CN112174145A - 一种高纯度硅胶的制备方法 - Google Patents
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 126
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 title claims abstract description 93
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 93
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 27
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical class [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 61
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 57
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 46
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 claims abstract description 45
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 45
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 43
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims abstract description 35
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims abstract description 35
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 31
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 27
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 claims abstract description 26
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 claims abstract description 26
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 14
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 10
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 121
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 72
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 42
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 30
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 27
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 claims description 25
- WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N L-glutamic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N 0.000 claims description 20
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 18
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 17
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 16
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 13
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 claims description 13
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 13
- 229960002989 glutamic acid Drugs 0.000 claims description 13
- 229940051841 polyoxyethylene ether Drugs 0.000 claims description 13
- 229920000056 polyoxyethylene ether Polymers 0.000 claims description 13
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 12
- 239000003607 modifier Substances 0.000 claims description 12
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 claims description 12
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 8
- 230000032683 aging Effects 0.000 claims description 7
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims description 7
- 238000013329 compounding Methods 0.000 claims description 7
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- -1 L-glutamic acid modified graphene Chemical class 0.000 claims description 6
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 claims description 6
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 claims description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 6
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 claims description 6
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 6
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000004321 preservation Methods 0.000 claims description 6
- 238000012216 screening Methods 0.000 claims description 6
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 claims description 6
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 claims description 6
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 claims description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 abstract description 16
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 2
- 150000003892 tartrate salts Chemical class 0.000 abstract description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 19
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 17
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 11
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 7
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000693 micelle Substances 0.000 description 2
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000036541 health Effects 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/16—Preparation of silica xerogels
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/02—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material
- B01J20/10—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material comprising silica or silicate
- B01J20/103—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material comprising silica or silicate comprising silica
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/02—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material
- B01J20/20—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material comprising free carbon; comprising carbon obtained by carbonising processes
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/15—Nano-sized carbon materials
- C01B32/182—Graphene
- C01B32/198—Graphene oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/145—Preparation of hydroorganosols, organosols or dispersions in an organic medium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/146—After-treatment of sols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/20—Silicates
- C01B33/32—Alkali metal silicates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/20—Silicates
- C01B33/32—Alkali metal silicates
- C01B33/325—After-treatment, e.g. purification or stabilisation of solutions, granulation; Dissolution; Obtaining solid silicate, e.g. from a solution by spray-drying, flashing off water or adding a coagulant
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/14—Pore volume
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/16—Pore diameter
- C01P2006/17—Pore diameter distribution
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/90—Other properties not specified above
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- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
本发明公开了一种高纯度硅胶的制备方法，包括如下原料，纯化硅酸钠、甲醇、改性石墨烯、酒石酸、无水乙醇、表面活性剂和去离子水；本发明利用纯化后的硅酸钠与无污染的酒石酸制备硅胶，与传统的无机硅胶制备方法相比，工艺较为简单，所得的硅胶纯度高，先利用硝酸将硅源中的金属及有机杂质除去，保证硅源纯正无污染，再通过离子交换柱除去制备硅酸盐中的阳离子杂质，得到纯化的硅酸钠，通过添加改性的氧化石墨烯和表面活性剂，使制备的硅胶表面接枝上有机活性基团，增加本发明硅胶产品的机械强度和吸附性能，本发明所制备的硅胶由于具有很好的吸附性能，应用于油田开采、存储、销售过程中，吸附挥发性的有机气体，更好的服务于人类的生产生活。
Description
技术领域
本发明属于硅胶技术领域，具体的，涉及一种高纯度硅胶的制备方法。
背景技术
硅胶也称为硅酸凝胶，是一种高活性吸附材料，属于非晶态物质，硅胶的主要成分为二氧化硅，化学性质稳定。化学式xSiO2yH2O，透明或乳白色粒状固体，具有开放的多孔结构，吸附性强，能吸附多种物质。在水玻璃的水溶液中加入稀硫酸(或盐酸)并静置，便成为含水硅酸凝胶而固化。以水洗清除溶解在硅酸凝胶中的电解质Na+和SO4 2-(Cl-)离子，干燥后就可得硅胶。
一般来说，硅胶按其性质及组分可分为有机硅胶和无机硅胶两大类。无机硅胶是一种高活性吸附材料，通常是硅酸钠和硫酸反应，并经老化、酸泡等一系列处理而得到，具有吸附性能高、热稳定性高、化学性质稳定、有较高的机械强度等，分为细孔硅胶、B型硅胶和粗孔硅胶；有机硅胶是一种有机硅化合物，是指含有Si-C键、且至少含有一个有机基是直接与硅原子相连的化合物，主要分为硅橡胶、硅树脂、硅油和硅烷偶联剂，有机硅胶最突出的性能是热稳定性高、耐候性好、电气绝缘线强等优点。
发明内容
本发明的目的在于提供一种高纯度硅胶的制备方法。
本发明需要解决的技术问题为：
现有技术中，在油田开采、输送、储存、销售以及使用的过程中，会持续不断地产生挥发性有机物，不仅对人体健康产生影响，还会加重大气环境污染，目前应用回收技术之一是吸附回收法，其中活性炭、硅胶、沸石等是常见的吸附剂，但这些产品都存在自身缺点，活性炭导热性能差，易自燃，容易引起爆炸事故，硅胶亲水性好，并且纯度低、吸附性能差，本发明目的在于通过对传统硅胶制备方法进行优化改进，制备出高纯度、吸附性大、机械性能好的硅胶产品。
本发明的目的可以通过以下技术方案实现：
一种高纯度硅胶的制备方法，具体包括以下步骤:
第一步、准备如下重量份的原料，20-30份纯化硅酸钠溶液、5-10份甲醇、3-6份改性石墨烯、15-30份酒石酸、15-30份无水乙醇、3-5份表面活性剂、15-30份去离子水；
第二步、将酒石酸加入至无水乙醇中，在温度50-60℃条件下，磁力搅拌20-40min，得酒石酸溶液,将酒石酸溶液滴加至纯化硅酸钠溶液中，控制滴加速度为1-2mL/min，滴加的同时以转速50-100r/min进行搅拌混合，得到硅胶溶液；
第三步、用250目筛网筛选改性石墨烯，然后将改性石墨烯超声分散在总质量50％的甲醇中，将搅拌器的功率设置为200W，并超声分散2-4h，得分散的石墨烯溶液；
第四步、将分散后的石墨烯溶液添加至硅胶溶液中，转速200-300r/min条件下，搅拌30-60min，得到硅胶，然后升温至60-90℃，老化5-10h，将老化后的硅胶用去离子水洗涤至上层液澄清，真空干燥2-3h，再放入450-500℃马弗炉中煅烧0.5-1.0h，即得多孔硅胶；
第五步、将剩余甲醇和表面活性剂加入搅拌器中，转速50-100r/min条件下搅拌5-10min，得混合改性剂，将第四步制备的多孔硅胶浸泡于混合改性剂中5-10h，然后过滤,将浸泡后的多孔硅胶放入马弗炉中进行阶段性加热干燥，在50℃的条件下加热1h，然后升温至200℃加热1h，再然后降温至50℃保温1h，即得高纯度硅胶。
所述表面活性剂由十二醇聚氧乙烯醚硫酸铵和十六烷基三甲基溴化铵复配而成，且十二醇聚氧乙烯醚硫酸铵和十六烷基三甲基溴化铵的质量比为1:1-3。
所述纯化硅酸钠的制备方法具体包括如下步骤：
步骤S1、将氢氧化钠和去离子水混合，配置获得质量百分比浓度为10％-15％的氢氧化钠溶液，取40-50重量份配置好的氢氧化钠溶液，备用；
步骤S2、将20-30重量份的硅粉利用球磨机球磨至50-100μm，然后将球磨后的硅粉加入50-100重量份的质量百分比浓度为15％硝酸溶液中，转速100-150r/min条件下搅拌20-30min，过滤并且用去离子水清洗滤渣，直至洗涤液pH＝6.0-8.0，然后将洗涤后滤渣在100-110℃下干燥至恒重，获得超细硅源；
步骤S3、将步骤S2制备的超细硅源加入步骤S1制备的氢氧化钠溶液中，其中加入速率为0.1-1kg/h，控制反应温度为50-100℃，转速300-500r/min条件下搅拌2-10h，在温度50-80℃下保温4-8h，得到硅酸钠溶液；
步骤S4、将步骤S3获得的硅酸钠溶液通过装有阳离子交换树脂的离子交换柱，进行离子交换，除去硅酸盐溶液中的阳离子杂质，即得纯化硅酸钠溶液。
所述改性石墨烯的制备方法具体如下：
将4-8重量份的L-谷氨酸和5-10重量份的氢氧化钾加入20-40重量份的去离子水中溶解，向上述溶液中加入3-5重量份的氧化石墨烯，室温下超声分散30-60min，在温度70-90℃下水浴加热，在转速200-300r/min条件下搅拌20-24小时，待混合液冷却至室温后加入30-50重量份乙醇，使L-谷氨酸改性石墨烯析出，然后过滤，将滤渣用去离子水洗涤，直至洗涤液为中性，最后洗涤过的滤渣在50-60℃下真空干燥10-14h，即得改性石墨烯。
本发明的有益效果：
1、本发明利用纯化后的硅酸钠与无污染的酒石酸制备硅胶，与传统的无机硅胶制备方法相比，工艺较为简单，所得的硅胶纯度高，先利用硝酸将硅源中的金属及有机杂质除去，保证硅源纯正无污染，再通过离子交换柱除去制备硅酸盐中的阳离子杂质，得到纯化的硅酸钠，通过添加改性的氧化石墨烯和表面活性剂，使制备的硅胶表面接枝上有机活性基团，增加本发明硅胶产品的机械强度和吸附性能，本发明所制备的硅胶由于具有很好的吸附性能，能作为吸附剂，应用于油田开采、输送、存储、销售过程中，吸附挥发性的有机气体，更好的服务于人类的生产生活。
2、氧化石墨烯是由石墨经过多步氧化、超声波净化等步骤制备而成，不仅保留了石墨烯本身的高比表面积特点，还引入大量的含氧官能团，如羟基、羧基等，可做为有机物的吸附点，本发明通过L-谷氨酸改性氧化石墨烯，使氧化石墨烯上接枝上更多的羧基、氨基基团，提供更丰富的吸附点，并且也增加了氧化石墨烯在硅胶溶液的分散能力，解决氧化石墨烯在易团聚、难分散的问题。
3、本发明在传统硅胶制备工艺基础上，添加了表面活性剂，通过加入表面活性剂，所制备的硅胶粒径小、分散均匀且成球，而且加入的表面活性剂也会随着硅胶制备过程中的“煅烧”过程分解逸出，不会造成残留而影响使用的安全性。本发明选择的表面活性剂是以十二醇聚氧乙烯醚硫酸铵(阴离子表面活性剂)和十六烷基三甲基溴化铵(阳离子表面活性剂)复合而成的表面活性剂，一方面，在硅酸溶胶形成的反应体系中，该两种表面活性剂的同时存在，从而形成了异性离子间更强烈的静电吸引作用和羟基间的憎水相互作用，正是由于强烈的静电吸附作用可以使得生成的硅酸溶胶缔合形成胶团，吸附并包覆在硅酸溶胶颗粒上，从而起到抑制硅酸溶胶晶核的生长、控制硅酸溶胶粒径大小，使生成的硅酸溶胶分散的更加均匀、粒径更小；另一方面，通过阴、阳离子表面活性剂复配，使得凝胶反应体系溶液表面形成的表面活性吸附层分子排列更加紧密而显著提高了硅酸溶胶表面的吸附性能。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1
一种高纯度硅胶的制备方法，具体包括以下步骤:
第一步、准备如下重量份的原料，20份纯化硅酸钠溶液、5份甲醇、3份改性石墨烯、15份酒石酸、15份无水乙醇、3份表面活性剂、15份去离子水；
第二步、将酒石酸加入至无水乙醇中，在温度50℃条件下，磁力搅拌20min，得酒石酸溶液,将酒石酸溶液滴加至纯化硅酸钠溶液中，控制滴加速度为1mL/min，滴加的同时以转速50r/min进行搅拌混合，得到硅胶溶液；
第三步、用250目筛网筛选改性石墨烯，然后将改性石墨烯超声分散在总质量50％的甲醇中，将搅拌器的功率设置为200W，并超声分散2h，得分散的石墨烯溶液；
第四步、将分散后的石墨烯溶液添加至硅胶溶液中，转速200r/min条件下，搅拌30min，得到硅胶，然后升温至60℃，老化5h，将老化后的硅胶用去离子水洗涤至上层液澄清，真空干燥2h，再放入450℃马弗炉中煅烧0.5h，即得多孔硅胶；
第五步、将剩余甲醇和表面活性剂加入搅拌器中，转速50r/min条件下搅拌5min，得混合改性剂，将第四步制备的多孔硅胶浸泡于混合改性剂中5h，然后过滤,将浸泡后的多孔硅胶放入马弗炉中进行阶段性加热干燥，在50℃的条件下加热1h，然后升温至200℃加热1h，再然后降温至50℃保温1h，即得高纯度硅胶。
所述表面活性剂由十二醇聚氧乙烯醚硫酸铵和十六烷基三甲基溴化铵复配而成，且十二醇聚氧乙烯醚硫酸铵和十六烷基三甲基溴化铵的质量比为1:1。
所述纯化硅酸钠溶液的制备方法具体包括如下步骤：
步骤S1、将氢氧化钠和去离子水混合，配置获得质量百分比浓度为10％的氢氧化钠溶液，取40重量份配置好的氢氧化钠溶液，备用；
步骤S2、将20重量份的硅粉利用球磨机球磨至50μm，然后将球磨后的硅粉加入50重量份的质量百分比浓度为15％硝酸溶液中，转速100r/min条件下搅拌20min，过滤并且用去离子水清洗滤渣，直至洗涤液pH＝6.0，然后将洗涤后滤渣在100℃下干燥至恒重，获得超细硅源；
步骤S3、将步骤S2制备的超细硅源加入步骤S1制备的氢氧化钠溶液中，其中加入速率为0.1kg/h，控制反应温度为50℃，转速300r/min条件下搅拌2h，在温度50℃下保温4h，得到硅酸钠溶液；
步骤S4、将步骤S3获得的硅酸钠溶液通过装有阳离子交换树脂的离子交换柱，进行离子交换，除去硅酸盐溶液中的阳离子杂质，即得纯化硅酸钠溶液。
所述改性石墨烯的制备方法具体如下：
将4重量份的L-谷氨酸和5重量份的氢氧化钾加入20重量份的去离子水中溶解，向上述溶液中加入3重量份的氧化石墨烯，室温下超声分散30min，在温度70℃下水浴加热，在转速200r/min条件下搅拌20小时，待混合液冷却至室温后加入30重量份乙醇，使L-谷氨酸改性石墨烯析出，然后过滤，将滤渣用去离子水洗涤，直至洗涤液为中性，最后洗涤过的滤渣在50℃下真空干燥10h，即得改性石墨烯。
实施例2
一种高纯度硅胶的制备方法，具体包括以下步骤:
第一步、准备如下重量份的原料，25份纯化硅酸钠溶液、8份甲醇、5份改性石墨烯、20份酒石酸、20份无水乙醇、4份表面活性剂、20份去离子水；
第二步、将酒石酸加入至无水乙醇中，在温度55℃条件下，磁力搅拌30min，得酒石酸溶液,将酒石酸溶液滴加至纯化硅酸钠溶液中，控制滴加速度为1.5mL/min，滴加的同时以转速80r/min进行搅拌混合，得到硅胶溶液；
第三步、用250目筛网筛选改性石墨烯，然后将改性石墨烯超声分散在总质量50％的甲醇中，将搅拌器的功率设置为200W，并超声分散3h，得分散的石墨烯溶液；
第四步、将分散后的石墨烯溶液添加至硅胶溶液中，转速250r/min条件下，搅拌40min，得到硅胶，然后升温至80℃，老化8h，将老化后的硅胶用去离子水洗涤至上层液澄清，真空干燥2.5h，再放入480℃马弗炉中煅烧0.8h，即得多孔硅胶；
第五步、将剩余甲醇和表面活性剂加入搅拌器中，转速80r/min条件下搅拌8min，得混合改性剂，将第四步制备的多孔硅胶浸泡于混合改性剂中7h，然后过滤,将浸泡后的多孔硅胶放入马弗炉中进行阶段性加热干燥，在50℃的条件下加热1h，然后升温至200℃加热1h，再然后降温至50℃保温1h，即得高纯度硅胶。
所述表面活性剂由十二醇聚氧乙烯醚硫酸铵和十六烷基三甲基溴化铵复配而成，且十二醇聚氧乙烯醚硫酸铵和十六烷基三甲基溴化铵的质量比为1:2。
所述纯化硅酸钠溶液的制备方法具体包括如下步骤：
步骤S1、将氢氧化钠和去离子水混合，配置获得质量百分比浓度为12％的氢氧化钠溶液，取45重量份配置好的氢氧化钠溶液，备用；
步骤S2、将25重量份的硅粉利用球磨机球磨至80μm，然后将球磨后的硅粉加入90重量份的质量百分比浓度为15％硝酸溶液中，转速120r/min条件下搅拌25min，过滤并且用去离子水清洗滤渣，直至洗涤液pH＝7.0，然后将洗涤后滤渣在105℃下干燥至恒重，获得超细硅源；
步骤S3、将步骤S2制备的超细硅源加入步骤S1制备的氢氧化钠溶液中，其中加入速率为0.5kg/h，控制反应温度为80℃，转速400r/min条件下搅拌5h，在温度70℃下保温6h，得到硅酸钠溶液；
步骤S4、将步骤S3获得的硅酸钠溶液通过装有阳离子交换树脂的离子交换柱，进行离子交换，除去硅酸盐溶液中的阳离子杂质，即得纯化硅酸钠溶液。
所述改性石墨烯的制备方法具体如下：
将6重量份的L-谷氨酸和7重量份的氢氧化钾加入30重量份的去离子水中溶解，向上述溶液中加入4重量份的氧化石墨烯，室温下超声分散40min，在温度80℃下水浴加热，在转速250r/min条件下搅拌22小时，待混合液冷却至室温后加入40重量份乙醇，使L-谷氨酸改性石墨烯析出，然后过滤，将滤渣用去离子水洗涤，直至洗涤液为中性，最后洗涤过的滤渣在55℃下真空干燥12h，即得改性石墨烯。
实施例3
一种高纯度硅胶的制备方法，具体包括以下步骤:
第一步、准备如下重量份的原料，28份纯化硅酸钠溶液、8份甲醇、5份改性石墨烯、22份酒石酸、18份无水乙醇、4份表面活性剂、23份去离子水；
第二步、将酒石酸加入至无水乙醇中，在温度57℃条件下，磁力搅拌29min，得酒石酸溶液,将酒石酸溶液滴加至纯化硅酸钠溶液中，控制滴加速度为1.8mL/min，滴加的同时以转速80r/min进行搅拌混合，得到硅胶溶液；
第三步、用250目筛网筛选改性石墨烯，然后将改性石墨烯超声分散在总质量50％的甲醇中，将搅拌器的功率设置为200W，并超声分散3h，得分散的石墨烯溶液；
第四步、将分散后的石墨烯溶液添加至硅胶溶液中，转速280r/min条件下，搅拌40min，得到硅胶，然后升温至75℃，老化8h，将老化后的硅胶用去离子水洗涤至上层液澄清，真空干燥2.5h，再放入480℃马弗炉中煅烧0.8h，即得多孔硅胶；
第五步、将剩余甲醇和表面活性剂加入搅拌器中，转速70r/min条件下搅拌8min，得混合改性剂，将第四步制备的多孔硅胶浸泡于混合改性剂中9h，然后过滤,将浸泡后的多孔硅胶放入马弗炉中进行阶段性加热干燥，在50℃的条件下加热1h，然后升温至200℃加热1h，再然后降温至50℃保温1h，即得高纯度硅胶。
所述表面活性剂由十二醇聚氧乙烯醚硫酸铵和十六烷基三甲基溴化铵复配而成，且十二醇聚氧乙烯醚硫酸铵和十六烷基三甲基溴化铵的质量比为1:2.5。
所述纯化硅酸钠溶液的制备方法具体包括如下步骤：
步骤S1、将氢氧化钠和去离子水混合，配置获得质量百分比浓度为13％的氢氧化钠溶液，取45重量份配置好的氢氧化钠溶液，备用；
步骤S2、将26重量份的硅粉利用球磨机球磨至80μm，然后将球磨后的硅粉加入90重量份的质量百分比浓度为15％硝酸溶液中，转速130r/min条件下搅拌25min，过滤并且用去离子水清洗滤渣，直至洗涤液pH＝7.5，然后将洗涤后滤渣在105℃下干燥至恒重，获得超细硅源；
步骤S3、将步骤S2制备的超细硅源加入步骤S1制备的氢氧化钠溶液中，其中加入速率为0.8kg/h，控制反应温度为85℃，转速400r/min条件下搅拌6h，在温度58℃下保温6h，得到硅酸钠溶液；
步骤S4、将步骤S3获得的硅酸钠溶液通过装有阳离子交换树脂的离子交换柱，进行离子交换，除去硅酸盐溶液中的阳离子杂质，即得纯化硅酸钠溶液。
所述改性石墨烯的制备方法具体如下：
将6重量份的L-谷氨酸和8重量份的氢氧化钾加入30重量份的去离子水中溶解，向上述溶液中加入4.5重量份的氧化石墨烯，室温下超声分散45min，在温度85℃下水浴加热，然后在转速260r/min条件下搅拌23小时，待混合液冷却至室温后加入45重量份乙醇，使L-谷氨酸改性石墨烯析出，然后过滤，将滤渣用去离子水洗涤，直至洗涤液为中性，最后洗涤过的滤渣在55℃下真空干燥12h，即得改性石墨烯。
实施例4
一种高纯度硅胶的制备方法，具体包括以下步骤:
第一步、准备如下重量份的原料，30份纯化硅酸钠溶液、10份甲醇、6份改性石墨烯、30份酒石酸、30份无水乙醇、5份表面活性剂、30份去离子水；
第二步、将酒石酸加入至无水乙醇中，在温度60℃条件下，磁力搅拌40min，得酒石酸溶液,将酒石酸溶液滴加至纯化硅酸钠溶液中，控制滴加速度为2mL/min，滴加的同时以转速100r/min进行搅拌混合，得到硅胶溶液；
第三步、用250目筛网筛选改性石墨烯，然后将改性石墨烯超声分散在总质量50％的甲醇中，将搅拌器的功率设置为200W，并超声分散4h，得分散的石墨烯溶液；
第四步、将分散后的石墨烯溶液添加至硅胶溶液中，转速300r/min条件下，搅拌60min，得到硅胶，然后升温至90℃，老化10h，将老化后的硅胶用去离子水洗涤至上层液澄清，真空干燥3h，再放入500℃马弗炉中煅烧1.0h，即得多孔硅胶；
第五步、将剩余甲醇和表面活性剂加入搅拌器中，转速100r/min条件下搅拌10min，得混合改性剂，将第四步制备的多孔硅胶浸泡于混合改性剂中10h，然后过滤,将浸泡后的多孔硅胶放入马弗炉中进行阶段性加热干燥，在50℃的条件下加热1h，然后升温至200℃加热1h，再然后降温至50℃保温1h，即得高纯度硅胶。
所述表面活性剂由十二醇聚氧乙烯醚硫酸铵和十六烷基三甲基溴化铵复配而成，且十二醇聚氧乙烯醚硫酸铵和十六烷基三甲基溴化铵的质量比为1:3。
所述纯化硅酸钠溶液的制备方法具体包括如下步骤：
步骤S1、将氢氧化钠和去离子水混合，配置获得质量百分比浓度为15％的氢氧化钠溶液，取50重量份配置好的氢氧化钠溶液，备用；
步骤S2、将30重量份的硅粉利用球磨机球磨至100μm，然后将球磨后的硅粉加入100重量份的质量百分比浓度为15％硝酸溶液中，转速150r/min条件下搅拌30min，过滤并且用去离子水清洗滤渣，直至洗涤液pH＝8.0，然后将洗涤后滤渣在110℃下干燥至恒重，获得超细硅源；
步骤S3、将步骤S2制备的超细硅源加入步骤S1制备的氢氧化钠溶液中，其中加入速率为1kg/h，控制反应温度为100℃，转速500r/min条件下搅拌10h，在温度80℃下保温8h，得到硅酸钠溶液；
步骤S4、将步骤S3获得的硅酸钠溶液通过装有阳离子交换树脂的离子交换柱，进行离子交换，除去硅酸盐溶液中的阳离子杂质，即得纯化硅酸钠溶液。
所述改性石墨烯的制备方法具体如下：
将8重量份的L-谷氨酸和10重量份的氢氧化钾加入40重量份的去离子水中溶解，向上述溶液中加入5重量份的氧化石墨烯，室温下超声分散60min，在温度90℃下水浴加热，然后在转速300r/min条件下搅拌24小时，待混合液冷却至室温后加入50重量份乙醇，使L-谷氨酸改性石墨烯析出，然后过滤，将滤渣用去离子水洗涤，直至洗涤液为中性，最后洗涤过的滤渣在60℃下真空干燥14h，即得改性石墨烯。
对比例1
将实施例1原料的纯化硅酸钠替换成市场上常见的硅酸钠溶液，其余原料及制备过程均不变。
对比例2
将实施例2原料的改性石墨烯替换成Hummers制备的氧化石墨烯，其余原料及制备过程不变。
对比例3
本对比例为市场上常见的一种硅胶。
性能测试：将实施1-3和对比例1-3的硅胶进行性能测试，利用北京微高博科学技术有限公司的Bet比表面积测量仪测试比表面积、孔容和孔径分布，将实施例1-4和对比例1-3制备的硅胶裁切成长7cm，宽4cm，厚度根据试片的实际厚度的胶块，并且测量其质量m，堆密度用ρ＝m/(7*4*h)计算测得,利用FTIR傅里叶红外光谱仪测试硅胶中的二氧化硅含量；将实施例1-4和对比例1-4制备的硅胶进行成膜塑形，使实施例1-4和对比例1-4制备的硅胶比表面积相等，然后分别将得到的硅胶块进行称量并记录其质量，然后将得到的硅胶块分别放置与苯的溶液中和正已烷的溶液中浸泡24h，然后取出硅胶块烘干称重，利用浸泡后的质量与浸泡前质量百分比作为苯吸附量和正己烷吸附量的测试结果，测试结果如下表所示：
由上表以看出，实施例1和对比例1的性能测试结果中，对比例1中的SiO2纯度较低，说明本发通过纯化的硅酸钠溶液与酒石酸制备的硅胶具有SiO2含量高的特点，通过实施例2和对比例2的测试结果可以看出，对比例2的比表面积、苯吸附量和正己烷吸附量都较低，说明本发的改性石墨烯的添加有助硅胶内部孔径的增长，另一方面也提高了对有机物的吸附能力，实施例1-4制备的硅胶堆密度、比表面积、孔容和孔径分布都大于对比例1-3的硅胶，并且实施例1-4制备的硅胶SiO2纯度高于对比例1-3的硅胶，实施例1-4制备的硅胶对苯和正已烷的吸附量远大于对比例1-4，说明本发明制备的硅胶不仅纯度高，并且吸附效果好，能有效吸附有机物，作为吸附剂具有很好的应用效果。
以上内容仅仅是对本发明的构思所作的举例和说明，所属本技术领域的技术人员对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，只要不偏离发明的构思或者超越本权利要求书所定义的范围，均应属于本发明的保护范围。
Claims (4)
1.一种高纯度硅胶的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤:
第一步、准备如下重量份的原料，20-30份纯化硅酸钠溶液、5-10份甲醇、3-6份改性石墨烯、15-30份酒石酸、15-30份无水乙醇、3-5份表面活性剂和15-30份去离子水；
第二步、将酒石酸加入至无水乙醇中，在温度50-60℃条件下，磁力搅拌20-40min，得酒石酸溶液,将酒石酸溶液滴加至纯化硅酸钠溶液中，控制滴加速度为1-2mL/min，滴加的同时以转速50-100r/min进行搅拌混合，得到硅胶溶液；
第三步、用250目筛网筛选改性石墨烯，然后将改性石墨烯超声分散在总质量50％的甲醇中，将搅拌器的功率设置为200W，并超声分散2-4h，得分散的石墨烯溶液；
第四步、将分散后的石墨烯溶液添加至硅胶溶液中，转速200-300r/min条件下，搅拌30-60min，得到硅胶，然后升温至60-90℃，老化5-10h，将老化后的硅胶用去离子水洗涤至上层液澄清，真空干燥2-3h，再放入450-500℃马弗炉中煅烧0.5-1.0h，即得多孔硅胶；
第五步、将剩余甲醇和表面活性剂加入搅拌器中，转速50-100r/min条件下搅拌5-10min，得混合改性剂，将第四步制备的多孔硅胶浸泡于混合改性剂中5-10h，然后过滤,将浸泡后的多孔硅胶放入马弗炉中进行阶段性加热干燥，在50℃的条件下加热1h，然后升温至200℃加热1h，再然后降温至50℃保温1h即得高纯度硅胶。
2.根据权利要求1所述的一种高纯度硅胶的制备方法，其特征在于，所述表面活性剂由十二醇聚氧乙烯醚硫酸铵和十六烷基三甲基溴化铵复配而成，且十二醇聚氧乙烯醚硫酸铵和十六烷基三甲基溴化铵的质量比为1:1-3。
3.根据权利要求1所述的一种高纯度硅胶的制备方法，其特征在于，所述纯化硅酸钠溶液的制备方法具体包括如下步骤：
步骤S1、将氢氧化钠和去离子水混合，配置获得质量百分比浓度为10％-15％的氢氧化钠溶液，取40-50重量份配置好的氢氧化钠溶液，备用；
步骤S2、将20-30重量份的硅粉利用球磨机球磨至50-100μm，然后将球磨后的硅粉加入50-100重量份的质量百分比浓度为15％硝酸溶液中，转速100-150r/min条件下搅拌20-30min，过滤并且用去离子水清洗滤渣，直至洗涤液pH＝6.0-8.0，然后将洗涤后滤渣在100-110℃下干燥至恒重，获得超细硅源；
步骤S3、将步骤S2制备的超细硅源加入步骤S1制备的氢氧化钠溶液中，其中加入速率为0.1-1kg/h，控制反应温度为50-100℃，转速300-500r/min条件下搅拌2-10h，在温度50-80℃下保温4-8h，得到硅酸钠溶液；
步骤S4、将步骤S3获得的硅酸钠溶液通过装有阳离子交换树脂的离子交换柱，进行离子交换，除去硅酸盐溶液中的阳离子杂质，即得纯化硅酸钠溶液。
4.根据权利要求1所述的一种高纯度硅胶的制备方法，其特征在于，所述改性石墨烯的制备方法具体如下：
将4-8重量份的L-谷氨酸和5-10重量份的氢氧化钾加入20-40重量份的去离子水中溶解，向上述溶液中加入3-5重量份的氧化石墨烯，室温下超声分散30-60min，在温度70-90℃下水浴加热，在转速200-300r/min条件下搅拌20-24小时，待混合液冷却至室温后加入30-50重量份乙醇，使L-谷氨酸改性石墨烯析出，然后过滤，将滤渣用去离子水洗涤，直至洗涤液为中性，最后洗涤过的滤渣在50-60℃下真空干燥10-14h，即得改性石墨烯。
Priority Applications (1)
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| CN202011065764.0A CN112174145A (zh) | 2020-09-30 | 2020-09-30 | 一种高纯度硅胶的制备方法 |
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| CN112174145A true CN112174145A (zh) | 2021-01-05 |
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Country Status (1)
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| CN (1) | CN112174145A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115612315A (zh) * | 2022-11-30 | 2023-01-17 | 江苏联瑞新材料股份有限公司 | 一种表面改性球形二氧化硅微粉的制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101397139A (zh) * | 2008-09-09 | 2009-04-01 | 苏州纳迪微电子有限公司 | 高纯度硅溶胶及其制备方法 |
| CN108654569A (zh) * | 2018-03-23 | 2018-10-16 | 长沙小新新能源科技有限公司 | 一种多孔活性硅胶制备方法 |
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2020
- 2020-09-30 CN CN202011065764.0A patent/CN112174145A/zh active Pending
Patent Citations (2)
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| CN101397139A (zh) * | 2008-09-09 | 2009-04-01 | 苏州纳迪微电子有限公司 | 高纯度硅溶胶及其制备方法 |
| CN108654569A (zh) * | 2018-03-23 | 2018-10-16 | 长沙小新新能源科技有限公司 | 一种多孔活性硅胶制备方法 |
Non-Patent Citations (4)
| Title |
|---|
| 张志远 等: "微硅粉热碱溶解制备硅酸钠溶液的实验研究", 《山东工业技术》 * |
| 张明强: "疏水硅胶的制备及其处理油气的性能评价", 《中国优秀硕士学位论文全文数据库 工程科技I辑》 * |
| 朱纯熙 等: "《铸型材料化学》", 30 October 1990, 机械工业出版社 * |
| 李仕友 等: "L-谷氨酸改性氧化石墨烯对Cu2+的吸附", 《化工环保》 * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115612315A (zh) * | 2022-11-30 | 2023-01-17 | 江苏联瑞新材料股份有限公司 | 一种表面改性球形二氧化硅微粉的制备方法 |
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