CN112331697A

CN112331697A - 显示面板及其制备方法

Info

Publication number: CN112331697A
Application number: CN201911403529.7A
Authority: CN
Inventors: 林杰
Original assignee: Guangdong Juhua Printing Display Technology Co Ltd
Current assignee: Guangdong Juhua Printing Display Technology Co Ltd
Priority date: 2019-12-30
Filing date: 2019-12-30
Publication date: 2021-02-05
Anticipated expiration: 2039-12-30
Also published as: CN112331697B

Abstract

本发明涉及一种显示面板及其制备方法。所述显示面板，包括基板、像素界定层、发光层、电子阻挡层、疏水层和电子功能层；所述像素界定层设于所述基板上，限定出像素坑，所述像素界定层设有位于所述像素坑外周侧的凹槽；所述发光层设于所述像素坑内；所述电子阻挡层设于所述发光层上，并覆盖所述像素界定层的上表面；所述疏水层设于与所述凹槽内对应的电子阻挡层上；所述电子功能层设于所述像素坑内的电子阻挡层上。上述显示面板能够实现显示器件中载流子平衡的同时，避免了制备过程中，由于含有电子功能层材料的墨水从像素坑中溢出对显示面板性能和显示效果造成的一系列弊端。

Description

显示面板及其制备方法

技术领域

本发明涉及显示发光领域，特别是涉及显示面板及其制备方法。

背景技术

量子点发光二极管(QLED)因其色域广、对比度高、启动电压低等优点，近年来作为下一代显示技术而倍受关注。

但是，由于沉积技术限制，有些功能层只能在显示区域整面沉积，而若此功能层呈亲水性，则会在像素界定层表面覆盖亲水性的薄膜，就会导致像素界定层无法限制像素坑内其它亲水性功能层材料的墨水的溢出，导致显示区域整面都被其它亲水性功能层材料的墨水覆盖。这种情况会导致：1、由于显示区域整面都被其它亲水性功能层材料的墨水均匀覆盖，因此红绿蓝子像素内该功能层的膜厚无法单独调整，使得QLED器件的性能受到限制；2、由于是以整面基板，而不是单个像素坑，为单位，进行干燥成膜，因此不同区域间的膜厚、形貌会有较大差异，使得显示面板会有区域性的亮度、颜色差异，影响显示效果；3、墨水的容纳能力变差，该功能层的厚度无法做厚；4、无法限制显示区域表面墨水的流动，可能会流动到其他区域，对外部电极、电路等产生影响；5、在倒置式的器件结构(阴极下阳极上)下，将直接导致红绿蓝混色的发生。

发明内容

基于此，本发明提供一种显示面板，在亲水的功能层覆盖在原本疏水的像素界定层后，避免了像素抗中形成其它亲水功能层时，含有其它亲水功能层材料的墨水从像素坑中溢出对显示面板性能和显示效果造成的一系列弊端。

技术方案为：

一种显示面板，包括基板、像素界定层、亲水的第一功能层、疏水层和亲水的第二功能层；

所述像素界定层设于所述基板上，限定出像素坑，所述像素界定层设有位于所述像素坑外周侧的凹槽；所述第一功能层覆盖所述像素界定层的上表面；所述疏水层设于与所述凹槽内对应的第一功能层上；所述第二功能层设于所述像素坑内的第一功能层上。

本发明还提供一种显示面板的制备方法。

技术方案为：

一种显示面板的制备方法，包括以下步骤：

于基板上形成像素界定层，所述像素界定层限定出像素坑，所述像素界定层设有位于所述像素坑外周侧的凹槽；

制作亲水性的第一功能层，使其覆盖像素界定层；

于与所述凹槽内对应的第一功能层上形成疏水层；

于所述像素坑内的第一功能层上形成亲水性的第二功能层。

与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：

本发明的显示面板中，采用了一种特殊的像素界定结构，所述像素界定层设有位于像素坑外周侧的凹槽。在这种特殊的像素界定结构上沉积亲水性的第一功能层后，可以在凹槽中的第一功能层上形成疏水层，恢复像素界定层的疏水性。溶液法形成亲水性的第二功能层时，所述疏水层可与含有第二功能层材料的墨水之间形成一个较大的接触角，一方面，可使像素坑内容纳更多的墨水；另一方面，可以避免墨水从像素坑中溢出。上述显示面板，避免了制备过程中，含有第二功能层材料的墨水从像素坑中溢出对显示面板性能和显示效果造成的一系列弊端。

附图说明

图1为像素界定结构示意图；

图2为像素界定结构示意图；

图3为含有电子阻挡层氧化铝薄膜的QLED器件结构示意图；

图4为含有电子阻挡层氧化铝薄膜与不含电子阻挡层氧化铝薄膜的QLED器件效率和寿命对比示意图；

图5为喷墨打印含有空穴注入材料的墨水后的示意图；

图6为形成空穴注入层后的示意图；

图7为形成电子阻挡层后的示意图；

图8为喷墨打印含有疏水材料的墨水后的示意图；

图9为含有疏水材料的墨水流向示意图；

图10为形成疏水层后的示意图；

图11为喷墨打印含有电子传输材料的墨水后的示意图；

图12为形成电子传输层后的示意图；

图13为显示面板结构图；

图14为对照组喷墨打印含有电子传输材料的墨水后的示意图。

具体实施方式

以下结合具体实施例对本发明的显示面板及其制备方法作进一步详细的说明。本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本发明公开内容理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

上述显示面板采用了一种特殊的像素界定结构，该像素界定结构包括基板及其设于所述基板上的像素界定层。

可以理解地，基板上可以具有薄膜晶体管阵列和像素电极层，所述像素电极层与上述像素界定层限定出了若干个像素坑。

上述特殊的像素界定结构如图1和图2所示，其中，1为基板，2为薄膜晶体管阵列，3为像素电极层，10为像素界定层，101为凹槽。其中，凹槽101位于所述像素坑外周侧，即凹槽的肩部将若干个像素坑分别围绕起来，基板的显示区域整面的凹槽都是连通的。

优选地，凹槽的深度H为0.2μm-0.4μm，凹槽肩部的顶面宽度W为2μm-5μm。凹槽可用于后续承载含有疏水材料的墨水，凹槽的肩部用于后续限制含有疏水材料的墨水的流动。

所述像素界定层的材料包括但不限于聚甲基丙烯酸甲酯和聚酰亚胺，这些材料具有较好的疏水性。

可以理解地，上述疏水层的材料须具有疏水性，具有疏水性的材料包括但不限于聚甲基丙烯酸甲酯和聚酰亚胺。

可以理解地，上述疏水层的材料与像素界定层的材料可以选择相同的疏水材料，也可以选择不同的疏水材料。

可以理解地，在像素坑内，亲水性的第一功能层和亲水性的第二功能层相邻，且亲水性的第一功能层还覆盖在上述特殊结构的像素界定层的上表面。

在一些优选的实施例中，所述第一功能层、所述第二功能层分别独立地选自第一载流子阻挡层、电子传输层、电子注入层中的一层，且所述第一功能层与所述第二功能层选自不同的层。

其中，第一载流子阻挡层可以是电子阻挡层或空穴阻挡层。

当量子点发光二极管中，电子数量高于空穴数量时，可在量子点和亲水性的电子传输层(或亲水性的电子注入层)之间设置亲水性的电子阻挡层(第一载流子阻挡层)，降低传送至发光层的电子的数量，平衡载流子。

此时，优选地，第一功能层为亲水性的电子阻挡层，第二功能层为亲水性的电子传输层或亲水性的电子注入层。

更优选地，还包括第三功能层，此时，第一功能层为亲水性的电子阻挡层，第二功能层为亲水性的电子传输层，第三功能层为电子注入层，第三功能层可以是亲水性的，也可以是疏水性的。

当需要避免传送至发光层的空穴继续传送到亲水性的电子传输层(或亲水性的电子注入层)时，可在量子点发光层和亲水性的电子传输层(或亲水性的电子注入层)之间设置亲水性的空穴阻挡层(第一载流子阻挡层)，将空穴阻挡在发光层一侧。

此时，优选地，第一功能层为亲水性的空穴阻挡层，第二功能层为亲水性的电子传输层或亲水性的电子注入层。

更优选地，还包括第三功能层，此时，第一功能层为亲水性的空穴阻挡层，第二功能层为亲水性的电子传输层，第三功能层为电子注入层，第三功能层可以是亲水性的，也可以是疏水性的。

可以理解地，第一功能层还可以是亲水性的电子传输层，此时，第二功能层是亲水性的电子注入层。

在一些优选的实施例中，所述第一功能层、所述第二功能层分别独立地选自第二载流子阻挡层、空穴传输层、空穴注入层中的一层，且所述第一功能层与所述第二功能层选自不同的层。

其中，第二载流子阻挡层可以是电子阻挡层或空穴阻挡层。

当量子点发光二极管中，空穴数量高于电子数量时，可在量子点和亲水性的空穴传输层(或亲水性的空穴注入层)之间设置亲水性的空穴阻挡层(第二载流子阻挡层)，降低传送至发光层的空穴的数量，平衡载流子。

此时，优选地，第一功能层为亲水性的空穴阻挡层，第二功能层为亲水性的空穴传输层或亲水性的空穴注入层。

更优选地，还包括第三功能层，此时，第一功能层为亲水性的空穴阻挡层，第二功能层为亲水性的空穴传输层，第三功能层为空穴注入层，第三功能层可以是亲水性的，也可以是疏水性的。

当需要避免传送至发光层的电子继续传送至亲水性的空穴传输层(或亲水性的空穴注入层)时，可在量子点发光层和亲水性的空穴传输层(或亲水性的空穴注入层)之间设置亲水性的电子阻挡层(第二载流子阻挡层)，将电子阻挡在发光层一侧。

此时，优选地，第一功能层为亲水性的电子阻挡层，第二功能层为亲水性的空穴传输层或亲水性的空穴注入层。

更优选地，还包括第三功能层，此时，第一功能层为亲水性的电子阻挡层，第二功能层为亲水性的空穴传输层，第三功能层为空穴注入层，第三功能层可以是亲水性的，也可以是疏水性的。

在一些优选的实施例中，所述像素电极层为阳极，所述显示面板还包括发光层，所述第一功能层为第一载流子阻挡层，所述第一载流子阻挡层为电子阻挡层，所述第二功能层为电子传输层，所述发光层设于所述像素坑内；所述电子阻挡层设于所述发光层上，并覆盖所述像素界定层的上表面，所述疏水层设于与所述凹槽内对应的电子阻挡层上，所述电子传输层设于所述像素坑内的电子阻挡层上。

在一些优选的实施例中，所述像素电极层为阴极，所述显示面板还包括发光层，所述第一功能层为电子传输层，所述第二功能层为第一载流子阻挡层，所述第一载流子阻挡层为电子阻挡层，所述阴极设于所述像素坑内；所述电子传输层设于所述阴极上，并覆盖所述像素界定层的上表面，所述疏水层设于与所述凹槽内对应的电子传输层上，所述电子阻挡层设于所述像素坑内的电子传输层上，所述发光层设于所述像素坑内的电子阻挡层上。

在一些优选的实施中，所述像素电极层为阴极，所述显示面板还包括发光层，所述第一功能层为空穴传输层，所述第二功能层为空穴注入层，所述发光层设于所述像素坑内；所述空穴传输层设于所述发光层上，并覆盖所述像素界定层的上表面，所述疏水层设于与所述凹槽内对应的空穴传输层上，所述空穴注入层设于所述像素坑内的空穴传输层上。

在一些优选的实施例中，所述像素电极层为阳极，所述显示面板还包括发光层，所述第一功能层为空穴注入层，所述第二功能层为空穴传输层，所述阳极设于所述像素坑内；所述空穴注入层设于所述阳极上，并覆盖所述像素界定层的上表面，所述疏水层设于与所述凹槽内对应的空穴注入层上，所述空穴传输层设于所述像素坑内的空穴注入层上，所述发光层设于所述像素坑内的空穴传输层上。

通过在具有凹槽结构的像素界定层的亲水性的第一功能层上形成上述疏水层，在喷墨打印亲水性的第二功能层材料时，能够避免亲水性的第一功能层无法限制亲水性的第二功能层材料从像素坑内的溢出的现象，增加上述疏水层后，含有亲水性的第二功能层材料的墨水与疏水层之间会形成一个较大的接触角，将亲水性的第二功能层材料限制在像素坑内。

此外，目前QLED的外量子效率(EQE)与有机发光二极管(OLED)相比，还是相对较低的。这主要是由于QLED中的载流子不平衡导致的。因此，为了提高QLED的EQE，目前有一种做法是利用ALD技术，在QD层上方形成载流子阻挡层，作为一种功能层，提升QLED的效率与寿命如图3和图4所示。但是，如果要将这种方法应用到显示面板的制作上，实施起来就有很大的难度。因为ALD本身的阴影效应较显著，无法使用高精度金属掩模板来准确限制它的沉积区域，所以只能在显示区域整面沉积载流子阻挡材料，而若载流子阻挡层呈亲水性，如果在像素界定层表面覆盖亲水性的薄膜，就会导致像素界定层无法限制像素坑内其它亲水性功能层材料的墨水的溢出，导致显示区域整面都被其它亲水性功能层材料的墨水覆盖。

而上述结构的显示面板，就能克服上述问题，利用特殊结构的像素界定层，在这种特殊的像素界定结构上沉积亲水性的载流子阻挡层后，可以在凹槽中的载流子阻挡层上形成疏水层，恢复像素界定层的疏水性。溶液法形成亲水性的其他功能层时，所述疏水层可与含有其他功能层材料的墨水之间形成一个较大的接触角，避免了制备过程中，含有其他亲水功能层材料的墨水从像素坑中溢出对显示面板性能和显示效果造成的一系列弊端的同时，实现显示器件中载流子的平衡。

可以理解地，所述载流子阻挡层的材料为亲水的电子阻挡材料，可通过原子层沉积技术(ALD)工艺成膜。优选地，所述电子阻挡层的材料为亲水的无机电子阻挡材料，更优选地，所述电子阻挡层的材料为氧化铝。以亲水性的电子阻挡材料作为电子阻挡层，可平衡器件中的载流子平衡，提升器件的效率和寿命，同时，上述电子阻挡层还能在后续像素坑内沉积含有功能层材料的墨水时，具有较好的润湿性，保证墨水在像素坑内完全铺展开。

所述电子传输层的材料为亲水的电子传输材料。优选地，所述电子传输层的材料为亲水的无机电子传输材料，更优选地，所述电子传输层的材料为ZnO或ZnMgO等。

所述电子注入层的材料可以为亲水性的电子注入材料，也可以为疏水性的电子注入材料，所述亲水性的电子注入材料包括但不限于AZO或Cs₂CO₃等。

所述空穴注入层的材料可以为亲水性的空穴注入材料，也可以为疏水性的空穴注入材料，所述亲水性的空穴注入材料包括但不限于V₂O₅(五氧化二钒)、MoO3(三氧化钼)或PEDOT:PSS等。

所述空穴传输层为亲水的空穴传输材料。优选地，所述空穴传输层的材料为TFB，Poly-TPD或PVK等。

所述空穴阻挡层的材料为亲水的空穴阻挡材料。优选地，所述空穴阻挡层的材料为TPBi或DPVBi等。

所述发光层为量子点发光层。

一种显示面板的制备方法，包括以下步骤：

S1、于基板上形成像素界定层，所述像素界定层限定出像素坑，所述像素界定层设有位于所述像素坑外周侧的凹槽；

S2、制作亲水性的第一功能层，使其覆盖像素界定层；

S3、于与所述凹槽内对应的第一功能层上形成疏水层；

S4、于所述像素坑内的第一功能层上形成亲水性的第二功能层。

具体地，S1步骤中，可通过半曝光(half-tone)工艺，同时形成上述像素界定层和像素坑，工艺简单、便捷。

所述像素电极层可以是阳极，也可以是阴极。

S2、制作亲水性的第一功能层，使其覆盖像素界定层。

当像素电极为阳极时，包括以下两种情况：

(1)于所述阳极和像素界定层上形成亲水性的第一功能层。

(2)于所述像素坑内形成发光层，于所述发光层和像素界定层上形成亲水性的第一功能层。

可以理解地，(2)中，在阳极与所述发光层之间，还包括其它功能层。

当像素电极为阴极时，包括以下两种情况：

(1)于所述阴极和像素界定层上形成亲水性的第一功能层。

可以理解地，(2)中，在阴极与所述发光层之间，还包括其它功能层。

发光层可以是量子点发光层。形成量子点发光层的方法为：在像素坑中喷墨打印含有量子点发光材料的墨水，然后减压干燥，待墨水中的溶剂挥发完全后，经过烘烤制程，得到量子点发光层。

所有功能层均可通过喷墨打印技术形成，在对应位置喷墨打印含有该功能层墨水的材料，然后减压干燥，待墨水中的溶剂挥发完全后，经过烘烤制程，得到相应的功能层。

特别地，当形成亲水性的第一功能层时，可利用ALD技术，于像素坑内和像素界定层的上表面沉积第一功能层材料。

可以理解地，可以在基板的显示区域整面沉积第一功能层材料。所述基板的显示区域整面包括像素界定层整个区域以及像素坑的整个区域。

S3、于与所述凹槽内对应的第一功能层上形成疏水层；

于所述像素界定层的上表面形成亲水性的第一功能层后，由于该像素界定层设有位于所述像素坑外周侧的连通的凹槽，因此，像素界定层上的第一功能层也对应形成了一个连通的凹槽。

在像素界定层连通的凹槽中的第一功能层上喷墨打印含有疏水材料的墨水，然后凭借含有疏水材料的墨水本身的流动，填充上述由像素界定层上方的第一功能形成的连通的凹槽。此时，连通的凹槽能够确保墨水不流入像素坑，不对像素坑内的膜层产生影响。

优选地，横向相邻的两个像素坑外边缘之间的距离大于5μm，有利于墨水自发流动并填充凹槽。

含有疏水材料的墨水的粘度需满足流动性要求，即能够填充上述凹槽，并且自身能够流平，形成平坦的表面。优选地，含有疏水材料的墨水的粘度小于15cP。优选地，疏水材料为聚甲基丙烯酸甲酯或者聚酰亚胺的单体。

喷墨打印含有疏水材料的墨水后，可通过热固化或者紫外固化，发生聚合反应，形成疏水层。紫外固化时，优选紫外固化的波长为395nm±5nm；热固化时，优选热固化的温度为110℃-130℃。

可通过喷墨印刷技术，形成亲水性的第二功能层。

可以理解地，上述显示面板的制备方法还包括：通过蒸镀或溅射，在基板的显示区域整面，形成阴极或阳极。

实施例

本实施例提供一种显示面板及其制备方法，步骤如下：

取图1和图2所示的基板，所述像素电极层为阳极，在像素坑的阳极上依次形成空穴注入层和空穴传输层，形成方法为：如图5-6所示，在像素坑内的像素电极上喷墨打印含有空穴注入材料的墨水501，然后减压干燥，待墨水中的溶剂挥发完全后，经过烘烤制程，得到空穴注入层5。

如图7所示，在空穴注入层5上喷墨打印含有空穴传输材料的墨水，然后减压干燥，待墨水中的溶剂挥发完全后，经过烘烤制程，得到空穴传输层6；随后，在空穴传输层6上喷墨打印含有量子点发光材料的墨水，然后减压干燥，待墨水中的溶剂挥发完全后，经过烘烤制程，形成发光层7；利用ALD技术，于所述发光层7和像素界定层10的上表面沉积亲水性的电子阻挡材料，形成电子阻挡层8，作为第一功能层。

可以理解地，可以在基板的显示区域整面沉积一层亲水性的电子阻挡材料，所述电子阻挡材料为氧化铝。

亲水性的电子阻挡层厚度为4nm，以亲水性的电子阻挡材料作为电子阻挡层，可平衡器件中的载流子平衡，提升器件的效率和寿命。同时，上述电子阻挡层还能在后续沉积含有电子传输材料的墨水时，具有较好的润湿性，保证墨水在像素坑内完全铺展开。

如图8所示，于所述像素界定层10的上表面形成电子阻挡层8后，由于该像素界定层10设有位于所述像素坑外周侧的连通的凹槽，因此，像素界定层上的电子阻挡层8也对应形成了一个连通的凹槽。在像素界定层连通的凹槽中的电子阻挡层8上喷墨打印含有疏水材料的墨水。如图8所示，12为喷墨打印头，1101为含有疏水材料的墨水。

喷墨打印头12上的喷嘴绕过像素坑的区域，喷墨打印头12相对与基板的运动方向如图9中的实线箭头所示。然后凭借含有疏水材料的墨水1101本身的流动，填充上述由像素界定层上方的电子阻挡层形成的连通的凹槽101，如图9中的虚线箭头所示。该措施能有效避免含有疏水材料的墨水1101的墨滴由于落点位置偏移，滴入像素坑中，从而对QLED器件产生不良影响。

此时，连通的凹槽能够确保墨水不流入像素坑，不对像素坑内的膜层产生影响。

含有疏水材料的墨水的粘度小于15cP。疏水材料为聚酰亚胺的单体。

喷墨打印含有疏水材料的墨水后，通过紫外固化，发生聚合反应，形成疏水层。紫外固化时，波长为395nm。

图10所示为喷墨打印含有疏水材料的墨水后，通过紫外灯照射，进行固化，形成疏水层11，其中，13为紫外灯，11为固化后形成的疏水层。

于所述像素坑内的电子阻挡层8上形成电子传输层，即形成第二功能层。如图11所示，通过喷墨印刷技术，于所述像素坑内的电子阻挡层8上沉积含有电子传输材料的墨水901，此时，含有电子传输材料的墨水与疏水层11之间形成一个较大的接触角，一方面，可使像素坑内容纳更多的墨水；另一方面，可以避免墨水从像素坑中溢出。然后对基板进行减压干燥，待墨水中的溶剂挥发完全后，经过烘烤制程，得到电子传输层9，如图12所示。

所述电子传输材料为氧化锌。

通过蒸镀或溅射，在基板的显示区域整面，形成阴极层14，如图13所示。

对照组

本对照组提供一种显示面板及其制备方法，与上述方法基本相同，区别在于采用常规的像素界定结构，其中，喷墨打印含有电子传输材料的墨水时，由于氧化锌电子阻挡层本身的表面能较高，亲水性较好，因此，像素界定层上方区域也失去了疏水性，无法限制含有电子传输材料的墨水溢出，导致基板的显示区域整面都被含有电子传输材料的墨水覆盖，如图14所示，其中，1为基板，2为薄膜晶体管阵列，3为像素电极层，4为像素界定层，5为空穴注入层，6为空穴传输层，7为发光层，8为电子阻挡层，901为含有电子传输材料的墨水。

这种情况会导致：1、由于显示区域整面都被电子传输材料的墨水901均匀覆盖，因此红绿蓝子像素内电子传输层的膜厚无法单独调整，使得QLED器件的性能受到限制；2、由于是以整面基板为单位进行干燥成膜，而不是单个像素坑，因此不同区域间的膜厚、形貌会有较大差异，使得显示面板会有区域性的亮度、颜色差异，影响显示效果；3、墨水的容纳能力变差，电子传输层的厚度无法做厚；4、无法限制显示区域表面墨水的流动，可能会流动到其他区域，对外部电极、电路等产生影响；5、在倒置式的器件结构(阴极下阳极上)下，将直接导致红绿蓝混色的发生。

综上，本发明的显示面板中，采用了一种特殊的像素界定结构，所述像素界定层设有位于像素坑外周侧的凹槽。在这种特殊的像素界定结构上沉积亲水性的第一功能层后，可以在凹槽中的第一功能层上形成疏水层，恢复像素界定层的疏水性。溶液法形成亲水性的第二功能层时，所述疏水层可与含有第二功能层材料的墨水之间形成一个较大的接触角，一方面，可使像素坑内容纳更多的墨水；另一方面，可以避免墨水从像素坑中溢出。上述显示面板，避免了制备过程中，含有第二功能层材料的墨水从像素坑中溢出对显示面板性能和显示效果造成的一系列弊端。

当第一功能层为载流子功能层时，还能避免制备过程中，含有第二功能层材料的墨水从像素坑中溢出对显示面板性能和显示效果造成的一系列弊端的同时，实现显示器件中载流子的平衡。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims

1.一种显示面板，其特征在于，包括基板、像素界定层、亲水的第一功能层、疏水层和亲水的第二功能层；

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽的深度为0.2μm-0.4μm。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述疏水层的材料选自聚甲基丙烯酸甲酯和聚酰亚胺中的一种或几种。

4.根据权利要求1-3任一项所述的显示面板，其特征在于，所述第一功能层、所述第二功能层分别独立地选自第一载流子阻挡层、电子传输层、电子注入层中的一层，且所述第一功能层与所述第二功能层选自不同的层；或者，

所述第一功能层、所述第二功能层分别独立地选自第二载流子阻挡层、空穴传输层、空穴注入层中的一层，且所述第一功能层与所述第二功能层选自不同的层。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括发光层，所述第一功能层为第一载流子阻挡层，所述第一载流子阻挡层为电子阻挡层，所述第二功能层为电子传输层，所述发光层设于所述像素坑内；所述电子阻挡层设于所述发光层上，并覆盖所述像素界定层的上表面，所述疏水层设于与所述凹槽内对应的电子阻挡层上，所述电子传输层设于所述像素坑内的电子阻挡层上；或者，

所述显示面板还包括阴极和发光层，所述第一功能层为电子传输层，所述第二功能层为第一载流子阻挡层，所述第一载流子阻挡层为电子阻挡层，所述阴极设于所述像素坑内；所述电子传输层设于所述阴极上，并覆盖所述像素界定层的上表面，所述疏水层设于与所述凹槽内对应的电子传输层上，所述电子阻挡层设于所述像素坑内的电子传输层上，所述发光层设于所述像素坑内的电子阻挡层上。

6.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括发光层，所述第一功能层为空穴传输层，所述第二功能层为空穴注入层，所述发光层设于所述像素坑内；所述空穴传输层设于所述发光层上，并覆盖所述像素界定层的上表面，所述疏水层设于与所述凹槽内对应的空穴传输层上，所述空穴注入层设于所述像素坑内的空穴传输层上；或者,

所述显示面板还包括阳极和发光层，所述第一功能层为空穴注入层，所述第二功能层为空穴传输层，所述阳极设于所述像素坑内；所述空穴注入层设于所述阳极上，并覆盖所述像素界定层的上表面，所述疏水层设于与所述凹槽内对应的空穴注入层上，所述空穴传输层设于所述像素坑内的空穴注入层上，所述发光层设于所述像素坑内的空穴传输层上。

7.根据权利要求5或6所述的显示面板，其特征在于，所述发光层为量子点发光层。

8.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

制作亲水性的第一功能层，使其覆盖像素界定层；

于与所述凹槽内对应的第一功能层上形成疏水层；

于所述像素坑内的第一功能层上形成亲水性的第二功能层。

9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述于与所述凹槽内对应的第一功能层上形成疏水层的步骤包括：

于与所述凹槽内对应的第一功能层上喷墨打印含有疏水材料的墨水，固化，形成所述疏水层。

10.根据权利要求9所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述含有疏水材料的墨水的粘度小于15cP；及/或，

所述固化选自紫外固化或热固化。

11.根据权利要求10所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述紫外固化的波长为395nm±5nm；或，

所述热固化的温度为110℃-130℃。