CN112466918B - 一种显示基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本申请提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置,显示基板包括开孔区域、围绕开孔区域的邻接区域以及围绕邻接区域的显示区域,邻接区域的显示基板包括:衬底基板;以及设置在衬底基板一侧的平坦层和钝化层,钝化层设置在平坦层背离衬底基板的一侧,其中,平坦层背离衬底基板的一侧表面至少包括靠近开孔区域一侧的斜面,平坦层包括设置在斜面上的第一凸起;以及与第一凸起至少部分重叠且贯穿钝化层并延伸至第一凸起内部的第一隔离槽。通过在平坦层的斜面上设置第一凸起,第一凸起可以阻挡光刻胶流向开孔区域,避免光刻胶流失导致的钝化层缺失,从而可以形成完整结构的隔离槽,提高封装结构的粘附性,从而提高显示装置的可靠性和显示性能。

Description

一种显示基板及其制备方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。
背景技术
随着显示技术的发展,能够进行柔性显示的有机发光二极管(organic light-emitting diode,简称OLED)促进了显示的多样化,逐渐成为显示技术的主流。为了发展可拉伸(Stretchable)的OLED显示功能,通常在OLED柔性显示装置的衬底材料上开孔,并形成围绕开孔区域的邻接区域以及围绕邻接区域的显示区域,通过邻接区域的变形来实现显示装置的拉伸。然而,在衬底材料上开孔会导致水氧从开孔处进入功能膜层中,影响显示装置的显示效果和可靠性。
发明内容
本发明提供一种显示基板及其制备方法、显示装置,以提高显示装置的可靠性和显示性能。
为了解决上述问题,本发明公开了一种显示基板,所述显示基板包括开孔区域、围绕所述开孔区域的邻接区域以及围绕所述邻接区域的显示区域,所述邻接区域的显示基板包括:
衬底基板;
设置在所述衬底基板一侧的平坦层和钝化层,所述钝化层设置在所述平坦层背离所述衬底基板的一侧,其中,所述平坦层背离所述衬底基板的一侧表面至少包括靠近所述开孔区域一侧的斜面,所述平坦层包括设置在所述斜面上的第一凸起;
第一隔离槽,所述第一隔离槽与所述第一凸起至少部分交叠,且贯穿所述钝化层并延伸至所述第一凸起的内部。
在一种可选的实现方式中,沿垂直于所述斜面的方向,所述第一凸起的第一横截面在所述斜面上的正投影位于第二横截面在所述斜面上的正投影范围内,所述第一横截面位于所述第二横截面背离所述斜面的一侧。
在一种可选的实现方式中,所述第一凸起的侧面与所述斜面之间的夹角大于或等于30°且小于或等于55°。
在一种可选的实现方式中,所述第一凸起环绕所述开孔区域设置,沿所述第一凸起环绕所述开孔区域的方向,所述第一凸起的横截面在所述斜面上的正投影尺寸大于或等于3μm且小于或等于8μm。
在一种可选的实现方式中,在所述第一隔离槽内,所述平坦层相对于所述钝化层缩进。
在一种可选的实现方式中,所述平坦层背离所述衬底基板的一侧表面还包括位于所述斜面靠近所述显示区域一侧的平面,所述邻接区域的显示基板还包括:第二隔离槽,所述第二隔离槽贯穿所述钝化层并延伸至所述平坦层的内部,所述第二隔离槽在所述平坦层上的正投影位于所述平面范围内。
在一种可选的实现方式中,在所述第二隔离槽内,所述平坦层相对于所述钝化层缩进。
在一种可选的实现方式中,所述平坦层背离所述衬底基板的一侧表面还包括位于所述斜面靠近所述显示区域一侧的平面,所述平坦层还包括设置在所述平面上的第二凸起,沿垂直于所述平面的方向,所述第二凸起的第三横截面在所述平面上的正投影位于第四横截面在所述平面上的正投影范围内,所述第三横截面位于所述第四横截面背离所述平面的一侧;
第三隔离槽,所述第三隔离槽与所述第二凸起至少部分交叠,且贯穿所述钝化层并延伸至所述第二凸起的内部。
在一种可选的实现方式中,所述第二凸起的侧面与所述平面之间的夹角大于或等于30°且小于或等于55°。
在一种可选的实现方式中,在所述第三隔离槽内,所述平坦层相对于所述钝化层缩进。
为了解决上述问题,本发明还公开了一种显示装置,包括任一实施例所述的显示基板。
为了解决上述问题,本发明还公开了一种显示基板的制备方法,所述显示基板包括开孔区域、围绕所述开孔区域的邻接区域以及围绕所述邻接区域的显示区域,所述邻接区域的显示基板的制备方法包括:
提供衬底基板;
在所述衬底基板的一侧依次形成平坦层和钝化层,其中,所述平坦层背离所述衬底基板的一侧表面至少包括靠近所述开孔区域一侧的斜面,所述平坦层包括设置在所述斜面上的第一凸起;
依次对所述钝化层和所述第一凸起进行干法刻蚀,形成第一隔离槽,所述第一隔离槽与所述第一凸起至少部分交叠,且贯穿所述钝化层并延伸至所述第一凸起的内部。
现有技术相比,本发明包括以下优点:
本申请技术方案提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置,显示基板包括开孔区域、围绕开孔区域的邻接区域以及围绕邻接区域的显示区域,邻接区域的显示基板包括:衬底基板;以及设置在衬底基板一侧的平坦层和钝化层,钝化层设置在平坦层背离衬底基板的一侧,其中,平坦层背离衬底基板的一侧表面至少包括靠近开孔区域一侧的斜面,平坦层包括设置在斜面上的第一凸起;以及与第一凸起至少部分重叠且贯穿钝化层并延伸至第一凸起内部的第一隔离槽。本申请技术方案通过在平坦层的斜面上设置第一凸起,第一凸起可以阻挡光刻胶流向开孔区域,避免光刻胶流失导致的钝化层缺失,从而可以形成完整结构的隔离槽,完整结构的隔离槽有利于封装结构的粘附,从而提高显示装置的可靠性和显示性能。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对本发明实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1示出了相关技术中一种显示基板的剖面结构示意图;
图2示出了相关技术中一种显示基板中的隔离槽结构图;
图3a示出了本申请实施例提供的一种显示基板的平面结构示意图;
图3b示出了本申请实施例提供的第一种显示基板的剖面结构示意图;
图3c示出了本申请实施例提供的第一种显示基板邻接区域的剖面结构示意图;
图4示出了本申请实施例提供的第二种显示基板的剖面结构示意图;
图5示出了本申请实施例提供的第三种显示基板的剖面结构示意图;
图6示出了本申请实施例提供的一种显示基板的制备方法的步骤流程图;
图7示出了本申请实施例提供的完成平坦层制备的显示基板的剖面结构示意图;
图8示出了本申请实施例提供的完成钝化层制备的显示基板的剖面结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
相关技术中,为了防止水氧从开孔处进入功能膜层中,通常会在平坦层上设置隔离槽,并且为了节省空间一般会将隔离槽设置在平坦层靠近开孔区域的边缘斜坡上,如图1所示。发明人发现,隔离槽的形成需要依次对钝化层和平坦层进行干刻,在对钝化层进行干刻的过程中,因斜坡上的膜层断差过大导致斜坡上的光刻胶流向开孔区域,靠近显示区域的钝化层由于没有光刻胶的保护而被刻蚀掉,进而使得该区域的平坦层暴露在外,导致靠近显示区域的隔离槽结构缺失,如图2所示,从而影响封装效果。
为了解决上述问题,本申请一实施例提供了一种显示基板,参照图3a示出了本实施例提供的显示基板的平面结构示意图,该显示基板包括开孔区域、围绕开孔区域的邻接区域以及围绕邻接区域的显示区域。参照图3b示出了本实施例提供的显示基板的剖面结构示意图,参照图3c示出了本实施例提供的显示基板邻接区域的剖面结构示意图,邻接区域的显示基板包括:衬底基板30;设置在衬底基板30一侧的平坦层31和钝化层32,钝化层32设置在平坦层31背离衬底基板30的一侧,其中,平坦层31背离衬底基板30的一侧表面至少包括靠近开孔区域一侧的斜面,平坦层31包括设置在斜面上的第一凸起33;第一隔离槽34,第一隔离槽34与第一凸起33至少部分交叠,且贯穿钝化层32并延伸至第一凸起33的内部。
本申请技术方案通过在平坦层31的斜面上设置第一凸起33,第一凸起33可以阻挡光刻胶流向开孔区域,避免光刻胶流失导致的钝化层32缺失,从而可以形成完整结构的隔离槽。另外,结构完整的隔离槽能提高封装膜层在隔离槽内粘附性,保证封装性能,从而提高显示装置的可靠性和显示性能。并且,在相同侧刻深度的情况下,与现有技术相比,形成第一隔离槽34对平坦层31的刻蚀体积可减少20%~40%,因此采用第一隔离槽结构可缩短刻蚀时间,提高生产效率,降低生产成本。
参照图3c,在第一隔离槽34内,平坦层31可以相对于钝化层32缩进。在实际应用中,第一隔离槽34是通过依次对钝化层32和平坦层31进行干刻形成的,平坦层31的横向刻蚀量大于钝化层32的横向刻蚀量,使得第一隔离槽34的槽口相对较窄。这样可以形成“undercut+向上开口”的第一隔离槽34形貌,进一步提升封装膜层在第一隔离槽34内的粘附效果,保证封装性能。
在具体实现中,参照图3c,沿垂直于斜面的方向(图3c中的第一方向),第一凸起33的第一横截面a在斜面上的正投影可以位于第二横截面b在斜面上的正投影范围内,第一横截面a位于第二横截面b背离斜面的一侧。
其中,第一横截面a和第二横截面b是第一凸起33沿斜面法线方向(图3c中的第一方向)的横截面,第一横截面a和第二横截面b均平行于斜面。这种第一凸起33结构,可以进一步确保设置在第一凸起33背离衬底基板30一侧的钝化层32的完整性,避免光刻胶流失导致的钝化层32缺失。
需要说明的是,由于工艺偏差等原因,可能导致第一方向与斜面之间的角度不是严格意义上的90°,因此,第一方向与斜面之间的角度并不仅限于90°,二者之间的实际角度由工艺控制能力确定。
在实际应用中,第一隔离槽34为环绕开孔区域且首尾相接的闭合结构。第一凸起33可以环绕开孔区域设置,沿第一凸起33环绕开孔区域的方向,第一凸起33的横截面(即图3b所示的剖面)例如可以为三角形、长边靠近斜面的梯形或者开口朝向斜面的弧形等。
参照图3b,沿第一凸起33环绕开孔区域的方向,第一凸起33的横截面在斜面上的正投影尺寸可以大于或等于3μm且小于或等于8μm。当第一凸起33的横截面为三角形时,三角形的底边可以大于或等于3μm且小于或等于8μm。在实际应用中,沿第一凸起33环绕开孔区域的方向,第一凸起33的横截面在斜面上的正投影尺寸与斜面尺寸的比例可以为30%~80%。这样,可以进一步确保设置在第一凸起33背离衬底基板30一侧的钝化层32的完整性,避免光刻胶流失导致的钝化层32缺失。
第一凸起33的侧面与斜面之间的夹角θ可以大于或等于30°且小于或等于55°。这样,可以进一步确保设置在第一凸起33背离衬底基板30一侧的钝化层32的完整性,避免光刻胶流失导致的钝化层32缺失。
为了进一步防止水氧从开孔处进入功能膜层中,可以在邻接区域设置多个隔离槽。在一种可选的实现方式中,参照图4,平坦层31背离衬底基板30的一侧表面还可以包括位于斜面靠近显示区域一侧的平面,邻接区域的显示基板还可以包括:第二隔离槽41,第二隔离槽41贯穿钝化层32并延伸至平坦层31的内部,第二隔离槽41在平坦层31上的正投影位于平面范围内。
在实际应用中,第二隔离槽41为环绕开孔区域且首尾相接的闭合结构。在第二隔离槽41内,平坦层31相对于钝化层32缩进。邻接区域内第二隔离槽41的数量可以为一个或多个,具体根据实际需求确定。
在另一种可选的实现方式中,参照图5,平坦层31背离衬底基板30的一侧表面还可以包括位于斜面靠近显示区域一侧的平面,平坦层31还可以包括设置在平面上的第二凸起51,沿垂直于平面的方向(图5中的第二方向),第二凸起51的第三横截面c在平面上的正投影位于第四横截面d在平面上的正投影范围内,第三横截面c位于第四横截面d背离平面的一侧;以及第三隔离槽52,第三隔离槽52与第二凸起51至少部分交叠,且贯穿钝化层32并延伸至第二凸起51的内部。
其中,第三横截面c和第四横截面d是第二凸起51沿平面法线方向(图5中的第二方向)的横截面,也就是第三横截面c和第四横截面d均平行于平面。这种第二凸起51结构,可以进一步确保设置在第二凸起51背离衬底基板30一侧的钝化层32的完整性,避免光刻胶流失导致的钝化层32缺失。
需要说明的是,由于工艺偏差等原因,可能导致第二方向与平面之间的角度不是严格意义上的90°,因此,第二方向与平面之间的角度并不仅限于90°,二者之间的实际角度由工艺控制能力确定。
在实际应用中,第三隔离槽52为环绕开孔区域且首尾相接的闭合结构。第二凸起51可以环绕开孔区域设置,沿第二凸起51环绕开孔区域的方向,第二凸起51的横截面例如可以为三角形、长边靠近斜面的梯形或者开口朝向斜面的弧形等。
沿第二凸起51环绕开孔区域的方向,第二凸起51的横截面在平面上的正投影尺寸可以大于或等于3μm且小于或等于8μm。当第二凸起51的横截面为三角形时,三角形的底边可以大于或等于3μm且小于或等于8μm。这样,可以进一步确保设置在第二凸起51背离衬底基板30一侧的钝化层32的完整性,避免光刻胶流失导致的钝化层32缺失。
参照图5,在第三隔离槽52内,平坦层31相对于钝化层32缩进。在实际应用中,第三隔离槽52是通过依次对钝化层32和平坦层31进行干刻形成的,即平坦层31的横向刻蚀量大于钝化层32的横向刻蚀量,使得第三隔离槽52的槽口相对较窄。这样可以形成“undercut+向上开口”的第三隔离槽52形貌,进一步提升封装膜层在第三隔离槽52内粘附效果,保证封装性能。
其中,第二凸起51的侧面与平面之间的夹角θ大于或等于30°且小于或等于55°。这样,可以进一步确保设置在第一凸起33背离衬底基板30一侧的钝化层32的完整性,避免光刻胶流失导致的钝化层32缺失。
本申请另一实施例还提供了一种显示装置,包括任一实施例所述的显示基板。
需要说明的是,本实施例中的显示装置可以为:显示面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有2D或3D显示功能的产品或部件。
本申请另一实施例还提供了一种显示基板的制备方法,显示基板包括开孔区域、围绕开孔区域的邻接区域以及围绕邻接区域的显示区域,参照图6,邻接区域的显示基板的制备方法包括:
步骤601:提供衬底基板。
步骤602:在衬底基板的一侧依次形成平坦层和钝化层,其中,平坦层背离衬底基板的一侧表面至少包括靠近开孔区域一侧的斜面,平坦层包括设置在斜面上的第一凸起。
在一种可选的实现方式中,在衬底基板的一侧依次形成平坦层和钝化层的步骤,包括:
步骤1:采用成膜工艺,在衬底基板的一侧形成平坦材料层。
步骤2:对平坦材料层进行曝光和显影,形成平坦层。
具体地,在第一隔离槽区域将平坦材料层图形化,形成第一凸起。沿第一凸起环绕开孔区域的方向,第一凸起的横截面例如可以为三角形、长边靠近斜面的梯形或者开口朝向斜面的弧形等。通过曝光工艺可以控制第一凸起的侧面相对于斜面的Taper角为30~55°。参照图7示出了完成平坦层制备的显示基板的剖面结构示意图。
通过对平坦层进行图形化形成第一凸起,可以阻挡钝化层图形化过程中的光刻胶流向开孔区域,避免光刻胶流失导致的钝化层缺失,从而可以形成完整结构的隔离槽。
步骤3:采用构图工艺,在平坦层背离衬底基板的一侧形成钝化层。参照图8示出了完成钝化层制备的显示基板的剖面结构示意图。
步骤603:依次对钝化层和第一凸起进行干法刻蚀,形成第一隔离槽,第一隔离槽与第一凸起至少部分交叠,且贯穿钝化层并延伸至第一凸起的内部。
其中,第一凸起的横向刻蚀量大于钝化层的横向刻蚀量,使得在第一隔离槽内部,平坦层相对于钝化层缩进。
在一种可选的实现方式中,步骤603具体可以包括:基于掩膜版,对钝化层进行干法刻蚀;以干法刻蚀后的钝化层作为平坦层的掩膜版,对平坦层进行干法刻蚀,得到第一隔离槽。参照图3b示出了完成第一隔离槽制备的显示基板的剖面结构示意图。
本实施例可以形成“undercut+向上开口”的第一隔离槽形貌,进一步提升封装膜层在第一隔离槽内的粘附效果,保证封装性能。本实施例提供的制备方法与现有技术相比,在相同侧刻深度的情况下,形成第一隔离槽对平坦层的刻蚀体积可减少20%~40%,因此可缩短刻蚀时间,提高生产效率,降低生产成本。
采用本实施例提供的制备方法可以制备得到上述任一实施例所述的显示基板,显示基板的具体结构可以参照前述实施例的描述,这里不再赘述。
本申请实施例提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置,显示基板包括开孔区域、围绕开孔区域的邻接区域以及围绕邻接区域的显示区域,邻接区域的显示基板包括:衬底基板;以及设置在衬底基板一侧的平坦层和钝化层,钝化层设置在平坦层背离衬底基板的一侧,其中,平坦层背离衬底基板的一侧表面至少包括靠近开孔区域一侧的斜面,平坦层包括设置在斜面上的第一凸起;以及与第一凸起至少部分重叠且贯穿钝化层并延伸至第一凸起内部的第一隔离槽。本申请技术方案通过在平坦层的斜面上设置第一凸起,第一凸起可以阻挡光刻胶流向开孔区域,避免光刻胶流失导致的钝化层缺失,从而可以形成完整结构的隔离槽,完整结构的隔离槽有利于封装结构的粘附,从而提高显示装置的可靠性和显示性能。
本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
最后,还需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上对本发明所提供的一种显示基板及其制备方法、显示装置进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想;同时,对于本领域的一般技术人员,依据本发明的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (12)

1.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板包括开孔区域、围绕所述开孔区域的邻接区域以及围绕所述邻接区域的显示区域,所述邻接区域的显示基板包括:
衬底基板;
设置在所述衬底基板一侧的平坦层和钝化层,所述钝化层设置在所述平坦层背离所述衬底基板的一侧,其中,所述平坦层背离所述衬底基板的一侧表面至少包括靠近所述开孔区域一侧的斜面,所述平坦层包括设置在所述斜面上的第一凸起;
第一隔离槽,所述第一隔离槽与所述第一凸起至少部分交叠,且贯穿所述钝化层并延伸至所述第一凸起的内部。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,沿垂直于所述斜面的方向,所述第一凸起的第一横截面在所述斜面上的正投影位于第二横截面在所述斜面上的正投影范围内,所述第一横截面位于所述第二横截面背离所述斜面的一侧。
3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述第一凸起的侧面与所述斜面之间的夹角大于或等于30°且小于或等于55°。
4.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述第一凸起环绕所述开孔区域设置,沿所述第一凸起环绕所述开孔区域的方向,所述第一凸起的横截面在所述斜面上的正投影尺寸大于或等于3μm且小于或等于8μm。
5.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,在所述第一隔离槽内,所述平坦层相对于所述钝化层缩进。
6.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述平坦层背离所述衬底基板的一侧表面还包括位于所述斜面靠近所述显示区域一侧的平面,所述邻接区域的显示基板还包括:第二隔离槽,所述第二隔离槽贯穿所述钝化层并延伸至所述平坦层的内部,所述第二隔离槽在所述平坦层上的正投影位于所述平面范围内。
7.根据权利要求6所述的显示基板,其特征在于,在所述第二隔离槽内,所述平坦层相对于所述钝化层缩进。
8.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述平坦层背离所述衬底基板的一侧表面还包括位于所述斜面靠近所述显示区域一侧的平面,所述平坦层还包括设置在所述平面上的第二凸起,沿垂直于所述平面的方向,所述第二凸起的第三横截面在所述平面上的正投影位于第四横截面在所述平面上的正投影范围内,所述第三横截面位于所述第四横截面背离所述平面的一侧;
第三隔离槽,所述第三隔离槽与所述第二凸起至少部分交叠,且贯穿所述钝化层并延伸至所述第二凸起的内部。
9.根据权利要求8所述的显示基板,其特征在于,所述第二凸起的侧面与所述平面之间的夹角大于或等于30°且小于或等于55°。
10.根据权利要求8所述的显示基板,其特征在于,在所述第三隔离槽内,所述平坦层相对于所述钝化层缩进。
11.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1至10任一项所述的显示基板。
12.一种显示基板的制备方法,其特征在于,所述显示基板包括开孔区域、围绕所述开孔区域的邻接区域以及围绕所述邻接区域的显示区域,所述邻接区域的显示基板的制备方法包括:
提供衬底基板;
在所述衬底基板的一侧依次形成平坦层和钝化层,其中,所述平坦层背离所述衬底基板的一侧表面至少包括靠近所述开孔区域一侧的斜面,所述平坦层包括设置在所述斜面上的第一凸起;
依次对所述钝化层和所述第一凸起进行干法刻蚀,形成第一隔离槽,所述第一隔离槽与所述第一凸起至少部分交叠,且贯穿所述钝化层并延伸至所述第一凸起的内部。
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