CN112201682B - 显示面板、显示装置及显示面板的制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示面板、显示装置及显示面板的制备方法，涉及显示技术领域，该显示面板包括阵列基板以及设在所述阵列基板上的OLED层；所述显示面板包括第一显示区以及至少部分围绕第一显示区的第二显示区，所述第一显示区为透明显示区，用于供射向感光器件的光线透过；所述第一显示区的所述阵列基板背离所述OLED层的侧面设置有光调制层，本发明设置的光调制层可以抵消射向感光器件的光线在经过第一显示区产生的衍射效应，降低光线穿过第一显示区各处时产生的相位和振幅的差异，从而减弱了衍射现象的产生，进而提高了第一显示区下方的感光元件获取的图像效果。

Description

显示面板、显示装置及显示面板的制备方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板、显示装置及显示面板的制备方法。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，简称为OLED)显示面板具有自发光、对比度高、厚度薄、响应速度快、宽视角、低功耗、可实现柔性显示等特性，因此，被广泛应用于显示装置中。

OLED显示面板通常包括依次层叠设置的多个透明膜层，屏下摄像头等感光元件埋设在OLED显示面板的下方，外界的光线可通过各透明膜层进入位于显示面板下方的感光元件，从而获取图像。

然而，在光线传输过程中，透明膜层中的走线或者低透光率的膜层会致使光线发生衍射，降低屏下摄像头等感光元件获取的图像效果。

发明内容

鉴于上述问题，本发明实施例提供一种显示面板、显示装置及显示面板的制备方法，用于抑制射向感光器件的光线发生衍射，进而提高感光元件获取的图像效果。

为了实现上述目的，本发明实施例提供如下技术方案：

本发明实施例的第一方面提供一种显示面板，其包括：阵列基板以及设在所述阵列基板上的OLED层；所述显示面板包括第一显示区以及至少部分围绕第一显示区的第二显示区，所述第一显示区为透明显示区，用于供射向感光器件的光线透过；所述第一显示区的所述阵列基板背离所述OLED层的侧面设置有光调制层，所述光调制层用于抑制射向感光器件的光线发生衍射。

如上所述的显示面板，其中，所述光调制层包括基体层以及若干个依次连接凸起，多个所述凸起设置在基体层背离所述阵列基板的侧面上。

如上所述的显示面板，其中，沿第一方向，多个所述凸起的高度呈依次增加的趋势。

如上所述的显示面板，其中，所述基体层和所述凸起的材质均为光学环氧树脂、光学聚氨酯树脂或者光学丙烯酸树脂中的一种。

如上所述的显示面板，其中，所述基体层的厚度为1-20μm。

本发明实施例的第二方面提供一种显示装置，包括如上所述的显示面板，以及位于所述显示面板的背面的感光元件；所述显示面板中的光调制层与所述感光元件对应。

本发明实施例的第三方面提供一种显示面板的制备方法，包括如下步骤：

提供阵列基板。

在所述阵列基板上形成OLED层。

在所述阵列基板背离所述OLED层的侧面形成光调制层，并使所述光调制层与所述显示面板的第一显示区对应。

如上所述的显示面板的制备方法，其中，在所述阵列基板背离所述OLED层的侧面形成光调制层的步骤中包括：

在所述阵列基板背离所述OLED层的侧面形成基体层。

在所述基体层背离阵列基板的表面形成若干个凸起。

如上所述的显示面板的制备方法，其中，

在所述阵列基板背离所述OLED层的侧面形成基体层的步骤包括：

提供点胶机，利用点胶机在所述阵列基板背离所述OLED层的侧面滴加光学树脂预聚体，以形成基体层，其中光学树脂预聚体的材质包括光学环氧树脂、光学聚氨酯树脂或者光学丙烯酸树脂中的一种。

在所述基体层背离阵列基板的表面形成若干个凸起的步骤包括：

提供压印模具，在所述压印模具上形成若干个凹槽，所述凹槽与所述凸起一一对应。

将压印模具压合在所述基体层上，并利用紫外光照射所述基体层使其固化。

移除压印模具，使阵列基板背离所述OLED层的侧面形成光调制层。

如上所述的显示面板的制备方法，其中，在提供压印模具，在所述压印模具上形成若干个凹槽的步骤中包括：

提供压印基板。

在所述压印基板上形成光刻胶膜层。

图形化所述光刻胶膜层，形成掩膜图案，掩膜图案包括掩膜区和刻蚀区。

去除位于所述刻蚀区内的部分深度的所述压印基板，所述掩膜区对应的所述压印基板形成凸台，相邻凸台之间形成凹槽。

本发明实施例所提供的显示面板、显示装置及显示面板的制备方法中，通过在第一显示区的阵列基板背离OLED层的侧面设置光调制层，光调制层可以抵消射向感光器件的光线在经过第一显示区产生的衍射效应，降低光线穿过第一显示区各处时产生的相位和振幅的差异，从而减弱了衍射现象的产生，进而提高了第一显示区下方的感光元件获取的图像效果。

除了上面所描述的本发明实施例解决的技术问题、构成技术方案的技术特征以及由这些技术方案的技术特征所带来的有益效果外，本发明实施例提供的显示面板、显示装置及显示面板的制备方法所能解决的其他技术问题、技术方案中包含的其他技术特征以及这些技术特征带来的有益效果，将在具体实施方式中作出进一步详细的说明。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为相关技术中提供的显示面板和感光器件的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的显示面板和感光器件的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的OLED层的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的光调制层的结构示意图一；

图5为本发明实施例提供的光调制层的结构示意图二；

图6为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的工艺流程图一；

图7为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的工艺流程图二；

图8为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的工艺流程图三；

图9为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的工艺流程图四；

图10为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的过程图。

附图标记：

100：阵列基板；

200：OLED层；

210：阳极层；

220：发光层；

230：阴极层；

300：第一显示区；

400：第二显示区；

500：感光器件；

600：光调制层；

610：基体层；

620：凸起；

700：封装层；

800：压印模具；

810：凹槽。

具体实施方式

图1为相关技术中显示面板与感光器件的结构示意图，如图1所示，以显示面板应用在手机，且感光器件500为摄像头为例，为了能够实现手机的全面屏，通常需要将摄像头设置在屏幕的下方，也就是说，摄像头位于显示面板的下方，在拍照时射向摄像头的光线需要穿过整个显示面板后才能被摄像头捕捉，因此，当射向摄像头的光线经过第一显示区300时，第一显示区内300的像素单元和导线等微结构，会致使射向摄像头的光线发生衍射，进而降低摄像头获取的图像效果。

针对上述的技术问题，本发明实施例提供的显示面板、显示装置以及显示面板的制作方法，通过在第一显示区的阵列基板背离OLED层的侧面设置光调制层，光调制层可以抵消射向感光器件的光线在经过第一显示区产生的衍射效应，降低光线穿过第一显示区各处时产生的相位和振幅的差异，减弱了光线衍射现象的产生，从而提高了第一显示区下方的摄像头获取的图像效果。

为了使本发明实施例的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，均属于本发明保护的范围。

实施例一

图2为本发明实施例提供的显示面板和感光器件的结构示意图；如图2所示，本发明实施例提供的显示面板，包括阵列基板100以及设在阵列基板上的OLED层200。

阵列基板100作为显示面板的承载部件，用于支撑设置在其上的OLED层200，以及用于控制设置在其上的OLED层200的电流或电压。

其中，如图3所示，OLED层200可以包括依次层叠在阵列基板100的上的阳极层210、发光层220以及阴极层230，其中，阳极层210位于阵列基板100上，用于产生空穴；阴极层230用于产生电子，发光层220位于阳极层210和阴极层230之间，阴极层230产生的电子和阳极层210产生的空穴在发光层中复合形成电子空穴对，即激子，激子能够将能量传递至发光层220的有机发光材料，使得有机发光材料发出光线。

此外，OLED层还可以包括封装层700，封装层700可以覆盖在阴极层230的上方，比如，封装层700与阴极层230之间可以采用封装胶连接，封装层700用于封装阵列基板100和发光层220，防止水氧和尘埃进入发光层220中，保证了显示面板的可靠工作。

封装层700可以为无机薄膜，比如氮化硅膜；也可以为有机薄膜，比如，聚合薄膜。此外，为了保证封装层的透明性，封装层700还可以为透明材质。

当显示面板应用在手机中时，为了能够实现手机的全面屏，通常需要将感光器件500设置在屏幕的下方，为了提高显示面板的透光性，本发明实施例提供的显示面板包括第一显示区300以及至少部分围绕第一显示区300的第二显示区400，比如，第二显示区400可以全部环绕第一显示区300的外，也可以也第二显示区400设置在第一显示区300的一侧，即，第二显示区400设置在第一显示区300的左侧或者右侧。

其中，第一显示区300为透明显示区，第一显示区300能够便于供射向感光器件的光线透过，使得设置在第一显示区300下方的感光器件500能够接收到光线，进而实现感光器件500的功能。比如，感光器件为摄像头时，外界环境中的光线能够经由第一显示区300进入设置在第一显示区300下方的摄像头处，摄像头接收到光线后进行成像。

由于第一显示区300内设有用于给各个膜层提供信号的金属走线，或者是，膜层的自身的透光率较低，造成射向感光器件500的光线在经过第一显示区300时会产生衍射，因此，本实施例在第一显示区300的阵列基板100背离OLED层200的侧面设置有光调制层600，光调制层600可以抵消射向感光器件500的光线在经过第一显示区300产生的衍射效应，降低光线穿过第一显示区各处时产生的相位和振幅的差异，从而减弱了衍射现象的产生，进而提高了第一显示区下方的感光元件获取的图像效果，也就是说，能够提高摄像头的成像质量。

在一些实施例中，继续参考图1，光调制层600包括基体层610以及若干个依次连接凸起620，多个凸起620设置在基体层610背离阵列基板100的侧面上。

当经过第一显示区300的光线通过光调制层600时，光线在多个凸起620中穿设时，凸起620可以对光线进行不同程度的折射或者反射，以实现抵消射向感光器件500的光线在经过第一显示区300产生的衍射效应的目的，这样可以降低光线穿过第一显示区300各处时产生的相位和振幅的差异，从而减弱了衍射现象的产生，进而提高了第一显示区300下方的感光元件500获取的图像效果，也就是说，能够提高摄像头的成像质量。

需要说明的是，在本实施例中，相邻的凸起620之间可以具有高度差，也可以是，相邻的凸起620的高度相等。

为了防止光调制层600阻碍光线的传递，本实施例将基体层610和凸起620的材质均选择可以传递光线的光学树脂，比如，基体层610和凸起620的材质均为光学环氧树脂、光学聚氨酯树脂或者光学丙烯酸树脂中的一种。

另外，凸起620的横截面的形状可以有多种选择，比如，凸起620的横截面的形状可以为规则的半圆形、方形或者椭圆形，也可以为其他不规则的形状，本实施例在此不做具体的限定。

此外，本实施例将基体层610的厚度设置为1-20μm，这样既可以实现减弱射向感光器件500的光线的衍射，也可以避免增加显示面板的厚度，保证了显示面板的轻薄性。

在一些实施例中，沿第一方向，也就是，沿显示面板的长度方向，即图4中X方向，多个凸起620的高度呈依次增加的趋势。

需要说明的是，凸起620的高度，即凸起620背离阵列基板100的端面距离阵列基板100的距离，以图4所示的方位为例，多个凸起620的高度从左往右依次增加，这样，光线在光调制层600中传递时，可以不同程度的折射或者反射，并将上述折射或者反射效果进行不同程度的叠加或者抵消，以实现抵消射向感光器件500的光线在经过第一显示区300产生的衍射效应的目的，这样可以降低光线穿过第一显示区300各处时产生的相位和振幅的差异，从而减弱了衍射现象的产生，进而提高了位于第一显示区300下方的感光元件500获取的图像效果，也就是说，能够提高摄像头的成像质量。

但是，多个凸起620的排列方式并不仅限于上述的方式，比如，如图5所示，沿第一方向，从左往右，第二个凸起的高度高于第一个凸起，第三个凸起的高度低于第二个凸起，第四个凸起的高度高于第三个凸起的高度，依次类推，只要能够实现相邻的凸起之间具有高度差即可。

又比如，第一个凸起、第二个凸起和第三个凸起的高度依次增加，往后的凸起可以呈减小后增加，再减小后增加的趋势，使得光调制层600的表面形成凹凸不平的结构。

实施例二

本发明实施例还提供一种显示装置，包括上述实施例中的显示面板以及位于显示面板背面的感光元件500，其中，显示面板中的光调制层600与感光元件500对应。

其中，显示装置可以应用于智能手机、平板电脑、笔记本电脑以及具有显示面板的移动终端或者其他终端设备。感光器件500为摄像头、传感器以及其他生物特征识别能力的器件，生物特征识别能力的器件可以用于进行指纹识别、掌纹识别或人脸识别。

在本实施例中提供的显示装置，由于包括上述实施例描述的显示面板，因此，该显示装置也具有与上述显示面板相同的优点，具体可参见相关描述，在此不再进行赘述。

感光器件500设在显示面板背离出光面的一侧上，且感光器件500与光调制层600对应。当感光器件500为摄像头时，摄像头位于显示面板背离出光面的一侧上，当显示装置开启拍照功能时，射向摄像头的光线经由第一显示区300和光调制层600进入位于显示面板下方的摄像头处，光调制层600可以降低光线穿过第一显示区300各处时产生的相位和振幅的差异，从而减弱了衍射现象的产生，进而提高了位于第一显示区300下方的摄像头的成像质量。

实施例三

如图6所示，本发明实施例还提供了一种显示面板的制备方法，包括如下步骤：

S100：提供阵列基板。

阵列基板100用于承载显示装置的其他器件，以及用于控制流入OLED层200的电流。阵列基板100通常包括衬底，设置衬底上TFT阵列层以及覆盖TFT阵列层的平坦化层。

S200：在阵列基板上形成OLED层。

采用沉积、蒸镀或者溅射等工艺在阵列基板100的平坦层上形成OLED层200，其中，OLED层200包括依次蒸镀在阵列基板100上的阳极层210、发光层220以及阴极层230。

S300：在阵列基板背离OLED层的侧面形成光调制层，并使光调制层与显示面板的第一显示区对应。

其中，光调制层600用于抑制射向感光器件500的光线的透过。

本发明实施例提供的显示面板的制备方法，通过在第一显示区的阵列基板背离OLED层的侧面设置光调制层，可以抵消射向感光器件的光线在经过第一显示区产生的衍射效应，降低光线穿过第一显示区各处时产生的相位和振幅的差异，从而减弱了衍射现象的产生，从而提高了第一显示区下方的感光件获取的图像效果。

如图7所示，在一些实施例中，在阵列基板背离OLED层的侧面形成光调制层的步骤中，包括如下步骤：

S310：在阵列基板背离OLED层的侧面形成基体层。

S320：在基体层背离阵列基板的表面形成若干个凸起，且相邻的凸起的高度不同。

其中，基体层610和凸起620的材质均可以为光学树脂，比如，光学环氧树脂、光学聚氨酯树脂或者光学丙烯酸树脂中的一种。

在本实施例中，步骤S310和步骤S320中基体层610和凸起620的形成方式可以多种选择，比如，首先可以制备一定厚度的光学树脂层，然后利用刻蚀或者刮刀等形式在光学树脂层的表面形成若干连接的凸起，并使得相邻的凸起之间具有一定高度差，最后，可以通过光学胶将光调制层600粘结在第一显示区的背面上。

如图8和图10所示，又比如，步骤S310中的基体层可以为液态的光学树脂预聚体，这样在阵列基板背离OLED层的侧面形成基体层的步骤中，还可以包括：

S311：提供点胶机，利用点胶机在阵列基板背离OLED层的侧面上滴加光学树脂预聚体，以形成基体层。其中，基体层的厚度可以为1-20μm。

需要说明是，可以采用点胶机多次滴加液态状的光学树脂预聚体，使得形成的基体层的面积与第一显示区的面积基本相等，这样可以最大程度减弱了衍射现象的产生，从而提高了第一显示区下方的感光件获取的图像效果。

相应地，在基体层背离阵列基板的表面形成若干个凸起的步骤，还可以包括：

S321：提供压印模具，在压印模具上形成若干个凹槽，凹槽与凸起一一对应。

其中，压印模具可以包括压印板体，且压印板体的材质可以为石英玻璃，在本实施例中，可以通过刻蚀刀具，在压印模具800上形成连续分布的多个凹槽810，且凹槽810与凸起一一对应。

S322：将压印模具压合在基体层上，并利用紫外光照射基体层使其固化。

提供安装有压印模具的设备，将显示面板固定在该安装有压印模具的设备上，利用该设备给压印模具施加一定压力，并带动压印模具沿垂直于基体层的方向运动，使压印模具压合在基体层610上，这样液态的光学树脂预聚体会填充至压印模具的凹槽内，最后利用紫外光照射基体层610发生交联固化。

S323：移除压印模具，使阵列基板背离OLED层的侧面形成具有若干个凸起的光调制层。

如图9所示，在一种可选地实施方式中，在提供压印模具，在压印模具上形成若干个凹槽的步骤中包括：

S3211：提供压印基板。

S3212：在压印基板上形成光刻胶膜层。

可以采用涂布-固化法、喷墨打印法或沉积法在压印基板上形成光刻胶膜层，也就是说，光刻胶膜层覆盖压印基板的上表面。

S3213：图形化光刻胶膜层，形成掩膜图案，掩膜图案包括掩膜区和刻蚀区。

通过掩膜、曝光、显影、刻蚀等图形化处理方式，对光刻胶膜层进行图形化处理，形成掩膜图案。

S3214：去除位于刻蚀区内的部分深度的压印基板，掩膜区对应的压印基板形成凸台，相邻凸台之间形成凹槽810。

具体地，可以通过干法刻蚀或者湿法刻蚀，去除与刻蚀区对应的部分深度的压印基板，形成与掩膜区对应的微小的凸台，通过清洗等方式去除微小的凸台上的光刻胶膜层，这样相邻的凸台之间会形成凹槽。

需要说明的是，由于掩膜区的尺寸很小，进而形成的凸台的的尺寸也较小，可以近似认为形成的多个凹槽为连续分布的。

另外，凹槽的横截面的形状可以有多种选择，比如，凹槽的横截面的形状可以为规则的半圆形、方形或者椭圆形，也可以为其他不规则的形状，本实施例在此不做具体的限定。

本实施例通过上述的方式在第一显示区的阵列基板背离OLED层的侧面形成光调制层，光调制层可以抵消射向感光器件的光线在经过第一显示区产生的衍射效应，降低光线穿过第一显示区各处时产生的相位和振幅的差异，从而减弱了衍射现象的产生，进而提高了第一显示区下方的感光元件获取的图像效果。

本说明书中各实施例或实施方式采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分相互参见即可。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施方式”、“一些实施方式”、“示意性实施方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合实施方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施方式或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施方式或示例中以合适的方式结合。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括阵列基板以及设在所述阵列基板上的OLED层；

所述显示面板包括第一显示区以及至少部分围绕第一显示区的第二显示区，所述第一显示区为透明显示区，用于供射向感光器件的光线透过；

所述第一显示区的所述阵列基板背离所述OLED层的侧面设置有光调制层，所述光调制层用于抑制射向感光器件的光线发生衍射。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述光调制层包括基体层以及若干个依次连接凸起，多个所述凸起设置在基体层背离所述阵列基板的侧面上。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，沿第一方向，多个所述凸起的高度呈依次增加的趋势。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述基体层和所述凸起的材质均为光学环氧树脂、光学聚氨酯树脂或者光学丙烯酸树脂中的一种。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述基体层的厚度为1-20μm。

6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-5中任一项所述的显示面板，以及位于所述显示面板背面的感光元件；

所述显示面板中的光调制层与所述感光元件对应。

7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供阵列基板；

在所述阵列基板上形成OLED层；

在所述阵列基板背离所述OLED层的侧面形成光调制层，并使所述光调制层与所述显示面板的第一显示区对应。

8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述阵列基板背离所述OLED层的侧面形成光调制层的步骤中包括：

在所述阵列基板背离所述OLED层的侧面形成基体层；

在所述基体层背离阵列基板的表面形成若干个凸起。

9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述阵列基板背离所述OLED层的侧面形成基体层的步骤包括：

提供点胶机，利用点胶机在所述阵列基板背离所述OLED层的侧面滴加光学树脂预聚体，以形成基体层，其中光学树脂预聚体的材质包括光学环氧树脂、光学聚氨酯树脂或者光学丙烯酸树脂中的一种；

在所述基体层背离阵列基板的表面形成若干个凸起的步骤包括：

提供压印模具，在所述压印模具上形成若干个凹槽，所述凹槽与所述凸起一一对应；

将压印模具压合在所述基体层上，并利用紫外光照射所述基体层使其固化；

移除压印模具，使阵列基板背离所述OLED层的侧面形成具有若干个凸起的光调制层。

10.根据权利要求9所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在提供压印模具，在所述压印模具上形成若干个凹槽的步骤中包括：

提供压印基板；

在所述压印基板上形成光刻胶膜层；

图形化所述光刻胶膜层，形成掩膜图案，掩膜图案包括掩膜区和刻蚀区；

去除位于所述刻蚀区内的部分深度的所述压印基板，所述掩膜区对应的所述压印基板形成凸台，相邻凸台之间形成凹槽。

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