CN112426165A - 设备、保护片及抗菌膜 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种设备、保护片及抗菌膜。本发明的设备在外表面的至少一部分设有亲水加工部，其中，亲水加工部含有亲水性聚合物及含银的抗菌剂，亲水加工部的表面的水接触角为80°以下，从而亲水性及抗菌性优异。
Description
本申请是分案申请，其针对的申请的中国国家申请号为201580027938.5、国际申请号为PCT/JP2015/062573，申请日为2015年4月24日、进入中国的日期为2016年11月21日，发明名称为“设备、保护片及抗菌膜”。
技术领域
本发明涉及一种设备、保护片及抗菌膜，涉及一种在外表面的至少一部分设有亲水加工部的设备、保护片、及至少一部分为亲水性的抗菌膜。
背景技术
放射线摄像装置，尤其移动式放射线摄像装置(电子盒)或CR(ComputedRadiography：计算机X线摄影)暗盒、乳房X射线摄影装置等多个患者或医疗从事人员所接触的医疗装置，若在装置表面附着有污染物质的状态放置，则细菌有可能繁殖。为了抑制细菌的繁殖，使用乙醇水溶液或次氯酸钠水溶液的消毒药适当地进行消毒，但污染物质固着于表面时等，清洗消毒有可能变得不充分。因此，期待容易抹擦污染物质的技术。
例如，专利文献1中公开有在医疗设备或装置的外表面安装有实施了防水加工的缓冲材的技术。根据该技术，具有污染物质难以附着的优点。
然而，消毒液的消毒效果是通过消毒液滞留一定时间而得到的，因此如专利文献1中所公开的技术那样，在消毒液不渗透的表面有可能无法得到充分的消毒效果。
作为针对这些课题的解决手段，专利文献2中提出有在插入体内的器件的情况下具有亲水性及抗菌性的涂层。
专利文献2中公开有通过使含有亲水性聚合物、光引发剂、含金属银(Ag)的粒子、及载体液的调配物进行固化而得到的涂层。并且，专利文献2中所公开的由调配物形成的涂层被赋予润滑性和抗菌活性这两者。专利文献2中，导管等医疗器具的外表面上的涂层在湿润的状态下平滑即润湿时，不会带来损伤，且不会让受试者受到无法承受程度的疼痛，在能够插入到目标的身体部分内时是润滑的。并且，专利文献2中，所谓“润湿”需满足“为了变得润滑而含有相对于(涂层的干燥重量)为10wt％以上的水”。另外，所谓wt％为质量％，表示以质量为基准计所占的比例。
另一方面，从易用性的观点考虑，最近具有触摸面板的医疗装置逐渐增加。这些仅由医疗从事人员来操作，但在ICU(Intensive Care Unit；集中治疗室)等中使用的生物监控器等与很多人接触，容易附着污染物质。作为与不特定多数的人接触的装置，在医院内，如复诊受理机之类的具有触摸面板的KIOSK终端(设置型信息终端)逐渐普及。
此外，移动电话、便携终端或汽车的导航系统等很多电子设备中，具有触摸面板的设备也正在普及。
这些触摸面板中，除了卫生方面的要求以外，还同时要求作为本来性能的长期可见性。即，要求不易因指纹等而导致视觉辨认度下降、并且不易因划痕等而产生视觉辨认度下降的触摸面板。
作为针对这些课题的解决手段，专利文献3中提出有形成有不仅抗菌性优异而且透明性也优异的抗菌膜的透明物品及用于形成抗菌膜的抗菌膜形成溶液。
专利文献3中公开有在玻璃基板上形成有含银抗菌膜的带抗菌膜的透明物品，所述含银抗菌膜以硅氧化物为主成分，含有银微粒和/或银离子，还可以含有亲水性聚合物，且具有透明性。并且，专利文献3中所公开的带抗菌膜的透明物品具有透明性、耐磨性、抗菌性优异的特征。并且，专利文献3中所公开的抗菌膜形成溶液能够得到具有上述特征的带抗菌膜的透明物品。专利文献3中所公开的带抗菌膜的透明物品能够用于移动电话等电子设备的显示部或其触摸面板等。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2012-132703号公报
专利文献2：日本特表2010-503737号公报
专利文献3：日本特开2008-213206号公报
发明的概要
发明要解决的技术课题
然而，专利文献1中所记载的技术从消毒的侧面来看，医疗装置表面对消毒液的润湿性较低。即，消毒液被排斥，因此消毒液不容易长时间留在医疗装置的外表面，无法充分得到对细菌类的消毒效果的可能性较高。
相反，专利文献2中所记载的技术是以插入到体内的医疗器具为对象，因此为了维持湿润时的平滑性，需要能够含有10wt％以上的水分等接近水凝胶的特性，不适合作为人通常接触、操作的表面。
并且，专利文献3中所记载的技术中，基本上利用溶胶-凝胶法在透明玻璃基板上形成以硅氧化物为主成分的含银的抗菌无机膜，虽然公开了可以加入亲水性聚合物的内容，但并不是形成含银的抗菌有机膜，因此无法适用于医疗装置表面。
另外，已知如置于医院环境或公共场所的装置那样，对不特定多数的人所接触的表面进行抗菌加工，但人连续不断地交替接触时，若抗菌效果较低，则带菌者之后所接触的人会有细菌被附着，有可能无法得到抗菌加工的预想效果。但是，若仅单纯追求抗菌效果，则使消毒药等以高浓度存在于表面即可，但较强的消毒药一方面有可能对所接触的人产生斑疹、炎症等危害。因此，要求对生物体安全且更高效的抗菌效果。
本发明是为了解决上述课题而完成的，其目的在于提供一种亲水性及抗菌性优异的设备、保护片及抗菌膜。
用于解决技术课题的手段
为了实现上述目的，本发明的第1方式的设备为在外表面的至少一部分设有亲水加工部的设备，所述设备的特征在于，亲水加工部含有亲水性聚合物及含银的抗菌剂，亲水加工部的表面的水接触角为80°以下。
在此，优选设备为触摸面板，亲水加工部设置于由利用者接触的外表面。此时，由人的手指等的接触所产生的指纹等不太显眼，能够期待不阻碍视觉辨认度。
并且，为了实现上述目，本发明的第2方式的保护片为在外表面的至少一部分设有亲水加工部的保护片，其特征在于，亲水加工部含有亲水性聚合物及含银的抗菌剂，亲水加工部的表面的水接触角为80°以下。
在此，优选在保护片的与外表面相反侧的表面还具有粘结层。
并且，为了实现上述目的，本发明的第3方式的抗菌膜为至少一部分为亲水性的抗菌膜，其特征在于，显出亲水性的亲水性部含有亲水性聚合物及含银的抗菌剂，亲水性部的表面的水接触角为80°以下。
本发明的第1、第2及第3方式中，优选亲水加工部或亲水性部的表面的水接触角为60°以下，且亲水加工部或亲水性部的水的吸收率低于10wt％。
并且，优选通过以下的提取试验测定的亲水加工部或亲水性部的每单位面积的银离子量为15ng/cm2以上。
提取条件：将JISZ 2801：2010中所规定的1/500普通肉汤培养基用作提取液，将提取液的温度控制为35±1℃，使亲水加工部(或亲水性部)的表面与提取液接触1小时，并测定被提取至提取液中的银离子量，将所得到的值除以亲水加工部(或亲水性部)的表面与提取液的接触面积而得到每单位面积的银离子量。银离子量的单位为ng，接触面积的单位为cm2，每单位面积的银离子量的单位为ng/cm2。
并且，优选亲水加工部或亲水性部的表面的水接触角为30°以下。
本发明的第1、第2及第3方式中，对需要清洗消毒的设备、例如医疗装置表面的至少一部分进行亲水加工，或者对安装于或贴附于电子设备等的显示部的触摸面板等的表面的保护片表面的至少一部分进行亲水加工，或者将抗菌膜的至少一部分设为亲水性，由此使与水的接触角充分低至80°以下，优选设为60°以下，更优选设为30°以下，从而作为亲水性的效果，通常用含有乙醇水溶液等消毒液的湿布或浸渍了消毒液的揩抹器或流水清洗表面时，消毒液或水分进入污染物质与亲水加工表面或具有亲水性的表面之间，从而与非亲水加工面或非亲水性面相比时，更容易去除污染物质，能够进一步降低污染物质的残留风险。并且，清洗后用乙醇水溶液、次氯酸钠水溶液等消毒液进行消毒时，也由于表面的润湿性较高，因此消毒液充分润湿，消毒液长时间作用于残留于表面的细菌，由此能够期待确保充分的消毒效果。
并且，本发明的第1、第2及第3方式中，通过兼具亲水性和抗菌性，即使在清洗消毒后，抗菌剂也会作用于微量生存的细菌等，由此能够期待抑制细菌的繁殖。
另外，本发明的第1、第2及第3方式中，通过由至少含有多官能丙烯酸单体和交联剂、聚合引发剂及银粒子抗菌剂的液态涂布剂来制造亲水性粘合剂，由此将结构进一步多官能化，从而能够设为以铅笔硬度计为HB(3H、2H、H、F、HB)、优选为F(3H、2H、H、F)以上的亲水加工部或亲水性部(涂层)，并且能够制造出兼顾较高的亲水性和抗菌性的涂层。所制作出的涂层通过基于较高亲水性产生的效果而使构成指纹的成分在表面上扩展润湿，从而具有难以阻碍视觉辨认度的效果。其结果，可知本发明的涂层的硬涂性、耐指纹性优异。
即，上述第1、第2及第3方式中，优选亲水加工部或亲水性部由涂布剂形成，所述涂布剂至少含有具有亲水性基团及2个以上的(甲基)丙烯酸基的聚合性化合物、交联剂、聚合引发剂及抗菌剂，并且优选亲水性基团为聚氧乙烯基。
并且，优选亲水加工部或亲水性部的平均厚度为1～10μm。
并且，优选抗菌剂的含量相对于亲水加工部总质量或亲水性部总质量为0.001～10wt％，更优选为0.001～5wt％。
并且，优选抗菌剂至少含有载银陶瓷粒子或银粒子。
并且，优选亲水加工部或亲水性部的表面的水接触角为15°以下。
发明效果
根据本发明，亲水性、抗菌性优异，清洗、消毒效果较高，且能够长时间维持较高的消毒效果，清洗、消毒后的抗菌效果较高，能够抑制细菌的繁殖，由人手指等的接触所产生的指纹等不太显眼，不阻碍且能够确保视觉辨认度。
附图说明
图1是作为本发明的一实施方式所涉及的设备的移动式放射线摄像装置的局部剖面立体图。
图2是图1所示的移动式放射线摄像装置的概略纵剖视图。
图3是作为本发明的另一实施方式所涉及的设备的另一移动式放射线摄像装置的整体概略立体图。
图4是作为本发明的另一实施方式所涉及的设备的乳房X射线摄影装置的主要部分概略立体图。
图5是作为本发明的又一实施方式所涉及的设备的立式摄像用放射线摄像装置的主要部分概略立体图。
图6是使用作为本发明的又一实施方式所涉及的设备的触摸面板的显示装置的示意性剖视图。
图7(A)及图7(B)分别是本发明的又一实施方式所涉及的保护片的示意性剖视图。
图8(A)、图8(B)及图8(C)分别是带有本发明的又一实施方式所涉及的抗菌膜的抗菌基材的示意性剖视图。
具体实施方式
以下，对于本发明所涉及的设备、保护片及抗菌膜，举出优选实施方式并参考附图进行详细说明。
另外，以下作为设备，以医疗用设备为例进行说明，但本发明并不限定于医疗用设备，也可以适用于医疗用途以外的设备。
另外，本说明书中，用“～”表示的数值范围是指将“～”的前后所记载的数值作为下限值及上限值而包含的范围。并且，附图被记载为能够明确示出构成要件，因此有时与实际尺寸不同，但当然不是要改变本发明的宗旨。
(实施方式1)
(移动式放射线摄像装置)
首先，以下对作为本发明所涉及的实施方式1的医疗用设备的移动式放射线摄像装置进行说明。
图1是实施方式1所涉及的移动式放射线摄像装置(所谓的电子盒)10的局部剖面立体图。移动式放射线摄像装置10为放射线摄像装置的1种。图2是移动式放射线摄像装置10的概略纵剖视图，是表示图1的X-X线上的剖面的图。该移动式放射线摄像装置10中，框体18的外侧面形成本发明中的外表面，在框体18的内部从照射放射线Ray的照射面19侧依次设有检测透射了未图示的患者的放射线Ray的放射线检测器12及后述的控制基板13。在照射面19中，通过放射线检测器12拍摄放射线图像的区域为摄像区域。
放射线检测器12通过在TFT(薄膜晶体管：Thin Film Transistor)有源矩阵基板(以下，称为TFT基板)30的表面贴附由硫氧化钆(GOS)或碘化铯(CsI)等构成的闪烁器29而构成。为了防止通过闪烁器29产生的光向外部的漏出，TFT基板30可以在与贴附有闪烁器29的表面相反侧的面具有遮挡所产生的光的遮光体31。
放射线检测器12中，从未图示的放射线源照射的X射线等放射线Ray在闪烁器29中转换成光。所产生的光入射到设置于TFT基板30的传感器部。该传感器部接收从闪烁器29产生的光并积蓄电荷。按每一传感器部设有TFT开关，当该TFT开关被打开时，根据积蓄在传感器部的电荷量，表示放射线图像的电信号(图像信号)流向信号线。
并且，在放射线检测器12的信号配线方向的一端侧排列设有多个接线用连接器32，在扫描配线方向的一端侧排列设有多个连接器37。连接器32上连接有信号配线，连接器37上连接有扫描配线。
控制基板13具备扫描信号控制电路40和信号检测电路42。扫描信号控制电路40中设有连接器48，该连接器48上电连接有挠性电缆52的一端。另外，该挠性电缆52的另一端电连接于连接器37。通过该结构，扫描信号控制电路40能够向各扫描配线输出用于开关打开/关闭TFT的控制信号。
信号检测电路42中设有多个连接器46，该连接器46上电连接有挠性电缆44的一端。另外，该挠性电缆44的另一端电连接于连接器32。信号检测电路42按每一信号配线内置有放大所输入的电信号的放大电路。积蓄在各传感器部的电荷输入到各信号配线，利用信号检测电路42，将来自各信号配线的电信号通过放大电路放大来作为构成图像的各像素的信息。
框体18形成为矩形平板状，并且，如图2所示，以与放射线检测器12重叠的方式内置有进行放射线检测器12的拍摄动作或与外部装置的通信控制等各种控制的控制基板13。另外，本实施方式中，以TFT基板30与照射面19侧的框体18内表面接触的方式配置有放射线检测器12。
框体18中，配置于被照射放射线Ray的正面侧、换言之与被摄体接触的一侧的前面板60和配置于被摄体相反侧的背面板62(背面部)对置设置。前面板60由顶板64和保持顶板64的保持部66构成。在顶板64的背面板62侧的面设有放射线检测器12。保持部66在图2中的左右方向两端部向背面板62侧弯曲而形成侧面部的一部分。并且，背面板62在图2中的左右方向两端部向前面板60侧弯曲而形成侧面部的一部分。即，框体18的背面部和侧面部的一部分形成为一体。另外，未必一定要仅将侧面部的一部分和背面部形成为一体，也可以将整个侧面部和背面部形成为一体。此时，能够减少框体的接缝，抹擦性得到提高。
本实施方式中，顶板64由碳形成。由此，抑制放射线Ray的吸收，并且确保强度。并且，保持部66及背面板62由ABS树脂形成。
在以上结构中，至少在框体18的外表面中拍摄时与患者即被摄体(未图示)接触的照射面19、即至少在顶板64的外表面(进而可以包括保持部66的放射线源侧的一部分)、前面板60的外表面设有亲水加工部20。
并且，例如，优选在照射面19侧的前面板60的表面实施亲水处理而在照射面19设置亲水加工部20，在与照射面19相反的一侧(被摄体相反侧)的背面板62的外表面、尤其在背面板62的外周侧外表面部分(以参考符号A表示的部分)、即从背面板62与构成框体18的侧面部的一部分的前面板60的保持部66的接缝至构成框体18的背面部的一部分的背面板62的端部区域的外周侧外表面的部分A实施疏水处理而设置疏水加工部。
如此，通过在背面板62的外周侧表面(两侧部分A)设置疏水加工部来减小外周侧外表面的摩擦系数，从而容易将移动式放射线摄像装置(电子盒)10插入到患者等被摄体的下方。
另外，如图2所示的移动式放射线摄像装置(电子盒)10的框体18的保持部66那样，当电子盒的角部为倾斜(弯曲)的结构时，污染物质有可能垂落而污染电子盒周边。但是，本发明中，通过在照射面19侧的前面板60的外表面设置亲水加工部20来提高前面板60表面的润湿性，从而能够防止污染物质从前面板60的保持部66垂落，且能够防止污染物质的扩散。
并且，可以对构成框体18的背面部的背面板62的外表面的中央部分B实施压花加工。通过将中央部分B设为压花结构，能够容易将电子盒10插入到患者等被摄体的下方。
(亲水加工部)
亲水加工部20至少含有亲水性聚合物及含银的抗菌剂。
以下，对亲水加工部20中所含的材料进行详述。
(亲水性聚合物)
亲水性聚合物是指具有亲水性基团的聚合物。
亲水性基团的种类并没有特别限制，例如可以举出聚氧化烯基(例如，聚氧乙烯基、聚氧丙烯基、氧乙烯基和氧丙烯基嵌段或无规键合的聚氧化烯基)、氨基、羧基、羧基的碱金属盐、羟基、烷氧基、酰胺基、氨甲酰基、磺酰胺基、氨磺酰基、磺酸基、磺酸基的碱金属盐等。其中，优选聚氧乙烯基。
亲水性聚合物的主链的结构并没有特别限制，例如可以举出聚氨酯、聚(甲基)丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚脲等。
另外，所谓聚(甲基)丙烯酸酯是包含聚丙烯酸酯及聚甲基丙烯酸酯这两者的概念。
作为亲水性聚合物的优选方式之一，可以举出使具有上述亲水性基团的单体聚合而得到的聚合物。
具有亲水性基团的单体是指具有上述亲水性基团和聚合性基团的聚合性化合物。亲水性基团的定义如上所述。
具有亲水性基团的单体中的亲水性基团的数量并没有特别限制，但从亲水加工部更良好地显出亲水性的观点考虑，优选为2个以上，更优选为2～6个，进一步优选为2～3个。
聚合性基团的种类并没有特别限制，例如可以举出自由基聚合性基团、阳离子聚合性基团、阴离子聚合性基团等。作为自由基聚合性基团，可以举出(甲基)丙烯酸基、丙烯酰基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等。作为阳离子聚合性基团，可以举出乙烯醚基、环氧乙基、氧杂环丁基等。其中，优选(甲基)丙烯酸基。
另外，(甲基)丙烯酸基是包含丙烯酸基(丙烯酰基)及甲基丙烯酸基(甲基丙烯酰基)这两者的概念。
具有亲水性基团的单体中的聚合性基团的数量并没有特别限制，但从所得到的亲水加工部的机械强度、硬涂性更加优异的观点考虑，优选为2个以上，更优选为2～6个，进一步优选为2～3个。
即，本发明中，作为聚合性基团，从硬涂性的观点考虑，优选具有2个以上的(甲基)丙烯酸基。
作为具有亲水性基团的单体的优选方式之一，可以举出以以下式(1)表示的化合物。
[化学式1]
式(1)中，R1表示取代基。取代基的种类并没有特别限制，可以举出公知的取代基，例如可以举出可以具有杂原子的烃基(例如烷基、芳基)、上述亲水性基团等。
R2表示聚合性基团。聚合性基团的定义如上所述。
L1表示单键或2价连接基团。2价连接基团的种类并没有特别限制，例如可以举出-O-、-CO-、-NH-、-CO-NH-、-COO-、-O-COO-、亚烷基、亚芳基、杂芳基及它们的组合。
L2表示聚氧化烯基。聚氧化烯基是指以以下式(2)表示的基团。
式(2)*-(OR3)m-*
式(2)中，R3表示亚烷基(例如乙烯基、丙烯基)。m表示2以上的整数，优选为2～10，更优选为2～6。另外，*表示键合位置。
n表示1～4的整数。
得到亲水性聚合物时，优选同时使用具有上述亲水性基团的单体和其他单体、尤其含有多官能单体的单体。即，优选使用使具有亲水性基团的单体和其他单体(含有具有亲水性基团的单体以外的多官能单体的单体)共聚而得到的亲水性聚合物。
关于其他单体的种类，只要含有多官能单体则并没有特别限制，只要是具有聚合性基团的公知的单体，则可以适当地使用。聚合性基团的定义如上所述。
其中，从亲水加工部的机械强度即硬涂性更加优异的观点考虑，优选具有2个以上的聚合性基团的多官能单体。多官能单体作为所谓的交联剂发挥作用。
多官能单体中所含的聚合性基团的数量没有特别限制，从亲水加工部的机械强度、硬涂性更加优异的观点及处理性的观点考虑，优选为2～10个，更优选为2～6个。
作为多官能单体，例如可以举出三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯。
亲水性单体与其他单体(尤其是多官能单体)的混合比(亲水性单体的质量/其他单体的质量)并没有特别限制，但从容易控制亲水加工部的亲水性且需要确保硬涂性的观点考虑，优选为0.01～15，更优选为0.1～15。
另外，优选亲水加工部中含有上述亲水性聚合物作为主成分。在此，主成分是指相对于亲水加工部总质量，亲水性聚合物的含量为50wt％以上，优选为70wt％以上，更优选为90wt％以上。
(抗菌剂)
亲水加工部含有至少1种含银的抗菌剂。亲水加工部所含的抗菌剂的种类只要是含银的抗菌剂，则并没有特别限制，可以使用公知的抗菌剂。另外，作为抗菌剂，优选使用针对以金黄色葡萄球菌和大肠杆菌为代表的病原性细菌类发挥杀菌效果的杀菌剂。
作为含银的抗菌剂(以后，也称为银类抗菌剂)，只要含有银(银原子)即可，其种类并没有特别限制。并且，银的形态也并没有特别限制，例如以金属银、银离子、银盐(包含银络合物)等形态含有。例如，作为银类抗菌剂，可以优选举出缓释银离子的银粒子、或含银的无机系抗菌剂、例如将银或银离子载持于载体的抗菌剂。另外，本说明书中，银络合物包含于银盐的范围。
另外，作为银盐，例如可以举出乙酸银、乙酰丙酮酸银、叠氮化银、乙炔银、砷酸银、苯甲酸银、氟氢化银、溴酸银、溴化银、碳酸银、氯化银、氯酸银、铬酸银、柠檬酸银、氰酸银、氰化银、(顺式,顺式-1,5-环辛二烯)-1,1,1,5,5,5-六氟乙酰丙酮酸银、二乙基二硫代氨基甲酸银、氟化银(I)、氟化银(II)、7,7-二甲基-1,1,1,2,2,3,3-七氟-4,6-辛二酮酸银、六氟锑酸银、六氟砷酸银、六氟磷酸银、碘酸银、碘化银、异硫氰酸银、氰化银钾、乳酸银、钼酸银、硝酸银、亚硝酸银、氧化银(I)、氧化银(II)、草酸银、高氯酸银、全氟丁酸银、全氟丙酸银、高锰酸银、高铼酸银、磷酸银、苦味酸银一水合物、丙酸银、硒酸银、硒化银、亚硒酸银、磺胺嘧啶银、硫酸银、硫化银、亚硫酸银、碲化银、四氟硼酸银、四碘合锔酸银(silvertetraiodomecurate)、四钨酸银、硫氰酸银、对甲苯磺酸银、三氟甲磺酸银、三氟乙酸银及钒酸银等。
并且，作为银络合物的一例，可以举出组氨酸银络合物、蛋氨酸银络合物、半胱氨酸银络合物、天冬氨酸银络合物、吡咯烷酮羧酸银络合物、氧代四氢呋喃羧酸银络合物或咪唑银络合物等。
作为银类抗菌剂，例如可以举出上述银盐(银络合物)等有机系的银类抗菌剂和含有后述的载体的无机系的银类抗菌剂，但其种类并没有特别限制。
在银类抗菌剂中，从亲水加工部的耐光性更加优异和/或抗菌性更加优异的观点(以后，也简称为“本发明的效果更加优异的观点”)考虑，优选含有载体和载持于载体上的银的载银载体。
另外，作为载体，其种类并没有特别限制，可以举出硅酸盐类载体、磷酸盐类载体、氧化物(例如，玻璃)、钛酸钾或氨基酸。
作为载体，例如可以举出沸石类抗菌剂载体、硅酸钙类抗菌剂载体、磷酸锆类抗菌剂载体、磷酸钙抗菌剂载体、氧化锌类抗菌剂载体、溶解性玻璃类抗菌剂载体、硅胶类抗菌剂载体、活性炭类抗菌剂载体、氧化钛类抗菌剂载体、二氧化钛类抗菌剂载体、有机金属类抗菌剂载体、离子交换体陶瓷类抗菌剂载体、层状磷酸盐-季铵盐类抗菌剂载体或抗菌不锈钢载体等，但并不限于这些。
作为载体，更具体而言，可以举出磷酸锌钙、磷酸钙、磷酸锆、磷酸铝、硅酸钙、活性炭、活性氧化铝、硅胶、沸石、羟基磷灰石、磷酸锆、磷酸钛、钛酸钾、含水氧化铋、含水氧化锆、水滑石等。另外，作为沸石，例如可以举出菱沸石、丝光沸石、毛沸石、斜发沸石等天然沸石、A型沸石、X型沸石、Y型沸石等合成沸石。
并且，从本发明的效果更加优异的观点考虑，作为载体，优选所谓的陶瓷。
上述载银载体的平均粒径并没有特别限制，但从本发明的效果更加优异的观点考虑，优选为0.1～10μm，更优选为0.1～2μm。另外，上述平均粒径是通过显微镜测定至少10个任意的载银载体的直径并对这些进行算术平均而得到的值。
银类抗菌剂中的银的含量并没有特别限制，例如在上述载银载体的情况下，银的含量相对于载银载体总质量优选为0.1～10wt％，更优选为0.3～5wt％。
在上述抗菌剂中，从抗菌效果较大的角度来看，优选银粒子或载银陶瓷粒子(银陶瓷粒子)。更具体而言，可以举出作为硅酸盐类载体的沸石上载持有银的银沸石、或硅胶上载持有银的抗菌剂。
作为尤其优选的市售的银沸石类抗菌剂，有Sinanen Zeomic Co.,Ltd.的“Zeomic”或FUJI SILYSIA CHEMICAL Ltd.的“Silwell”或JAPAN ELECTRONIC MATERIALSCORPORATION的“Bactenon”等。此外，还优选将银载持于无机离子交换体陶瓷上的TOAGOSEICo.,Ltd.的“Novaron”或Catalysts&Chemicals Industries Co.,Ltd.的“Atomy ball”或三嗪类抗菌剂的“San-ai bacP”。作为银粒子，可以选用JAPAN ION Corporation的“Nanosilver”。并且，还可以选用由银化学键合于陶瓷上的银陶瓷粒子构成的Fuji ChemicalIndustries,Ltd.的“Bactekiller”、“Bacteright”。
另外，本发明中，除了含银的抗菌剂以外，还可以同时使用其他公知的抗菌剂。作为其他公知的抗菌剂，例如可以举出不含银的无机系抗菌剂、或有机系抗菌剂(优选水溶性的有机系抗菌剂)。
作为有机系抗菌剂，例如可以举出苯酚醚衍生物、咪唑衍生物、砜衍生物、N-卤代烷硫基化合物、苯胺衍生物、吡咯衍生物、季铵盐、吡啶类化合物、三嗪类化合物、苯并异噻唑啉类化合物、或异噻唑啉类化合物等。
更具体而言，可以举出1,2-苯并异噻唑啉-3-酮、N-氟二氯甲基硫代-邻苯二甲酰亚胺、2,3,5,6-四氯间苯二腈、N-三氯甲基硫-4-环己烯-1,2-二甲酰亚胺、8-喹啉酸铜、双(三丁基锡)氧化物、2-(4-噻唑基)苯并咪唑＜以后表示为TBZ＞、2-苯并咪唑氨基甲酸甲酯＜以后表示为BCM＞、10,10'-氧代双吩砒＜以后表示为OBPA＞、2,3,5,6-四氯-4-(甲磺酰)吡啶、双(2-吡啶基硫代-1-氧化物)锌＜以后表示为ZPT＞、N,N-二甲基-N'-(氟二氯甲基硫)-N'-苯磺酰胺＜苯氟磺胺＞、聚-(六亚甲基双胍)盐酸盐、二硫-2,2'-双(苯甲酰胺)、2-甲基-4,5-三亚甲基-4-异噻唑啉-3-酮、2-溴-2-硝基-1,3-丙二醇、六氢-1,3-三-(2-羟乙基)-S-三嗪、对氯间二甲苯酚等，但并不限于这些。
这些有机系抗菌剂可以考虑亲水性、耐水性、升华性、安全性等来适当地选择使用。这些有机系抗菌剂中，从亲水性、抗菌效果、成本的观点考虑，优选为2-溴-2-硝基-1,3-丙二醇、TBZ、BCM、OBPA或ZPT。
另外，作为有机系抗菌剂，还包含天然类抗菌剂。作为天然类抗菌剂，有将蟹或虾的甲壳等所含的甲壳质水解而得到的碱性多糖类的壳聚糖。
作为无机系抗菌剂，按杀菌作用较高的顺序可以举出汞、铜、锌、铁、铅、铋等。例如可以举出将铜、锌、镍等金属或金属离子载持于载体的抗菌剂。另外，作为载体，可以使用上述载体。
在上述抗菌剂中，从抗菌效果较大的角度来看，优选金属粒子(尤其优选铜粒子)或有机系抗菌剂。另外，作为有机系抗菌剂，优选2-溴-2-硝基-1,3-丙二醇、TPN、TBZ、BCM、OBPA或ZPT。
作为与含银的无机系抗菌剂同时使用的无机系抗菌剂的最优选形态，优选缓释铜离子的铜粒子、铜陶瓷粒子。
亲水加工部内的抗菌剂的含量并没有特别限制，但从污染物质的去除性及抗菌性的平衡的观点考虑，相对于亲水加工部总质量优选为0.001～15wt％，更优选为0.001～10wt％，进一步优选为0.001～5wt％。
另外，作为抗菌剂，除了含银的抗菌剂以外，还使用其他的抗菌剂时的作为抗菌剂整体的含量只要满足上述范围即可，其他的抗菌剂相对于抗菌剂整体(或含银的无机系抗菌剂)为50wt％以下，优选为20wt％以下即可。
当使用银粒子作为抗菌剂时，亲水加工部内的抗菌剂的含量相对于亲水加工部总质量优选为0.001～5wt％，更优选为0.001～2wt％，进一步优选为0.001～1wt％，尤其优选为0.001～0.1wt％。若含量为0.001wt％以上，则能够进一步提高抗菌效果。并且，若含量为5wt％以下，则既不会使亲水性下降，且经时性也不会变差，并且不会对防污性带来坏影响。
并且，银粒子的平均粒径优选为1nm～100nm，更优选为1nm～20nm。银粒子的粒径越小，表面积/体积比越大，越能够以更微少的量显现出抗菌性。
另外，平均粒径是指通过激光衍射/散射法求出的粒度分布中的积算值50％时的粒径。
亲水加工部内的上述银类抗菌剂的含量只要满足上述范围即可，但从本发明的效果更加优异的观点考虑，优选以银相对于亲水加工部总质量的含量成为0.001～20wt％(更优选为0.001～10wt％，进一步优选为0.001～5wt％)的方式使银类抗菌剂含于亲水加工部内。
并且，即使在使用有机系的银类抗菌剂作为银类抗菌剂情况下，抗菌剂的含量也只要满足上述范围即可，但从亲水加工部的机械强度更加优异且本发明的效果更加优异的观点考虑，相对于亲水加工部总质量更优选为1～5wt％。
另外，即使在使用无机系的银类抗菌剂作为银类抗菌剂的情况下，抗菌剂的含量也只要满足上述范围即可，但从亲水加工部的机械强度更加优异且本发明的效果更加优异的观点考虑，相对于亲水加工部总质量优选为0.001～10wt％，更优选为0.01～5wt％。
当使用银陶瓷粒子时，若含量相对于亲水加工部总质量为0.1wt％以上，则能够提高抗菌效果。并且，若含量为10wt％以下，则既不会使亲水性下降，且经时性也不会变差，并且不会对防污性带来坏影响。
优选银陶瓷粒子的平均粒径为0.1μm～10μm，更优选为0.1μm～2μm。
另外，作为抗菌剂，除了含银的抗菌剂以外，还使用有机系抗菌剂时，作为有机系抗菌剂相对于亲水加工部总质量的含量，从污染物质的去除性及抗菌性的平衡的观点考虑，优选为0.0005～2.5wt％。
另外，本发明中，抗菌剂可以不露出于亲水加工部的表面。
并且，亲水加工部中可以含有上述亲水性聚合物及抗菌剂以外的其他成分。
本发明中，除了含银的抗菌剂以外，亲水加工部还可以含有含金属氧化物的光催化性材料。光催化性材料与上述含银的抗菌剂同样具有抗菌作用。
光催化性材料所含的金属氧化物的种类并没有特别限制，例如可以举出TiO2、ZnO、SrTiO3、CdS、GaP、InP、GaAs、BaTiO3、BaTiO4、BaTi4O9、K2NbO3、Nb2O5、Fe2O3、Ta2O5、K3Ta3Si2O3、WO3、SnO2、Bi2O3、BiVO4、NiO、Cu2O、SiC、MoS2、InPb、RuO2、CeO2、Ta3N5等、以及具有选自Ti、Nb、Ta及V中的至少1种元素的层状氧化物。其中，从本发明的效果更加优异的观点考虑，优选金属氧化物含有选自由Zn、Ti、Ni、W、Cu、Sn、Fe、Sr及Bi构成的组中的至少1种金属原子。
另外，从本发明的效果更加优异的观点考虑，作为光催化性材料所含的金属氧化物，优选为TiO2或WO3。
光催化性材料的平均粒径并没有特别限制，优选为1nm～2μm，更优选为10nm～1.5μm，进一步优选为20nm～1μm。另外，上述平均粒径是通过显微镜测定至少10个任意的光催化性材料的直径并对这些进行算术平均而得到的值。当光催化性材料不是圆状时，将长径作为直径。
相对于亲水加工部的平均厚度T，将亲水加工部所含的光催化性材料的平均粒径设为Da时，平均厚度T与平均粒径Da之比(T/Da)优选为T/Da≤10000，更优选为T/Da≤1000，进一步优选为T/Da≤300。另外，当亲水加工部所含的光催化性材料为2种以上时，将其中平均粒径最小的种类的光催化性材料的平均粒径设为上述Da。
含银的抗菌剂的质量相对于光催化性材料的质量的质量比(含银的抗菌剂的质量/光催化性材料的质量)优选为0.01～20，更优选为0.1～10，进一步优选为0.3～3。
(水接触角)
为了提高抗菌效果，亲水加工部的表面的水接触角需显出80°以下，但从污染物质的去除性更加优异的观点考虑，优选为60°以下，更优选为30°以下，进一步优选为15°以下。
粘合剂的亲水性有助于银离子的缓释性的原因之一在于提高该亲水性及抗菌性的效果及抗菌效果，但除此以外，还推断是因为具有如下附加效果，即通过表面亲水性的提高，从而由于细菌与表面的相互作用等而银离子容易被菌所捕食等。
另外，下限并没有特别限制，从所使用的材料特性的观点考虑，5°以上的情况较多。
另外，本说明书中，根据JIS R3257：1999的静滴法测定水接触角。测定中使用NICCorporation制LSE-ME1(软件2win mini)。更具体而言，使用纯水，在室温20℃下于保持水平的亲水性加工部表面上滴加液滴2μl，测定滴加后20秒时刻的接触角。
(银离子量)
上述中叙述的作为医疗用设备的电子盒10中，在其框体18的外表面、例如前面板60的顶板64及保持部66的外表面设有亲水加工部20，当将顶板64或保持部66设为设置亲水加工部20的基材时，具备基材和亲水加工部20的带亲水加工部的基材的通过后述的提取试验测定的每单位面积的银离子量优选为15ng/cm2以上，优选为100ng/cm2以下即可，从本发明的效果更加优异的观点考虑，更优选为15～75ng/cm2，进一步优选为15～50ng/cm2。
限定上述银离子量的优选范围的原因在于，当银离子量小于15ng/cm2时，抗菌性较差，当银离子量超过100ng/cm2时，耐光性较差。
以下，对提取试验的方法进行详述。
提取试验中，将JIS Z 2801：2010中所规定的1/500普通肉汤培养基用作提取液。将该提取液的温度控制为35±1℃，使带亲水加工部的基材中的亲水加工部(亲水加工部的面积：4cm2(2cm×2cm))与提取液(液量：9mL)接触1小时。另外，作为使亲水加工部与提取液接触的方法，实施在提取液中浸渍带亲水加工部的基材的方法。
接着，1小时结束之后，从提取液中回收带亲水加工部的基材，并测定被提取至提取液中的银离子量(ng)。关于提取液中的银离子量的测定，使用原子吸光分析(IENA制contrAA700)来实施，并通过预先制作的标准曲线求出银离子量。
另外，在测定银离子量时，根据需要，为了提高测定的稳定性，优选在提取液中加入硝酸(约1mL)。
接着，将所得到的银离子量除以亲水加工部与提取液的接触面积(4cm2)而计算出每单位面积的银离子量(ng/cm2)。亲水加工部与提取液的接触面积是指使亲水加工部与提取液接触时亲水加工部表面的与提取液接触的面积，例如，图2中是指与作为亲水加工部20的基材的顶板64或保持部66侧相反侧的主表面的面积。
如此得到的银离子量表示银离子从亲水加工部的溶出(提取)程度。
(维氏硬度)
维氏硬度(HV)在硬涂性的评价中作为并非能够以铅笔硬度评价的刮痕而是用锋利的物体压入表面时的划痕容易性的指标而有效。
在以下条件下压入时的亲水加工部的维氏硬度为1.33以上即可，若为1.35以上则良好，优选为5以上，进一步优选为10以上。维氏硬度的上限为90左右。
测定条件：使用维氏硬度计(Fischer Instruments,Co.,Ltd.制)求出在载荷20mN/20s、载荷时间5s下测定时的值的n10的平均值。
(亲水加工部的平均厚度)
亲水加工部的平均厚度并没有特别限制，从污染物质的去除性及抗菌性的观点考虑，优选为0.5μm～20μm，更优选为1μm～10μm。
另外，作为亲水加工部的平均厚度的测定方法的一例，将包含亲水加工部的样品片包埋于树脂中，利用切片机削出剖面，并使用扫描电子显微镜观察所削出的剖面并对其进行测定。测定亲水加工部的任意10点位置上的厚度，并将这些进行算术平均。
关于亲水加工部的表面，无需进行特别的表面处理，是通过后述的制作方法制成的平坦面即可。
(水的吸收率)
亲水加工部的水的吸收率优选低于10wt％，更优选为2wt％以下。
当水的吸收率为10wt％以上时，亲水加工部的水分量过多而成为接近水凝胶的状态，不适合作为人通常接触、操作的面。另外，若在亲水加工部以水分的形态残留大量的消毒液，则还有可能对所接触的人带来斑疹、炎症等危害。
另外，本说明书中，亲水加工部的水的吸收率是指相对于亲水加工部的干燥重量的百分比。亲水加工部的水的吸收率通过如下方式进行测定。
分别准备100片在规定尺寸(10cm×10cm见方)的薄膜上形成有亲水加工部的带亲水加工部的样品(以下，称为亲水加工样品)和无亲水加工部的样品(以下，称为非亲水加工样品)这2种，以备使用。
首先，测定亲水加工部的重量。测定亲水加工样品和非亲水加工样品这2种的重量差量。在此，分别使用样品100片来求出平均值。
接着，将亲水加工样品在23℃的水中浸渍24小时。擦抹膜中所含有的水分以外的水滴。测定亲水加工样品的重量。接着，在80℃的烘箱中放置24小时使其干燥之后测定重量。亲水加工样品的干燥前后的重量差为吸水量。吸水量与上面求出的亲水加工部的重量之比(百分比)成为亲水加工部的吸水率。
另外，当无法忽视除亲水加工部以外的薄膜的吸水量时，可以将其进行测定并校正吸水量。将非亲水加工样品在23℃的水中浸渍24小时。擦抹膜中所含的水分以外的水滴。测定非亲水加工样品的重量。接着，在80℃的烘箱中放置24小时使其干燥之后测定重量。干燥前后的重量差为薄膜的吸水量。从亲水加工样品的干燥前后的重量差即吸水量减去薄膜的吸水量而得到的差量为经校正的亲水加工部的吸水量。该经较正的吸水量与亲水加工部的重量之比(百分比)为经较正的亲水加工部的吸水率。
(亲水加工部的制作)
上述亲水加工部的制作方法并没有特别限制，可以采用公知的方法。例如可以举出涂布含有上述亲水性聚合物及抗菌剂的组合物而形成亲水加工部的方法、或将另行制作的含有亲水性聚合物及抗菌剂的聚合物薄膜贴附于规定位置的方法等。
其中，从亲水加工部的厚度的调整更加容易的观点考虑，优选通过将上述的含有具有亲水性基团的单体及抗菌剂的亲水加工部形成用组合物(以后，也简称为“组合物”)涂布于规定位置而形成涂膜，并对涂膜实施固化处理来形成亲水加工部的方法(涂布法)。
组合物中含有上述的具有亲水性基团的单体及抗菌剂，但也可以含有其他成分(上述以外的单体、溶剂(水或有机溶剂))。
另外，组合物中还可以含有聚合引发剂。通过含有聚合引发剂，更有效地进行涂膜中的聚合，形成机械强度优异的亲水加工部。聚合引发剂的种类并没有特别限制，可以通过固化处理方法选择最佳的种类，例如可以选择热聚合引发剂、光聚合引发剂。更具体而言，可以举出二苯甲酮、苯基氧化膦等芳香族酮类、α-羟烷基苯酮类化合物(BASFIRGACURE184、127、2959、DAROCUR1173等)、苯基氧化膦类化合物(MAPO：BASF LUCIRIN TPO、BAPO：BASF IRGACURE 819)等。
组合物中所含的聚合引发剂的含量并没有特别限制，相对于具有亲水性基团的单体及其他单体的总计质量，优选为0.1～15wt％，更优选为1～6wt％。
涂布组合物的方法并没有特别限制，可以采用公知的涂布方法。
并且，固化处理的方法并没有特别限制，可以举出加热处理或光照射处理。
本实施方式所涉及的移动式放射线摄像装置10基本上如上构成，接着对其作用效果进行说明。
为了获取被摄体的放射线图像，首先，洗涤移动式放射线摄像装置10的至少照射面19侧的外表面20，优选洗涤框体18的整个外表面。即，利用含有消毒液的揩抹器擦抹框体18。作为消毒液，优选使用乙醇水溶液或次氯酸钠水溶液。
如上所述，在移动式放射线摄像装置10的框体18的外表面设有亲水加工部。而且，该亲水加工部中，即使在未被照射光的暗处，水接触角也是80°以下。因此，即使在暗处保管移动式放射线摄像装置10，框体18的外表面也会显现出充分的亲水性。
通过该亲水性，框体18的外表面被消毒液充分润湿。换言之，消毒液在框体18的外表面充分扩展润湿。因此，即使在该时刻倘若在框体18的外表面残留有细菌，消毒液也会长时间接触该细菌。并且，由于在框体18的外表面的亲水加工部内含有抗菌剂，因此抗菌剂对细菌起作用。因此，能够比以往提高杀菌能力，能够抑制细菌的繁殖。
即，即使在暗处保管移动式放射线摄像装置10的情况下，也能够在取出后立即进行消毒。
在使如此洗涤的移动式放射线摄像装置10的框体18的照射面19与被摄体接触的状态下，医生或放射线技师(拍摄人员)从放射线源向被摄体的拍摄部位照射放射线Ray。放射线Ray透射被摄体的拍摄部位并通过移动式放射线摄像装置10的照射面19，到达放射线检测器12的闪烁器29。
闪烁器29发出与放射线Ray的透射量相对应的量的荧光(可见光)。另一方面，在设置于TFT基板30的传感器部生成并积蓄与该荧光的量(发光量)相对应的量的电荷。通过从控制部读出与该电荷有关的信息来得到被摄体的拍摄部位的放射线图像。
有时在手术室或急救室等使用移动式放射线摄像装置10。在该情况下，患者(被摄体)的血液或体液有可能附着于框体18。可以考虑为了去除这种污染物质而用流水进行清洗，但此时蓄电池安装部或连接器连接部被水润湿，担心发生故障。
因此，在拍摄结束之后，利用含有乙醇水溶液或次氯酸钠水溶液等消毒液的揩抹器擦抹框体18。在该情况下，也与上述同样，由于在框体18的外表面设有亲水加工部20，因此消毒液在框体18的外表面扩展润湿，被消毒液充分润湿。
因此，当框体18附着有污染物质时，水或消毒液进入到亲水加工部与污染物质之间。其结果，污染物质容易从框体18脱落。即，能够容易去除污染物质。
即，对框体18的外表面进行亲水加工，并使亲水加工部的水接触角充分减小，因此用含有消毒液的湿布或浸渍了乙醇水溶液等消毒液的揩抹器或流水清洗表面时，通过水分进入到污染物质与亲水加工部的表面之间，与非亲水加工面相比时，更容易去除污染物质，能够进一步降低污染物质的残留风险。
而且，由于表面的润湿性较高，因此消毒液充分润湿，消毒液停留在框体18的外表面上的时间延长，因此即使来自污染物质的细菌残留在外表面，消毒液也会长时间接触细菌，从而能够确保充分的消毒效果。并且，由于在框体18的外表面的亲水加工部内含有抗菌剂，因此能够兼顾亲水性和抗菌性，清洗消毒后，抗菌剂也会对微量生存的细菌等起作用。因此，能够比以往提高杀菌能力，能够抑制细菌的繁殖。
如此，通过在框体18的外表面设置亲水加工部，能够从以往难以用流水进行清洗的移动式放射线摄像装置去除污染物质，且当用消毒液进行消毒时能够容易进行杀菌能力得到提高的消毒。
根据本实施方式，能够容易净化拍摄后的移动式放射线摄像装置10的框体18。并且，由于在框体18的外表面的亲水加工部含有抗菌剂，因此可以得到细菌的繁殖得到抑制且长时间持续净化状态的优点。
(实施方式2)
(移动式放射线摄像装置)
接着，以下对作为本发明所涉及的实施方式2的设备的移动式放射线摄像装置进行说明。与实施方式1相比，本实施方式的特征为具有所谓的单壳型框体。
图3是实施方式2所涉及的移动式放射线摄像装置70的整体概略立体图。该移动式放射线摄像装置70通过由框体72的外侧面形成外表面且在框体72的内部容纳放射线检测器74而构成。
该放射线检测器74具备未图示的闪烁器、传感器部等。并且，放射线检测器74中设有电荷放大器IC、通信部(均未图示)等。
框体72由长边方向两端开口的开口端部即主体部件76、封闭开口端部的第1盖部件78及第2盖部件80构成。主体部件76在内部具有空洞，是所谓的筒型形状。这些主体部件76、第1盖部件78及第2盖部件80可以均由能够使放射线透射的树脂材料构成。
在第1盖部件78上设有蓄电池安装部82和连接器连接部84等外部设备连接部。通过安装于蓄电池安装部82的蓄电池(未图示)供给驱动电流，并且经由安装于连接器连接部84的连接器(未图示)，在移动式放射线摄像装置70与外部设备之间进行有线通信。另外，当然也可以代替有线通信而进行无线通信。
另外，如图3所示，可以在第1盖部件78上设置显示部88等。显示部88由LED灯等构成，用于显示电子盒70的驱动状态等。
构成框体72的主体部件76、第1盖部件78及第2盖部件80的一端面(放射线源侧的面)为被照射放射线的照射面86，与患者即被摄体(未图示)接触。在这些主体部件76、第1盖部件78及第2盖部件80的至少与被摄体接触的部分(即，被照射放射线的面)上与上述移动式放射线摄像装置10同样设有由亲水性层构成的亲水加工部87。另外，不仅是主体部件76、第1盖部件78及第2盖部件80的与被摄体接触的部分，也可以在有可能与拍摄人员接触的整个外表面设置亲水加工部。
在该情况下，内部容纳有放射线检测器74的主体部件76的开口端部被第1盖部件78及第2盖部件80封闭，由此会形成所谓的单壳型的框体72，并且构成移动式放射线摄像装置70。另外，主体部件76只要能够在内部容纳放射线检测器74，则两端部未必一定是开口端部。例如，可以是只有一端部为开口端部，通过盖部件封闭该开口端部。
在该移动式放射线摄像装置70中，也可以得到与实施方式1所涉及的移动式放射线摄像装置10相同的效果。另外，例如，在与被摄体接触的部分从连接器连接部84等外部设备连接部大幅隔开时等、即使用流水清洗与被摄体接触的部分也无需担心外部设备连接部被水润湿的放射线摄像装置的情况下，可以用流水清洗与被摄体接触的部分。在该情况下，水由于亲水加工部的存在而进入到污染物质与外表面之间，因此也能够容易去除污染物质，能够抑制细菌的繁殖。
另外，在图3所示的移动式放射线摄像装置70中，第2盖部件80能够嵌合或粘接/熔敷于主体部件76。当粘接或熔敷而设为可再剥离地安装第1盖部件78的结构时，能够将第1盖部件78以外的部分浸渍于清洗液中。此时，虽未图示，但蓄电池安装部82及连接器连接部84可以盖上由弹性体制成的盖，以防止不小心被水润湿。并且，虽未图示，但第1盖部件78可以用O型圈等实现防水。
在该情况下，由于在框体72上设有亲水加工部，因此也能够容易去除污染物质，能够抑制细菌的繁殖。
该实施方式中，虽未图示，但可以在第1盖部件78上设有装卸式把手或容纳式把手。另外，如这种图3所示的移动式放射线摄像装置70那样，在单壳结构的框体72上容易进行粘贴，因此也可以粘贴设有经抗菌加工的亲水加工部的自粘结性薄片。
(实施方式3)
(乳房X射线摄影装置)
接着，以下对作为本发明所涉及的实施方式3的设备的乳房X射线摄影装置进行说明。
本发明的设备可以是如图4所示的乳房X射线摄影装置90。在该情况下，与被摄体接触的部分为外表面，外表面设有含有抗菌剂且经抗菌加工的亲水加工部。亲水加工部例如可以优选设置于护脸罩92、乳房台94或乳房压迫板96。
有时患者的口红或皮脂附着于护脸罩92，泄漏奶水或活组织检查(真空辅助乳腺微创旋切活检)时的出血所产生的血液、皮脂有时附着于乳房台94及乳房压迫板96。通过在护脸罩92、乳房台94、或乳房压迫板96设置亲水加工部，能够通过揩拭来简便去除口红、奶水、血液、皮脂，并且，由于消毒时消毒液的润湿性较高，因此能够比以往提高杀菌能力。
另外，通过设置经抗菌加工的亲水加工部，能够对揩拭后残留的菌类抑制繁殖或进行杀菌。
(实施方式4)
(立式摄像用放射线摄像装置)
接着，以下对作为本发明所涉及的实施方式4的设备的立式摄像用放射线摄像装置进行说明。
本发明的设备可以是如图5所示的立式摄像用放射线图像诊断装置100。在该情况下，优选在拍摄时与被摄体接触的摄像台102的外表面或拍摄时由被摄体把持的握柄104、106的外表面设置含有抗菌剂且经抗菌加工的亲水加工部。另外，可以在包括与拍摄人员接触的操作板部在内的其他部分的外表面也适当设置经抗菌加工的亲水加工部。
(CR盒)
并且，可以在进行拍摄时容纳计算机X线摄像(CR，computed radiography)中所使用的成像板的CR盒的外表面也适当设置含有抗菌剂且经抗菌加工的亲水加工部。在该情况下，与移动式放射线摄像装置同样地优选在与被摄体接触的拍摄面的表面或有可能与拍摄人员接触的整个外表面设置这种亲水加工部。
(栅极)
另外，在通过移动式放射线摄像装置或CR盒进行拍摄时，优选在用于去除散射线且改善对比度的栅极的表面也设置含有抗菌剂且经抗菌加工的亲水加工部。
并不限于上述例，可以在与被摄体接触且有可能附着污染物质的放射线摄像装置的外表面设置含有抗菌剂且经抗菌加工的亲水加工部。
(实施方式5)
(触摸面板)
接着，以下对作为本发明所涉及的实施方式5的设备的触摸面板进行说明。
本发明的设备可以是如图6所示的安装于显示装置110的触摸面板112。在该情况下，优选在医疗从事人员或患者等操作者(用户)手指等所接触的触摸面板的罩部件120设置含有抗菌剂且经抗菌加工的亲水加工部130。另外，可以在与操作者接触的其他部分也设置经抗菌加工的亲水加工部。另外，亲水加工部130与在上述实施方式1中说明的亲水加工部相同，因此省略其说明。
如图6所示，显示装置110具有：静电电容式触摸面板112，检测从输入面112a(箭头Z1方向侧)的接触位置；显示单元114，能够显示彩色图像和/或单色图像；及框体116，容纳触摸面板112及显示单元114。经由设置于框体116的一面(箭头Z1方向侧)的较大的开口部，用户能够使用触摸面板112。
触摸面板112具备：导电性薄膜118，具有网格状配线层；罩部件120，层叠于导电性薄膜118的一个面(箭头Z1方向侧)；挠性基板124，经由电缆122电连接于导电性薄膜118；及检测控制部126，配置于挠性基板124上。
在显示单元114的一面(箭头Z1方向侧)经由粘接层128粘接有导电性薄膜118。导电性薄膜118以另一个面侧(箭头Z2方向侧)与显示单元114对置的方式配置于显示画面上。
罩部件120通过包覆导电性薄膜118的一面而发挥作为输入面112a的功能。并且，通过防止接触体132(例如，手指或触控笔)的直接接触，能够抑制擦伤的发生或尘埃的附着等，能够使导电性薄膜118的导电性变得稳定。
罩部件120的材质例如可以是玻璃、树脂薄膜。可以以用氧化硅等涂布罩部件120的一面(箭头Z2方向侧)的状态密合于导电性薄膜118的一面(箭头Z1方向侧)。并且，为了防止由摩擦等产生的损伤，可以贴合导电性薄膜118及罩部件120而构成。
挠性基板124为具备挠性的电子基板。本图示例中，固定于框体116的侧面内壁，但配设位置可以进行各种变更。检测控制部126构成电子电路，所述电子电路在作为导体的接触体132与输入面112a接触(或靠近)时，掌握接触体132与导电性薄膜118之间的静电电容的变化而检测该接触位置(或靠近位置)。
在成为触摸面板112的输入面112a的罩部件120的表面(箭头Z1方向侧)形成有亲水加工部130。亲水加工部130可以形成于成为输入面112a的罩部件120的表面的整个面，也可以形成于其一部分，但优选形成于与接触体132接触的区域的整个区域。触摸面板112的输入面112a与用户的手指等接触体132接触，因此容易附着污染物质，但由于在接触体132与成为输入面112a的罩部件120的表面之间存在亲水加工部130而水会进入到污染物质与外表面之间，因此能够容易去除污染物质，能够抑制细菌的繁殖，并且也不易留下用户的手指等的指纹，不会阻碍或降低显示单元114的显示画面的视觉辨认度。
(实施方式6)
(保护片)
接着，以下对本发明所涉及的实施方式6的保护片进行说明。
如图7(A)所示，本发明的保护片140具有：薄片主体142；亲水加工部144，形成于薄片主体142的一个外侧面；粘结层146，形成于薄片主体142的与一个外侧面相反侧的另一个表面；及剥离片148，层叠于与薄片主体142相反侧的粘结层146的表面。
另外，本发明的保护片并不限定于如图7(A)所示的保护片140那样亲水加工部144形成于薄片主体142的一个外表面的整个面的保护片，也可以是如图7(B)所示的保护片141那样形成于薄片主体142的一个外表面的一部分的保护片。
本发明的保护片140及141用于将亲水加工部144与薄片主体142的层叠体形成于上述本发明中所使用的各种设备例如实施方式1～5的亲水加工部形成面。
图7(A)及(B)所示的例子中，保护片140及141具有粘结层146，因此通过从粘结层146剥离出剥离片148，并将粘结层146粘接于上述各种设备的亲水加工部形成面例如图1所示的移动式放射线摄像装置10的照射面19等、图3所示的移动式放射线摄像装置70的照射面86等、图4所示的乳房X射线摄影装置90的护脸罩92、乳房台94或乳房压迫板96等、图5所示的立式摄像用放射线图像诊断装置100的摄像台102、握柄104、106等、图6所示的触摸面板112的输入面112a(罩部件120的表面)等，由此能够将亲水加工部144与薄片主体142的层叠体通过粘结层146贴附安装于亲水加工部形成面。
另外，图7(A)及图7(B)所示的例子中，保护片140及141除了亲水加工部144与薄片主体142的层叠体以外，还具有粘结层146，但本发明并不限定于此，也可以仅由亲水加工部144与薄片主体142的层叠体构成。当保护片140及141仅由亲水加工部144与薄片主体142的层叠体构成时，可以另行在亲水加工部形成面或薄片主体142的表面涂布粘接剂等而形成粘接剂层等，并在亲水加工部形成面贴附亲水加工部144与薄片主体142的层叠体来形成亲水加工部144。
另外，亲水加工部144与在上述实施方式1中说明的亲水加工部相同，因此省略其说明。
薄片主体142支撑形成于其一个外表面的整个面或其一部分区域的亲水加工部144。另外，亲水加工部144可以形成于薄片主体142的一个外表面的整个面，也可以形成于其一部分，但优选形成于整个面。
作为薄片主体142，只要能够支撑亲水加工部144，则并没有特别限制，可以是任何薄片主体，可以使用公知的薄片。例如可以使用聚对苯二甲酸乙二酯薄膜、聚对苯二甲酸丁二酯薄膜(PBT)、聚酰亚胺薄膜、三乙酰纤维素薄膜等。作为PET，例如可以使用TORAYINDUSTRIES,INC.制Lumirror U34、TOYOBO CO.,LTD.制Cosmo Shine A4300、TEIJINLIMITED制O3916W等。并且，可以在表面设有易粘接层。
并且，薄片主体142的厚度也没有特别限制，可以优选使用10μm～200μm。当贴附对象为电阻膜方式的触摸面板时，有必要追随柔软的表面，优选为10μm～100μm，进一步优选为10μm～50μm。并且，当静电电容方式的触摸面板时，从易粘贴性观点考虑，可以优选使用50μm～100μm。
粘结层146用于将亲水加工部144与薄片主体142的层叠体粘接于上述各种设备的亲水加工部形成面。粘结层146只要能够将亲水加工部144与薄片主体142的层叠体粘接于各种亲水加工部形成面，则可以是任何粘结层，可以是使用公知的粘结剂形成的粘结层。另外，作为能够使用于粘结层146的粘结剂并没有特别限定，例如可以举出(甲基)丙烯酸类粘结剂、橡胶类粘结剂、硅酮类粘结剂、氨基甲酸酯类粘结剂、聚酯类粘结剂等。当用于触摸面板的表面时，考虑重复贴附、剥离、以及以不带气泡的方式贴附，还可以优选使用自粘结性粘结剂。在此，(甲基)丙烯酸类粘结剂是指丙烯酸类粘结剂和/或甲基丙烯酸类粘结剂(甲基丙烯酸类粘结剂)。作为该(甲基)丙烯酸类粘结剂，可以使用用于后述的粘结片的(甲基)丙烯酸类粘结剂。
作为粘结层的形成方法并没有特别限制，例如可以举出涂布方式或印刷方式、贴合方式等，其中，可以优选使用通过涂布而设置的方法及贴附粘结片而形成的方法，更优选贴附粘结片而形成的方法。
并且，粘结层146的厚度也没有特别限制，但优选为1μm～30μm。若粘结层的厚度为1μm以上，则基于共挤出的稳定制膜变得稳定，若为30μm以下，则材料成本变得低廉。此时，当增大粘结力时，优选考虑其粘性而增大粘结层的厚度。这是因为，通过增大粘结层的厚度，与包覆体的接触面积容易变大。粘结层的厚度优选为2μm～20μm，更优选为3μm～15μm。
并且，粘结层146的粘结力也并没有特别限制，使用方面优选为2cN/25mm～20cN/25mm的范围。若粘结力为2cN/25mm以上，则贴附于触摸面板等的表面而使用时不易发生掀起等。另一方面，若粘结力为20cN/25mm以下，则剥离薄膜时能够顺畅地进行剥离。
直至使用保护片140时为止，剥离片148是为了保护粘结层146而粘接于粘结层146。剥离片148只要能够保护粘结层146，则可以是任何剥离片，可以使用公知的剥离片148。例如，可以使用硅酮类化合物或长链烷基类化合物、聚乙烯醇-氨基甲酸酯等脱模剂。
并且，剥离片148的厚度也没有特别限制，但优选为1μm～30μm。若剥离片的厚度为1μm以上，则基于共挤出的稳定制膜变得稳定，30μm以下时材料成本变得低廉。剥离片的厚度优选为2μm～20μm，进一步优选为3μm～15μm。
(实施方式7)
(抗菌膜)
接着，以下对形成有本发明所涉及的实施方式7的抗菌膜的带抗菌膜的基材进行说明。
图8(A)所示的带抗菌膜的基材150具有基材152及形成于基材152的一个外侧面(图示例中为上侧面)的亲水性部154，亲水性部154构成本发明的抗菌膜156。
另外，本发明的抗菌膜156并不限定于如图8(A)所示那样由形成于基材152的一个外表面的整个面的亲水性部154构成，也可以如图8(B)所示的带抗菌膜的基材150A那样以包含形成于基材152的一个外表面的一部分的亲水性部154的方式形成于基材152的一个外表面的整个面，也可以如图8(C)所示的带抗菌膜的基材150B那样由形成于基材152的一个外表面的一部分的亲水性部154构成。
作为图8(A)、图8(B)及图8(C)所示的带抗菌膜的基材150、150A及150B的基材152，可以举出构成上述各种设备的亲水加工部形成面的部件例如构成图1及图2所示的移动式放射线摄像装置10的照射面19的顶板64及保持部66等、构成图3所示的移动式放射线摄像装置70的照射面86的主体部件76等、图4所示的乳房X射线摄影装置90的护脸罩92、乳房台94或乳房压迫板96等、图5所示的立式摄像用放射线图像诊断装置100的摄像台102、握柄104、106等医疗用设备的部件、构成图6所示的触摸面板112的输入面112a的罩部件120等，并且可以举出用于贴附于构成这些设备的亲水加工部形成面的部件的保护片例如图7(A)及图7(B)所示的保护片140及141的薄片主体142等。
但是，本发明中，作为基材152并不限定于此，当然也可以适用于由于与人接触的机会较多而具有要求抗菌性的外表面的部件例如马桶、马桶座等卫生陶器；各种部件(金属、树脂)的扶手、住宅的墙壁、门(窗户)、窗户玻璃等；书桌或餐桌等家具；冰箱、炊具、吸尘器、洗衣机、音响设备、TV等家电产品等。
图8(A)、图8(B)及图8(C)所示的带抗菌膜的基材150、150A及150B的亲水性部154配置于基材152表面的至少一部分。具体而言，亲水性部154可以如图8(A)所示的带抗菌膜的基材150那样配置于基材152的一侧表面的整个面，也可以如图8(B)及图8(C)所示的带抗菌膜的基材150A及150B那样仅配置于基材152表面的一部分。并且，基材152可以如图8(A)及图8(C)所示的带抗菌膜的基材150及150B那样构成抗菌膜156整体，也可以如图8(B)所示的带抗菌膜的基材150A那样仅构成抗菌膜156的一部分。
作为亲水性部154，可以举出本发明的亲水加工部，具体而言，可以举出形成于上述部件或薄片主体的外表面的亲水加工部例如形成于图1及图2所示的移动式放射线摄像装置10的照射面19的亲水加工部20、形成于图3所示的移动式放射线摄像装置70的照射面86的亲水加工部87等医疗用设备的部件、形成于图6所示的触摸面板112的输入面112a的亲水加工部130等，并且可以说是具有与例如图7(A)及图7(B)所示的保护片140及141的亲水加工部144等完全相同的结构的亲水性部。
即，本发明的亲水性部具有与上述本发明的亲水加工部完全相同的结构，因此在此省略说明。
图8(A)、图8(B)及图8(C)所示的带抗菌膜的基材150、150A及150B的抗菌膜156是配置于基材152表面的至少一部分且具有抗菌作用的膜，至少一部分为亲水性。即，抗菌膜156的至少一部分由亲水性部154构成。
具体而言，抗菌膜156可以如图8(A)及图8(B)所示的带抗菌膜的基材150及150A那样配置于基材152的一侧表面的整个面，也可以如图8(C)所示的带抗菌膜的基材150B那样仅配置于基材152表面的一部分。并且，抗菌膜156可以如图8(A)及图8(C)所示的带抗菌膜的基材150及150B那样抗菌膜156全部由亲水性部154构成，也可以如图8(B)所示的带抗菌膜的基材150A那样只有抗菌膜156的一部分由亲水性部154构成。
抗菌膜含有至少1种含银的抗菌剂。在此，含银的抗菌剂(银类抗菌剂)与上述银类抗菌剂相同，因此省略其说明。
另外，本发明中，与亲水加工部中的情况同样地，抗菌膜中的上述银类抗菌剂的含量并没有特别限制，从本发明的效果更加优异的观点考虑，优选以银相对于抗菌膜总质量的含量成为0.001～20wt％(优选为0.001～10wt％，更优选为0.001～5wt％)的方式使银类抗菌剂含于抗菌膜。
并且，当使用有机系的抗菌剂作为银类抗菌剂时，抗菌剂的含量并没有特别限制，从抗菌膜的机械强度更加优异且本发明的效果更加优异的观点考虑，相对于抗菌膜总质量，优选为1～4质量％。
另外，当使用无机系的抗菌剂作为银类抗菌剂时，抗菌剂的含量并没有特别限制，从抗菌膜的机械强度更加优异且本发明的效果更加优异的观点考虑，相对于抗菌膜总质量，优选为0.001～10wt％，更优选为0.01～5wt％。
(带抗菌膜的基材)
上述中叙述的具备基材和抗菌膜的带抗菌膜的基材可以说是带亲水性部的基材，与上述带亲水加工部的基材的情况同样地，优选通过上述提取试验测定的每单位面积的银离子量为15ng/cm2以上，更优选为15～100ng/cm2，进一步优选为15～75ng/cm2，尤其优选为15～50ng/cm2。其原因也如上所述。
上述例子中，抗菌膜是形成于基材而使用的，但本发明并不限定于此，抗菌膜当然也可以单独使用。
(抗菌膜的制造方法)
抗菌层膜的制造方法并没有特别限制，可以采用公知的方法。例如可以举出网版印刷法、浸涂法、喷涂法、旋涂法、喷墨法、棒涂法等涂布法。
[实施例]
[实施例1]
图7(A)所示的保护片140中，在成为薄片主体142的表面上具有易粘接层的PET基体(Cosmo Shine A4300(TOYOBO CO.,LTD.制)，厚度50μm)上涂布含有后述的含抗菌剂的亲水加工部形成用组合物(以下，称为抗菌涂膜形成用组合物)的涂布剂并进行固化(紫外线照射处理)，从而设置成为亲水加工部144的抗菌涂膜。抗菌涂膜的平均厚度为约2μm。
将安装型(mount type)的Gel Poly Sheet(PANAC Corporation制)的强粘结侧贴附于PET基体的背面而制作出作为带粘结层的薄膜的实施例1的保护片。另外，Gel PolySheet的规格为即使在贴附于玻璃等的表面时也不易带气泡，该Gel Poly Sheet适合于将保护片贴附于触摸面板等的表面。
(抗菌涂膜形成用组合物)
组合物中含有以下成分。
具有亲水性基团的单体：
Miramer M4004(Toyo Chemicals Co.,Ltd.制) 37质量份
具有亲水性基团的单体：
Miramer M3150(Toyo Chemicals Co.,Ltd.制) 37质量份
抗菌剂：银陶瓷粒子分散液(Fuji Chemical Industries,Ltd.制，平均粒径0.8μm，抗菌剂浓度50wt％) 1质量份
交联剂：A-DPH(Shin-Nakamura ChemicalCo.,Ltd.制) 22质量份
聚合引发剂：IRGACURE 184(BASF公司制) 3质量份
溶剂：甲氧基丙醇 150质量份
由于溶剂挥发，因此其以外的成分为亲水加工部的质量。以下实施例中也相同。
[实施例2]
实施例1中，如下改变作为抗菌涂膜形成用组合物的成分的具有亲水性基团的单体，除此以外，与实施例1同样地制作出实施例2的保护片。
另外，单体Miramer M420不含亲水性基团。
具有亲水性基团的单体：
Miramer M4004(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 34质量份
具有亲水性基团的单体：
Miramer M3150(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 34质量份
单体：
Miramer M420(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 6质量份
[实施例3]
实施例2中，分别如下改变作为抗菌涂膜形成用组合物的成分的具有亲水性基团的单体和单体的调配量，除此以外，与实施例2同样地制作出实施例3的保护片。
具有亲水性基团的单体：
Miramer M4004(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 32质量份
具有亲水性基团的单体：
Miramer M3150(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 32质量份
单体：
Miramer M420(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 10质量份
[实施例4]
实施例2中，分别如下改变作为抗菌涂膜形成用组合物的成分的具有亲水性基团的单体和单体的调配量，除此以外，与实施例2同样地制作出实施例4的保护片。
具有亲水性基团的单体：
Miramer M4004(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 30质量份
具有亲水性基团的单体：
Miramer M3150(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 30质量份
单体：
Miramer M420(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 14质量份
[实施例5]
实施例4中，分别如下改变单体和抗菌剂的调配量，除此以外，与实施例4同样地制作出实施例5的保护片。
单体：
Miramer M420(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 13质量份
抗菌剂：银陶瓷粒子分散液(Fuji Chemical Industries，Ltd.制，平均粒径0.8μm，抗菌剂浓度50wt％) 2质量份
[实施例6]
实施例4中，分别如下改变单体和抗菌剂的调配量，除此以外，与实施例4同样地制作出实施例6的保护片。
单体：
Miramer M420(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 12质量份
抗菌剂：银陶瓷粒子分散液(Fuji Chemical Industries，Ltd.制，平均粒径0.8μm，抗菌剂浓度50wt％) 3质量份
[实施例7]
实施例4中，分别如下改变单体和抗菌剂的调配量，除此以外，与实施例4同样地制作出实施例7的保护片。
单体：
Miramer M420(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 10质量份
抗菌剂：银陶瓷粒子分散液(Fuji Chemical Industries，Ltd.制，平均粒径0.8μm，抗菌剂浓度50wt％) 5质量份
[实施例8]
实施例7中，分别如下改变作为抗菌涂膜形成用组合物的成分的具有亲水性基团的单体和单体的调配量，除此以外，与实施例7同样地制作出实施例8的保护片。
具有亲水性基团的单体：
Miramer M4004(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 25质量份
具有亲水性基团的单体：
Miramer M3150(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 25质量份
单体：
Miramer M420(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 24质量份
[实施例9]
实施例1中，如下改变作为抗菌涂膜形成用组合物的成分的具有亲水性基团的单体，除此以外，与实施例1同样地制作出实施例9的保护片。
具有亲水性基团的单体：
Miramer M4004(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 34质量份
具有亲水性基团的单体：
Miramer M3150(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 34质量份
单体：
Miramer M420(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 2质量份
亲水性聚合物：PEG200(KANTO CHEMICAL CO.，INC.制) 4质量份
[实施例10]
实施例9中，分别如下改变各种材料的调配量，除此以外，与实施例9同样地制作出实施例10的保护片。
具有亲水性基团的单体：
Miramer M4004(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 32质量份
具有亲水性基团的单体：
Miramer M3150(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 32质量份
单体：
Miramer M420(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 2质量份
亲水性聚合物：PEG200(KANTO CHEMICAL CO.，INC.制) 8质量份
[实施例11]
实施例1中，在抗菌涂膜形成用组合物中还追加了以下的银粒子分散液，除此以外，与实施例1同样地制作出实施例11的保护片。
抗菌剂：银粒子分散液(JAPAN ION Corporation制，粒径约7～10nm，银粒子浓度1wt％) 1质量份
[实施例12]
实施例10中，在抗菌涂膜形成用组合物中还追加了以下的银粒子分散液，除此以外，与实施例10同样地制作出实施例12的保护片。
抗菌剂：银粒子分散液(JAPAN ION Corporation制，粒径约7～10nm，银粒子浓度1wt％) 1质量份
[实施例13]
实施例2中，分别如下改变各种材料的调配量，除此以外，与实施例2同样地制作出实施例13的保护片。
具有亲水性基团的单体：
Miramer M4004(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 10质量份
具有亲水性基团的单体：
Miramer M3150(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 10质量份
单体：
Miramer M420(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 54质量份
[实施例14]
实施例9中，分别如下改变各种材料的调配量，除此以外，与实施例9同样地制作出实施例14的保护片。
具有亲水性基团的单体：
Miramer M4004(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 30质量份
具有亲水性基团的单体：
Miramer M3150(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 30质量份
亲水性聚合物：PEG200(KANTO CHEMICAL CO.，INC.制) 14质量份
[实施例15]
实施例1中，如下改变作为抗菌涂膜形成用组合物的成分的具有亲水性基团的单体和单体的调配量及抗菌剂成分，除此以外，与实施例1同样地制作出实施例15的保护片。成为T/Da＝100。
具有亲水性基团的单体：
Miramer M4004(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 28质量份
具有亲水性基团的单体：
Miramer M3150(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 28质量份
单体：
Miramer M420(Toyo Chemicals Co.，Ltd.制) 17质量份
抗菌剂：银陶瓷粒子与氧化钛粒子的混合分散液(在银陶瓷粒子分散液(FujiChemical Industries，Ltd.制，平均粒径0.8μm，抗菌剂浓度50wt％)0.9质量份中添加并混合氧化钛粒子(NIPPON AEROSIL CO.，LTD.制，平均粒径20nm)0.55质量份。) 1.45质量份
[实施例16]
实施例15中，改变抗菌剂成分的调配量，除此以外，与实施例15同样地制作出实施例16的保护片。
抗菌剂：银陶瓷粒子与氧化钛粒子的混合分散液(在银陶瓷粒子分散液(FujiChemical Industries，Ltd.制，平均粒径0.8μm，抗菌剂浓度50wt％)1.2质量份中添加并混合氧化钛粒子(NIPPON AEROSIL CO.，LTD.制，平均粒径20nm)0.4质量份。) 1.6质量份
[实施例17]
实施例15中，改变抗菌剂成分的调配量，除此以外，与实施例15同样地制作出实施例17的保护片。
抗菌剂：银陶瓷粒子与氧化钛粒子的混合分散液(在银陶瓷粒子分散液(FujiChemical Industries，Ltd.制，平均粒径0.8μm，抗菌剂浓度50wt％)0.6质量份中添加并混合氧化钛粒子(NIPPON AEROSIL CO.，LTD.制，平均粒径20nm)0.7质量份。) 1.3质量份
[实施例18]
实施例15中，改变抗菌剂成分的调配量，除此以外，与实施例15同样地制作出实施例18的保护片。
抗菌剂：银陶瓷粒子与氧化钛粒子的混合分散液(在银陶瓷粒子分散液(FujiChemical Industries，Ltd.制，平均粒径0.8μm，抗菌剂浓度50wt％)2.5质量份中添加并混合氧化钛粒子(NIPPON AEROSIL CO.，LTD.制，平均粒径20nm)1.25质量份。) 3.75质量份
[实施例19]
实施例15中，改变抗菌剂成分的调配量，除此以外，与实施例15同样地制作出实施例19的保护片。
抗菌剂：银陶瓷粒子与氧化钛粒子的混合分散液(在银陶瓷粒子分散液(FujiChemical Industries，Ltd.制，平均粒径0.8μm，抗菌剂浓度50wt％)1.5质量份中添加并混合氧化钛粒子(NIPPON AEROSIL CO.，LTD.制，平均粒径20nm)0.25质量份。) 1.75质量份
[实施例20]
实施例15中，改变抗菌剂成分的调配量，除此以外，与实施例15同样地制作出实施例20的保护片。
抗菌剂：银陶瓷粒子与氧化钛粒子的混合分散液(在银陶瓷粒子分散液(FujiChemical Industries，Ltd.制，平均粒径0.8μm，抗菌剂浓度50wt％)0.12质量份中添加并混合氧化钛粒子(NIPPON AEROSIL CO.，LTD.制，平均粒径20nm)0.19质量份。) 0.31质量份
[实施例21]
实施例15中，改变抗菌剂成分的调配量，除此以外，与实施例15同样地制作出实施例21的保护片。
抗菌剂：银陶瓷粒子与氧化钛粒子的混合分散液(在银陶瓷粒子分散液(FujiChemical Industries，Ltd.制，平均粒径0.8μm，抗菌剂浓度50wt％)0.75质量份中添加并混合氧化钛粒子(NIPPON AEROSIL CO.，LTD.制，平均粒径20nm)0.375质量份。) 1.125质量份
[实施例22]
实施例15中，改变抗菌剂成分和调配量，除此以外，与实施例15同样地制作出实施例22的保护片。成为T/Da＝2.86。
抗菌剂：银陶瓷粒子与氧化钨粒子的混合分散液(在银陶瓷粒子分散液(FujiChemical Industries，Ltd.制，平均粒径0.8μm，抗菌剂浓度50wt％)2.3质量份中添加并混合氧化钨粒子(A.L.M.T.Corp.制，平均粒径0.7μm)0.355质量份。) 2.65质量份
[实施例23]
实施例22中，改变抗菌剂成分的调配量，除此以外，与实施例22同样地制作出实施例23的保护片。
抗菌剂：银陶瓷粒子与氧化钨粒子的混合分散液(在银陶瓷粒子分散液(FujiChemical Industries，Ltd.制，平均粒径0.8μm，抗菌剂浓度50wt％)0.64质量份中添加并混合氧化钨粒子(A.L..M.T.Corp.制，平均粒径0.7μm)0.18质量份。)0.82质量份
[实施例24]
实施例15中，改变抗菌剂成分的调配量，除此以外，与实施例15同样地制作出实施例24的保护片。
抗菌剂：银陶瓷粒子与氧化钛粒子的混合分散液(在银陶瓷粒子分散液(FujiChemical Industries，Ltd.制，平均粒径0.8μm，抗菌剂浓度50wt％)1.56质量份中添加并混合氧化钛粒子(NIPPON AEROSIL CO.，LTD.制，平均粒径20nm)0.22质量份。) 1.78质量份
[实施例25]
实施例15中，改变抗菌剂成分的调配量，除此以外，与实施例15同样地制作出实施例25的保护片。
抗菌剂：银陶瓷粒子与氧化钛粒子的混合分散液(在银陶瓷粒子分散液(FujiChemical Industries，Ltd.制，平均粒径0.8μm，抗菌剂浓度50wt％)0.33质量份中添加并混合氧化钛粒子(NIPPON AEROSIL CO.，LTD.制，平均粒径20nm)0.835质量份。) 1.165质量份
[实施例26]
实施例15中，改变抗菌剂成分和调配量，除此以外，与实施例15同样地制作出实施例26的保护片。成为T/Da＝200。
抗菌剂：银粒子与氧化钛粒子的混合分散液(在银粒子分散液(JAPAN IONCorporation制，粒径约7～10nm，银粒子浓度1wt％)0.33质量份中添加并混合氧化钛粒子(NIPPON AEROSIL CO.，LTD.制，平均粒径20nm)0.017质量份。)0.347质量份
[实施例27]
实施例26中，改变抗菌剂成分的调配量，除此以外，与实施例26同样地制作出实施例27的保护片。
抗菌剂：银粒子与氧化钛粒子的混合分散液(在银粒子分散液(JAPAN IONCorporation制，粒径约7～10nm，银粒子浓度1wt％)0.67质量份中添加并混合氧化钛粒子(NIPPON AEROSIL CO.，LTD.制，平均粒径20nm)0.003质量份。)0.673质量份
[实施例28]
实施例15中，改变抗菌剂成分和调配量，除此以外，与实施例15同样地制作出实施例28的保护片。成为T/Da＝2.86。
抗菌剂：银粒子与氧化钨粒子的混合分散液(在银粒子分散液(JAPAN IONCorporation制，粒径约7～10nm，银粒子浓度1wt％)0.67质量份中添加并混合氧化钨粒子(A.L.M.T.Corp.制，平均粒径0.7μm)0.003质量份。) 0.673质量份
[比较例1]
实施例1中，代替作为抗菌涂膜形成用组合物的成分的具有亲水性基团的单体而使用不含亲水性基团的单体Miramer M420，除此以外，按照与实施例1相同的步骤来设置亲水加工部，从而制作出比较例1的保护片。
[比较例2]
按照专利文献3的实施例1，以如下方式制作出比较例2的带抗菌涂膜(抗菌膜)的玻璃板。
混合下述各成分(银粒子分散液除外)并在20℃下搅拌了4小时。接着，在其中添加银粒子分散液(含有22.5wt％的银的水溶液，Sumitomo Electric Industries，Ltd.制)0.004g并在20℃下搅拌30分钟，从而制备出形成溶液。
·乙醇(KATAYAMA CHEMICAL.，LTD制) 5.74g
·四乙氧基硅烷(Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.制) 1.91g
·纯水 2.12g
·对甲苯磺酸一水合物(KATAYAMA CHEMICAL.，LTD制) 0.003g
·异丁醇(KANTO CHEMICAL CO.，INC.制) 0.11g
·聚醚磷酸酯类表面活性剂(Japan Lubrizol Corporation制SOLSPERSE41000) 0.1g
·聚乙二醇200(PEG200)(Kanto Chemical Co.，Inc.制) 0.014g
·银分散液：含有22.5wt％的银粒子的水溶液(Sumitomo Electric Industries，Ltd.制) 0.004g
接着，在相对湿度30％的室温下，利用流涂法在已清洗的钠钙硅酸盐玻璃基板(100×100mm，厚度：3.1mm，以下称为“玻璃板”)上涂布了形成溶液。在室温下将所涂布的形成溶液风干约15分钟，接着通过投入到预先升温至200℃的烘箱中而加热20分钟，然后进行冷却，由此制作出比较例2的带抗菌涂膜的玻璃板。
测定分别以如上方式制作出的实施例1～28、比较例1的保护片及比较例2的带抗菌涂膜的玻璃板的抗菌涂膜的接触角、银离子量、维氏硬度、吸水率及铅笔硬度，并对抗菌性及硬涂性进行了评价。将其结果总结示于表1。另外，表1中还一并示出实施例1～28及比较例1的保护片的抗菌涂膜形成用组合物的组成。
<各种测定>
(接触角)
使用LSE-ME1(软件2win mini)(NIC Inc.制)，根据JIS R 3257：1999的静滴法，使用纯水，在室温20℃下于保持水平的实施例1～28及比较例1～2的抗菌涂膜表面上滴加液滴2μl，在滴加后20秒时刻测定了接触角。
(银(Ag)离子量)
关于实施例1～28及比较例1～2的抗菌涂膜(亲水加工部)的每单位面积的银离子量(提取量)，对各抗菌涂膜(亲水加工部)实施与上述提取试验相同的提取试验，利用与上述计算方法相同的计算方法计算出亲水加工部的每单位面积的银离子量。
(维氏硬度)
如上所述，关于实施例1～28及比较例1～2的抗菌涂膜(亲水加工部)的维氏硬度，使用维氏硬度计(Fischer Instruments，Co.，Ltd.制)，在载荷20mN/20s、载荷时间5s下进行了测定。
(吸水率)
关于实施例1～28及比较例1～2的抗菌涂膜(亲水加工部)的吸水率，利用与上述亲水加工部的水的吸收率的测定相同的测定方法进行了测定。
<各种评价>
(抗菌性)
使用大肠杆菌作为菌种，依照JIS Z 2801，对于菌接触时间为24小时以内的各时间进行试验，测定了活菌数量成为检出限以下为止的时间。
根据如此测定出的活菌数量成为检出限以下为止的时间，对抗菌性进行了评价。
关于抗菌性，活菌数量成为检出限以下为止的时间为30分钟以下时评价为A“抗菌性非常良好”，超过30分钟且60分钟以下时评价为B“抗菌性良好”，超过60分钟且2小时以下时评价为C“抗菌性稍微良好”，超过2小时且3小时以下时评价为D“抗菌性差”，超过3小时时评价为E“抗菌性非常差”。
将抗菌性的评价结果一并示于表1。
(硬涂性)
按照JISK 5600-5-4的铅笔硬度试验法进行铅笔硬度试验，测定出实施例1～28及比较例1～2的抗菌涂膜的表面的刮痕硬度。
根据如此测定出的铅笔硬度，对硬涂性进行了评价。
关于硬涂性，若铅笔硬度硬至2H以上，则评价为A“硬涂性良好”，若铅笔硬度为H或F，则评价为B“硬涂性稍微良好”，若铅笔硬度比F柔软，则评价为C“硬涂性差”。
将硬涂性的评价结果一并示于表1。
以下，表1中，“抗菌剂”栏的“添加量”栏表示各实施例及比较例1中使用的分散液的添加量(质量份)。但是，比较例2的“抗菌剂”栏的“添加量”栏中，表示抗菌剂(Ag粒子)的含量相对于亲水加工部100质量份为0.2质量份。
由表1明确可知，实施例1～14中，接触角为80°以下，与接触角超过80°的比较例1相比，活菌数量成为检出限以下为止的时间急剧缩短，抗菌性的评价为A、B或C。并且，实施例1～12及14中，接触角为60°以下，银(Ag)离子量为15ng/cm2以上，与接触角为60°以下但银(Ag)离子量小于15ng/cm2的比较例2相比，活菌数量成为检出限以下为止的时间急剧缩短，抗菌性的评价为A或B。
并且，由表1明确可知，吸水率小于10wt％的实施例1～13及实施例15～28、比较例1中，与吸水率为10wt％以上的比较例2相比，铅笔硬度为3H、2H、H或F，且维氏硬度(HV)为1.35以上，硬涂性的评价为A或B。
并且，由表1明确可知，实施例11及12中，若同时使用银陶瓷粒子和银粒子作为抗菌剂，则得到与单独使用银陶瓷的情况同等以上的抗菌性能。
另外，由实施例9、10、12及14可知，代替UV固化交联的聚合物而如专利文献2及3那样加入亲水性聚合物(PEG200)，则接触角上升，抗菌性不会变差，但吸水率上升而导致硬涂性下降，若如实施例14那样增加亲水性聚合物，则可知硬涂性的评价成为C，硬涂性变差，但与硬涂性的评价同样为C的比较例2的维氏硬度(HV)为1.30相比，维氏硬度(HV)为1.33，对压入痕具有耐性。
并且，如实施例15～28所示，在接触角为80°以下、T/Da≤300时，成为活菌数量的检出限以下为止的时间缩短，抗菌性的评价为A或B。另外，根据实施例15～28的比较，当抗菌剂/光催化性材料的质量比为0.3～3.0时，得到更加优异的效果。
由以上结果明确可知本发明的效果。
并且，在乳房X射线摄影装置的外表面上涂布与实施例1～28同样含有含抗菌剂的亲水加工部形成用组合物的涂布剂并进行固化而制作出带抗菌层的设备，确认到与表1及表2相同的结果。
以上，举出各种实施方式及实施例对本发明所涉及的设备、保护片及抗菌膜进行了说明，但本发明并不限定于上述实施方式及实施例，只要不脱离本发明的宗旨，则当然可以进行各种改良或设计的变更。
符号说明
10、70-移动式放射线摄像装置，18、72-框体，12、74-放射线检测器，13-控制基板，19、86-照射面，20、87-亲水加工部，29-闪烁器，30-TFT基板，60-前面板，62-背面板，64-顶板，66-保持部，76-主体部件，78、80-盖部件，82-电池装配部，84-连接器连接部，90-乳房X射线摄影装置，92-护脸罩，94-乳房台，96-乳房压迫板，100-放射线图像诊断装置，102-摄像台，104、106-握柄，110-显示装置，112-触摸面板，112a-输入面，114-显示单元，116-框体，118-导电性薄膜，120-罩部件，122-电缆，124-挠性基板，126-检测控制部，128-粘接层，130、144-亲水加工部，132-接触体，140、141-保护片，142-薄片主体，146-粘结层，148-剥离片，150、150A、150B-抗菌基材，152-基材，154-亲水性部，156-抗菌膜。
Claims (40)
1.一种设备，其在外表面的至少一部分设有亲水加工部，所述设备的特征在于，
所述亲水加工部含有亲水性聚合物及含银的抗菌剂，所述亲水加工部的表面的水接触角为80°以下，
所述亲水加工部是使用涂布剂而形成的，所述涂布剂至少含有具有亲水性基团及2个以上的(甲基)丙烯酸基的聚合性化合物、交联剂、聚合引发剂及所述抗菌剂，
所述抗菌剂的含量相对于所述亲水加工部总质量为0.001～10wt％，
所述亲水加工部在载荷20mN/20s、载荷时间5s下测定的维氏硬度为1.33以上。
2.根据权利要求1所述的设备，其中，
所述亲水加工部的表面的水接触角为60°以下，且所述亲水加工部的水的吸收率低于10wt％。
3.根据权利要求1或2所述的设备，其中，
通过以下的提取试验测定的所述亲水加工部的每单位面积的银离子量为15ng/cm2以上；
提取条件：将JIS Z 2801：2010中所规定的1/500普通肉汤培养基用作提取液，将该提取液的温度控制为35±1℃，使所述亲水加工部的表面与所述提取液接触1小时，并测定被提取至所述提取液中的银离子量，将所得到的值除以所述亲水加工部的表面与所述提取液的接触面积而得到每单位面积的银离子量；所述银离子量的单位为ng，所述接触面积的单位为cm2，所述每单位面积的银离子量的单位为ng/cm2。
4.根据权利要求1或2所述的设备，其中，
所述亲水加工部的表面的水接触角为30°以下。
5.根据权利要求1或2所述的设备，其中，
所述亲水性基团为聚氧乙烯基。
6.根据权利要求1或2所述的设备，其中，
所述亲水加工部的平均厚度为1～10μm。
7.根据权利要求1或2所述的设备，其中，
所述抗菌剂至少含有载银陶瓷粒子或银粒子、或者该两者。
8.根据权利要求1或2所述的设备，其中，
所述亲水加工部还含有至少1种含金属氧化物的光催化性材料。
9.根据权利要求8所述的设备，其中，
所述金属氧化物含有选自由Zn、Ti、Ni、W、Cu、Sn、Fe、Sr及Bi构成的组中的至少1种金属原子。
10.根据权利要求8所述的设备，其中，
所述亲水加工部的平均厚度T相对于所述光催化性材料的平均粒径Da之比为300以下；另外，上述比表示T/Da，当含有多种所述光催化性材料时，所述Da是指其平均粒径最小的光催化性材料的平均粒径。
11.根据权利要求8所述的设备，其中，
含银的抗菌剂的质量相对于所述光催化性材料的质量的质量比为0.3～3.0；另外，所述质量比表示含银的抗菌剂的质量/光催化性材料的质量。
12.根据权利要求1或2所述的设备，其中，
所述亲水加工部的表面的水接触角为15°以下。
13.根据权利要求1所述的设备，其中，
所述设备为触摸面板，所述亲水加工部设置于由利用者接触的所述外表面。
14.一种保护片，其在外表面的至少一部分设有亲水加工部，所述保护片的特征在于，
所述亲水加工部含有亲水性聚合物及含银的抗菌剂，所述亲水加工部的表面的水接触角为80°以下，
所述抗菌剂的含量相对于所述亲水加工部总质量为0.001～10wt％，
所述亲水加工部在载荷20mN/20s、载荷时间5s下测定的维氏硬度为1.33以上。
15.根据权利要求14所述的保护片，其中，
所述亲水加工部的表面的水接触角为60°以下，且所述亲水加工部的水的吸收率低于10wt％。
16.根据权利要求14或15所述的保护片，其中，
通过以下的提取试验测定的所述亲水加工部的每单位面积的银离子量为15ng/cm2以上；
提取条件：将JIS Z 2801：2010中所规定的1/500普通肉汤培养基用作提取液，将该提取液的温度控制为35±1℃，使所述亲水加工部的表面与所述提取液接触1小时，并测定被提取至所述提取液中的银离子量，将所得到的值除以所述亲水加工部的表面与所述提取液的接触面积而得到每单位面积的银离子量；所述银离子量的单位为ng，所述接触面积的单位为cm2，所述每单位面积的银离子量的单位为ng/cm2。
17.根据权利要求14或15所述的保护片，其中，
所述亲水加工部的表面的水接触角为30°以下。
18.根据权利要求14或15所述的保护片，其中，
所述亲水加工部是使用涂布剂而形成的，所述涂布剂至少含有具有亲水性基团及2个以上的(甲基)丙烯酸基的聚合性化合物、交联剂、聚合引发剂及所述抗菌剂。
19.根据权利要求18所述的保护片，其中，
所述亲水性基团为聚氧乙烯基。
20.根据权利要求14或15所述的保护片，其中，
所述亲水加工部的平均厚度为1～10μm。
21.根据权利要求14或15所述的保护片，其中，
所述抗菌剂至少含有载银陶瓷粒子或银粒子、或该两者。
22.根据权利要求14或15所述的保护片，其中，
所述亲水加工部还含有至少1种含金属氧化物的光催化性材料。
23.根据权利要求22所述的保护片，其中，
所述金属氧化物含有选自由Zn、Ti、Ni、W、Cu、Sn、Fe、Sr及Bi构成的组中的至少1种金属原子。
24.根据权利要求22所述的保护片，其中，
所述亲水加工部的平均厚度T相对于所述光催化性材料的平均粒径Da之比为300以下；另外，上述比表示T/Da，当含有多种所述光催化性材料时，所述Da是指其平均粒径最小的光催化性材料的平均粒径。
25.根据权利要求22所述的保护片，其中，
含银的抗菌剂的质量相对于所述光催化性材料的质量的质量比为0.3～3.0；另外，所述质量比表示含银的抗菌剂的质量/光催化性材料的质量。
26.根据权利要求14或15所述的保护片，其中，
所述亲水加工部的表面的水接触角为15°以下。
27.根据权利要求14或15所述的保护片，其中，
进而，在所述保护片的与所述外表面相反侧的表面具有粘结层。
28.一种抗菌膜，其至少一部分为亲水性，其特征在于，
所述显示亲水性的亲水性部含有亲水性聚合物及含银的抗菌剂，所述亲水性部的表面的水接触角为80°以下，
所述抗菌剂的含量相对于所述亲水加工部总质量为0.001～10wt％，
所述亲水加工部在载荷20mN/20s、载荷时间5s下测定的维氏硬度为1.33以上。
29.根据权利要求28所述的抗菌膜，其中，
所述亲水性部的表面的水接触角为60°以下，且所述亲水性部的水的吸收率低于10wt％。
30.根据权利要求28或29所述的抗菌膜，其中，
通过以下的提取试验测定的所述亲水性部的每单位面积的银离子量为15ng/cm2；
提取条件：将JIS Z 2801：2010中所规定的1/500普通肉汤培养基用作提取液，将该提取液的温度控制为35±1℃，使所述亲水性部的所述表面与所述提取液接触1小时，并测定被提取至所述提取液中的银离子量，将所得到的值除以所述表面与所述提取液的接触面积而得到每单位面积的银离子量；所述银离子量的单位为ng，所述接触面积的单位为cm2，所述每单位面积的银离子量的单位为ng/cm2。
31.根据权利要求28或29所述的抗菌膜，其中，
所述亲水性部的表面的水接触角为30°以下。
32.根据权利要求28或29所述的抗菌膜，其中，
所述亲水性部是使用涂布剂而形成的，所述涂布剂至少含有具有亲水性基团及2个以上的(甲基)丙烯酸基的聚合性化合物、交联剂、聚合引发剂及所述抗菌剂。
33.根据权利要求32所述的抗菌膜，其中，
所述亲水性基团为聚氧乙烯基。
34.根据权利要求28或29所述的抗菌膜，其中，
所述亲水性部的平均厚度为1～10μm。
35.根据权利要求28或29所述的抗菌膜，其中，
所述抗菌剂至少含有载银陶瓷粒子或银粒子、或者该两者。
36.根据权利要求28或29所述的抗菌膜，其中，
所述亲水性部还含有至少1种含金属氧化物的光催化性材料。
37.根据权利要求36所述的抗菌膜，其中，
所述金属氧化物含有选自由Zn、Ti、Ni、W、Cu、Sn、Fe、Sr及Bi构成的组中的至少1种金属原子。
38.根据权利要求36所述的抗菌膜，其中，
所述亲水性部的平均厚度T相对于所述光催化性材料的平均粒径Da之比为300以下；另外，上述比表示T/Da，当含有多种所述光催化性材料时，所述Da是指其平均粒径最小的光催化性材料的平均粒径。
39.根据权利要求36所述的抗菌膜，其中，
含银的抗菌剂的质量相对于所述光催化性材料的质量的质量比为0.3～3.0；另外，所述质量比表示含银的抗菌剂的质量/光催化性材料的质量。
40.根据权利要求28或29所述的抗菌膜，其中，
所述亲水性部的表面的水接触角为15°以下。
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