CN112305876A - 一种显影液的制备方法 - Google Patents

一种显影液的制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN112305876A
CN112305876A CN201910700182.6A CN201910700182A CN112305876A CN 112305876 A CN112305876 A CN 112305876A CN 201910700182 A CN201910700182 A CN 201910700182A CN 112305876 A CN112305876 A CN 112305876A
Authority
CN
China
Prior art keywords
solution
developing solution
mixing
alkali metal
deionized water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201910700182.6A
Other languages
English (en)
Inventor
诸嘉豪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuxi Disi Microelectronics Co ltd
Original Assignee
Wuxi Disi Microelectronics Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuxi Disi Microelectronics Co ltd filed Critical Wuxi Disi Microelectronics Co ltd
Priority to CN201910700182.6A priority Critical patent/CN112305876A/zh
Publication of CN112305876A publication Critical patent/CN112305876A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322Aqueous alkaline compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)

Abstract

本发明提供一种显影液的制备方法,包括以下步骤:S1:A溶液的配制:将去离子水、氢氧化钠和一元弱酸混合并密封静置;S2:B溶液的配制:将去离子水、氢氧化钾和一元弱酸混合并密封静置;S3:A溶液和B溶液混合:将所述A溶液和所述B溶液混合得到显影液,静置后待用。本发明缩短采购周期,配方所需原材料均可在国内采购到,可自行配置,无需运输,降低包装费用,减少成本。

Description

一种显影液的制备方法
技术领域
本发明主要涉及显影技术领域,尤其涉及一种显影液的制备方法。
背景技术
掩膜建厂初期,能与机器匹配的各种药剂均依赖进口,国内无法买到。显影液是制造掩膜的必需品,国内仅有一家供应厂商提供针对掩膜版的显影液,价格较高,导致成本增加。而通过国外进口,购买周期长,运输成本高,价钱也较贵。此外,现有的显影液还存在显影效果不显著、显影性能不稳定、操作温度范围窄、使用安全环保性低等一种或多种缺陷。
发明内容
针对上述至少一个缺陷,本发明提供一种显影液的制备方法,包括以下步骤:
S1:A溶液的配制:将去离子水、碱金属氢氧化物和一元弱酸混合并密封静置;
S2:B溶液的配制:将去离子水、碱金属氢氧化物和一元弱酸混合并密封静置;
S3:A溶液和B溶液混合:将所述A溶液和所述B溶液混合得到显影液,静置后待用。
优选的,S1步骤和S2步骤中,一元弱酸采用硼酸。
优选的,S1步骤中,所述碱金属氢氧化物采用氢氧化钠。
优选的,S2步骤中,所述碱金属氢氧化物采用氢氧化钾。
优选的,S1步骤中,硼酸占A溶液总质量的4.5%-7%,氢氧化钠占A溶液总质量的4%-6%。
优选的,S2步骤中,硼酸占B溶液总质量的2%-3%,氢氧化钾占B溶液总质量的6.5%-8.5%。
优选的,S3步骤中,在A溶液和B溶液按照质量比为2:1进行混合。
优选的,S3步骤中,将A溶液和B溶液混合之后,所述静置后待用之前,还包括对所述显影液进行过滤并分装。
优选的,分装还包括:采用防腐蚀桶分装。
优选的,S2步骤中,将去离子水、碱金属氢氧化物和一元弱酸混合还包括以下工序:
先用去离子水将碱金属氢氧化物溶解,再继续加入一元弱酸。
优选的,S3步骤中,将去离子水、碱金属氢氧化物和一元弱酸混合还包括以下工序:
先用去离子水将碱金属氢氧化物溶解,再继续加入一元弱酸。
本发明的显影液的制备方法采用常见的一元弱酸及碱金属氢氧化物混合制备,即能制备出满足基本显影需求的显影液。配方所需原材料均可在国内采购到,配置方法简便,可自行配置得到显影液,无需运输,降低包装费用,缩短采购周期,减少成本,且不涉及高危化学品,安全环保性高。
具体实施方式
为了使本技术领域人员更好地理解本发明的技术方案,并使本发明的上述特征、目的以及优点更加清晰易懂,下面结合实施例对本发明做进一步的说明。实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。
本实施例包括有以下步骤:
S1:清洗多个配液桶,该多个配液桶分为三类:A溶液配液桶,B溶液配液桶和混合液桶。在本实施例中,具体的包括2个A溶液配液桶,1个B溶液配液桶和1个混合液桶;在其他实施例中,在满足可容纳体积比或质量比为2:1的A溶液和B溶液的前提下,A溶液配液桶的数量可以少于B溶液配液桶数量。
S2:配制A溶液:
S2.1:在A溶液配液桶内加14㎏至18㎏去离子水;
S2.2:在A溶液配液桶内加入800g至1200g氢氧化钠,搅拌至氢氧化钠溶解;
S2.3:在A溶液配液桶内加入900g至1400g硼酸,搅拌至硼酸溶解;
S2.4:继续在A溶液配液桶内加去离子水至A溶液重量为20㎏;
S2.5:搅拌均匀后,盖上桶盖密封冷却并静置。
S3:配制B溶液:
S3.1:在B溶液配液桶内加14㎏至18㎏去离子水;
S3.2:在B溶液配液桶内边搅拌边加入1300g至1700g氢氧化钾,并继续搅拌至氢氧化钾溶解;
S3.3:在B溶液配液桶内加入400g至600g硼酸,搅拌至硼酸溶解;
S3.4:在B溶液配液桶内继续加去离子水至B溶液重量为20㎏;
S3.5:搅拌均匀后,盖上桶盖密封冷却并静置。
S4:A溶液和B溶液混合:
S4.1:将质量比为2:1的A溶液和B溶液倒入混合液桶中,使用搅拌棒搅拌,得到显影液;本实施例中,将20kg的A溶液和10kg的B溶液倒入混合液桶中,使用搅拌棒搅拌。
S4.2:对混合液桶中的显影液进行过滤,使用洗净的防腐蚀桶对过滤后的显影液进行分装,过滤后的显影液的显影效果更好,显影性能更稳定。在其他实施中,可以采用加仑桶盛装过滤后的显影液,以利于显影液长期保存。
S4.3:为了获得更好的显影效果,需要将配好的显影液需静置后使用。
在本方法中,氢氧化钠、氢氧化钾和硼酸都是在市场上很容易采购到的原料,即能制备出满足基本显影需求的显影液。一方面缩短采购周期,节省从国外运输至国内的时间,另一方面,配置方法简单,且在掩膜工厂内部就可自行配置,不需要额外从显影液厂商处转运至掩膜工厂,降低了包装费用,节省了运输成本,且不涉及高危化学品,安全环保性高。
上述实施例仅例示性说明本专利申请的原理及其功效,而非用于限制本专利申请。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本专利申请的精神及范畴下,对上述实施例进行修饰或改变。因此,举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本专利申请所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变,仍应由本专利请的权利要求所涵盖。

Claims (10)

1.一种显影液的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1:A溶液的配制:将去离子水、碱金属氢氧化物和一元弱酸混合并密封静置;
S2:B溶液的配制:将去离子水、碱金属氢氧化物和一元弱酸混合并密封静置;
S3:A溶液和B溶液混合:将所述A溶液和所述B溶液混合得到显影液,静置后待用。
2.根据权利要求1所述的显影液的制备方法,其特征在于:所述S1步骤和S2步骤中,所述一元弱酸采用硼酸。
3.根据权利要求1或2所述的显影液的制备方法,其特征在于:所述S1步骤中,所述碱金属氢氧化物采用氢氧化钠。
4.根据权利要求3所述的显影液的制备方法,其特征在于:所述S2步骤中,所述碱金属氢氧化物采用氢氧化钾。
5.根据权利要求3所述的显影液的制备方法,其特征在于:所述S1步骤中,硼酸占A溶液总质量的4.5%-7%,氢氧化钠占A溶液总质量的4%-6%。
6.根据权利要求4所述的显影液的制备方法,其特征在于:所述S2步骤中,硼酸占B溶液总质量的2%-3%,氢氧化钾占B溶液总质量的6.5%-8.5%。
7.根据权利要求1或2所述的显影液的制备方法,其特征在于:所述S3步骤中,所述A溶液和所述B溶液按照质量比为2:1进行混合。
8.根据权利要求7所述的显影液的制备方法,其特征在于:所述S3步骤中,所述将A溶液和B溶液混合之后,所述静置后待用之前,还包括:对所述显影液进行过滤并分装,所述分装采用防腐蚀桶分装。
9.根据权利要求1或2所述的显影液的制备方法,其特征在于:所述S2步骤中,所述将去离子水、碱金属氢氧化物和一元弱酸混合还包括:
先用去离子水将碱金属氢氧化物溶解,再加入一元弱酸。
10.根据权利要求1或2所述的显影液的制备方法,其特征在于:所述S3步骤中,所述将去离子水、碱金属氢氧化物和一元弱酸混合还包括:
先用去离子水将碱金属氢氧化物溶解,再加入一元弱酸。
CN201910700182.6A 2019-07-31 2019-07-31 一种显影液的制备方法 Pending CN112305876A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910700182.6A CN112305876A (zh) 2019-07-31 2019-07-31 一种显影液的制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910700182.6A CN112305876A (zh) 2019-07-31 2019-07-31 一种显影液的制备方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN112305876A true CN112305876A (zh) 2021-02-02

Family

ID=74485301

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910700182.6A Pending CN112305876A (zh) 2019-07-31 2019-07-31 一种显影液的制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112305876A (zh)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1035189A (en) * 1974-02-26 1978-07-25 Richard R. Wells Developer for photosensitive coatings
JPH0588377A (ja) * 1991-09-27 1993-04-09 Chisso Corp 感光性樹脂現像液
US6107009A (en) * 1998-04-15 2000-08-22 Tan; Zoilo Cheng Ho Photoresist developer and method
CN105589304A (zh) * 2016-03-04 2016-05-18 苏州晶瑞化学股份有限公司 一种光刻胶用显影液及其制备方法和应用
CN107357140A (zh) * 2017-09-14 2017-11-17 江阴江化微电子材料股份有限公司 一种正性光刻胶用显影液及其制备方法和应用

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1035189A (en) * 1974-02-26 1978-07-25 Richard R. Wells Developer for photosensitive coatings
JPH0588377A (ja) * 1991-09-27 1993-04-09 Chisso Corp 感光性樹脂現像液
US6107009A (en) * 1998-04-15 2000-08-22 Tan; Zoilo Cheng Ho Photoresist developer and method
CN105589304A (zh) * 2016-03-04 2016-05-18 苏州晶瑞化学股份有限公司 一种光刻胶用显影液及其制备方法和应用
CN107357140A (zh) * 2017-09-14 2017-11-17 江阴江化微电子材料股份有限公司 一种正性光刻胶用显影液及其制备方法和应用

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105000820B (zh) 一种液体无碱无氯速凝剂及其制备方法
CN111254447A (zh) 一种中性除锈钝化清洗剂及其使用方法
CN112305876A (zh) 一种显影液的制备方法
CN104209052A (zh) 一种安赛蜜生产中的连续配料方法及装置
CN102424962B (zh) 用于铜及铜合金的缓蚀剂及其制备方法
CN106319501A (zh) 一种不锈钢法兰钝化工艺
CN102531453A (zh) 一种混凝土用泵送剂
CN104558207A (zh) 羟丙基甲基纤维素生产工艺
CN104907737A (zh) 一种新型免洗助焊剂
CN205216620U (zh) 一种远程控制复配装置
CN103774167A (zh) 工业零件清洗液
CN110527348A (zh) 一种水性转印膜脱膜剂及其制备方法和应用
CN104532268A (zh) 一种新型钢管除锈剂及其制备方法
CN101284309A (zh) 一种用铁合金粉末造块的方法
CN204469672U (zh) 固体顺酐液化及配料系统
CN104356929A (zh) 聚氨酯防腐涂料及其制备方法
CN205274297U (zh) 一种混凝土添加剂混合储存装置
CN107498214A (zh) 网络变压器外pin专用免洗助焊剂及其制备方法
CN109369831A (zh) 一种不需清釜的防冻型多元酚黄色防粘釜剂及其制备方法
CN111825519A (zh) 一种苯乙烯阻聚剂及其制备方法和用途
CN109757472A (zh) 一种羧酸类二甲胺盐颗粒剂的制备方法
CN108085166A (zh) 专用于清洗精密陶瓷套管的酸性陶瓷清洗剂及制备方法
CN106517844B (zh) 一种口腔医用材料石膏硬化剂及其制备方法
CN104449026A (zh) 一种打码机油墨清洗液
CN108624408A (zh) 一种空压机用清洗剂及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination