CN112382647A - 显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置，涉及显示技术领域。其中，显示基板及其制备方法包括在衬底基板上形成图案化膜层，所述图案化膜层的第一表面具有凹坑部和非凹坑部；在所述图案化膜层的第一表面上形成平坦化层；其中，所述凹坑部的亲液性高于所述非凹坑部的亲液性，所述第一表面为所述图案化膜层背离所述衬底基板的表面。本申请技术方案能够解决现有技术中形成的平坦化层表面凹凸不平的技术问题。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置。
背景技术
目前，随着科学技术的快速发展，各类显示装置逐渐发展起来，例如：液晶显示装置(Liquid Crystal Display，简称LCD)、有机电致发光二极管显示装置(Organic Light-Emitting Diode Display，简称OLED)。
无论是LCD显示装置还是OLED显示装置，在其制作过程中，常会形成平坦层，若平坦层的平整度不够，则像素内容易出现凹凸不平的现象，从而严重影响显示装置的性能。
以OLED显示装置为例，由于形成在衬底基板上的表面不平(例如薄膜晶体管所在位置相对其他位置可能略高)，这样在图案化膜层上形成平坦层时，不同位置处的平坦层的厚度不相同，而平坦层的厚度不同，其在干燥过程中的收缩比也会不同，通常时平坦层位于图案化膜层的凹陷部分的收缩比较大，进而会导致形成的平坦层出现凹凸不平的情况。
发明内容
本申请实施例的目的是提供一种显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置，以解决现有技术中形成的平坦化层表面凹凸不平的技术问题。
为解决上述技术问题，本申请实施例提供如下技术方案：
本申请第一方面提供一种显示基板的制备方法，该制备方法包括：
在衬底基板上形成图案化膜层，所述图案化膜层的第一表面具有凹坑部和非凹坑部；
在所述图案化膜层的第一表面上形成平坦化层；
其中，所述凹坑部的亲液性高于所述非凹坑部的亲液性，所述第一表面为所述图案化膜层背离所述衬底基板的表面
在本申请第一方面的一些变更实施方式中，在所述图案化膜层的第一表面上形成平坦化层，具体包括：
在所述凹坑部内形成第一平坦化层，所述第一平坦化层的厚度不大于所述凹坑部的深度；
在所述非凹坑部和所述第一平坦化层上形成第二平坦化层，以使所述第二平坦化层的平程度高于形成所述第一平坦化层后所述图案化膜层的第一表面的平整度；
其中，所述第一平坦化层的亲液性高于所述第二平坦化层的亲液性。
在本申请第一方面的一些变更实施方式中，在所述凹坑部内形成第一平坦化层，具体包括：
利用狭缝涂布、旋涂或喷涂的工艺在所述图案化膜层的所述第一表面上形成第一平坦化薄膜；
对所述第一平坦化薄膜进行干燥，以形成所述第一平坦化层；
去除位于所述非凹坑部的第一平坦化层，且至少保留部分位于所述凹坑部的所述第一平坦化层。
在本申请第一方面的一些变更实施方式中，在所述凹坑部内形成第一平坦化层，具体包括：
利用打印的工艺在所述凹坑部内形成第一平坦化薄膜；
对所述第一平坦化薄膜进行干燥，以形成所述第一平坦化层。
在本申请第一方面的一些变更实施方式中，在所述非凹坑部和所述第一平坦化层上形成第二平坦化层，具体包括：
利用狭缝涂布、旋涂或喷涂的方法在所述非凹坑部和所述第一平坦化层上形成第二平坦化薄膜；
对所述第二平坦化薄膜进行干燥，以形成所述第二平坦化层。
在本申请第一方面的一些变更实施方式中，在所述非凹坑部上形成疏液层，以使所述凹坑部的亲液性高于所述非凹坑部的亲液性。
本申请第二方面提供一种显示基板，该显示基板包括：
衬底基板及设置于所述衬底基板上的图案化膜层，所述图案化膜层的第一表面具有凹坑部和非凹坑部；
平坦化层，所述平坦化层设置于所述图案化膜层的第一表面；
其中，所述凹坑部的亲液性高于所述非凹坑部的亲液性，所述第一表面为所述图案化膜层背离所述衬底基板的表面。
在本申请第二方面的一些变更实施方式中，所述平坦化层包括：
第一平坦化层，所述第一平坦化层设置于所述凹坑部内，且其厚度不大于所述凹坑部的深度；
第二平坦化层，所述第二平坦化层设置于所述非凹坑部和所述第一平坦化层上；
其中，所述第一平坦化层的亲液性高于所述第二平坦化层的亲液性。
在本申请第二方面的一些变更实施方式中，还包括：
疏液层，所述疏液层设置于所述非凹坑部上，以使所述凹坑部的亲液性高于所述非凹坑部的亲液性。
本申请第三方面提供一种显示面板，该显示面板包括：上述的显示基板。
本申请第四方面提供一种显示装置，该显示装置包括：上述的显示面板。
相较于现有技术，本申请提供的显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置，在衬底基板上形成图案化膜层后，通过将图案化膜层的第一表面的凹坑部的亲液性设置为高于非凹坑部的亲液性，亲液性较高的凹坑部会对液态下的平坦化层的材料产生吸引效果，使平坦化层优先填充至非凹坑部并呈现凸起状态，能够为凹坑部对应的平坦化层预留一定的收缩量，从而优化平坦化层表面的平整度，可有效解决现有技术中平坦化层在制作过程中出现凹凸不平的技术问题；在平坦化层上形成其他膜层时，确保了其他膜层的均匀性，从而使得从显示面板发出的光是均匀的，可改善显示面板的发光品质。
附图说明
通过参考附图阅读下文的详细描述，本申请示例性实施方式的上述以及其他目的、特征和优点将变得易于理解。在附图中，以示例性而非限制性的方式示出了本申请的若干实施方式，相同或对应的标号表示相同或对应的部分，其中：
图1示意性地示出了本实施例提出的一种显示基板的制备方法的流程示意图；
图2示意性地示出了本实施例提出的一种显示基板的制备方法的另一种流程示意图；
图3示意性地示出了本实施例提出的一种显示基板的制备方法的步骤S1对应的结构示意图；
图4示意性地示出了本实施例提出的一种显示基板的制备方法的步骤S21对应的结构示意图；
图5示意性地示出了本实施例提出的一种显示基板的制备方法的步骤S22对应的一种状态下的结构示意图；
图6示意性地示出了本实施例提出的一种显示基板的制备方法的步骤S22对应的另一种状态；
图7示意性地示出了本实施例提出的一种显示基板的结构示意图；
附图标号说明：
衬底基板1、图案化膜层2、凹坑部21、非凹坑部22、平坦化层3、第一平坦化层301、第二平坦化层302、阳极层4、像素定义层5。
具体实施方式
下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本公开的示例性实施方式，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施方式所限制。相反，提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
需要注意的是，除非另有说明，本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本申请所属领域技术人员所理解的通常意义。
实施例一
参考附图1-附图7，本发明的实施例一提出一种显示基板的制备方法，该制备方法包括：
S1：在衬底基板1上形成图案化膜层2，所述图案化膜层2的第一表面具有凹坑部21和非凹坑部22；
具体的，参考附图1，衬底基板1的材料此处不作具体限定，例如：可以是玻璃；图案化膜层2可以是衬底基板1上的任意的膜层，可以是一个膜层，也可以是多个膜层，例如：图案化膜层2可以包括形成薄膜晶体管的多个膜层；图案化膜层2的表面不平，例如：薄膜晶体管所在位置相对其他位置会略高，使形成的图案化膜层2相背衬底基板1的第一表面具有凹坑部21和非凹坑部22，凹坑部21即图案化膜层2的第一表面的凹陷部位，非凹坑部22即在衬底基板1的厚度方向上高度相对高于凹坑部21的部位。
S2：在所述图案化膜层2的第一表面上形成平坦化层3；
其中，所述凹坑部21的亲液性高于所述非凹坑部22的亲液性，所述第一表面为所述图案化膜层2背离所述衬底基板1的表面。
具体的，由于衬底基板1上的图案化膜层2的第一表面呈凹凸不平的状态，若直接在图案化膜层2上形成平坦化层3，在湿膜状态下其表面的平整度较高，但此时凹坑部21对应的平坦化层3的厚度较厚，而非凹坑部22对应的平坦化层3的厚度较薄，平坦化层3的厚度不同，其在干燥过程中的收缩比也会不同，平坦化层3位于图案化膜层2的凹坑部21的收缩比较大，其在干膜成膜后会导致平坦化层3对应于凹坑部21的表面凹陷，使平坦化层3表面出现凹凸不平的情况；为解决平坦化层3表面凹凸不平的技术问题，本发明采取的技术方案中，设置凹坑部21的亲液性高于非凹坑部22的亲液性，亲液性较高的凹坑部21会对液态下的平坦化层3的材料产生吸引效果，因此在平坦化层3液态下会优先填充至非凹坑部22，以使湿膜状态下其表面对应于凹坑部21的部分呈现凸起状态(参考附图5)，即能够为凹坑部21对应的平坦化层3预留一定的收缩量，从而优化干膜成膜后的平坦化层3表面的平整度，相比于在亲液性一致的图案化膜层2的第一表面形成平坦化层3，能够有效的提高平坦化层3的平整度，之后再进行像素ITO阳极层4及像素定义层(PDL)5成膜，能够改善有机发光膜层成膜的均匀性，改善显示面板发光品质；具体可以根据凹坑部21的深度以及平坦化层3的材料的收缩比来确定平坦化层3的厚度。
其中，平整度是指物体表面不会绝对平整，可以通过待评价表面纵向凹凸量的偏差值表征。物体表面在纵向上，相对同一水平面的偏移量的偏差值越小，物体表面越平整。
根据上述所列，本发明实施例提出一种显示基板的制备方法，在衬底基板1上形成图案化膜层2后，通过将图案化膜层2的第一表面的凹坑部21的亲液性设置为高于非凹坑部22的亲液性，亲液性较高的凹坑部21会对液态下的平坦化层3的材料产生吸引效果，因此在平坦化层3液态下会优先填充至非凹坑部22，以使湿膜状态下其表面对应于凹坑部21的部分呈现凸起状态，即能够为凹坑部21对应的平坦化层3预留一定的收缩量，从而优化干膜成膜后的平坦化层3表面的平整度，即提高了平坦化层3的平坦度，使其表面更加平坦，可有效解决现有技术中平坦化层3在制作过程中出现凹凸不平的技术问题。
进一步的，参考附图2-附图6，在具体实施中，步骤S2具体包括：
S21：在所述凹坑部21内形成第一平坦化层301，所述第一平坦化层301的厚度不大于所述凹坑的深度；
S22：在所述非凹坑部22和所述第一平坦化层301上形成第二平坦化层302，以使所述第二平坦化层302的平程度高于形成所述第一平坦化层301后所述图案化膜层2的第一表面的平整度；
其中，所述第一平坦化层301的亲液性高于所述第二平坦化层302的亲液性。
具体的，为了实现凹坑部21的亲液性高于非凹坑部22的亲液性，以及提高平坦化层3的平整度，本发明采取的技术方案中，平坦化层3可以包括第一平坦化层301和第二平坦化层302，其中，首先在图案化膜层2的第一表面的凹坑部21形成第一平坦化层301，且第一平坦化层301不完全将凹坑部21填充，或刚好将凹坑部21填充，保证第一平坦化层301的厚度不大于凹坑部21的深度，例如：第一平坦化层301可以为形成于凹坑部21坑底的一层薄膜；在第一平坦化层301干膜成膜后，可在形成第一平坦化层301后的第一表面继续形成第二平坦化层302，且通过设置第一平坦化层301的亲液性高于第二平坦化层302的亲液性，即可实现凹坑部21的亲液性高于非凹坑部22的亲液性；因此，第一平坦化层301的设置，一方面能够缩小凹坑部21和非凹坑部22在衬底基板1厚度方向上的高度差，从而减小形成于凹坑部21和非凹坑部22的第二平坦化层302的收缩比的差值，有助于提高第二平坦化层302的平整度，另一方面，第一平坦化层301的设置可实现凹坑部21的亲液性高于非凹坑部22的亲液性，因此能够对第二平坦化层302的材料产生吸引作用，使其优先填充在凹坑内，且使湿膜状态下的第二平坦化层302表面对应于凹坑部21的部分呈现凸起状态(参考附图5)，即能够为凹坑部21对应的平坦化层3预留一定的收缩量，这样在第二平坦化层302收缩后的表面平整度较高，从而能够进一步优化干膜成膜后的第二平坦化层302表面的平整度；第一平坦化层和第二平坦化层的材料此处不作具体限定，例如：可以为树脂，另外可以在第一平坦化层的材料中添加增强其亲液水性的材料。
其中，附图5所示为第二平坦化薄膜湿膜成膜后示意图，附图6为第二平坦化薄膜干燥后形成的第二平坦化层302示意图。
其中，显示基板包括显示区和非显示区，在凹坑部21内形成第一平坦化层301，可以是仅在显示基板的显示区内的凹坑部21内形成第一平坦化层301，也可以是在位于显示基板的显示区和非显示区的凹坑部21内均形成第一平坦化层301；由于显示基板的非显示区不用于显示，不设置发光器件，因此本实施例优选在位于显示基板的显示区内的凹坑部21内形成第一平坦化层301。
进一步的，在具体实施中，对于步骤S21中的第一平坦化层301采用何种方法制备不作具体限定，例如：可以采用如下步骤进行制备：
S211：利用狭缝涂布、旋涂或喷涂的工艺在所述图案化膜层2的所述第一表面上形成第一平坦化薄膜；
具体的，本发明采取的技术方案中，第一平坦化层301的形成工艺可以为：可以采用狭缝涂布、旋涂或者喷涂的工艺方法，在图案化膜层2的第一表面整体形成第一平坦化薄膜，第一平坦化薄膜可以包括第一平坦化层301制备材料和溶剂。
S212：对所述第一平坦化薄膜进行干燥，以形成所述第一平坦化层301；
具体的，在第一平坦化薄膜表面流平后，对第一平坦化薄膜形成干燥处理，在进行干燥处理时，第一平坦化薄膜中的溶剂会蒸发，留下第一平坦化层301制备材料以形成第一平坦化层301，为了提高第一平坦层的成膜质量，在对第一平坦化薄膜进行干燥处理时，还可以对第一平坦化薄膜进行真空冷却处理；在此基础之上，可以利用真空冷凝干燥机(Vacuum Cool Dry，简称VCD)对第一平坦化薄膜进行真空冷却处理和真空干燥处理。
S213：去除位于所述非凹坑部22的第一平坦化层301，且至少保留部分位于所述凹坑部21的所述第一平坦化层301。
具体的，由于第一平坦化层301应仅在凹坑部21内设置，因此在图案化膜层2的第一表面整体形成第一平坦化层301后，需要对非凹坑部22对应的第一平坦化层301进行区域，可以采用干刻蚀或显影的方式进行去除；在采用干刻蚀法对非凹坑部22对应的第一平坦化层301进行去除的同时，还同时对凹坑内的第一平坦化层301进行同时去除，由于在形成第一平坦化薄膜时液态的流动性，凹坑部21会被优先填充，形成的第一平坦化层301后凹坑部21对应的第一平坦化层301的厚度高于形成于非凹坑部22的第一平坦化层301的厚度，因此在去除第一平坦化层301时凹坑部21内会残留至少部分第一平坦化层301。
进一步的，在具体实施中，对于步骤S21中的第一平坦化层301采用何种方法制备不作具体限定，例如：还可以采用如下步骤进行制备：
S214：利用打印的工艺在所述凹坑部21内形成所述第一平坦化薄膜。
具体的，本发明采取的技术方案中，还可以采用打印法形成第一平坦化层301，由于打印法(Printing)的精度较高，在凹坑部21直接打印形成第一平坦化薄膜，可以避免第二平坦化薄膜形成在凹坑部21以外的非凹坑部22，从而可以节省去除形成在非凹坑部22的第二平坦化层302的操作。
S215：对所述第一平坦化薄膜进行干燥，以形成所述第一平坦化层301。
具体的，在形成第一平坦化薄膜后，可根据上述的步骤S212对第一平坦化薄膜进行干燥处理，以形成第一平坦化层301。或，除上述方法外，还可以采用化学气相沉积(CVD)的工艺方法直接形成第一平坦化层301。
进一步的，参考附图1，在具体实施中，步骤S22中的第二平坦化层302可以采用如下步骤进行制备：
S221：利用狭缝涂布、旋涂或喷涂的方法在所述非凹坑部22和所述第一平坦化层301上形成第二平坦化薄膜；
具体的，本发明采取的技术方案中，第二平坦化层302的形成工艺可以为：可以采用狭缝涂布、旋涂或者喷涂的工艺方法，在第一表面的非凹坑部22和凹坑部21的第一平坦层上整体形成第二平坦化薄膜，第二平坦化薄膜可以包括第二平坦化层302制备材料和溶剂。
S222：对所述第二平坦化薄膜进行干燥，以形成所述第二平坦化层302；
具体的，第一平坦化薄膜成膜后，再对第一平坦化薄膜形成干燥处理，以形成第一平坦化层301，为了提高第一平坦层的成膜质量，在对第一平坦化薄膜进行干燥处理时，还可以对第一平坦化薄膜进行真空冷却处理；在此基础之上，可以利用真空冷凝干燥机(Vacuum Cool Dry，简称VCD)对第一平坦化薄膜进行真空冷却处理和真空干燥处理。
具体的，本发明采取的技术方案中，第二平坦化薄膜成膜后，再对第二平坦化薄膜形成干燥处理，以形成第二平坦化层302，为了提高第二平坦层的成膜质量，在对第二平坦化薄膜进行干燥处理时，还可以对第二平坦化薄膜进行真空冷却处理；在此基础之上，可以利用真空冷凝干燥机(Vacuum Cool Dry，简称VCD)对第二平坦化薄膜进行真空冷却处理和真空干燥处理。
进一步的，在具体实施中，本实施例提出的显示基板的制备方法，还包括：
S11：在所述非凹坑部22上设置疏液层，以使所述凹坑部21的亲液性高于所述非凹坑部22的亲液性。
具体的，为了实现凹坑部21的亲液性高于非凹坑部22的亲液性，本发明采取的技术方案中，可以在非凹坑部22的表面形成疏液层，从而在形成平坦层时，非凹坑部22相对凹坑部21具有疏液特性，能够使得平坦化层3在凹坑处聚集并形成凸起，从而使平坦化层3在干燥后表面较为平坦，达到优化平坦化层3的平整度的技术效果；在设置疏液层后，可以直接在图案化膜层2上形成一层平坦化层3即可达到优化平坦化层3的平整度的效果；或者，最优的可以在步骤2中，步骤21的第一平坦化层301形成后，在非凹坑部22上设置疏液层，可进一步的控制并优化凹坑部21和非凹坑部22的亲液、疏液特性，可有效优化平坦化层3的平坦度。
实施例二
参考附图6和附图7，本发明的实施例二提出一种显示基板，该显示基板包括：衬底基板1及设置于所述衬底基板1上的图案化膜层2，所述图案化膜层2的第一表面具有凹坑部21和非凹坑部22；
平坦化层3，所述平坦化层3设置于所述图案化膜层2的第一表面；
其中，所述凹坑部21的亲液性高于所述非凹坑部22的亲液性，所述第一表面为所述图案化膜层2背离所述衬底基板1的表面。
具体的，衬底基板1的材料此处不作具体限定，例如：可以是玻璃；图案化膜层2可以是衬底基板1上的任意的膜层，可以是一个膜层，也可以是多个膜层；图案化膜层2相背衬底基板1的第一表面具有凹坑部21和非凹坑部22，且凹坑部21的亲液性高于所述非凹坑部22的亲液性，从而在形成平坦化层3时，能够在凹坑部21聚集并形成凸起，能够为凹坑部21对应的平坦化层3预留一定的收缩量，使凹坑部21的平坦化层3在干燥收缩后与非凹坑部22分保持一致，能够有效的提高平坦化层3的平整度。
根据上述所列，本发明实施例提出一种显示基板，通过将图案化膜层2的第一表面的凹坑部21的亲液性设置为高于非凹坑部22的亲液性，平坦化层3液态下会优先填充至非凹坑部22，以使湿膜状态下其表面对应于凹坑部21的部分呈现凸起状态，即能够为凹坑部21对应的平坦化层3预留一定的收缩量，从而优化干膜成膜后的平坦化层3表面的平整度。
进一步的，参考附图1，在具体实施中，所述平坦化层3包括：
第一平坦化层301，所述第一平坦化层301设置于所述凹坑部21内，且其厚度不大于所述凹坑部21的深度；
第二平坦化层302，所述第二平坦化层302设置于所述非凹坑部22和所述第一平坦化层301上；
其中，所述第一平坦化层301的亲液性高于所述第二平坦化层302的亲液性。
具体的，本发明采取的技术方案中，平坦化层3可包括设置于凹坑部21的第一平坦化层301和覆盖于图案化膜层2的非凹坑部22和第一平坦化层301的第二平坦化层302，第一平坦化层301的厚度不大于凹坑部21的深度，且第一平坦化层301的亲液性高于第二平坦化层302的亲液性；通过设置第一平坦化层301，一方面能够缩小凹坑部21和非凹坑部22在衬底基板1厚度方向上的高度差，从而减小形成于凹坑部21和非凹坑部22的第二平坦化层302的收缩比的差值，有助于提高第二平坦化层302的平整度，另一方面，第一平坦化层301的设置可实现凹坑部21的亲液性高于非凹坑部22的亲液性，能够使第二平坦化层302在凹坑部21聚集并呈现凸起状态，即能够为凹坑部21对应的平坦化层3预留一定的收缩量，这样在第二平坦化层302收缩后的表面平整度较高，从而能够进一步优化干膜成膜后的第二平坦化层302表面的平整度；参考附图7，之后再进行像素ITO阳极层4及像素定义层(PDL)5成膜，能够改善有机发光膜层成膜的均匀性，改善显示面板发光品质。
进一步的，参考附图1，在具体实施中，本市和私立提出的显示基板还包括：
疏液层，所述疏液层设置于所述非凹坑部22上，以使所述凹坑部21的亲液性高于所述非凹坑部22的亲液性。
具体的，本发明采取的技术方案中，还可以在非凹坑部22的表面形成疏液层，从而在形成平坦层时，非凹坑部22相对凹坑部21具有疏液特性，能够使得平坦化层3在凹坑处聚集并形成凸起，从而使平坦化层3在干燥后表面较为平坦，达到优化平坦化层3的平整度的技术效果。
实施例三
本发明的实施例三提出一种显示面板，该显示面板包括：上述的显示基板。
具体的，显示面板可以是液晶显示面板，或还可以是有机电致发光显示基板，此处不作具体限定。
根据上述所列，本发明实施例提出一种显示面板，包括上述的显示基板，而上述的显示基板利用亲液和疏液特性，以及考虑到不同厚度膜层的平坦化层3的收缩比，实现了对平坦化层3的平整度的优化，从而在平坦化层3上形成其他膜层时，确保了其他膜层的均匀性，从而使得从显示面板发出的光是均匀的。
实施例四
本发明的实施例四提出一种显示装置，该显示装置包括：上述的显示面板。
具体的，显示装置可以为具有显示功能的手机、计算机、平板电脑、导航仪、摄像机等电子装置，可以用于显示视频或静态图像等。
根据上述所列，本发明实施例提出一种显示装置，包括上述的显示基板和显示基板，而上述的显示基板利用亲液和疏液特性，以及考虑到不同厚度膜层的平坦化层3的收缩比，实现了对平坦化层3的平整度的优化，从而在平坦化层3上形成其他膜层时，确保了其他膜层的均匀性，从而使得从显示面板发出的光是均匀的。
需要说明的是，在本说明书的描述中，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制；术语“连接”、“安装”、“固定”等均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本说明书的描述中，术语“一个实施例”、“一些实施例”、“具体实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或实例。而且，描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (11)
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上形成图案化膜层，所述图案化膜层的第一表面具有凹坑部和非凹坑部；
在所述图案化膜层的第一表面上形成平坦化层；
其中，所述凹坑部的亲液性高于所述非凹坑部的亲液性，所述第一表面为所述图案化膜层背离所述衬底基板的表面。
2.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，
在所述图案化膜层的第一表面上形成平坦化层，具体包括：
在所述凹坑部内形成第一平坦化层，所述第一平坦化层的厚度不大于所述凹坑部的深度；
在所述非凹坑部和所述第一平坦化层上形成第二平坦化层，以使所述第二平坦化层的平程度高于形成所述第一平坦化层后所述图案化膜层的第一表面的平整度；
其中，所述第一平坦化层的亲液性高于所述第二平坦化层的亲液性。
3.根据权利要求2所述的显示基板的制备方法，其特征在于，
在所述凹坑部内形成第一平坦化层，具体包括：
利用狭缝涂布、旋涂或喷涂的工艺在所述图案化膜层的所述第一表面上形成第一平坦化薄膜；
对所述第一平坦化薄膜进行干燥，以形成所述第一平坦化层；
去除位于所述非凹坑部的第一平坦化层，且至少保留部分位于所述凹坑部的所述第一平坦化层。
4.根据权利要求2所述的显示基板的制备方法，其特征在于，
在所述凹坑部内形成第一平坦化层，具体包括：
利用打印的工艺在所述凹坑部内形成第一平坦化薄膜；
对所述第一平坦化薄膜进行干燥，以形成所述第一平坦化层。
5.根据权利要求2所述的显示基板的制备方法，其特征在于，
在所述非凹坑部和所述第一平坦化层上形成第二平坦化层，具体包括：
利用狭缝涂布、旋涂或喷涂的方法在所述非凹坑部和所述第一平坦化层上形成第二平坦化薄膜；
对所述第二平坦化薄膜进行干燥，以形成所述第二平坦化层。
6.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，还包括：
在所述非凹坑部上形成疏液层，以使所述凹坑部的亲液性高于所述非凹坑部的亲液性。
7.一种显示基板，应用权利要求1-6中任一所述的显示基板的制备方法，其特征在于，包括：
衬底基板及设置于所述衬底基板上的图案化膜层，所述图案化膜层的第一表面具有凹坑部和非凹坑部；
平坦化层，所述平坦化层设置于所述图案化膜层的第一表面；
其中，所述凹坑部的亲液性高于所述非凹坑部的亲液性，所述第一表面为所述图案化膜层背离所述衬底基板的表面。
8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，
所述平坦化层包括：
第一平坦化层，所述第一平坦化层设置于所述凹坑部内，且其厚度不大于所述凹坑部的深度；
第二平坦化层，所述第二平坦化层设置于所述非凹坑部和所述第一平坦化层上；
其中，所述第一平坦化层的亲液性高于所述第二平坦化层的亲液性。
9.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，还包括：
疏液层，所述疏液层设置于所述非凹坑部上，以使所述凹坑部的亲液性高于所述非凹坑部的亲液性。
10.一种显示面板，其特征在于，包括：
如权利要求7-9中任一所述的显示基板。
11.一种显示装置，其特征在于，包括：
如权利要求10所述的显示面板。
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