CN112219107A - 分析用阈值生成装置以及分析用阈值生成方法 - Google Patents
分析用阈值生成装置以及分析用阈值生成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112219107A CN112219107A CN201980037369.0A CN201980037369A CN112219107A CN 112219107 A CN112219107 A CN 112219107A CN 201980037369 A CN201980037369 A CN 201980037369A CN 112219107 A CN112219107 A CN 112219107A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- pair
- pulse
- analysis
- threshold
- threshold value
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 title claims abstract description 182
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 56
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims abstract description 44
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims abstract description 38
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 70
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 56
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 42
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 36
- 239000013076 target substance Substances 0.000 claims description 24
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 21
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 15
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 13
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 11
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 claims description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 90
- 230000008569 process Effects 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 239000000427 antigen Substances 0.000 description 7
- 102000036639 antigens Human genes 0.000 description 7
- 108091007433 antigens Proteins 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 201000010099 disease Diseases 0.000 description 5
- 208000037265 diseases, disorders, signs and symptoms Diseases 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 238000002965 ELISA Methods 0.000 description 3
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 3
- 238000003018 immunoassay Methods 0.000 description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 239000000090 biomarker Substances 0.000 description 2
- 210000001808 exosome Anatomy 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012472 biological sample Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 210000001124 body fluid Anatomy 0.000 description 1
- 239000010839 body fluid Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000006911 enzymatic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002372 labelling Methods 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000001225 therapeutic effect Effects 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/48—Biological material, e.g. blood, urine; Haemocytometers
- G01N33/50—Chemical analysis of biological material, e.g. blood, urine; Testing involving biospecific ligand binding methods; Immunological testing
- G01N33/53—Immunoassay; Biospecific binding assay; Materials therefor
- G01N33/543—Immunoassay; Biospecific binding assay; Materials therefor with an insoluble carrier for immobilising immunochemicals
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/48—Biological material, e.g. blood, urine; Haemocytometers
- G01N33/50—Chemical analysis of biological material, e.g. blood, urine; Testing involving biospecific ligand binding methods; Immunological testing
- G01N33/53—Immunoassay; Biospecific binding assay; Materials therefor
- G01N33/543—Immunoassay; Biospecific binding assay; Materials therefor with an insoluble carrier for immobilising immunochemicals
- G01N33/54366—Apparatus specially adapted for solid-phase testing
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/10—Investigating individual particles
- G01N15/14—Optical investigation techniques, e.g. flow cytometry
- G01N15/1429—Signal processing
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/10—Investigating individual particles
- G01N15/14—Optical investigation techniques, e.g. flow cytometry
- G01N15/1456—Optical investigation techniques, e.g. flow cytometry without spatial resolution of the texture or inner structure of the particle, e.g. processing of pulse signals
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/255—Details, e.g. use of specially adapted sources, lighting or optical systems
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/41—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/10—Investigating individual particles
- G01N15/14—Optical investigation techniques, e.g. flow cytometry
- G01N2015/1486—Counting the particles
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Pathology (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Hematology (AREA)
- Urology & Nephrology (AREA)
- Biotechnology (AREA)
- Cell Biology (AREA)
- Microbiology (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
分析用阈值生成装置(100)具备针对受光电平信号(JS)中包含的脉冲的脉冲宽度生成一对阈值或者针对脉冲的脉冲振幅生成一对阈值的阈值运算部(41)。分析用阈值生成装置(100)具备基于阈值运算部(41)生成的一对阈值和脉冲计数部(34)输出的计数值而生成用于分析的一对阈值的阈值校正部(46)。每当脉冲计数部(34)对脉冲进行计数时，阈值运算部(41)重复生成改变一对阈值中的至少一个阈值的新的一对阈值，直到达到预定值为止。
Description
技术领域
本公开涉及分析用阈值生成装置以及分析用阈值生成方法。具体地，本公开涉及用于分析抗原、抗体等生物物质的分析用阈值生成装置以及分析用阈值生成方法。
背景技术
已知免疫测定法(immunoassay)，其通过检测与疾病相关的特定的抗原或抗体作为生物标记物来定量地分析疾病的发现以及治疗效果等。检测由酶标记的抗原或抗体的ELISA法(Enzyme-Linked ImmunoSorbent Assay，酶联免疫吸附测定法)是免疫测定法之一，由于成本等优势而广泛普及。
但是，在ELISA法中，合计预处理、抗原抗体反应、B/F(bond/free)分离、酶反应等的时间是数小时至1天左右，分析需要很长时间。因此，提出了如下技术：使固定在光盘上的抗体与试样中的抗原结合，使抗原与设置有抗体的粒子进一步结合，用光头扫描，由此在短时间内对捕捉到光盘上的粒子进行计数(例如，参照专利文献1)。另外，提出了使光盘的形成有跟踪结构的面上附着生物试样及粒子、利用光拾取器检测信号变化的技术(例如，参照专利文献2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开平5-5741号公报
专利文献2：日本特表2002-530786号公报
通过利用来自光盘的反射信号所包含的脉冲，可以对附着在光盘上的粒子进行计数。此时，由于脉冲中还包含由噪声引起的脉冲，因此通过对脉冲振幅以及脉冲宽度等设置预定的条件，来选择性地对由粒子引起的脉冲进行计数，并对与粒子结合的检测对象物质进行计数。
发明内容
然而，如果用于判定为是由粒子引起的脉冲的、与脉冲振幅以及脉冲宽度相关的条件保持固定，则即使分析相同的样本也会产生偏差，因此计数结果会发生改变，分析精度有可能降低。
本发明是鉴于这样的现有技术所具有的问题而完成的，本发明的目的在于提供一种分析用阈值生成装置以及分析用阈值生成方法，能够与计数粒子时的条件无关地对检测对象物质进行计数。
为了解决上述问题，本公开的方式涉及的分析用阈值生成装置包括光拾取器，其将照射光向分析用基板照射，接收通过照射光的来自分析用基板的反射光，并生成受光电平信号。分析用基板在表面上固定有检测对象物质和与所述检测对象物质结合的粒子。分析用阈值生成装置包括阈值运算部，其针对受光电平信号中包含的脉冲的脉冲宽度生成一对阈值，或者针对脉冲的脉冲振幅生成一对阈值。分析用阈值生成装置包括脉冲判定部，判定脉冲宽度是否存在于针对脉冲宽度的一对阈值的范围内，或者判定脉冲振幅是否存在于针对脉冲振幅的一对阈值的范围内。分析用阈值生成装置包括脉冲计数部，对由脉冲判定部判定为存在于所生成的一对阈值的范围内的脉冲进行计数，并输出计数后的脉冲的计数值。分析用阈值生成装置包括阈值校正部，基于阈值运算部生成的一对阈值和脉冲计数部输出的计数值，生成用于分析的一对阈值。每当脉冲计数部对脉冲进行计数时，阈值运算部重复生成改变一对阈值中的至少一个阈值的新的一对阈值，直到达到预定值为止。
本公开的方式涉及的分析用阈值生成方法包括照射步骤，将照射光向分析用基板照射，分析用基板的表面上固定有检测对象物质和与检测对象物质结合粒子。分析用阈值生成方法包括信号生成步骤，接收通过照射光的来自分析用基板的反射光，并生成受光电平信号。分析用阈值生成方法包括判定步骤，判定受光电平信号中包含的脉冲是否存在于针对脉冲宽度而设定的一对阈值的范围内，或者脉冲是否存在于针对脉冲振幅而设定的一对阈值的范围内。分析用阈值生成方法包括计数值输出步骤，对在判定步骤中判定为存在于设定的一对阈值的范围内的脉冲进行计数，并输出计数后的脉冲的计数值。分析用阈值生成方法包括第一阈值生成步骤，每当在计数值输出步骤中对脉冲进行计数时，重复生成改变一对阈值中的至少一个阈值的新的一对阈值，直到达到预定值为止。分析用阈值生成方法包括第二阈值生成步骤，基于生成的每一对阈值和在计数值输出步骤中输出的计数值，来生成用于分析的一对阈值。
附图说明
图1是示出包含第一实施方式涉及的分析用阈值生成装置的分析装置的结构的框图；
图2是示出具有反应区域的分析用基板的一例的俯视图；
图3是放大示出在反应区域的轨道区域中捕获有粒子的状态的俯视图；
图4是示出检测对象物质被抗体和粒子夹在轨道区域的凹部而捕获的状态的示意剖面图；
图5是示出本实施方式涉及的盘驱动器的一例的概略图；
图6是示出第一实施方式涉及的分析用阈值生成方法的一例的流程图；
图7是示出本实施方式涉及的计数表的一例的图；
图8是说明基于直方图的众数值运算一对阈值的方法的图；
图9是说明基于直方图的积分值运算一对阈值的方法的图；
图10是示出第二实施方式涉及的分析用阈值生成装置的结构的框图；
图11是示出第二实施方式涉及的分析用阈值生成方法的一例的流程图。
具体实施方式
以下，对本实施方式的分析用阈值生成装置以及分析用阈值生成方法进行说明。另外，为了便于说明，附图的尺寸比例存在被夸大、与实际的比例不同的情况。
第一实施方式
首先，对第一实施方式涉及的分析用阈值生成装置以及分析用阈值生成方法进行详细说明。
如图1所示，本实施方式涉及的分析用阈值生成装置100具备脉冲检测电路30和系统控制部40。在该实施方式中，以具备分析用阈值生成装置100和盘驱动器20的分析装置200为例进行说明。
在盘驱动器20中，再现分析用基板10。分析用基板10例如具有与蓝光光盘(BD)、DVD(Digital Versatile Disc，数字多用途盘)、紧凑型盘(CD)等光盘同等的圆板形状。分析用基板10例如由通常用于光盘的聚碳酸酯树脂或环烯烃聚合物等树脂材料形成。另外，分析用基板10并不限定于上述光盘，也可以使用其他方式或遵照预定标准的光盘。
如图2所示，分析用基板10具有反应区域11。反应区域11是固定了检测对象物质13、粒子14以及抗体15等的成为分析对象的区域(参照图4)。在本实施方式中，在分析用基板10的中心部形成有定位孔12，以中心部分别位于分析用基板10的中心Ca的同一圆周Cb上的方式等间隔地形成有八个反应区域11。但是，反应区域11的数量或形成位置并不限定于此。
如图3所示，在分析用基板10的表面上形成有沿半径方向交替配置有凸部10a和凹部10b的轨道区域10c。凸部10a和凹部10b从分析用基板10的内周部朝向外周部形成为螺旋状。凸部10a相当于光盘的平台。凹部10b相当于光盘的凹槽。与凹部10b的半径方向的间距相当的轨道间距例如是320nm。
如图3和图4所示，在分析用基板10的表面上固定有检测对象物质13和与检测对象物质13结合的粒子14。在分析用基板10的表面上固定有与检测对象物质13特异性结合的抗体15。抗体15识别并结合检测对象物质13，检测对象物质13被捕捉到分析用基板10的表面。另一方面，在粒子14上设有多个识别检测对象物质13的抗体16，粒子14通过抗体16与检测对象物质13结合，形成夹心结构。
检测对象物质13例如是与疾病相关联的特定蛋白质等抗原。通过将这样抗原用作检测对象物质13，可以在疾病的发现等中发挥作用。例如，由于体液内的浓度根据监测对象的疾病状态而改变，因此外泌体等检测对象物质13能够发挥生物标记物的作用。作为检测对象物质13的外泌体的大小为100nm左右。
粒子14成为检测对象物质13的标记。作为粒子14没有特别限定，例如可以举出聚合物粒子、金属粒子、二氧化硅粒子等标记用珠等。粒子14也可以是在内部含有铁氧体等磁性材料的磁珠等。粒子14的大小为200nm左右。
如图5所示，盘驱动器20是具有转台21、夹持器22、转台驱动部23、引导轴24、光拾取器25的分析用基板驱动装置。盘驱动器20能够使用公知的信息再现用盘驱动器。
在转台21上以形成有反应区域11的面朝下的方式载置分析用基板10。
夹持器22在远离转台21和接近转台21的方向上被驱动，即，在图5中的向上和向下的方向上被驱动。当夹持器22被向下驱动时，分析用基板10被夹持器22和转台21保持在转台21上。具体而言，以分析用基板10的中心Ca位于转台21的旋转轴C1上的方式进行保持。
转台驱动部23使转台21与分析用基板10以及夹持器22一起绕旋转轴C1旋转驱动。也可以使用主轴马达作为转台驱动部23。转台驱动部23由驱动控制部44的转台驱动电路44a控制。
引导轴24平行于分析用基板10并沿分析用基板10的径向方向配置。即，引导轴24沿着与转台21的旋转轴C1正交的方向配置。
光拾取器25由引导轴24支承。光拾取器25在沿着引导轴24而与转台21的旋转轴C1正交的方向、即分析用基板10的半径方向上，且与分析用基板10并行地被驱动。光拾取器25由驱动控制部44的光拾取器驱动电路44b控制。
光拾取器25包括物镜25a。光拾取器25将照射光25b向分析用基板10照射。照射光25b例如是激光。照射光25b通过物镜25a而会聚在分析用基板10的表面上。在使分析用基板10旋转的状态下，光拾取器25在分析用基板10的半径方向上被驱动，由此照射光25b沿着凹部10b扫描。
光拾取器25接收基于照射光25b的来自分析用基板10的反射光，并生成受光电平信号JS。如图1所示，光拾取器25将受光电平信号JS输出到脉冲检测电路30的脉冲信息提取部31。
如图1所示，脉冲检测电路30具备脉冲信息提取部31、参数存储部32、脉冲判定部33以及脉冲计数部34。
脉冲检测电路30获取从盘驱动器20输出的受光电平信号JS，通过对由粒子14引起的脉冲信号进行解析，获取检测对象物质13的计数信息。脉冲检测电路30例如是专用电路基板等硬件。
脉冲信息提取部31从包含在受光电平信号JS中的脉冲中提取脉冲信息。脉冲信息例如包含脉冲宽度和脉冲振幅等。脉冲信息提取部31也可以读出存储在参数存储部32中的提取参数的设定值，并基于提取参数的设定值提取受光电平信号JS中包含的脉冲信息。例如，在提取脉冲宽度作为脉冲信息的情况下，也可以将用于提取脉冲宽度的提取电压Vth作为提取参数，将提取电压Vth下的脉冲宽度作为脉冲信息进行提取。另外，在提取脉冲振幅作为脉冲信息的情况下，也可以提取脉冲的峰值等作为脉冲信息。提取出的脉冲信息被输出到脉冲判定部33。
参数存储部32存储包含提取参数和判定参数的脉冲关联参数的设定值。判定参数用于判定受光电平信号JS中包含的脉冲是否是由粒子14引起的脉冲。在本实施方式中，判定参数设定值是阈值。作为判定参数，例如可以举出脉冲振幅的上限侧的阈值电压即振幅上限电压VH、脉冲振幅的下限侧的阈值电压即振幅下限电压VL、脉冲宽度的上限侧的阈值时间即脉冲宽度上限时间TH、脉冲宽度的下限侧的阈值时间即脉冲宽度下限时间TL等。
脉冲判定部33判定受光电平信号JS中包含的脉冲是否存在于由在脉冲宽度方向或脉冲振幅方向上设定的上限值和下限值构成的一对阈值的范围内。具体而言，脉冲判定部33判定脉冲宽度是否存在于针对脉冲宽度的一对阈值的范围内，或者判定脉冲振幅是否存在于针对脉冲振幅的一对阈值的范围内。脉冲判定部33从参数存储部32读出判定参数的设定值，在由脉冲信息提取部31提取出的脉冲信息在设定值的范围内的情况下，脉冲判定部33判定为由粒子14引起的脉冲。
用于判定的一对阈值可以是脉冲宽度和脉冲振幅中的至少一个。例如，在提取电压Vth下的脉冲宽度处于脉冲宽度下限时间TL～脉冲宽度上限时间TH的范围内的情况下，脉冲判定部33判定为由粒子14引起的脉冲。另外，在脉冲振幅处于振幅下限电压VL～振幅上限电压VH的范围内的情况下，脉冲判定部33判定为由粒子14引起的脉冲。脉冲判定部33在判定为受光电平信号JS中包含的脉冲是由粒子14引起的脉冲的情况下，向脉冲计数部34输出检测信号，以使计数值增量。
脉冲计数部34对存在于一对阈值的范围内的脉冲进行计数并输出计数值。具体而言，脉冲计数部34实时获取检测信号，并对由粒子14引起的脉冲进行计数。计数值从脉冲计数部34输出到系统控制部40的阈值运算部41，但也可以将计数值输出到显示部45，以便用户能够确认计数值。另外，如后所述，阈值运算部41使一对阈值中的至少一个阈值以所设定的改变量为单位重复改变，来生成新的一对阈值。然后，脉冲判定部33对判定为存在于该生成的一对阈值的范围内的脉冲进行计数，输出每个改变量的脉冲的计数值。
如图1所示，系统控制部40具备阈值运算部41、参数设定部42、测定控制部43、驱动控制部44、显示部45以及阈值校正部46。
系统控制部40控制盘驱动器20以及脉冲检测电路30，实施与计数值、判定参数相关的运算处理及设定。系统控制部40也可以是安装了软件程序的计算机。
阈值运算部41执行如后述的图6的流程图所示的、与校正测定及正式测定相关的处理。在校正测定中，根据照射光25b的强度和分析用基板10的反射特性的状态等，实施用于校正一对阈值的测定。在正式测定中，用通过校正测定校正后的一对阈值来实际分析检测对象物质13。
阈值运算部41对驱动控制部44输出与光拾取器25的移动及分析用基板10的旋转等校正测定相关的控制命令。
阈值运算部41使一对阈值中的至少一个阈值以设定的改变量为单位重复改变，来生成新的一对阈值。具体而言，阈值运算部41针对受光电平信号JS所包含的脉冲的脉冲宽度生成一对阈值，或者针对脉冲的脉冲振幅生成一对阈值。并且，每当脉冲计数部34对脉冲进行计数时，阈值运算部41重复生成改变一对阈值中的至少一个阈值的新的一对阈值，直到达到预定值为止。阈值运算部41例如也可以仅使上限或下限的阈值以设定的改变量为单位重复改变，来生成新的一对阈值。另外，阈值运算部41也可以以上限和下限的阈值以设定的改变量为单位重复改变，来生成新的一对阈值。在使上限和下限的阈值改变的情况下，也可以在将上限和下限的间隔保持为恒定的状态下使双方的阈值改变。并且，使上限和下限的阈值改变的改变量也可以不一定是恒定的，例如也可以在预定的范围内将改变量设定得比该范围外的改变量小或大。如上所述，脉冲计数部34在阈值运算部41每次生成一对阈值时，对脉冲判定部33判定为存在于一对阈值的范围内的脉冲进行计数，并输出每个改变量下的脉冲的计数值。
阈值校正部46基于阈值运算部41生成的一对阈值和脉冲计数部34输出的计数值，生成用于分析的一对阈值。
如后所述，阈值校正部46也可以生成以所生成的每一对阈值设为等级、将脉冲计数部34输出的计数值设为频数的频数分布。并且，阈值校正部46也可以基于频数分布生成用于分析的一对阈值。另外，阈值校正部46也可以基于频数分布取众数值而得的等级的值，生成用于分析的一对阈值。频数分布可以是直方图。阈值校正部46可以基于直方图的积分值来生成用于分析的一对阈值。
参数设定部42接受来自阈值校正部46的输出，将应设定的参数的值存储在参数存储部32中。
测定控制部43管理校正测定和正式测定的实施。测定控制部43可以包括输入部，该输入部允许用户选择执行校正测定或正式测定。另外，测定控制部43也可以基于由输入部选择的信息，向驱动控制部44命令计数的开始、中断及结束等，或者向阈值运算部41和阈值校正部46命令运算处理。
驱动控制部44接收来自测定控制部43的输入，控制盘驱动器20。驱动控制部44例如能够在盘驱动器20中控制分析用基板10的测定开始位置以及测定结束位置这样的测定位置等。驱动控制部44例如也可以具备转台驱动电路44a、光拾取器驱动电路44b等。
转台驱动电路44a控制转台驱动部23。例如，转台驱动电路44a控制转台驱动部23，使得转台21与分析用基板10和夹持器22一起以恒定的线速度旋转。
光拾取器驱动电路44b控制光拾取器25的驱动。例如，光拾取器驱动电路44b使光拾取器25沿引导轴24移动，或者使光拾取器25的物镜25a沿上下方向移动。
驱动控制部44在校正测定时控制盘驱动器20，使得每当由阈值运算部41改变一对阈值中的至少一个时重复测定相同的位置。例如，驱动控制部44控制光拾取器25，以使光拾取器25移动到测定开始位置和测定结束位置等。为了缩短校正测定时间，优选校正测定的范围比正式测定的范围窄。具体而言，优选对由阈值运算部41改变而得到的新的一对阈值的范围内存在的脉冲进行计数的区域比对用于分析的一对阈值进行计数的区域窄。
可以预先设置测定开始位置和测定结束位置，并且可以确定测定开始位置和测定结束位置，使得在校正测定时获得预定的计数值。当预先设定了测定开始位置和测定结束位置时，只要一边改变一对阈值中的至少一个阈值一边重复进行计数即可，能够简化校正，因此优选。当决定测定开始位置和测定结束位置以在校正测定时得到预定的计数值时，能够以预定量以上的计数值进行校正，能够进行稳定的校正，因此优选。在这种情况下，通过阈值运算部41控制盘驱动器20的测定开始位置和测定结束位置。但是，如果将在正式测定中测定的全部测定对象区域设为校正测定的对象，则花费时间，因此优选设为在正式测定的测定区域的中央附近、比全部测定对象区域窄的范围。
显示部45能够向用户提示与校正测定或正式测定相关的信息。作为与校正测定相关的信息举出如用户能够选择下一处理这样的校正测定的校正精度的附加信息。作为与正式测定相关的信息，可以举出正式测定中的计数值等。作为显示部45，只要能够向用户提示与校正测定或正式测定相关的信息即可，没有特别限定，例如可以举出显示器等。
接着，使用图6所示的流程图说明本实施方式涉及的分析用阈值生成方法中的各步骤。另外，在本实施方式中，在以横轴为扫描时间(扫描位置)、以纵轴为电压的曲线图中，对在存在粒子14的情况下产生向下凸的脉冲的系统进行说明。具体而言，在本实施方式中，为了方便，对振幅下限电压VL、振幅上限电压VH以及提取电压Vth是与电压成比例的0～+100的范围的整数的情况进行说明。在本实施方式中，对将不检测任何的反射光时的信号电平设为100、将分析用基板10上不存在粒子14以及异物等时的信号电平设为基准电压Vbase、在存在粒子14时取比基准电压Vbase小的值的系统进行说明。另外，基准电压Vbase的值依赖于分析用基板10的状态以及照射光25b的强度等。
但是，本实施方式不限定于这样的方式。例如，可以直接使用受光电平信号的信号强度(电压值)，振幅下限电压VL、振幅上限电压VH以及提取电压Vth也可以是小数。另外，也可以将基准电压Vbase设为0，也可以是在使脉冲的极性反转而存在粒子14的情况下产生向上凸的脉冲的系统。
在步骤S1中，选择是否实施校正测定。阈值运算部41在实施校正测定的情况下(YES，是)，使处理进入步骤S2，在不实施校正测定的情况下(NO，否)，使处理进入步骤S10。在仅考虑光拾取器25的激光的经年变化等长期变动的情况下，由于不需要每次都进行校正测定，所以为了仅实施正式测定，也可以使处理进入步骤S10。用户可以通过图形用户界面(GUI)等来选择是否实施校正测定，或者阈值运算部41可以基于使用期间或使用次数等的信息来判定是否实施校正测定。
在步骤S2中，阈值运算部41控制参数设定部42，以将振幅下限电压VL的值设定为0。另外，阈值运算部41控制参数设定部42，以将振幅上限电压VH的值设定为比预先设定的值即初始值VH0充分大的值即Vmax。另外，在使用脉冲宽度上限时间TH和脉冲宽度下限时间TL代替振幅下限电压VL和振幅上限电压VH的情况下，阈值运算部41只要控制参数设定部42，以将提取电压Vth的值设定为预先设定的值即初始值Vth0即可。然后，阈值运算部41使处理进入步骤S3。
在步骤S3中，阈值运算部41控制驱动控制部44，以对粒子14进行计数。具体而言，阈值运算部41控制驱动控制部44，以使光拾取器25在分析用基板10的半径方向上从校正测定用的测定开始位置移动到测定结束位置，或者使分析用基板10以恒定的速度旋转。
粒子14的计数由脉冲检测电路30进行。光拾取器25向表面上固定有检测对象物质13和与检测对象物质13结合的粒子14的分析用基板10照射照射光25b(照射步骤)。然后，光拾取器25接收基于照射光25b的来自分析用基板10的反射光，并生成受光电平信号JS(信号生成步骤)。所生成的受光电平信号JS中包含的脉冲的脉冲信息由脉冲信息提取部31获取。脉冲判定部33判定受光电平信号JS中包含的脉冲是否存在于针对脉冲宽度而设定的一对阈值的范围内、或者受光电平信号JS中包含的脉冲是否存在于针对脉冲振幅而设定的一对阈值的范围内(判定步骤)。脉冲判定部33在判定为受光电平信号JS中包含的脉冲存在于一对阈值的范围内的情况下，向脉冲计数部34输出检测信号，以使计数值增量。脉冲计数部34对存在于一对阈值的范围内的脉冲进行计数，并将计数值输出到阈值运算部41。即，脉冲计数部34对在判定步骤中判定为存在于所设定的一对阈值的范围内的脉冲进行计数，并输出所计数的脉冲的计数值(计数值输出步骤)。然后，使处理进入步骤S4。
在步骤S4中，阈值运算部41将通过步骤S3的校正测定而得到的粒子14的计数值与设定的振幅下限电压VL的值相关联地存储在计数表中。然后，使处理进入步骤S5。
在步骤S5中，阈值运算部41控制参数设定部42，以将参数存储部32中存储的振幅下限电压VL用增量后的值进行重新设定。例如，阈值运算部41在所设定的振幅下限电压VL的值为VLn的情况下，使VLn增量，通知参数设定部42使参数存储部32的振幅下限电压VL为VLn+1＝VLn+1(n为0以上且小于Vmax的整数)。另外，在本实施方式中，阈值运算部41对原来的振幅下限电压VL加1，但所加的数值也可以不是1。然后，阈值运算部41使处理进入步骤S6。
在步骤S6中，阈值运算部41判定振幅下限电压VL的设定值是否为Vmax以上。阈值运算部41在振幅下限电压VL的设定值小于Vmax的情况下(NO，否)，使处理进入步骤S3，在振幅下限电压VL的设定值为Vmax以上的情况下(YES，是)，使处理进入步骤S7。
通过步骤S3～步骤S6，阈值运算部41在计数值输出步骤中，每当脉冲计数部34对脉冲进行计数时，重复生成改变一对阈值中的至少一个阈值的新的一对阈值，直到达到预定值为止(第一阈值生成步骤)。具体而言，阈值运算部41对振幅下限电压VL每次重复加一，使其改变为不同的一系列的值、即新的一对阈值，得到多个值的振幅下限电压VL。这里，在振幅下限电压VL的设定值被计数到0～Vmax的情况下，完成例如图7所示那样的计数表。
在图7的计数表中，在左栏中存储多个值的阈值，在右栏中存储按改变而得到的每一对阈值进行计数的计数值。具体而言，在计数表中存储有与振幅下限电压VL的设定值Vn分别相关联的计数值Count(vn)。从VL＝0到VL＝Vmax设定的各计数值作为从Count(0)到Count(Vmax)而存储在计数表中。另外，计数值Count(vn)表示振幅下限电压VL的设定值为Vn时的计数值(这里，n为0～Vmax的整数)。
在步骤S7中，脉冲计数部34对脉冲判定部33判定为存在于多对阈值中的每一对阈值的范围内的脉冲进行计数，并输出每个改变量的脉冲的计数值。本实施方式中，如以下的数学式(1)所示，用dCount(vn)表示每个改变量的脉冲的计数值。
dCount(vn)＝Count(vn)-Count(vn+1) (1)
阈值校正部46生成将每一对阈值设为等级、将脉冲计数部34输出的计数值设为频数的频数分布。在本实施方式中，通过将频数分布设为直方图、将振幅下限电压VL设为等级、以及将dCount(vn)设为频数，从VL＝0到VL＝Vmax进行曲线化，得到图8所示那样的直方图。然后，阈值校正部46使处理进入步骤S8。
在步骤S8中，阈值校正部46基于在第一阈值生成步骤中生成的每一对阈值和在计数值输出步骤中输出的计数值，生成用于分析的一对阈值(第二阈值生成步骤)。阈值校正部46也可以基于频数分布生成用于分析的一对阈值。在本实施方式中，阈值校正部46基于直方图生成适当的振幅下限电压VL和振幅上限电压VH。
阈值校正部46也可以基于频数分布取众数值的等级的值，生成用于分析的一对阈值。在图8中，对频数分布为直方图的例子进行了说明。如果将直方图取众数值的频数的值设为dCount(VLc)时的等级的值设为电压VLc，则认为电压VLc是由粒子14引起的脉冲信号的振幅的代表值。即，电压VLc可以认为是与考虑了照射到分析用基板10的光的强度以及分析用基板10和粒子14的反射特性等的信号的强度大致成比例的参数。因此，振幅下限电压VL和振幅上限电压VH能够基于得到的电压VLc进行校正。同样地，提取电压Vth也能够基于所获得的电压VLc来校正。具体而言，可以根据以下数学式(2)、数学式(3)以及数学式(4)，从出厂时的初始值运算各参数的校正值。
VLa＝VLi(VLcp/VLci) (2)
VHa＝VHi(VLcp/VLci) (3)
Vtha＝Vthi(VLcp/VLci) (4)
在数学式(2)、数学式(3)和数学式(4)中，VLi、VHi、Vthi和VLci分别是出厂时的振幅下限电压VL、振幅上限电压VH、提取电压Vth和电压VLc的初始值。在数学式(2)、数学式(3)和数学式(4)中，VLcp是从直方图导出的电压VLc的值。在数学式(2)、数学式(3)以及数学式(4)中，VLa、VHa以及Vtha分别是通过校正测定而运算出的振幅下限电压VL、振幅上限电压VH和提取电压Vth的校正值。
另外，例如，也可以考虑以下方法：使照射光25b分支为向分析用基板10的照射用的光和光强度测定用的光，并根据光强度的测定值校正脉冲判定条件。但是，在该方法中，不能考虑分析用基板10和粒子14的光学特性的偏差。另外，需要构筑用于在将照射光25b照射到分析用基板10之前测定光强度的光学系统以及测定系统。因此，需要对盘驱动器20增加硬件，因此有可能导致结构复杂化、高成本化以及盘驱动器20自身的选定自由度的降低。另一方面，根据本实施方式涉及的分析用阈值生成装置100和分析用阈值生成方法，能够生成考虑了照射到分析用基板10的光的强度以及分析用基板10和粒子14的反射特性等的一对阈值。
另一方面，如图9所示，阈值校正部46可以基于直方图的积分值来生成用于分析的一对阈值。具体而言，在所得到的直方图中，如图9的网格部所示，也可以将上限侧和下限侧的积分值(面积)相对于全部积分值(全部面积)分别成为预定的比例以下的频数分别决定为振幅下限电压VLa和振幅上限电压VHa。在这种情况下，即使在直方图不是正态分布、电压VLc偏离直方图的中心的情况下，如上所述，也能够基于预定的比例校正一对阈值，因此，可以进行稳定的正式测定。预定的比例能够适当确定，例如也可以设为5％～10％。
另外，在将提取电压Vth设为脉冲振幅的一半的情况下，也可以按照以下的数学式(5)来运算各参数的校正值。
Vth＝(Vbase-VLcp)/2 (5)
在上述数学式(5)中，VLcp是通过直方图得到的电压VLc的值，Vbase是上述的基准电压的值。
接着，在步骤S9中，阈值校正部46控制参数设定部42，以将基于计数表生成的振幅上限电压VH和振幅下限电压VL重新设定为用于分析的一对阈值。然后，阈值校正部46使处理进入步骤S10。
在步骤S10中，阈值校正部46控制驱动控制部44，使得以用于分析的一对阈值对正式测定的粒子14进行计数。具体而言，阈值校正部46控制驱动控制部44，以使光拾取器25从正式测定用的测定开始位置沿分析用基板10的半径方向移动到测定结束位置，或者使分析用基板10以恒定的速度旋转。
驱动控制部44控制盘驱动器20，从设定为正式测定用的测定开始位置到测定结束位置正式测定分析用基板10，在脉冲检测电路30中对由粒子14引起的脉冲进行计数。粒子14的计数除了用在分析中使用的一对阈值来进行计数之外，与步骤S3同样，由脉冲检测电路30实施。然后，阈值校正部46使处理进入步骤S11。
在步骤S11中，在显示部45上显示正式测定中的计数值，正式测定结束。
在上述实施方式中，使一对阈值中的一个阈值以设定的改变量为单位重复改变，但也可以使一对阈值中的两个阈值以设定的改变量为单位重复改变。例如，也可以在步骤S2中，将振幅下限电压VL设为0，将振幅上限电压VH设为1，在步骤S5中增量而将VL设为VLn+1＝VLn+1，将VH设为VLn+1+1＝VLn+2，由此直接求出相当于dCount(vn)的分布。这种情况下，步骤S6中的校正测定结束的条件也可以在VH的设定值成为Vmax时等。
在本实施方式中，说明了以下方法：一边使振幅下限电压VL或振幅上限电压VH改变一边进行计数，并校正振幅下限电压VL和振幅上限电压VH。但是，如果将脉冲波形作为正态分布来考虑，则脉冲振幅与脉冲宽度成比例。因此，即使将振幅下限电压VL置换为脉冲宽度下限时间TL，将振幅上限电压VH置换为脉冲宽度上限时间TH，进行同样的测定，也能够得到同等的效果。
如上所述，本实施方式涉及的分析用阈值生成装置100具备光拾取器25，该光拾取器25将照射光25b向分析用基板10照射，并接收基于照射光25b的来自分析用基板10的反射光，生成受光电平信号JS。在分析用基板10表面上固定有检测对象物质13和与检测对象物质13结合的粒子14。分析用阈值生成装置100具备阈值运算部41，该阈值运算部41针对受光电平信号JS中包含的脉冲的脉冲宽度生成一对阈值，或者针对脉冲的脉冲振幅生成一对阈值。分析用阈值生成装置100具备脉冲判定部33，该脉冲判定部33判定脉冲宽度是否存在于针对脉冲宽度的一对阈值的范围内，或者判定脉冲振幅是否存在于针对脉冲振幅的一对阈值的范围内。分析用阈值生成装置100具备脉冲计数部34，该脉冲计数部34对脉冲判定部33判定为存在于所生成的一对阈值的范围内的脉冲进行计数，并输出所计数的脉冲的计数值。分析用阈值生成装置100具备阈值校正部46，该阈值校正部46基于阈值运算部41生成的一对阈值和脉冲计数部34输出的计数值，生成用于分析的一对阈值。在脉冲计数部34每次对脉冲进行计数时，阈值运算部41重复生成改变一对阈值中的至少一个阈值的新的一对阈值，直到达到预定值为止。
另外，本实施方式涉及的分析用阈值生成方法包括照射步骤，在该照射步骤中，将照射光25b向表面上固定有检测对象物质13和与检测对象物质13结合的粒子14的分析用基板10照射。分析用阈值生成方法包括信号生成步骤，在该信号生成步骤中，接收基于照射光25b的来自分析用基板10的反射光，并生成受光电平信号JS。分析用阈值生成方法包括判定步骤，在该判定步骤中，判定受光电平信号JS中包含的脉冲是否存在于针对脉冲宽度而设定的一对阈值的范围内、或者脉冲是否存在于针对脉冲振幅而设定的一对阈值的范围内。分析用阈值生成方法包括计数值输出步骤，在该计数值输出步骤中，对在判定步骤中判定为存在于所设定的一对阈值的范围内的脉冲进行计数，并输出所计数的脉冲的计数值。分析用阈值生成方法包括第一阈值生成步骤，在该第一阈值生成步骤中，每当在计数值输出步骤中对脉冲进行计数时，重复生成改变一对阈值中的至少一个阈值的新的一对阈值，直到达到预定值为止。分析用阈值生成方法包括第二阈值生成步骤，在该第二阈值生成步骤中，基于所生成的每一对阈值和在计数值输出步骤中输出的计数值，生成用于分析的一对阈值。
因此，根据分析用阈值生成装置100以及分析用阈值生成方法，即使在从光拾取器25向分析用基板10的照射强度、以及分析用基板10和粒子14的反射特性变动的情况下，也能够校正判定参数来进行脉冲的检测。因此，根据本实施方式涉及的分析用阈值生成装置100以及分析用阈值生成方法，能够与对粒子进行计数时的条件无关地对检测对象物质13进行计数。
第二实施方式
接着，详细说明第二实施方式涉及的分析用阈值生成装置100以及分析用阈值生成方法。另外，对与第一实施方式相同的结构标注相同的附图标记，省略重复的说明。
如图10所示，在本实施方式涉及的分析用阈值生成装置100中，还具备参数选择部47。
参数选择部47是将由阈值校正部46生成的用于分析的一对阈值与分析条件相关联地存储的存储部。即，阈值校正部46将用于分析的一对阈值与分析条件相关联地存储在存储部中。另外，用于分析的一对阈值也可以说是校正后的阈值。与分析条件相关联地存储的校正后的一对阈值例如可以由用户根据分析条件经由测定控制部43等来选择。参数选择部47基于来自测定控制部43的指示，将与分析条件对应的校正后的一对阈值输出到参数设定部42，并经由参数设定部42存储在参数存储部32中。如果分析条件相同，则以直方图的形状大致相同为前提，通过根据分析条件选择脉冲关联参数，由此不需要在每次正式测定中实施校正测定。
分析条件例如因分析用基板10以及盘驱动器20等而变化。作为由分析用基板10引起的情况，例如可以举出改变分析用基板10的种类以及表面状态、在分析用基板10上固定粒子14的方法、用于固定粒子14的试剂、粒子14的种类以及粒子的制造批次的情况等。作为由盘驱动器20引起的情况，例如可以举出改变盘驱动器20的机种、盘驱动器20的读入速度以及激光功率的控制方法的情况等。分析条件例如也可以以盘分析协议1和盘分析协议2等名称存储。
接着，使用图11所示的流程图说明本实施方式的分析用阈值生成方法中的各步骤。由于步骤S1～步骤S11与第一实施方式相同，因此省略说明。
在步骤S12中，例如，判定用户是否选择存储在参数选择部47中的校正后的一对阈值。在存储有在过去以同样的条件校正测定并校正后的一对阈值的情况下，不再次进行校正测定，例如用户等选择存储在参数选择部47中的校正后的一对阈值(YES，是)，使处理进入步骤S10。另一方面，在用户希望重新进行新条件和校正测定等情况下，不选择校正后的一对阈值(NO，否)，而实施与步骤S2～步骤S8同样的处理，使处理进入步骤S13。
在步骤S13中，将在步骤S2～步骤S8的校正测定中生成的校正后的一对阈值与分析条件相关联地存储在参数选择部47中。通过在参数选择部47中存储校正后的一对阈值，在以相同的条件进行测定时，即使仅选择所存储的校正后的一对阈值，而不实施校正测定，也能够以与实施了校正测定大致相同的精度实施正式测定。
因此，根据本实施方式涉及的分析用阈值生成装置100以及分析用阈值生成方法，即使分析条件不同，也能够选择适合于各个分析条件的校正后的一对阈值。因此，根据本实施方式涉及的分析用阈值生成装置100和分析用阈值生成方法，能够与对粒子进行计数时的条件无关地对检测对象物质13进行计数。
日本特愿2018-108514号(申请日：2018年6月6日)的全部内容引用到本文中。
以上，根据实施例说明了本实施方式的内容，但本实施方式并不限定于这些记载，能够进行各种变形及改良对于本领域技术人员来说是显而易见的。
工业可用性
根据本公开，可以提供一种分析用阈值生成装置以及分析用阈值生成方法，其能够在不依赖于对粒子进行计数时的条件而对检测对象物质进行计数。
符号说明
10 分析用基板
13 检测对象物质
14 粒子
25 光拾取器
25b 照射光
33 脉冲判定部
34 脉冲计数部
41 阈值运算部
46 阈值校正部
100 分析用阈值生成装置
JS 受光电平信号
Claims (6)
1.一种分析用阈值生成装置，其特征在于，包括：
光拾取器，将照射光向分析用基板照射，接收通过所述照射光的来自所述分析用基板的反射光，并生成受光电平信号，所述分析用基板的表面上固定有检测对象物质和与所述检测对象物质结合的粒子；
阈值运算部，针对所述受光电平信号中包含的脉冲的脉冲宽度生成一对阈值，或者针对所述脉冲的脉冲振幅生成一对阈值；
脉冲判定部，判定所述脉冲宽度是否存在于针对脉冲宽度的一对阈值的范围内，或者判定所述脉冲振幅是否存在于针对脉冲振幅的一对阈值的范围内；
脉冲计数部，对由所述脉冲判定部判定为存在于所述生成的一对阈值的范围内的脉冲进行计数，并输出所述计数后的脉冲的计数值；以及
阈值校正部，基于所述阈值运算部生成的一对阈值和所述脉冲计数部输出的计数值，生成用于分析的一对阈值，
每当所述脉冲计数部对脉冲进行计数时，所述阈值运算部重复生成改变所述一对阈值中的至少一个阈值的新的一对阈值，直到达到预定值为止。
2.如权利要求1所述的分析用阈值生成装置，其中，
所述阈值校正部基于频数分布来生成用于所述分析的一对阈值，所述频数分布以所述生成的每一对阈值为等级，以所述脉冲计数部输出的所述计数值为频数。
3.如权利要求2所述的分析用阈值生成装置，其中，
所述阈值校正部基于所述频数分布取众数的等级的值，来生成用于所述分析的一对阈值。
4.如权利要求2所述的分析用阈值生成装置，其中，
所述频数分布是直方图，所述阈值校正部基于所述直方图的积分值来生成用于所述分析的一对阈值。
5.如权利要求1至4中任一项所述的分析用阈值生成装置，其中，
所述阈值校正部将用于所述分析的一对阈值与分析条件关联存储在存储部中。
6.一种分析用阈值生成方法，包括：
照射步骤，将照射光向分析用基板照射，所述分析用基板的表面上固定有检测对象物质和与所述检测对象物质结合的粒子；
信号生成步骤，接收通过所述照射光的来自所述分析用基板的反射光，并生成受光电平信号；
判定步骤，判定所述受光电平信号中包含的脉冲是否存在于针对脉冲宽度而设定的一对阈值的范围内，或者所述脉冲是否存在于针对脉冲振幅而设定的一对阈值的范围内；
计数值输出步骤，对在所述判定步骤中判定为存在于所述设定的一对阈值的范围内的脉冲进行计数，并输出所述计数后的脉冲的计数值；
第一阈值生成步骤，每当在所述计数值输出步骤中对脉冲进行计数时，重复生成改变所述一对阈值中的至少一个阈值的新的一对阈值，直到达到预定值为止；以及
第二阈值生成步骤，基于生成的每一对阈值和在所述计数值输出步骤中输出的计数值，来生成用于分析的一对阈值。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018108514A JP7000998B2 (ja) | 2018-06-06 | 2018-06-06 | 分析用閾値生成装置及び分析用閾値生成方法 |
| JP2018-108514 | 2018-06-06 | ||
| PCT/JP2019/020060 WO2019235208A1 (ja) | 2018-06-06 | 2019-05-21 | 分析用閾値生成装置及び分析用閾値生成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN112219107A true CN112219107A (zh) | 2021-01-12 |
| CN112219107B CN112219107B (zh) | 2024-05-17 |
Family
ID=68770395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201980037369.0A Active CN112219107B (zh) | 2018-06-06 | 2019-05-21 | 分析用阈值生成装置以及分析用阈值生成方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20210088508A1 (zh) |
| EP (1) | EP3805734A4 (zh) |
| JP (1) | JP7000998B2 (zh) |
| CN (1) | CN112219107B (zh) |
| WO (1) | WO2019235208A1 (zh) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021128128A (ja) | 2020-02-17 | 2021-09-02 | 株式会社Ｊｖｃケンウッド | 生体試料分析方法 |
| JP7425403B2 (ja) | 2020-02-17 | 2024-01-31 | 株式会社Ｊｖｃケンウッド | 生体試料分析方法 |
| CN114866622A (zh) * | 2022-03-24 | 2022-08-05 | 江铃汽车股份有限公司 | 一种can总线状态信号的处理方法及系统 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010109195A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-13 | Sunx Ltd | レーザ発振器およびこれを用いたレーザ加工機 |
| CN104380064A (zh) * | 2012-06-15 | 2015-02-25 | 株式会社日立高新技术 | 光信号检测电路、光量检测装置以及带电粒子束装置 |
| WO2015159187A1 (en) * | 2014-04-16 | 2015-10-22 | Indian Institute Of Science | Low power pulse oximeter and a method thereof |
| JP2016128795A (ja) * | 2015-01-09 | 2016-07-14 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 粒子測定装置、空気清浄機、及び、粒子測定方法 |
| US20170074776A1 (en) * | 2015-09-15 | 2017-03-16 | Bio-Rad Laboratories, Inc. | Threshold selector for flow cytometer |
| CN107076662A (zh) * | 2014-09-30 | 2017-08-18 | Jvc建伍株式会社 | 分析装置以及分析方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH055741A (ja) | 1990-10-09 | 1993-01-14 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 免疫学的定量分析方法 |
| JPH0862274A (ja) * | 1994-08-19 | 1996-03-08 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 部分放電測定方法と装置 |
| US7739060B2 (en) * | 2006-12-22 | 2010-06-15 | Accuri Cytometers, Inc. | Detection system and user interface for a flow cytometer system |
| WO2009039165A1 (en) * | 2007-09-17 | 2009-03-26 | Luminex Corporation | Systems, storage mediums, and methods for identifying particles in flow |
| JP5877155B2 (ja) * | 2010-07-26 | 2016-03-02 | オリンパス株式会社 | 発光プローブを用いて溶液中の希薄粒子を検出する方法 |
| EP2871762B1 (en) * | 2013-11-06 | 2019-02-27 | ams AG | Voltage converter and method for voltage conversion |
| JP6237417B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2017-11-29 | 株式会社Ｊｖｃケンウッド | 分析装置及び分析方法 |
| JP6225798B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2017-11-08 | 株式会社Ｊｖｃケンウッド | 分析装置及び分析方法 |
| US9983115B2 (en) * | 2015-09-21 | 2018-05-29 | Fluid Imaging Technologies, Inc. | System and method for monitoring particles in a fluid using ratiometric cytometry |
| JP6692383B2 (ja) | 2018-04-13 | 2020-05-13 | 株式会社大一商会 | 遊技機 |
-
2018
- 2018-06-06 JP JP2018108514A patent/JP7000998B2/ja active Active
-
2019
- 2019-05-21 CN CN201980037369.0A patent/CN112219107B/zh active Active
- 2019-05-21 WO PCT/JP2019/020060 patent/WO2019235208A1/ja unknown
- 2019-05-21 EP EP19814025.3A patent/EP3805734A4/en active Pending
-
2020
- 2020-12-04 US US17/111,874 patent/US20210088508A1/en active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010109195A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-13 | Sunx Ltd | レーザ発振器およびこれを用いたレーザ加工機 |
| CN104380064A (zh) * | 2012-06-15 | 2015-02-25 | 株式会社日立高新技术 | 光信号检测电路、光量检测装置以及带电粒子束装置 |
| WO2015159187A1 (en) * | 2014-04-16 | 2015-10-22 | Indian Institute Of Science | Low power pulse oximeter and a method thereof |
| CN107076662A (zh) * | 2014-09-30 | 2017-08-18 | Jvc建伍株式会社 | 分析装置以及分析方法 |
| JP2016128795A (ja) * | 2015-01-09 | 2016-07-14 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 粒子測定装置、空気清浄機、及び、粒子測定方法 |
| US20170074776A1 (en) * | 2015-09-15 | 2017-03-16 | Bio-Rad Laboratories, Inc. | Threshold selector for flow cytometer |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 周进;娄小平;张文昌;刘锋;: "流式细胞仪脉冲补偿恢复算法研究", 计算机测量与控制, no. 03, 25 March 2016 (2016-03-25) * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20210088508A1 (en) | 2021-03-25 |
| EP3805734A1 (en) | 2021-04-14 |
| WO2019235208A1 (ja) | 2019-12-12 |
| JP2019211366A (ja) | 2019-12-12 |
| EP3805734A4 (en) | 2021-08-18 |
| CN112219107B (zh) | 2024-05-17 |
| JP7000998B2 (ja) | 2022-01-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20210088508A1 (en) | Analysis threshold generation device and analysis threshold generation method | |
| US10627398B2 (en) | Analysis device and analysis method | |
| CN109154608B (zh) | 分析方法以及分析装置 | |
| US20170184582A1 (en) | Analysis Device and Analysis Method | |
| JP6687834B2 (ja) | 分析装置及び分析方法 | |
| JP5776433B2 (ja) | 光学的分析装置、光学的分析方法 | |
| US20200088626A1 (en) | Analysis device and analysis method | |
| JP5510388B2 (ja) | 光学的分析装置、光学的分析方法 | |
| JP6958166B2 (ja) | 分析装置及び分析方法 | |
| JP6883248B2 (ja) | 微粒子計測機、分析装置、及び、分析方法 | |
| US11927521B2 (en) | Analysis threshold determination device and analysis threshold determination method | |
| JP7218788B2 (ja) | 分析用閾値生成装置及び分析用閾値生成方法 | |
| WO2020026587A1 (ja) | 分析装置及び分析方法 | |
| US20180238790A1 (en) | Analysis device and analysis method | |
| WO2020195869A1 (ja) | 分析装置及び分析方法 | |
| JP2020118693A (ja) | 試料分析用ディスク |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |