工艺,其特征在于:硬件部分包括中央处理模块模块和温度模块,及设置于水箱内的温度传感模块,设置于电动机上的单相交流电流传感模块和单相交流电压传感模块,模块间通过变送模块及A/D转换模块与温度模块的数据输入端相联。
6.根据权利要求4所述的一种大米抛光工艺,其特征在于:中央处理模块模块的输出端通过驱动模块分别与电磁喷雾阀,主机电动机,风机,水泵相联。
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Publications (1)
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