CN112469644A - 用于提高传送机上的非铁金属的稳定性的系统和方法 - Google Patents

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Abstract

一种传送系统，诸如用于包括非铁金属的材料的传送系统，包括传送带和稳定器。所述传送带包括传送表面，并且适于传送所述传送表面上的所述材料。所述稳定器被配置为将稳定力施加到所述传送带上的所述材料上，使得所述材料在被传送时是稳定的。一种使传送带上的材料稳定的方法包括：在所述传送带的所述传送表面上接收所述材料；使用所述传送带以传送速度传送所述材料；以及使用稳定器将稳定力施加到所述材料上，使得至少一些所述材料的竖直位移在所述传送速度下被抑制和/或最小化。

Description

用于提高传送机上的非铁金属的稳定性的系统和方法
相关申请的交叉引用
本申请要求在2018年7月9日提交且标题为“SYSTEMS AND METHODS FOR IMPROVINGTHE STABILITY OF NON-FERROUS METALS ON A CONVEYOR”的美国临时申请号62/695,254的权益，所述申请的内容在此以全文引用的方式并入。
发明领域
本申请涉及传送带，并且更具体地，涉及被配置为载运混合材料的传送带。
背景技术
在许多行业中使用传送带来传送不同种类的材料。作为一个示例，在金属回收中使用传送带。在金属回收期间，可将传送带与涡电流分离器一起使用，在先前已经移除了铁金属之后，所述涡电流分离器使用强大的磁场使非铁金属与废料分离。所述涡电流分离器通常作为传送机的端辊而提供，并且传送带传送混合废料，使得在所述传送带的端部处，非铁金属被从传送带向前抛，而非金属由于重力而跌落传送带。传统上，具有涡电流分离器的传送带以低速（例如，约1 m/s-3 m/s）运行，使得传送带上的材料是稳定的。为了实现生产环境中的更高的吞吐量，传送带速度必须高（例如，达到约10 m/s-20 m/s）。然而，在此类较高速度下，传送带上的材料是不稳定的，并且在传送带上跳动或动来动去。此类移动降低了涡电流分离器的分离效能，因为物件可能会跳出由涡电流分离器产生的磁场的范围，且/或材料可能会堆积起来（即，材料不是单层），这更难以分离。
发明内容
在此专利中使用的术语“发明（invention）”、“发明（the invention）”、“此发明（this invention）”和“本发明（the present invention）”既定在广义上指代此专利的所有主题和以下专利权利要求书。含有这些术语的语句应理解为不限制本文描述的主题或者限制以下专利权利要求书的含义或范围。由此专利涵盖的本发明的实施方案是由以下权利要求书限定，而不是由此发明内容限定。此发明内容是本发明的各种实施方案的高度概括并且介绍了一些概念，在以下具体实施方式部分进一步描述所述概念。此发明内容无意识别所要求保护的主题的关键或实质特征，并且无意孤立地用于确定所要求保护的主题的范围。应通过参考此专利的整个说明书、任何或所有附图和每项权利要求的适当部分来理解主题。
根据各个示例，一种传送系统包括传送带和稳定器。所述传送带包括传送表面，并且所述传送带适于传送所述传送表面上的所述材料。所述稳定器被配置为将稳定力施加到所述传送带上的所述材料上。
在一些示例中，所述传送系统包括第一辊和位于所述第一辊的下游的第二辊。在某些方面，所述传送带被可移动地支撑在所述第一辊和所述第二辊上，并且所述第二辊位于所述传送系统的端部处。在各种情况下，所述第二辊包括涡电流分离器辊，所述涡电流分离器辊被配置为将磁场施加到所述传送带上的所述材料上。在一些情况下，邻近于所述第二辊而提供所述稳定器，使得在所述第二辊处将稳定力施加到材料上。根据某些示例，在所述第二辊的上游提供所述稳定器，使得在所述第二辊的上游将稳定力施加到材料上。在各个示例中，所述第一辊和所述第二辊被配置为使传送带以约10 m/s至约20 m/s的传送速度移动，并且稳定器被配置为将稳定力施加到传送带上的材料上，使得在所述传送速度下使所述材料稳定。
在某些情况下，所述稳定器被配置为将稳定力施加到材料的非铁金属上。在一些方面，所述稳定器包括位于所述传送表面上方的至少一个磁体，并且所述至少一个磁体被配置为将向下的磁场作为稳定力施加到所述材料上。在各个示例中，所述至少一个磁体是永磁体。
在某些方面，所述至少一个磁体是电磁体。在一些方面，所述电磁体是AC电磁体。在各种情况下，所述电磁体是能够调整的，使得所述向下的磁场是能够调整的。根据各个示例，磁场的强度、磁场的频率或电磁体的中心轴线相对于传送表面的角度中的至少一者是能够调整的。在一些情况下，所述至少一个磁体包括多个磁体。在各种情况下，所述稳定器还包括具有所述多个磁体的第一子集的第一区域和具有所述多个磁体的第二子集的第二区域，并且由所述第一子集的磁体中的至少一者生成的磁场不同于由所述第二子集的磁体中的至少一者生成的磁场。根据一些示例，所述稳定器包括触发区域和稳定区域，并且所述至少一个磁体位于所述稳定区域中。在各种情况下，每个磁体是能够独立控制的。
在一些方面，所述传送系统包括位于稳定器的上游的传感器以及控制器。在各种情况下，所述传感器被配置为检测传送表面上的材料的至少一个非铁金属块的位置，并且所述控制器被配置为激活所述多个磁体中的与传送表面上的所述位置相对应的至少一个磁体。
根据各个方面，所述稳定器被配置为在稳定区域中施加稳定力，所述稳定力包括所述稳定区域的上游部分处的上游稳定力和所述稳定区域的下游部分处的下游稳定力，并且所述下游稳定力不同于所述上游稳定力。在某些情况下，所述下游稳定力大于所述上游稳定力。
在各个示例中，所述传送系统包括位于所述传送表面下方的磁通量引导器，使得所述传送带在所述至少一个磁体与所述通量引导器之间通过。在一些示例中，所述传送系统包括控制器，所述控制器被配置为基于传送带的传送速度来控制稳定器。在各个方面，所述传送系统包括传感器，所述传感器被配置为检测传送表面上的材料的至少一个非铁金属块的位置，并且所述控制器被配置为基于传送表面上的位置来控制所述稳定器。
在某些示例中，所述稳定器包括至少一个气流生成器，所述至少一个气流生成器被配置为在预定气流水平处将处于预定速率的气流提供到传送表面上。
在一些情况下，所述稳定器包括位于传送带的传送表面下方的至少一个电磁体以及位于传送带与至少一个电磁体之间的铜板。在某些方面，所述至少一个电磁体被配置为在所述铜板上施加主磁场，使得在所述铜板的顶部与材料的非铁块之间产生吸引力。
在各个示例中，所述稳定器被配置为将稳定力施加到传送带上的材料的非铁金属上，并且使所述非铁金属稳定，使得非铁金属在被传送时相对于传送表面的位置得以维持。
根据某些示例，一种使传送带上的材料稳定的方法包括：在所述传送带的所述传送表面上接收所述材料；使用所述传送带以传送速度传送所述材料；以及使用稳定器将稳定力施加到所述材料上，使得至少一些所述材料的竖直位移（例如，跳动）被抑制和/或最小化。在某些情况下，至少一些所述材料相对于传送表面的位置在传送速度下得以维持。
在一些示例中，所述传送速度是约1 m/s至约20 m/s。在某些情况下，所述传送速度是约10 m/s至约20 m/s。在各个示例中，至少一些所述材料包括非铁金属，并且对所述非铁金属施加稳定力。
在一些方面，所述稳定器包括至少一个磁体，并且所述稳定力包括磁场。根据各个方面，所述至少一个磁体包括电磁体。在各个示例中，所述方法包括通过控制磁场的强度、磁场的频率或磁场的方向中的至少一者来控制所述磁场。
在某些示例中，所述方法包括在施加稳定力之前检测传送表面上的材料的非铁金属的位置。在一些情况下，施加稳定力包括在传送表面上的所述位置处施加所述稳定力。在各个方面，所述稳定器包括多个磁体，所述磁体的第一子集被布置在第一区域中，并且所述磁体的第二子集被布置在第二区域中，施加稳定力包括通过所述第一磁体子集施加第一磁场并且通过所述第二磁体子集施加第二磁场，并且所述第二磁场不同于所述第一磁场。
在本公开中描述的各种实现方式可包括附加的系统、方法、特征和优势，所述附加的系统、方法、特征和优势可能不一定在本文明确公开，但在审查了以下详细描述和附图之后对于本领域技术人员来说将是显而易见的。期望所有此类系统、方法、特征和优势包括于本公开内并且受到所附权利要求书保护。
附图说明
绘示下图的特征和部件以强调本公开的一般原理。出于一致性和清晰起见，可通过匹配的参考符号来标示在整个附图中的对应的特征和部件。
图1是根据本公开的各方面的传送系统的侧视图。
图2是根据本公开的各方面的另一传送系统的侧视图。
图3是图2的传送系统的俯视图。
图4是根据本公开的各方面的另一传送系统的侧视图。
图5是图4的传送系统的俯视图。
图6是根据本公开的各方面的另一传送系统的侧视图。
图7是图6的传送系统的稳定器的示意图。
图8是根据本公开的各方面的另一传送系统的侧视图。
图9是图8的传送系统的俯视图。
图10是根据本公开的各方面的另一传送系统的侧视图。
图11是根据本公开的各方面的另一传送系统的侧视图。
图12是根据本公开的各方面的另一传送系统的侧视图。
图13是根据本公开的各方面的另一传送系统的侧视图。
图14是根据本公开的各方面的另一传送系统的侧视图。
具体实施方式
在这里特定地描述本发明的实施方案的主题以满足法定要求，但此描述不一定限制权利要求书的范围。所要求保护的主题可通过其他方式体现，可包括不同的元素或步骤，并且可与其他现有的技术或未来的技术结合使用。此描述不应理解为暗示各个步骤或元素中或之间的任何特定次序或布置，除非当明确地描述单独步骤的次序或元素的布置时。方向性参考，诸如“向上”、“向下”、“顶部”、“底部”、“左边”、“右边”、“前方”和“后方”以及其他意在是指部件和方向所参考的图（或多个图）中绘示和描述的定向。
图1绘示了用于传送材料的示例性传送机系统100，所述材料包括（但不限于）包含金属材料102和非金属材料104的混合材料。在本示例中，传送机系统100是用于金属回收的分离器系统，使得可使金属材料102与非金属材料104分离。然而，将了解，在需要时，传送机系统100可用于各种其他背景或环境中。
如图1中绘示，传送机系统100包括传送带106和稳定器108。传送带106具有传送表面107并且被可移动地支撑在第一辊110和第二辊112上。在各个示例中，通过驱动系统114驱动第一辊110，使得传送带106在由箭头116指示的方向上移动。第二辊112是位于第一辊110的下游的端辊或导辊。在其他示例中，可通过驱动系统114驱动第二辊112以使传送带106移动。在各个示例中，第二辊112是使金属材料128与非金属材料104分离的涡电流分离器（“ECS”）辊。在各个方面，第二辊112可具有充当惰轮的外部壳体，并且磁转子在单独的一对轴承上旋转，并且以高得多的RPM被驱动，以便生成诱发涡电流所需的磁场。在这些示例中，第二辊112将磁场施加到传送带106上的材料上，所述磁场致使金属材料102被从传送带106向前抛，而非金属材料104由于重力而跌落传送带106。在某些示例中，第二辊112位于第一辊110的下游。虽然未绘示，但依据传送机系统100的所要长度，可在第一辊110与第二辊112之间和/或在第一辊110的上游提供任何数目个中间辊。作为一个非限制性示例，传送机系统100可具有三个辊。另外，将了解，所述辊不需要线性对准。举例来说，在一些情况下，所述系统可包括竖直对准的两个辊（例如，另一辊与第二辊112竖直对准）。
在各个示例中，使传送带106以传送速度在辊110、112上移动。在一些示例中，传送速度（即，传送带106的速度）是低传送速度。在这些示例中，所述低传送速度是约1 m/s至约3 m/s，诸如约1 m/s、约2 m/s和或约3 m/s。在低传送速度下，传送带106上的材料是相对稳定的，意味着每件材料相对于传送带106的位置得以大体上维持，并且材料在被传送时不会相对于传送带106移动。换句话说，至少一些所述材料的竖直位移被抑制和/或最小化。
在其他示例中，为了实现生产环境中的较高的吞吐量，传送速度是高传送速度。在某些情况下，所述高传送速度是约3 m/s至约20 m/s，诸如约3 m/s、约4 m/s、约5 m/s、约6m/s、约7 m/s、约8 m/s、约9 m/s、约10 m/s、约11 m/s、约12 m/s、约13 m/s、约14 m/s、约15m/s、约16 m/s、约17 m/s、约18 m/s、约19 m/s和/或约20 m/s。在其他示例中，所述高传送速度可大于20 m/s。在高传送速度下，传送带106上的材料不稳定，并且可能会在所述材料被传送时跳动或另外在传送带106上动来动去。当传送机系统100是分离器系统的部件并且包括ECS辊112时，此类跳动和移动会降低所述系统的分离效能。例如，在高传送速度下，诸如非铁金属的金属材料102可能会跳动出或移出由ECS辊112产生的磁场的范围之外，使得它们未与非金属材料104分离。另外或可替代地，在高传送速度下，材料可能会堆叠在自身之上，使得所述材料不会对ECS辊112呈现为单层，这会降低磁场使金属材料102与非金属材料104分离的效能。
传送机系统100的稳定器108被配置为将稳定力（由图1中的箭头118表示）施加到传送带106上的材料上，使得在高传送速度下使至少一些所述材料在传送带106上稳定。在一些任选的示例中，稳定器108还可在低传送速度下将稳定力118施加到材料上，但在其他示例中不需要这样。如在下文详细论述，在一些情况下，稳定器108包括位于传送表面107上方的一个或多个磁体，并且稳定力118是磁场。在其他示例中，稳定器108包括一个或多个磁体，其中铜板低于传送表面107下方，并且稳定力118是磁场。在其他任选的示例中，稳定器108是至少一个气流生成器，所述至少一个气流生成器被配置为提供处于各种预定速率的气流，并且稳定力118是气流。还可利用多种类型的稳定器的各种组合。作为一个非限制性示例，所述稳定器可包括磁体和气流生成器两者。可利用各种其他合适的稳定器和稳定力。
如图1中绘示，在一些示例中，当传送系统100是分离器系统时，稳定器108位于ECS辊112的上游，使得在将来自ECS辊112的磁场施加到传送带106上的材料上之前将稳定力118施加到所述材料上。在这些示例中，金属材料102可被稳定器108稳定在传送带106上，使得可通过ECS辊112使金属材料102与非金属材料有效分离。在其他示例中，如图10中绘示，稳定器108可与ECS辊112基本上对准和/或相邻。在这些示例中，在ECS辊112施加磁场以对材料进行分拣时，稳定力118可使传送带106上的材料（例如，金属材料102）稳定。在其他示例中，可在需要时在相对于ECS辊112和/或传送带106的各种其他位置处提供稳定器108。在一些示例中，传送系统100包括一个以上稳定器108。
参看图1，在一些示例中，稳定器108是电磁体120。电磁体是临时磁体，意味着它们仅在电流穿过它们时保持它们的磁性。在某些情况下，所述电磁体是AC电磁体。虽然绘示了电磁体120，但在其他示例中，可使用其他类型的永磁体或临时磁体，诸如旋转或移动的永磁体，以提供移动磁场（例如，参见图4和图5）。在一些示例中，电磁体120是电磁线圈。虽然在图1中绘示了一个电磁体120，但不应将电磁体的数目（或其他类型的磁体或磁体组合）视为对本公开进行限制。例如，如在下文参考图2和图3详细描述，稳定器108可包括多个电磁体、永磁体或其各种组合。在一些示例中，电磁体120位于传送表面107上方，并且电磁体的磁力是稳定力118。
电磁体120连接至电源，所述电源向电磁体120供应电流。当向电磁体120供应电流时，电磁体120产生磁场作为稳定力118。当传送机系统100是分离器系统时，来自电磁体120的稳定力118可使传送表面107上的金属材料102稳定。当停止至电磁体的电流时，稳定力118消失。通过使用电磁体120作为稳定器108，可快速地改变或调整稳定力118以改变或调整传送带106上的金属材料102的稳定性。在下文描述用于调整稳定力118的示例性技术，并且可在需要时单独地或以任何组合使用所述技术。此类技术可由控制器222（参见图2）执行或由操作者手动地执行。
在一些示例中，通过控制提供给电磁体120的通量来控制来自电磁体120的磁场（和因此稳定力118）。控制电流量包括（但不限于）控制或调整电磁体120的线圈的设计、增加或减小通量的频率、增加提供给电磁体120的通量以增加稳定力118和/或减小提供给电磁体120的通量以减小稳定力。
在一些示例中，调整稳定力118包括控制电流供应时间，所述电流供应时间是将电流从电源供应至电磁体120的持续时间。因为仅在向电磁体120提供电流时存在稳定力118，所以调整电流供应时间会调整向金属材料102施加稳定力118的时间量。在一些示例中，控制电流供应时间包括减小电流供应时间以减小向金属材料102施加稳定力118的时间量。在其他示例中，控制电流供应时间包括增加电流供应时间以增加向金属材料102施加稳定力118的时间量。
在某些示例中，调整稳定力118包括使提供给电磁体120的电流脉冲。使电流脉冲可包括以规则或不规则的模式使所提供的电流量交替、以规则或不规则的模式使激活或“开启”以及停用或“关闭”电流的周期交替，或调整电流的至少一个方面的其他期望的规则或不规则的模式。在各个示例中，使电流脉冲可将各种模式的稳定力118提供到金属材料102上。在一些示例中，调整稳定力118包括使稳定力118振荡。在各种情况下，调整稳定力118包括使磁场反向。在一些方面，使磁场反向包括改变电流流动方向。在其他示例中，调整稳定力118包括控制在电磁体120与传送带106之间的垂直距离。在某些示例中，调整稳定力118包括控制电磁体120相对于传送表面107的角定向（和因此磁场的角度）。在各个示例中，调整稳定力118包括控制电磁体120的形状或角度。
图2和图3绘示了传送系统200的另一示例。传送系统200基本上类似于传送系统100，不同之处在于稳定器108包括多个电磁体220A-M，并且每个电磁体220A-M被配置为施加稳定力118。具有多个电磁体220的稳定器108（或任何其他类型的稳定器）布置在稳定区域226（参见图3）中，所述稳定区域是将稳定力118施加到传送带106上的材料上的区域。在一些示例中，稳定区域226沿着传送带106的一部分延伸，并且在其他示例中，稳定区域226沿着传送材料的传送带106的整个长度延伸。
每个电磁体220A-M可基本上类似于电磁体120。电磁体的位置和/或数目不应视为对本公开进行限制。如图2中绘示，在各个示例中，每个电磁体通信地连接至控制器222。在某些情况下，控制器222独立地控制每个电磁体220，但在其他示例中不需要这样。在某些示例中，控制器222可基于传送带106的传送速度、传送表面107上的金属材料102（或其他目标材料）的位置或定位或各种其他因素来控制每个电磁体220。
在一些方面，对稳定器108进行控制，使得来自一个电磁体（例如，电磁体220A）的稳定力118不同于另一电磁体（例如，电磁体220B）的稳定力118。作为一个非限制性示例，对电磁体220进行控制，使得来自上游电磁体的稳定力118的强度小于来自下游电磁体的稳定力118的强度。换句话说，在一些非限制性示例中，金属材料102上的稳定力118的强度在下游方向上斜升。在这些示例中，斜变的稳定力118可允许金属材料102到达稳定器108下方并且通过所述稳定力118提供对金属材料102的更受控的稳定。在各个示例中，稳定器108包括沿着传送带106的包括多个电磁体的第一子集的第一区域和沿着传送带106的包括多个电磁体的第二子集的第二区域。在一些任选的示例中，来自所述第一区域中的电磁体中的至少一者的稳定力118不同于来自所述第二区域中的电磁体中的至少一者的稳定力118。在其他示例中，可通过控制电磁体220而将各种模式的稳定力118施加到金属材料102上。
如图2中绘示，在一些任选的示例中，可包括通量引导器224以增加稳定力118对金属材料102的效能。通量引导器224可以是各种合适的材料，包括（但不限于）叠层钢板。
图4和图5绘示了传送系统400的另一示例。传送系统400基本上类似于传送系统100和200，不同之处在于传送系统400的稳定器108是旋转磁体420，所述旋转磁体可以是永磁体。虽然绘示了一个旋转磁体420，但可利用任何数目个旋转磁体420。旋转磁体420通过在正向方向或反向方向（由图4中的箭头430指示）上旋转而向传送带上的材料施加磁场作为稳定力118。旋转磁体420能够选择性地在正向方向或反向方向上旋转以控制稳定力118。还可通过以下操作来控制稳定力118：相对于传送带106垂直地调整旋转磁体420，使得调整在旋转磁体420与传送带106之间的距离。在一些示例中，可通过控制旋转磁体420的旋转速度来控制稳定力118。传送系统400还包括两个通量引导器224。任选地在传送带下方提供一个通量引导器224，并且另一通量引导器224邻近于稳定器108并且位于所述稳定器的下游，使得不将水平力施加到材料并且所述通量具有回到转子的路径。通量引导器224的数目和/或位置不应视为对本公开进行限制。
图6和图7绘示了传送系统600的另一示例。传送系统600基本上类似于传送系统100、200和400，不同之处在于稳定器108包括电磁体620（具有所绘示的线圈），所述电磁体拥有具有顶点630的有角度的形状。在各个示例中，顶点630处的磁场的强度大于电磁体620的其他部分处的磁场的强度。在这些示例中，电磁体620提供从上游端632至顶点630斜升并且从顶点630至下游端634斜降的稳定力118。在一些示例中，此类斜变曲线可允许稳定器108使传送机106上的金属材料102逐渐稳定（在斜升部分期间），并且随后逐渐减小稳定力118以让材料在传送带106上继续。在一些方面，此类斜变曲线可提供使用稳定器108的改进的稳定。在其他示例中，可利用稳定力118的各种其他曲线或模式。
图8和图9绘示了基本上类似于传送系统200的传送系统800的另一示例。与传送系统200相比，传送系统800的稳定器108还包括用于检测传送表面107上的材料（例如，金属材料102）的位置的传感器836。在一些示例中，传感器836限定位于稳定区域226的上游的感测区域838（参见图9）。在其他示例中，感测区域838可与稳定区域226部分地或完全重叠。在各个示例中，控制器222被配置为基于由传感器836检测的金属材料102的位置来选择性地激活和/或控制电磁体220中的一者或多者。作为一个非限制性示例，在图9中，基于由传感器836检测的金属材料102的位置，控制器222已经激活了电磁体220D和220K（由“X”指示）以施加稳定力118。在某些示例中，电磁体220（或一般来说，稳定器108）中的一者或多者可处于停用状态，直到传感器836检测到传送带106上的诸如金属材料102的目标材料为止。在这些示例中，感测区域838可以是稳定器108的触发区域。
图10绘示了传送系统1000的另一示例，所述传送系统基本上类似于传送系统100，不同之处在于稳定器108与ECS辊112对准。
图11绘示了传送系统1100的另一示例，所述传送系统基本上类似于传送系统100，不同之处在于稳定器108包括位于传送表面107下方的电磁体120，并且在电磁体120与传送表面107之间提供了铜板1140。在这些示例中，电磁体120的磁场作用于铜板1140和传送表面107上的材料两者。作用于铜板1140的磁场在铜板1140的顶部与传送表面107上的金属材料102之间生成吸引力作为稳定力118，使得金属材料102稳定。
图12绘示了传送系统1200的另一示例，所述传送系统基本上类似于传送系统100，不同之处在于稳定器108包括空气生成器1242，所述空气生成器被配置为以预定速率提供气流，并且所述稳定力118是气流。
图13绘示了传送系统1300的另一示例，所述传送系统基本上类似于传送系统1200，不同之处在于空气生成器1242迫使空气以等于传送带的速度的速度在传送带的方向上行进。任选地，提供盖子1302，并且空气生成器1242在盖子1302与传送带之间迫动空气。
图14绘示了传送系统1400的另一示例，所述传送系统基本上类似于传送系统100，不同之处在于传送系统1400还包括帘子1402，所述帘子有助于使传送带上的材料在稳定器108之前定向。在某些示例中，帘子1402可以是用于使传送带上的材料在稳定器108之前定向的各种装置，包括（但不限于）单独悬挂的链条、橡胶条带、橡胶片材和/或适合于将跳动的材料引导回至传送带的任何其他物质或装置。
还公开了使传送系统的传送带106上的材料稳定的方法。在一些示例中，所述方法包括在传送带的传送表面上接收材料并且使用所述传送带以传送速度传送所述材料。所述方法包括使用稳定器108将稳定力118施加到所述材料上，使得至少一些所述材料的竖直位移被抑制和/或最小化。在某些情况下，至少一些所述材料相对于传送表面的位置在传送速度下得以维持。
在某些示例中，稳定器108起初处于停用状态，并且所述方法包括在所述传送速度是高传送速度时激活稳定器108。在其他示例中，所述方法包括在所述传送速度是低传送速度或高传送速度时激活稳定器108。
在各个示例中，所述方法包括控制稳定力118。在其中稳定器108是磁体的一些示例中，所述方法包括通过控制磁场的强度、磁场的频率或磁场的方向中的至少一者来控制稳定力118。在某些情况下，所述方法包括在施加稳定力118之前检测传送表面107上的材料的非铁金属的位置。在各个方面，施加稳定力118包括在传送表面107上的非铁金属的位置处施加稳定力118。
下文提供一批示例性示例，包括明确被列举为“EC”（示例性组合）的至少一些示例，从而提供对根据本文描述的概念的多种示例类型的附加的描述。这些示例不打算是互相排斥的、详尽的或具约束性的；并且本发明不限于这些示例性示例，而是涵盖在所发布的权利要求及其等效物的范围内的所有可能的修改和变化。
EC 1. 一种传送系统包括：传送带，所述传送带包括传送表面，所述传送带适于传送所述传送表面上的材料；以及稳定器，所述稳定器被配置为将稳定力施加到所述传送带上的所述材料上。
EC 2. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，所述传送系统还包括第一辊和位于所述第一辊的下游的第二辊，其中所述传送带被可移动地支撑在所述第一辊和所述第二辊上，并且其中所述第二辊位于所述传送系统的端部处。
EC 3. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中所述第二辊包括涡电流分离器辊，所述涡电流分离器辊被配置为将磁场施加到所述传送带上的所述材料上。
EC 4. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中邻近于所述第二辊而提供所述稳定器，使得在所述第二辊处将稳定力施加到材料上。
EC 5. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中在所述第二辊的上游提供所述稳定器，使得在所述第二辊的上游将稳定力施加到材料上。
EC 6. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中所述第一辊和所述第二辊被配置为使传送带以约10 m/s至约20 m/s的传送速度移动，并且其中稳定器被配置为将稳定力施加到传送带上的材料上，使得在所述传送速度下使所述材料稳定。
EC 7. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中所述稳定器被配置为将稳定力施加到所述材料的非铁金属上。
EC 8. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中所述稳定器包括位于所述传送表面上方的至少一个磁体，并且其中所述至少一个磁体被配置为将向下的磁场作为稳定力施加到所述材料上。
EC 9. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中所述至少一个磁体是永磁体，并且任选地其中所述永磁体能够相对于传送带垂直地进行调整，或者永磁体的旋转速度是能够调整的，以调整稳定力。
EC 10. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，所述传送系统还包括位于所述传送表面下方的磁通量引导器，使得所述传送带在所述至少一个磁体与所述磁通量引导器之间通过。
EC 11. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中所述至少一个磁体是电磁体。
EC 12. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中所述电磁体是能够调整的，使得向下的磁场是能够调整的。
EC 13. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中向下的磁场的强度、磁场的频率或电磁体的中心轴线相对于传送表面的角度中的至少一者是能够调整的。
EC 14. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中所述至少一个磁体包括多个磁体。
EC 15. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中所述稳定器还包括包含所述多个磁体的第一子集的第一区域和包含所述多个磁体的第二子集的第二区域，并且其中由所述第一子集的磁体中的至少一者生成的磁场不同于由所述第二子集的磁体中的至少一者生成的磁场。
EC 16. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中所述稳定器还包括触发区域和稳定区域，其中所述至少一个磁体位于所述稳定区域中。
EC 17. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中每个磁体是能够独立控制的。
EC 18. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，所述传送系统还包括：传感器，所述传感器位于所述稳定器的上游；以及控制器，其中所述传感器被配置为检测传送表面上的材料的至少一个非铁金属块的位置，并且其中所述控制器被配置为激活所述多个磁体中的与传送表面上的所述位置相对应的至少一个磁体。
EC 19. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中所述稳定器被配置为在稳定区域中施加稳定力，其中所述稳定力包括所述稳定区域的上游部分处的上游稳定力和所述稳定区域的下游部分处的下游稳定力，并且其中所述下游稳定力不同于所述上游稳定力。
EC 20. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中所述下游稳定力大于所述上游稳定力。
EC 21. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，所述传送系统还包括控制器，所述控制器被配置为基于传送带的传送速度来控制稳定器。
EC 22. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，所述传送机系统还包括传感器，所述传感器被配置为检测传送表面上的材料的至少一个非铁金属块的位置，并且其中所述控制器被配置为基于传送表面上的位置来控制所述稳定器。
EC 23. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中所述稳定器包括至少一个气流生成器，所述至少一个气流生成器被配置为在预定气流水平处将处于预定速率的气流提供到传送表面上。
EC 24. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中所述稳定器包括：至少一个电磁体，所述至少一个电磁体位于所述传送带的所述传送表面下方；以及铜板，所述铜板位于所述传送带与所述至少一个电磁体之间，其中所述至少一个电磁体被配置为对所述铜板施加主磁场，使得在所述铜板的顶部与材料的非铁块之间产生吸引力。
EC 25. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的传送系统，其中所述稳定器被配置为将稳定力施加到传送带上的材料的非铁金属上，并且其中使所述非铁金属稳定，使得在所述材料被传送时至少一些所述材料的竖直位移被抑制和/或最小化。
EC 26. 一种使传送带上的材料稳定的方法包括：在所述传送带的所述传送表面上接收所述材料；使用所述传送带以传送速度传送所述材料；以及使用稳定器将稳定力施加到所述材料上，使得在所述传送速度下至少一些所述材料的竖直位移被抑制和/或最小化。
EC 27. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的方法，其中所述传送速度是约1 m/s至约20 m/s。
EC 28. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的方法，其中所述传送速度是约10 m/s至约20 m/s。
EC 29. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的方法，其中至少一些所述材料包括非铁金属，并且其中对所述非铁金属施加所述稳定力。
EC 30. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的方法，其中所述稳定器包括至少一个磁体，并且其中所述稳定力包括磁场。
EC 31. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的方法，其中所述至少一个磁体包括电磁体。
EC 32. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的方法，所述方法还包括通过控制磁场的强度、磁场的频率或磁场的方向中的至少一者来控制所述磁场。
EC 33. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的方法，所述方法还包括在施加稳定力之前检测传送表面上的材料的非铁金属的位置。
EC 34. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的方法，其中施加所述稳定力包括在所述传送表面上的所述位置处施加所述稳定力。
EC 35. 根据前面的或后面的示例性组合中的任一者的方法，其中所述稳定器包括多个磁体，其中所述多个磁体的第一子集被布置在第一区域中，并且所述多个磁体的第二子集被布置在第二区域中，其中施加稳定力包括通过所述多个磁体的所述第一子集施加第一磁场并且通过所述多个磁体的所述第二子集施加第二磁场，并且其中所述第二磁场不同于所述第一磁场。
上述方面仅仅是实现方式的可能的示例，仅仅为了清楚地理解本公开的原理而进行陈述。可在基本上不脱离本公开的精神和原理的情况下对上述实施方案作出许多变化和修改。所有此类修改和变化意欲在本文包括于本公开的范围内，并且元素或步骤的单独的方面或组合的所有可能的权利要求意欲由本公开支持。另外，虽然在本文以及在所附权利要求书中采用了特定术语，但它们仅在通用和描述的意义上使用，并且不用于限制所描述的发明或以下权利要求。

Claims (20)

1. 一种传送系统，所述传送系统包括：
传送带，所述传送带包括传送表面，所述传送带适于传送所述传送表面上的材料；以及
稳定器，所述稳定器被配置为将稳定力施加到所述传送带上的所述材料上。
2.如权利要求1所述的传送系统，所述传送系统还包括第一辊和位于所述第一辊的下游的第二辊，其中所述传送带被可移动地支撑在所述第一辊和所述第二辊上，并且其中所述第二辊位于所述传送系统的端部处。
3.如权利要求2所述的传送系统，其中所述第二辊包括涡电流分离器辊，所述涡电流分离器辊被配置为将磁场施加到所述传送带上的所述材料上。
4.如权利要求2所述的传送系统，其中邻近于所述第二辊而提供所述稳定器，使得在所述第二辊处将所述稳定力施加到所述材料上。
5.如权利要求2所述的传送系统，其中在所述第二辊的上游提供所述稳定器，使得在所述第二辊的上游的位置处将所述稳定力施加到所述材料上。
6. 如权利要求2所述的传送系统，其中所述第一辊和所述第二辊被配置为使所述传送带以约10 m/s至约20 m/s的传送速度移动，并且其中所述稳定器被配置为将所述稳定力施加到所述传送带上的所述材料上，使得在所述传送速度下使所述材料稳定。
7.如权利要求1所述的传送系统，其中所述稳定器包括位于所述传送表面上方的至少一个磁体，其中所述至少一个磁体被配置为将向下的磁场作为所述稳定力施加到所述材料上。
8.如权利要求7所述的传送系统，其中所述至少一个磁体是能够调整的，以调整所述稳定力。
9.如权利要求7所述的传送系统，其中所述至少一个磁体包括多个磁体，其中所述稳定器还包括包含所述多个磁体的第一子集的第一区域和包含所述多个磁体的第二子集的第二区域，并且其中由所述第一子集的所述磁体中的至少一者生成的所述磁场不同于由所述第二子集的所述磁体中的至少一者生成的所述磁场。
10.如权利要求7所述的传送系统，其中所述至少一个磁体包括多个磁体，其中所述稳定器还包括触发区域和稳定区域，其中所述至少一个磁体位于所述稳定区域中。
11. 如权利要求7所述的传送系统，其中所述至少一个磁体包括多个磁体，其中每个磁体是能够独立控制的，并且其中所述传送系统还包括：
传感器，所述传感器位于所述稳定器的上游；以及
控制器，
其中所述传感器被配置为检测所述传送表面上的所述材料的至少一个非铁金属块的位置，并且
其中所述控制器被配置为激活所述多个磁体中的与所述传送表面上的所述位置相对应的至少一个磁体。
12.如权利要求1所述的传送系统，其中所述稳定器被配置为在稳定区域中施加所述稳定力，其中所述稳定力包括所述稳定区域的上游部分处的上游稳定力和所述稳定区域的下游部分处的下游稳定力，并且其中所述下游稳定力不同于所述上游稳定力。
13. 如权利要求1所述的传送系统，所述传送系统还包括：
控制器；以及
传感器，所述传感器被配置为检测所述传送表面上的所述材料的至少一个非铁金属块的位置，
其中所述控制器被配置为基于所述传送表面上的所述位置或所述传送带的传送速度中的至少一者来控制所述稳定器。
14.一种使传送带上的材料稳定的方法，所述方法包括：
在所述传送带的传送表面上接收所述材料；
使用所述传送带以传送速度传送所述材料；以及
使用稳定器将稳定力施加到所述材料上，使得在所述传送速度下至少一些所述材料的竖直位移被抑制和/或最小化。
15. 如权利要求14所述的方法，其中所述传送速度是约1 m/s至约20 m/s。
16.如权利要求14所述的方法，其中至少一些所述材料包括非铁金属，并且其中对所述非铁金属施加所述稳定力。
17.如权利要求14所述的方法，其中所述稳定器包括至少一个磁体，并且其中所述稳定力包括磁场。
18.如权利要求17所述的方法，所述方法还包括通过控制所述磁场的强度、所述磁场的频率或所述磁场的方向中的至少一者来控制所述磁场。
19.如权利要求14所述的方法，所述方法还包括在施加所述稳定力之前检测所述传送表面上的所述材料的非铁金属的位置，并且其中施加所述稳定力包括在所述传送表面上的所述位置处施加所述稳定力。
20.如权利要求14所述的方法，其中所述稳定器包括多个磁体，其中所述多个磁体的第一子集被布置在第一区域中，并且所述多个磁体的第二子集被布置在第二区域中，其中施加所述稳定力包括通过所述多个磁体的所述第一子集施加第一磁场并且通过所述多个磁体的所述第二子集施加第二磁场，并且其中所述第二磁场不同于所述第一磁场。
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